JPH11232650A - 光ディスク原盤の製造方法および光ディスク原盤露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 記録信号が長くても短くても、ピット幅が一
定な光ディスク原盤を作製できる光ディスク原盤の製造
方法および光ディスク原盤露光装置を提供する。 【解決手段】 この発明の光ディスク原盤露光装置は、
パルス幅検知回路４で、記録信号のパルス幅が基準クロ
ックの周波数の逆数Ｔすなわち周期の何倍であるのかを
表す倍数を検知する。パルス幅補正回路５と露光光量設
定回路８は、この倍数つまり記録信号のパルス幅に応じ
て、ピット露光用パルスのパルス幅とパルス強度を設定
する。こうして、記録信号のパルス幅を基準クロックの
周波数の波長を基準にして正確に検出し、正確な記録信
号のパルス幅に基づいて、ピット露光用パルスのパルス
強度とパルス幅を設定する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、情報を記録する
光ディスク原盤の製造方法および光ディスク原盤露光装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、光ディスク原盤を露光するための
レーザ光の強度を、記録すべき信号のパルス幅の長短に
かかわらずに一定にしていたが、この場合、パルス幅が
長いときに、所望のピットの幅よりもピットの幅が広く
なることにより、ピット中央部の再生信号量が減少する
という問題があった。また、パルス幅が短いときに所望
のピットの幅よりもピットの幅が狭くなって記録不足に
なったりしていた。

【０００３】そこで、記録すべき信号のパルス幅が短い
ときにはレーザ光の強度を強くし、記録すべき信号のパ
ルス幅が長いときにはレーザ光の強度を弱くして、パル
ス幅の長短によるピット幅の変動抑制を図る光ディスク
原盤への信号記録方法が提案されている（特開平１−３
１２７５１号，特開平２−７２４８号）。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記光
ディスク原盤への信号記録方法では、レーザ光の強弱制
御量が過剰になって、パルス幅の長い記録信号に対する
ピット幅が狭くなったり、パルス幅の短い記録信号に対
するピット幅が広くなるという問題がある。ピット幅が
不均一であると、光ディスクの再生時にサーボ制御が不
安定になり、所望の再生信号を得ることができない。

【０００５】そこで、この発明の目的は、記録信号のパ
ルス幅が長くても短くても、所望のピット幅の光ディス
ク原盤を作製できる光ディスク原盤の製造方法および光
ディスク原盤露光装置を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１の発明は、円形基板上に塗布されたレジス
トに、基準クロックの周波数の逆数Ｔの整数倍のパルス
幅の信号に基づいて、ピットを露光する光ディスク原盤
の製造方法であって、上記基準クロックの周波数に基づ
いて変調された記録信号のパルス毎に、そのパルス幅が
上記基準クロックの周波数の逆数Ｔの何倍であるのかを
表わす倍数を検知するパルス幅検知ステップと、上記記
録信号のパルス幅の上記倍数に応じて、その記録信号の
パルスに対応するパルス強度とパルス幅でもって、ピッ
ト露光用パルスを設定するピット露光用パルス設定ステ
ップと、上記設定されたピット露光用パルスでもって、
円形基板上に塗布されたレジストにピットを露光するピ
ット露光ステップとを備えたことを特徴としている。

【０００７】この請求項１の発明では、記録信号のパル
ス幅が基準クロックの周波数の逆数Ｔ(すなわち周期)の
何倍であるのかを表す倍数を検知して、この倍数つまり
記録信号の時間的長さに応じて、ピット露光用パルスの
パルス強度とパルス幅を設定する。

【０００８】つまり、この発明では、記録信号の長さを
基準クロックの周波数の波長を基準にして正確に検出
し、正確な記録信号のパルス幅に基づいて、ピット露光
用パルスのパルス強度とパルス幅を設定する。したがっ
て、記録信号のパルスの長短に正確に追随したレーザ光
強度およびレーザ光の時間長を設定でき、ピット幅が一
定で所望の再生信号が得られる光ディスク原盤を作製で
きる。

