JP2001511289A - 光学記録担体に書き込む方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 光学記録担体上に情報を書き込むための記録条件を最適化する方法が記載されている。情報は記録担体上に光学的に検出可能なマークの形態で書き込まれ、各マークは放射のパルス列により書き込まれる。最適化のために、記録担体（１）上に一連のテストパターンが書き込まれる。ジッタ検出器（１１）が読取信号の前縁ジッタ及び後縁ジッタの両方を測定する。前縁ジッタは、パルス列の前縁部分にのみ影響するパラメータの値を最適化するために使用される。また、後縁ジッタは、該パルス列の後縁部分のみに影響するパラメータを最適化するために使用される。

Description

【発明の詳細な説明】 光学記録担体に書き込む方法及び装置 技術分野 本発明は、光学記録担体上にユーザ情報を書き込む方法及び装置に関する。該 ユーザ情報を表すマークが、放射のパルス列を用いて、該記録担体の放射感知性 記録層に書き込まれる。パルス列は１以上のパルスを有している。ユーザ情報を 記録担体上に記録する前に、該記録担体上にテストパターンが書き込まれる。こ のパターンから得られる読取信号は、記録処理、特にパルス列の形態を最適化す るための情報を提供する。次いで、上記ユーザ情報が最適化された方法でもって 上記記録担体に書き込まれる。 背景技術 ヨーロッパ特許第０６６９６１１号は、斯かるパルス列の書込出力を最適化す る方法及び装置を開示している。該既知の装置はテストパターンを記録担体上に 書き込むが、該テストパターンは一連の副パターンからなり、各副パターンが異 なる放射出力で書き込まれる。次いで、各副パターンに対応する読取信号のジッ タが測定される。記録出力は、上記ジッタ対出力の曲線が最小のジッタを示すよ うな値に設定される。データ信号のジッタは、該データ信号の立ち下がり縁及び ／又は立ち上がり縁の位置と、多分該データ信号の上記縁から再生されるクロッ ク信号の対応する遷移点との間のずれの目安である。該ずれは、当該クロック信 号の１周期の期間で正規化することができる。 しかしながら、上記既知の方法は、特に異なる製造者の記録担体及び装置が入 れ替えられた場合に、常に最適の記録条件を提供するとは限らない。 発明の開示 本発明の１つの目的は、特定の装置及び記録担体の組合せに対する記録条件の 適応化が改善された記録装置及び方法を提供することにある。 この目的は、本発明による装置が、前記記録担体を放射のパルス列で照射する ことにより該記録担体上に光学的に検出可能なマークのパターンを書き込むと共 にマークが１つのパルス列により形成されるような記録手段と、テストパターン を有するテスト信号を発生すると共に該テスト信号を上記記録手段の入力端に供 給するテスト信号発生器と、前記記録担体上のマークを読み取ると共に読取信号 を出力する読取手段と、上記テストパターンに対応する読取信号のジッタを測定 すると共に前縁ジッタ信号及び後縁ジッタ信号を出力するジッタ検出器と、これ ら前縁ジッタ信号及び後縁ジッタ信号に応じて第１制御信号及び第２制御信号を 各々出力すると共に該制御信号の値が前記読取信号の最適品質に対応するような 制御手段と、記録されるべき入力情報を前記記録手段に供給される出力信号に変 換し、該出力信号が放射のパルス列に対応すると共に上記入力情報を表し、各パ ルス列が前縁部分と後縁部分とを有し、該前縁部分に関係する第１パラメータの 最適値が前記第１制御信号により決定され及び／又は上記後縁部分に関係する第 ２パラメータの最適値が前記第２制御信号により決定されるような処理手段とを 有する場合に達成される。 前記既知の装置は、総合ジッタ、即ち読取信号の前縁及び後縁の合成ジッタ、 を使用しているため、常に最適な記録条件を見付けることができるとは限らない ことが分かった。前縁ジッタ及び後縁ジッタが別々に決定される場合は、記録条 件を更に改善することが可能である。前縁ジッタは記録層に書き込まれたマーク の前縁位置の精度の目安であるから、測定された前縁ジッタは、好ましくは、こ の位置に影響を与えるように使用される。マークの前縁の位置には、該マークを 書き込むために使用されるパルス列の前縁部分の第１パラメータを変化させるこ とにより、影響を与えることができる。同様に、後縁ジッタは書き込まれたマー クの後縁位置の精度の目安であるから、後縁ジッタは、好ましくは、当該パルス 列の後縁部分の第２パラメータを最適化するために使用される。記録条件は、こ れらの条件下で記録された情報の再生においてエラーの数が最小となる場合に、 最適と言われる。 通常、情報は記録担体上で異なるマークの集合により表される。例えば、該情 報が所謂ＥＦＭに従い符号化されている場合、上記集合は単位長の３、４、…１ １倍の長さを持つマーク及び、多分、１４単位長の同期マークを有するであろう 。