【０００９】また、請求項２の発明は、円形基板上に塗
布されたレジストに、基準クロックの周波数の逆数Ｔの
整数倍のパルス幅の信号に基づいて、ピットを露光する
光ディスク原盤露光装置であって、上記基準クロックの
周波数に基づいて変調された記録信号のパルス毎に、そ
のパルス幅が上記基準クロックの周波数の逆数Ｔの何倍
であるかを表わす倍数を検知するパルス幅検知手段と、
上記記録信号のパルス幅の上記倍数に応じて、その記録
信号のパルスに対応するパルス強度とパルス幅でもっ
て、ピット露光用パルスを設定するピット露光用パルス
設定手段と、上記設定されたピット露光用パルスでもっ
て、円形基板上に塗布されたレジストにピットを露光す
るピット露光手段とを備えたことを特徴としている。

【００１０】この請求項２の発明では、上記パルス幅検
知手段で、記録信号のパルス幅が基準クロックの周波数
の逆数Ｔすなわち周期の何倍であるのかを表す倍数を検
知する。そして、上記ピット露光用パルス設定手段は、
この倍数つまり記録信号のパルス幅に応じて、ピット露
光用パルスのパルス強度とパルス幅を設定する。

【００１１】つまり、この発明では、上記パルス幅検知
手段で、記録信号のパルス幅を基準クロックの周波数の
周期を基準にして正確に検出し、上記ピット露光用パル
ス設定手段は、正確な記録信号のパルス幅に基づいて、
ピット露光用パルスのパルス強度とパルス幅を設定す
る。したがって、記録信号のパルス幅の長短に正確に追
随したレーザ光強度およびレーザ光のパルス幅を設定で
き、ピット幅が一定で所望の再生信号が得られる光ディ
スク原盤を作製できる。

【００１２】また、請求項３の発明は、一定回転数で回
転する円形基板の同心円状に分割されたゾーン毎に基準
クロックの周波数を変化させて、上記基準クロックの周
波数の逆数Ｔの整数倍のパルス幅のパルスによって、上
記円形基板上に塗布されたレジストにピットを露光する
光ディスク原盤の製造方法であって、上記基準クロック
の周波数に基づいて変調された記録信号のパルス毎に、
そのパルス幅が上記基準クロックの周波数の逆数Ｔの何
倍であるのかを表わす倍数を検知するパルス幅検知ステ
ップと、上記記録信号のゾーンを検知するゾーン検知ス
テップと、上記倍数と上記ゾーンとに応じて、ビット露
光用パルスのパルス強度とパルス幅を設定するピット露
光用パルス設定ステップと、上記設定されたピット露光
用パルスでもって、円形基板上に塗布されたレジストに
ピットを露光するピット露光ステップとを備えたことを
特徴としている。

【００１３】この請求項３の発明では、上記パルス幅検
知ステップで上記記録信号のパルス幅を検知し、上記ゾ
ーン検知ステップで上記記録信号のゾーンを検知して、
ピット露光用パルス設定ステップで、正確な記録信号の
パルス幅と記録信号のゾーンとに応じてピット露光用パ
ルスのパルス強度とパルス幅を設定する。

【００１４】したがって、この請求項３の発明によれ
ば、記録信号のパルス幅だけでなく、記録信号のゾーン
にも正確に追随したレーザ光強度とレーザ光のパルス幅
を設定できるから、ゾーン毎に基準クロック周波数が変
化する記録方式においても、全面において最適な再生波
形が得られる光ディスク原盤を製造できる。

【００１５】また、請求項４の発明は、一定回転数で回
転する円形基板の同心円状に分割されたゾーン毎に基準
クロックの周波数を変化させて、上記基準クロックの周
波数の逆数Ｔの整数倍のパルス幅のパルスによって、上
記円形基板上に塗布されたレジストにピットを露光する
光ディスク原盤露光装置であって、上記基準クロックの
周波数に基づいて変調された記録信号のパルス毎に、そ
のパルス幅が上記基準クロックの周波数の逆数Ｔの何倍
であるのかを表わす倍数を検知するパルス幅検知手段
と、上記記録信号のゾーンを検知するゾーン検知手段
と、上記倍数と上記ゾーンとに応じて、ビット露光用パ
ルスのパルス強度とパルス幅を設定するピット露光用パ
ルス設定手段と、上記設定されたビット露光用パルスで
もって、円形基板上に塗布されたレジストにピットを露
光するピット露光手段とを備えたことを特徴としてい
る。