上記単位長のｎ倍の長さを持つマークはｎＴマークと呼ばれる。上記の異なる マークの集合のうちの単一のマークは、異なるパルス列の対応する集合のうちの １つのパルス列により書き込まれる。パルス列の長さは、書き込まれるべきマー クの長さが増加するにつれて増加する。本発明による最適化方法においては、上 記パルス列の集合のうちの少なくとも１つのパルス列の前縁部分が最適化され、 同様に、上記集合のうちの少なくとも１つのパルス列の後縁部分が最適化される 。本発明によれば、パルス列の前縁及び後縁部分の両方を最適化することもでき る。 好ましくは、短いパルス列の前縁部分が最適化され、長いパルス列の後縁部分 が最適化されるようにする。中間の長さのパルス列の前縁部分及び後縁部分を最 適化することもできる。短いパルスと長いパルスとの間の中間休止（caesura） は最長のパルス列よりも最短のパルス列に近くしなければならない。何故なら、 増加する長さの書き込みマークの長さの相対変化は、長いマークに対するよりも 短いパルスに対する方が大きいからである。ＥＦＭ符号化された情報に対する中 間休止は、好ましくは、Ｔ４又はＴ５パルス列におけるものとする。異なる長さ のパルス列の別々の最適化は、記録条件を改善する非常に好適な方法を提供する 。 最適化されるべき上記第１又は第２パラメータは、各々、当該パルス列の前縁 又は後縁部分の放射出力（radiation power）とすることができる。パルス列は １以上の放射パルスを有することができる。パルス列が２以上のパルスを有して いる場合は、上記第１又は第２パラメータは、各々、該パルス列の前縁又は後縁 部分におけるパルスのパルス幅とすることができる。他の例として、上記第１又 は第２パラメータは、パルス列の前縁又は後縁部分における２つのパルスの間の 期間とすることもできる。例えば、前縁部分の放射出力及び後縁部分のパルス幅 のように、前縁及び後縁部分に対する異なるパラメータの組合せも可能である。 当該装置の好ましい実施例においては、上記第１パラメータは前縁部分の出力で あり、上記第２パラメータはパルス列の後縁部分の出力である。 本発明による装置は、好ましくは、パルス列の出力を、記録されたテストパタ ーンに対応する読取信号の測定された振幅又は総合ジッタに依存して最適値に設 定する。該出力は、当該パルス列のうちの上記第１又は第２パラメータにより出 力が影響を受けない部分に適用する。測定された振幅は、出力を設定するために 、読取信号の変調又は所謂非対称性に変換することができる。 本発明による方法において先ず最適化されるべきパラメータは、他のパラメー タに強く影響するパラメータでなければならない。最適な記録条件を決定する好 ましい順序は、第１パラメータ（例えば、パルス列の前縁部分のみの出力）の値 を変化させてテストパターンを先ず書き込むことである。第１パラメータの最適 値は、該パターンから読取信号の前縁ジッタを測定し、最小のジッタに対応する 第１パラメータの値を決定することにより、決定される。第２テストパターンが 、上記最適出力及び第１パラメータの上記最適値を用い、且つ、第２パラメータ （例えば、パルス列の後縁の出力）の値を変化させて、記録される。該第２パラ メータの最適値は、読取信号の後縁ジッタから決定される。 上記の２つの最適化ステップは、好ましくは、当該パルス列のうちの上記２つ のステップによっては影響されない部分の書込出力を最適化するステップにより 先行されるものとする。このため、テストパターンが当該パルス列の書込出力の 値を変化させながら記録担体上に書き込まれ、最適書込出力が該パターンに対応 する読取信号から決定される。この書込出力は、上記第１及び第２テストパター ンを書き込む際に使用することができる。上記２つのステップの後、第４テスト パターンを、上記第１及び第２パラメータの最適値を用い、且つ、当該パルス列 の出力を上記第１ステップで見つかった最適値の周辺の狭い範囲にわたり変化さ せて、記録することができる。該出力の最適値は読取信号の振幅から決定される 。 本発明の他の特徴は、記録担体上に情報を記録する方法であって、上記最適記 録条件を本発明による上記記録装置に関して述べたようにして決定するステップ を有するような方法に関するものである。 本発明の更に他の特徴は、記録担体上に異なる長さのマークの形態で情報を記 録する方法であって、マークが前記記録担体を放射のパルス列で照射することに より形成され、各パルス列が前縁部分と中間部分と後縁部分とを有し、各パルス 列が異なる長さを持つパルス列の集合に属し、該パルス列の集合が短いパルス列 の部分集合と長いパルス列の部分集合とを有するような方法において、前記部分 集合の１つのみのパルス列が第１パラメータの相違する前縁部分及び中間部分を 有し、前記部分集合の他の１つのパルス列が第２パラメータの相違する中間部分 及び後縁部分を有していることを特徴とする方法に関するものである。上記２つ の部分集合は一部重なってもよい。即ち、１以上のパルス列が両部分集合に属し てもよい。上記２つの部分集合は分離していてもよく、全てのパルス列が上記２ つの部分集合に含まれる必要はない。１つの部分集合は少なくとも１つのパルス 列を有するが、好ましくは２以上とする。 本発明の他の特徴は、記録担体上に異なる長さのマークの形態で情報を記録す る方法であって、マークが前記記録担体を放射のパルス列で照射することにより 形成され、各パルス列が前縁部分と後縁部分とを有し、各パルス列が異なる長さ を持つパルス列の集合に属し、該パルス列の集合は短いパルス列の第１部分集合 と長いパルス列の第２部分集合とを有するような方法において、前記第１部分集 合のパルス列は前記前縁部分に第１パラメータの第１の値を有し、前記第２部分 集合のパルス列は前記前縁部分に前記第１パラメータの第２の別の値を有し、前 記第１部分集合のパルス列は前記後縁部分に第２パラメータの第１の値を有し、 前記第２部分集合のパルス列は前記後縁部分に前記第２パラメータの第２の別の 値を有していることを特徴とする方法に関するものである。 本発明による上記記録方法は、記録の品質を向上させ、記録された情報の読取 信号のジッタを大幅に減少させることが分かった。記録担体及び記録装置の銘柄 の記録の品質に対する影響が低減される。特に、記録の品質は、放射の波長及び 記録装置の対物レンズの充填物に敏感でなくなる。 図面の簡単な説明 本発明の目的、作用効果及び特徴は、添付図面に示すような本発明の好ましい 実施例の以下の詳細な説明から明らかになるであろう。添付図面において、 第１図は、本発明による光学記録装置のブロック図、 第２図は、ジッタ検出器のブロック図、 第３図は、デジタル情報信号、書き込み用の放射出力に対応する信号及び対応 する一連の状態を示す、 第４図は、情報処理手段のブロック図、 第５Ａ図及び第５Ｂ図は、書き込み用の放射出力に対応する２つの信号を示す 。 発明を実施するための最良の形態 第１図は本発明による装置及び光学記録担体１を示している。記録担体１は、 透明基板２と該基板上に配置された記録層３とを有している。該記録層は放射ビ ームにより情報を書き込むのに適した材料を有している。該記録層は、例えば、 光磁気型、相変化型、染料型又は他の何れかの好適な材料のものとすることがで きる。本発明は、これら媒体の何れにも適用することができるが、特に色素媒体 に適したものであることが分かった。情報は記録層３上に、マークとも呼ばれる 光学的に検出可能な領域の形態で記録することができる。当該装置は、放射ビー ム５を放出するための、例えば半導体レーザのような放射源４を有している。該 放射ビームは、ビームスプリッタ６、対物レンズ７及び基板２を介して記録層３ 上に収束される。該記録担体は、上記放射ビームが基板を通過することなく記録 層３上に直接入射されるような空気入射であってもよい。媒体１から反射された 放射はレンズ７により収束され、ビームスプリッタ６を通過した後、検出システ ム８に入力し、該検出システムは入射した放射を電気検出器信号に変換する。該 検出器信号は回路９に入力される。該回路は上記検出器信号から、媒体１から読 み取られる情報を表す読取信号Ｓ_R1のような幾つかの信号を導出する。上記放射 源、ビームスプリッタ６、対物レンズ７、検出システム８及び回路９は一緒にな って読取手段１０を形成する。他の実施例においては、ビームスプリッタ６は回 折格子であり、検出システム８は放射源４に接近して配置される。 回路９からの読取信号ＳＲ₁は第１プロセッサ１１において処理され、これに より、該読取信号から例えば変調、非対称性又はジッタ等の１以上の読取パラメ ータを表す信号を導出する。これら信号は読取処理を制御するために使用される 。これら信号は制御手段１２に供給され、該手段は上記の読み取られたパラメー タの一連の値を処理すると共に、これらに基づいて最適な記録条件に対応する制 御信号Ｓ_Cの値を導出する。これら制御信号は、例えばマイクロプロセッサ等の 主処理手段１３に供給される。プロセッサ１１及び制御手段１２は、アナログ信 号を処理するのに適した回路又はデジタル信号を処理するのに適した回路とする こと ができる。回路９により供給される第２読取信号Ｓ_R2（Ｓ_R1と同一の信号でもよ い）も、主処理手段１３に供給され、この手段は該信号を処理して記録担体１か ら読み取られた情報を表す情報出力信号Ｓ_IOを形成する。 主処理手段１３はテスト信号発生器１４を制御し、該発生器は情報の記録に先 行するテストフェーズの間に放射源ドライバ１５にテスト信号Ｓ_Tを供給する。 