【００１６】この請求項４の発明では、上記パルス幅検
知手段で上記記録信号のパルス幅を検知し、上記ゾーン
検知手段で上記記録信号のゾーンを検知して、ピット露
光用パルス設定手段で、正確な記録信号のパルス幅と記
録信号のゾーンとに応じてピット露光用パルスのパルス
強度とパルス幅を設定する。したがって、この請求項４
の発明の光ディスク原盤露光装置によれば、記録信号の
パルス幅だけでなく、記録信号のゾーンにも正確に追随
したレーザ光強度とレーザ光のパルス幅を設定できるか
ら、ゾーン毎に基準クロック周波数が変化する記録方式
においても、全面において最適な再生波形が得られる光
ディスク原盤を製造できる。

【００１７】また、請求項５の発明は、請求項１または
３に記載の光ディスク原盤の製造方法において、上記ピ
ット露光用パルス設定ステップで、上記記録信号のパル
ス幅の上記倍数の大小に応じて、ピット露光用パルスの
パルス強度を小大に設定することを特徴としている。

【００１８】この請求項５の発明では、記録信号が短パ
ルスでピットが狭く浅くなりやすいときに、ピット露光
用パルスの強度を大きくする一方、記録信号のパルス幅
が長いときにはピット露光用パルスの強度を小さくす
る。これにより、ピット幅の均一化を図れ、再生波形を
最適化できる。

【００１９】また、請求項６の発明は、請求項１または
３に記載の光ディスク原盤の製造方法において、上記ピ
ット露光用パルス設定ステップで、上記記録信号のパル
ス幅の上記倍数の大小に応じて、ピット露光用パルス立
ち下がり進み時間を所望値に設定することを特徴として
いる。

【００２０】この請求項６の発明では、記録信号が短パ
ルスで、記録信号が長パルスであるときに比べて、ピッ
トが短くなりやすいときに、ピット露光用パルス立ち下
がり進み時間を短くするから、記録信号の長さに忠実な
長さのピットを形成でき、再生波形を最適化できる。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、この発明を図示の実施の形
態により詳細に説明する。

【００２２】〔第１の実施の形態〕図１に、この発明の
光ディスク原盤露光装置の第１の実施の形態の構成を示
す。この光ディスク原盤露光装置は、クロック信号発生
器１，記録情報部２，データエンコーダ３，パルス幅検
知回路４，パルス幅補正回路６，半径位置データメモリ
７,露光光量設定回路８，露光光量データ部９および光
ディスク露光機１０を備える。

【００２３】クロック信号発生器１は基準クロックを発
生する。この基準クロックの信号波形の一例を図３(Ａ)
に示す。この基準クロックの周波数の逆数Ｔは、上記基
準クロックの周期である。

【００２４】そして、上記記録情報部２は、上記基準ク
ロックに同期してデータエンコーダ３に記録情報を出力
する。また、上記記録情報部２は、半径位置データを半
径位置データメモリ７に入力する。この半径位置データ
メモリ７は上記半径位置データを記憶し、かつ、上記半
径位置データを露光光量データ部９に入力する。上記半
径位置データ７は、上記記録信号が記録されるべき光デ
ィスクの半径方向の位置を表すデータである。

【００２５】そして、データエンコーダ３は、上記記録
情報を記録信号に変調して、パルス幅検知回路４に入力
する。上記記録信号は、上記記録情報を光ディスクに書
き込むための信号である。この記録信号の信号波形の一
例を図３(Ｂ)に示す。上記パルス幅検知回路４は、上記
記録信号のパルス幅が上記基準クロックの周波数の逆数
Ｔの何倍であるのかを検知し、この検知した倍数値を表
す信号をパルス幅補正データメモリ５および露光光量デ
ータ部９に出力する。このパルス幅補正データメモリ５
は、上記倍数値に対応して予めテーブルに格納されてい
るパルス幅補正データをパルス幅補正回路６に入力す
る。すると、このパルス幅補正回路６は上記パルス幅補
正データに基づいて、上記記録信号のパルス幅を補正す
る。