放射源ドライバ１５は、その入力端子の信号に依存して、放射源４用の駆動信号 を発生する。該テスト信号は、放射源４により放出される放射のパルスパターン に対応するものである。ここで、上記放射源ドライバ１５、放射源４、ビームス プリッタ６及び対物レンズ７は一緒に記録手段１７を形成している。 記録担体１上に記録されるべきユーザ情報を表す情報入力信号Ｓ_IIも、主処理 手段１３に供給される。処理手段１３は、該ユーザ情報に同期、アドレス及びエ ラー訂正情報を付加することができる。信号Ｓ_IPにより表される処理された情報 は、処理手段１６に供給される。制御信号Ｓ_Cも該処理手段１６に供給される。 処理手段１６は、情報を記録する際に放射源ドライバ１５を制御するために、信 号Ｓ_Dを発生する。該手段は、上記駆動信号を最適な記録処理に対して調整する ために、該制御信号を使用する。 放射源４により放出される放射パルスは、記録層３に光学的に検出可能な形態 のマークを誘起する。斯様なマークは単一の放射パルスによっても書き込むこと ができる。また、マークは、等しい又は異なる長さの一連の放射パルスによって も書き込むことができる。 放射源４により放出される実際の放射出力は、当該放射ビームのさもなければ 使用されないサイドローブ内、又は当該放射ビームの光学経路内の要素から反射 される放射内に配置される図示せぬ出力検出器により測定することができる。該 出力検出器の信号は主処理手段１３に直接供給することができる。 第１プロセッサ１１は、前記読取信号から読取パラメータを導出する手段を有 している。該読取パラメータは、上記読取信号内の高及び低周波数成分の変調又 は該変調の組合せのような該読取信号の振幅に関係するパラメータであり得る。 また、該読取パラメータは、ジッタのような当該読取信号中の遷移のタイミング に関係するパラメータでもあり得る。プロセッサ１１は、上記読取信号から２以 上のパラメータを導出する手段を有することもできる。 本発明によれば、プロセッサ１１は読取信号Ｓ_R1の前縁及び後縁の両方のジッ タを測定するジッタ検出器２０を有している。第２図は該ジッタ検出器２０の一 実施例を示している。読取信号Ｓ_R1は位相検出器２１に供給され、該検出器は該 読取信号とクロック信号Ｓ_CLとの間の位相を測定する。ローパスフィルタ２２は 、該測定された位相から高周波成分を除去する。該ローパスフィルタ２２の出力 はクロック発生器２３の周波数を制御するために使用される。該クロック発生器 はクロック信号Ｓ_CLを出力し、該クロック信号は位相検出器２１に帰還される。 上記部品２１、２２及び２３はフェーズロックループを形成し、上記読取信号か らクロック信号を導出する。クロック信号Ｓ_CL及び読取信号Ｓ_R1は第１時間間隔 検出器２４に供給され、該検出器は上記読取信号の前縁と上記クロック信号の最 寄りの遷移点との間の時間間隔を測定する。該前縁は上記読取信号Ｓ_R1のうちの 前記走査放射ビームにより検出されるマークの最初の部分に対応する部分であり 、上記後縁はマークの最後の部分に対応する部分である。また、クロック信号Ｓ_CL 及び読取信号Ｓ_R1は第２時間間隔検出器２５にも供給され、該検出器は上記読 取信号の後縁と上記クロック信号の最寄りの遷移点との間の時間間隔を測定する 。時間間隔検出器２４及び２５の測定された時間間隔は回路２６及び２７におい て各々解析される。回路２６及び２７は、上記時間間隔の値を処理して、平均値 、標準偏差及び／又はピークずれを形成する。本発明による該ジッタ検出器の実 施例においては、回路２６及び２７は前縁ジッタ及び後縁ジッタの標準偏差を示 す信号Ｓ_LJ及びＳ_TJを各々発生する。 処理手段１６は情報信号Ｓ_IPに応答して出力信号Ｓ_Dを発生すると共に、該信 号を放射源ドライバ１５に供給する。第３図は、上側の描線で２値のＥＦＭ符号 化された情報信号Ｓ_IPを時間ｔの関数として示している。該信号は論理値“０” 及び“１”の系列として３Ｔ、４Ｔ及び６Ｔパルスを示し、各値の間の遷移は距 離Ｔのクロック時点で発生している。第３図における２番目の描線は、上記最初 の線で示された３つの信号パルスに関係すると共に本発明により最適化された出 力信号Ｓ_Dの３つのパルス列の例を示している。該２番目の描線はＳ_Dの信号値に 対応する放射源４の放射出力を示している。ここで、Ｐ_bは前記記録層内にマー ク を書き込むには不充分なバイアス出力レベルである。また、Ｐ_Wは上記パルス列 の中間部分の書込出力レベルである。また、Ｐ_W1はパルス列の前縁部分の書込出 力レベルである。また、Ｐ_W2はパルス列の後縁部分の出力である。３番目の描線 は、期間Ｔの各クロック周期に関する論理状態を示している。２番目の描線に示 されたＳ_Dの例においては、信号値はＴ／３なる距離のクロック時点で変化する ことができる。パルス列の最初のパルスは４／３Ｔなる幅を有し、該パルス列内 の後続のパルスは２／３Ｔなる幅と１／３Ｔなるパルス間の間隙とを有している 。本例におけるパルス列の前縁部分は１／３Ｔの長さを有し、後縁部分は２／３ Ｔの長さを有している。パルス列の中間部分は、当該パルス列の全長から１Ｔを 引いたものに等しい長さを有している。第３図における４番目の描線は上記２番 目の描線のパルス列により形成されるマークを概念的に示している。即ち、３Ｔ 、４Ｔ及び６Ｔのマーク２８ａ、２８ｂ及び２８ｃ、並びに中間の書き込まれな い３Ｔ及び４Ｔの長さの領域２９ａ及び２９ｂである。 第３図の２番目の描線における最適化された信号の例においては、短いパルス 列（３Ｔ及び４Ｔ）の部分集合の前縁部分における出力Ｐ_W1が前記前縁ジッタを 用いて最適化され、長いパルス列（ｎ≧５の場合のｎＴ）の前縁部分における出 力はレベルＰ_Wに設定される。３Ｔパルス列の後縁部分の出力は最適化されずに レベルＰ_Wに設定され、長いパルス列（ｎ≧４の場合のｎＴ）の部分集合の後縁 部分の出力Ｐ_W2は前記後縁ジッタを用いて最適化される。 本発明は、上記のようなパルス列の前縁及び後縁部分の長さに限定されるもの ではなく、パルス列の前縁及び後縁部分の別の長さも可能であることは明らかで あろう。同様に、本発明は前縁及び後縁が最適化される図示のパルス列の特定の 選択に限定されるものでもないことも明らかであろう。 第４図は、第３図の最初の描線に示されるような情報信号Ｓ_IPに応答して第３ 図の２番目の描線に示されるような出力信号Ｓ_Dを発生する処理手段１６の一実 施例を示している。周期Ｔを持つクロック信号Ｆ_Cがフェーズロックループ３０ に供給される。該フェーズロックループの出力Ｆ_C3の周波数は、分周器３１によ り３なる係数で除算され、次いで該フェーズロックループ３０に帰還される。フ ェーズロックループ３０と分周器３１との組合せは、１／３Ｔなる周期を持つク ロッ ク信号Ｆ_C3を発生する周波数３倍器として動作する。情報信号Ｓ_IPは８ビットシ フトレジスタ３２に供給される。Ｓ_IPの入力ビットは当該レジスタにクロック周 期Ｔ当たり１ビットの割合で導入される。該レジスタの内容は各クロック周期Ｔ につき一度、状態マシン３３に供給される。該状態マシンは、上記レジスタから の各８ビット語を３つの連続した出力値（power values）に変換する。これら出 力値は、該状態マシンの出力端子で、１／３Ｔ周期当たり１つの値の割合で送出 される。したがって、クロック周期Ｔ当たり３つの出力値が提供される。これら 出力値はＤ／Ａ変換器３４によりデジタルからアナログのフォーマットに変換さ れ、該変換器は前記放射源ドライバ１５において使用されるべきアナログ出力信 号Ｓ_Dを出力する。 上記状態マシンの動作を表Ｉを参照して説明する。上記表は、状態マシン３３によりシフトレジスタ３２から入力されたビットパタ ーン、該状態マシンの対応する状態、及び該状態に関係する３つの連続した出力 値を示している。第３図の最初の描線における情報信号Ｓ_IPに属する状態が、第 ３図の一番下の描線に示されている。状態０につながるものとして２つの入力ビ ットパターンがあり、状態１につながるものとして２つのものがある。各ビット パターンの一番右のビットは、シフトレジスタ３２に入力された情報の最後のビ ットである。右から４番目のビットは現在のビットである。該表の各ビットは論 理値“０”及び“１”並びに“ｘ”で示された所謂“どちらでもよい”値“０” 又は“１”を持つことができる。一例として、Ｆ_Cのクロック時点で、状態マシ ン３３がビットパターン“ｘ１１１１０ｘｘ”を有していると、該マシンは状態 ３となり、これに応答して該マシンはＦ_C。の３つの連続するクロック時点で出 力値Ｐ_b、Ｐ_W2及びＰ_W2をこの順で供給する。これらのデジタル出力値はデジタ ルからアナログに変換され、放射源ドライバ１５に供給される。 記録担体１上に情報を書き込む前に、当該装置はテストフェーズを経て進み、 このフェーズでは該装置は以下の手順を実行することにより書込に使用されるパ ルス列の放射出力を最適値に設定する。該装置は記録担体１上に、各々が異なる 書込出力を持つ一連の副パターンを有する第１テストパターンを書き込む。後続 の副パターンは、主処理手段１３の制御の下で、段階的に増加される書込出力で 書き込むことができる。これら副パターンにおけるマークの長さは、所望の読取 信号が得られるように選択されねばならない。読取信号の最大変調が決定されね ばならない場合は、これら副パターンは該読取信号の最大変調を達成するために 充分に長いマークを有していなければならない。当該情報が所謂ＥＦＭ変調に従 い符号化される場合は、テストパターンは好ましくは長いＩ₁₁マークを有するよ うにする。これらパターンは当該媒体上の何れの位置にも書き込むことができる 。また、これらパターンは当該媒体上に特別に設けられたテスト領域に書き込む こともできる。 上記第１テストパターンに対応する読取信号Ｓ_R1はプロセッサ１１により処理 され、該読取信号から第１読取パラメータが導出される。該第１読取パラメータ は当該読取信号の変調であり得る。該第１読取パラメータは、好ましくは、当該 読取信号の全情報帯域幅にわたって得られる平均値と、該読取信号の上記帯域幅 の低周波端近傍の成分の平均値との間の差の目安となる、βと呼ばれる、該読取 信号の非対称性とする。該非対称性を表す信号は、読取信号Ｓ_R1をハイパスフィ ルタに通過させ、該フィルタされた信号の上側及び下側包絡線の信号値Ａ１及び Ａ２を各々決定し、β＝（Ａ１＋Ａ２）／（Ａ１−Ａ２）を計算することにより 得ることができ、ここで、通常Ａ２は負の値を有するであろう。 制御手段１２はプロセッサ１１から上記第１テストパターンにおける全ての副 パターンに関するβの値を入力する。βの該値及び対応する副パターンの書込出 力は、β対書込出力曲線を形成し、該曲線はβ＝０軸と交差する線である。制御 手段１２は、βが零に近いか又は零に等しい値、好ましくは−０．０５ないし＋ ０．１５の範囲内の値を有するような書込出力を決定する。該選択された最適書 込出力は、主処理手段１３に供給される。 該テストフェーズの第２ステップでは、当該装置は書き込みに使用されるパル ス列の前縁部分を最適化する。この目的のため、テスト信号発生器１４は、上記 第１のステップで得られた最適書込出力を用いて、当該記録担体上に第２テスト パターンを書き込むためのテスト信号を発生する。該第２テストパターンは、パ ルス列の前縁部分において異なる出力の値を持つ一連の副パターンを有している 。プロセッサ１１は、各副パターンに対応する読取信号の前縁ジッタＳ_LJを測定 し、これらジッタ値を制御手段１２に供給する。該制御手段１２は、これら副パ ターンの前縁ジッタ値を使用して、最も少ない前縁ジッタを与えるような前縁出 力Ｐ_W1を決定する。この値を表す制御信号は主処理手段１３に供給される。 このテストフェーズの第３ステップでは、当該装置は書き込みに使用されるパ ルス列の後縁部分を最適化する。該装置は第３テストパターンを、該第３テスト パターンの異なる副パターンにおいて後縁パルスに関し異なる値を持つ書込出力 のパルス列を用いて書き込む。これらパルス列は、上記第２ステップで得られた 最適前縁出力と、前記第１ステップで見つかった最適出力とを適用する。プロセ ッサ１１は上記副パターンの各々に対応する読取信号の後縁ジッタＳ_TJを測定す る。制御手段１２は、該後縁ジッタが最小値を示す後縁出力Ｐ_W2を決定し、この 値を制御信号として主処理手段１３に供給する。特定の記録担体に対しては、後 縁部分が上記第２ステップにおいて最適化され、前縁部分が該第３ステップにお いて最適化される。 該テストフェーズの第４ステップでは、当該装置は上記第２及び第３ステップ で得られた前縁及び後縁出力を用いて、もう一度、書込出力を最適化する。該装 置は第４テストパターンを、該第４テストパターンにおける異なる副パターンに 対して当該パルス列の中間部分における出力が異なる値を有するようなパルス列 を用いて書き込む。これら書込出力は、前記第１ステップで得られた最適書込出 力付近の比較的狭い範囲内にある。プロセッサ１１及び制御手段１２は最適書込 出力Ｐ_Wを表す制御信号を形成し、該制御信号を主処理手段１３に供給する。 該テストフェーズの後、信号Ｓ_IIにより表される情報を最適記録条件の下で当 該記録担体上に記録することができる。処理手段１６により該情報信号Ｓ_IIに依 存して形成されるパルス列は、制御信号Ｓ_Cにしたがって修正される。当該装置 の上記実施例では、３Ｔ及び４Ｔパルス列の前縁部分の出力は前縁出力Ｐ_W1に設 定され、ｎ≧４の場合のｎＴパルス列の後縁部分の出力は後縁出力Ｐ_W2に設定さ れる。また、パルス列の中間部分の出力は最適出力Ｐ_Wに設定される。 本発明による方法の他の実施例では、３Ｔ及び４Ｔパルス列のＰ_W1は第１ステ ップで同一の値に最適化される。また、ｎ≧４の場合のｎＴパルス列のＰ_W2は後 続のステップにおいて同一値に最適化される。また、４Ｔパルス列のＰ_W2は次の ステップで再び最適化される。 第５図は、本発明による記録方法の他の実施例から結果として得られる出力信 号Ｓ_Dを３Ｔ、４Ｔ及び６Ｔマークに関して示している。ｎＴマークは（Ｎ−１ ）パルスのパルス列により書き込まれる。第５Ａ図の実施例では、第１パラメー タは３Ｔ及び４Ｔパルス列の最初のパルスの幅Ｔ₁であり、該幅の値は単一の最 適化ステップで決定される。各パルス列の最初と最後のパルスの間のパルスの幅 Ｔ₂は、例えば２／３Ｔ等の所定の値を有している。また、パルス列内のパルス の間の期間は、例えば１／３Ｔ等の所定の期間を有している。ｎ≧４の場合のｎ Ｔパルス列の最後のパルスの幅Ｔ₃は、単一の最適化ステップにおいて決定され る。ｎ≧５の場合のｎＴパルス列の最初のパルスの幅Ｔ₁’は、例えば１／３Ｔ 等の所定の値を有している。後続の最適化ステップにおいては、４Ｔパルス列の Ｔ₃の値を更に最適化することができる。 第５Ｂ図は、パルス間の期間が最適化された３Ｔ、４Ｔ及び６Ｔパルス列の出 力信号Ｓ_Dを示している。図示の例では、パルス幅は、例えば６Ｔパルス列に関 しては１／３Ｔ、２／３Ｔ、２／３Ｔ、１／２Ｔのような一定の所定値を有して いる。第１の最適化ステップにおいては、３Ｔ及び４Ｔパルス列の最初のパルス と２番目のパルスとの間の期間Ｔ₅が最適化される。パルス列のうちの最初及び 最後のパルス以外のパルスの間の期間Ｔ₆は、例えば１／３Ｔのような所定の値 を有し ている。同様に、ｎ≧５の場合のｎＴパルス列の最初のパルスと２番目のパルス との間の期間Ｔ₅’は、例えば１／３Ｔのような所定の値を有している。後続の 最適化ステップにおいては、ｎ≧４の場合のｎＴパルス列の最後から２番目のパ ルスと最後のパルスとの間の期間Ｔ₇が決定される。 特定の適用例においては、例えば前縁部分の出力最適化及び後縁部分のパルス 幅最適化のような、第３、５Ａ及び５Ｂ図に示した方法の組合せを行うこともで きることは明らかであろう。 記録装置は、記録担体上に、上記手順で得られた最適記録条件と一緒に当該装 置の識別子を記録することもできる。該記録条件は、書込出力Ｐ_W、Ｐ_W1及びＰ_{W 2} 、書込速度、並びに波長を含むことができる。その場合、該装置は記録担体が 記録に先立ちテストされねばならないか否かをチェックすることができる。当該 記録担体上の識別子が当該装置の識別子と等しい場合は、記録テスト手順は実行 する必要はなく、その代わりに当該記録担体から読み取られた記録条件を使用す ることができる。他の例として又は追加として、記録装置又はレコード製造者は 、記録担体上にパラメータ用の開始値又は範囲を書き込むことができる。本発明 による記録方法は、消去された記録層に書き込むのに、及び未だ消去されていな い記録層に書き込むのに、即ち所謂直接重ね書きをするのに適している。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ) ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ， ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，Ｄ Ｋ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＧＨ，ＨＵ，ＩＬ ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ， ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，Ｍ Ｋ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ， ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，Ｚ Ｗ (72)発明者 ドゥチャテアウ ヨハン ピー ダブリュ ー ビー オランダ国 5656 アーアー アインドー フェン プロフ ホルストラーン ６

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．光学記録担体上に情報を記録する装置において、 前記記録担体を放射のパルス列で照射することにより該記録担体上に光学的 に検出可能なマークのパターンを書き込み、マークが１つのパルス列により形 成されるような記録手段と、 テストパターンを有するテスト信号を発生すると共に該テスト信号を前記記 録手段の入力端に供給するテスト信号発生器と、 前記記録担体上のマークを読み取ると共に読取信号を出力する読取手段と、 前記テストパターンに対応する前記読取信号のジッタを測定すると共に、前 縁ジッタ信号及び後縁ジッタ信号を出力するジッタ検出器と、 前記前縁ジッタ信号及び前記後縁ジッタ信号に応じて第１制御信号及び第２ 制御信号を各々出力し、これら制御信号の値が前記読取信号の最適品質に対応 するような制御手段と、 記録されるべき入力情報を前記記録手段に供給される出力信号に変換し、該 出力信号が放射のパルス列に対応すると共に前記入力情報を表し、各パルス列 が前縁部分と後縁部分とを有し、前記前縁部分に関係する第１パラメータの最 適値が前記第１制御信号により決定され及び／又は前記後縁部分に関係する第 ２パラメータの最適値が前記第２制御信号により決定されるような処理手段と 、を有していることを特徴とする装置。 ２．請求項１に記載の装置において、前記第１又は第２パラメータが前記前縁又 は後縁部分の放射出力であることを特徴とする装置。 ３．請求項１に記載の装置において、前記第１又は第２パラメータが前記前縁又 は後縁部分におけるパルスの幅であることを特徴とする装置。 ４．請求項１に記載の装置において、前記第１又は第２パラメータが前記前縁又 は後縁部分における２つのパルスの間の期間であることを特徴とする装置。 ５．請求項１に記載の装置において、前記制御手段が前記第２制御信号の値を前 記第１パラメータの最適値でもって記録されたテストパターンから導出するよ うに構成されていることを特徴とする装置。 ６．請求項１に記載の装置において、前記制御手段が第３制御信号を前記テスト パターンに対応する前記読取信号の振幅に応じて出力すると共に前記パルス列 の放射出力を制御するように構成され、前記第３制御信号の値は前記読取信号 の最適品質に対応し、前記処理手段が前記第３制御信号を入力すると共に、該 第３制御信号の値を前記記録されるべき入力情報の前記出力信号への変換に使 用するように構成されていることを特徴とする装置。 ７．記録担体上に情報を記録する方法において、 前記記録担体上にマークのテストパターンを書き込むステップと、 前記テストパターンを読み取ると共に読取信号を形成するステップと、 前記読取信号の前縁ジッタ及び後縁ジッタを測定するステップと、 前記前縁ジッタ及び前記後縁ジッタに応じて第１制御信号及び第２制御信号 の最適値を各々決定するステップと、 記録されるべきユーザ情報を出力信号に変換すると共に該出力信号を記録手 段に供給し、前記出力信号が放射のパルス列に対応すると共に前記ユーザ情報 を表し、各パルス列が前縁部分と後縁部分とを有し、前記前縁部分に関係する 第１パラメータの最適値が前記第１制御信号により決定され及び／又は前記後 縁部分に関係する第２パラメータの最適値が前記第２制御信号により決定され るようなステップと、 を有していることを特徴とする方法。 ８．請求項７に記載の方法において、 前記読取信号の振幅を測定するステップと、 前記振幅に応じて第３制御信号の最適値を決定するステップと、 前記パルス列の放射出力を前記第３制御信号の値に応じて制御するステップ と、 を有していることを特徴とする方法。 ９．請求項７に記載の方法において、第１テストパターンを使用する前記第１パ ラメータの最適化が、第２テストパターンを使用する第２パラメータの最適化 により後続されることを特徴とする方法。 １０．請求項８及び９に記載の方法において、前記放射出力の最適化が、前記第 １及び第２パラメータの最適化により後続されることを特徴とする方法。 １１．記録担体上に異なる長さのマークの形態で情報を記録する方法であって、 マークは前記記録担体を放射のパルス列で照射することにより形成され、各パ ルス列は前縁部分と中間部分と後縁部分とを有し、各パルス列は異なる長さを 持つパルス列の集合に属し、該パルス列の集合は短いパルス列の部分集合と長 いパルス列の部分集合とを有するような方法において、 前記部分集合の１つのみのパルス列が第１パラメータの相違する前縁部分及 び中間部分を有し、前記部分集合の他の１つのパルス列が第２パラメータの相 違する中間部分及び後縁部分を有していることを特徴とする方法。 １２．請求項１１に記載の方法において、前記短いパルス列の部分集合が異なる 前縁部分及び中間部分を有し、前記長いパルス列の部分集合は異なる中間部分 及び後縁部分を有していることを特徴とする方法。 １３．記録担体上に異なる長さのマークの形態で情報を記録する方法であって、 マークは前記記録担体を放射のパルス列で照射することにより形成され、各パ ルス列は前縁部分と後縁部分とを有し、各パルス列は異なる長さを持つパルス 列の集合に属し、該パルス列の集合は短いパルス列の第１部分集合と長いパル ス列の第２部分集合とを有するような方法において、 前記第１部分集合のパルス列は前記前縁部分に第１パラメータの第１の値を 有し、前記第２部分集合のパルス列は前記前縁部分に前記第１パラメータの第 ２の別の値を有し、前記第１部分集合のパルス列は前記後縁部分に第２パラメ ータの第１の値を有し、前記第２部分集合のパルス列は前記後縁部分に前記第 ２パラメータの第２の別の値を有していることを特徴とする方法。 １４．請求項１１又は１３に記載の方法において、前記第１パラメータが、放射 出力、前記パルス列におけるパルスの幅又は前記パルス列の２つのパルスの間 の期間であることを特徴とする方法。 １５．請求項１１又は１３に記載の方法において、前記第２パラメータが、放射 出力、前記パルス列におけるパルスの幅又は前記パルス列の２つのパルスの間 の期間であることを特徴とする方法。