【００２６】このパルス幅の補正は、たとえば、図３
(Ｂ)，(Ｃ)に示すように、パルス幅ｔｍの記録パルスＶ
２よりもパルス幅が小さな記録パルスＶ１に対して、記
録パルスＶ２に対する立ち下がり進み時間ｔ４よりも短
い立ち下がり進み時間ｔ２を設定する。なお、上記進み
時間ｔ２，ｔ４は、再生波形が最適化できるような所望
値に設定するものであり、パルス幅が大きな記録パルス
に対する立ち下がり進み時間を、パルス幅が小さな記録
パルスに対する立ち下がり進み時間よりも短く設定する
場合もある。上記パルス幅補正データメモリ５は、記録
信号のパルス幅の増減に対応して、増減させた上記立ち
下がり進み時間のデータを格納されており、上記記録信
号のパルス幅に対応する進み時間のデータをパルス幅補
正回路６に出力する。なお、パルス幅が短い記録パルス
Ｖ１に対する立ち上がり遅れ時間ｔ１と、パルス幅が長
い記録パルスＶ２に対する立ち上がり遅れ時間ｔ３と
は、略同じ値に設定されている。

【００２７】一方、上記露光光量データ部９は、上記パ
ルス幅検知回路４からのパルス幅を表す信号と上記半径
位置データメモリ７からの半径位置データとの組み合わ
せに対して設定されたパルス強度補正量を格納してい
る。このパルス強度補正量は、上記パルス幅が大きいほ
ど、上記パルス強度を減らす量が大きくなり、上記パル
ス幅が所定値を越えると、上記補正量が飽和するように
設定されている。そして、上記露光光量データ部９は、
上記半径位置データ，パルス幅を表す信号との組に対応
するパルス強度補正量に基づいて、露光光量データを発
生して、この露光光量データを露光光量設定回路８に入
力する。

【００２８】そして、この露光光量設定回路８では、上
記パルス幅補正回路６でパルス幅が補正された記録信号
のパルス強度を、上記露光光量データに基づいて補正す
る。このパルス強度については、たとえば、アナログマ
ルチプレクサの入力端に必要な電圧を入力しておき、そ
のアナログマルチプレクサの出力を使用することによっ
て、露光用パルスの強度を変更することができる。

【００２９】このパルス強度の補正の具体例としては、
たとえば、図３(Ｂ)，(Ｃ)に示すように、パルス幅ｔｎ
の記録パルスＶ１に対しては、略補正量零であり、記録
パルスＶ１よりもパルス幅が長い記録パルスＶ２に対し
ては、ｐ１だけパルス強度を減少させる。このように、
記録信号のパルス幅が長いときに、露光用信号のパルス
強度を減少させることによって、記録信号のパルス幅の
長短によるビットの幅の増減を抑制してビット幅を均一
化できる。

【００３０】そして、上記露光光量設定回路８は、上述
のようにパルス幅が補正され、パルス強度が補正された
記録信号を、図３(Ｃ)に波形の一例を示すピット露光用
信号として、光ディスク露光機１０に出力する。

【００３１】すると、この光ディスク露光機１０は、上
記ピット露光用信号に応じた強度とパルス幅のレーザ光
を円形基盤上に塗布されたレジストに照射して、ピット
を露光する。

【００３２】このように、この実施形態では、上記パル
ス幅検知回路４で、記録信号のパルス幅が記録信号基準
クロックの逆数Ｔ（すなわち周期）の何倍であるのかを
表す倍数を検知することによって、記録信号のパルス幅
を基準クロックの周波数の周期を基準にして正確に検出
できる。そしてさらに、パルス幅補正回路６と露光光量
設定回路８は、この倍数つまり記録信号のパルス幅の長
短に応じて、ピット露光用信号のパルス強度とパルス幅
を減増させることによって、記録信号のパルスの長短に
正確に追随したレーザ光強度およびレーザ光の時間長を
設定できる。したがって、ピット幅が一定で所望の再生
信号が得られる光ディスク原盤を作製できる。

【００３３】〔第２の実施の形態〕次に、図２に、本発
明の光ディスク原盤露光装置の第２実施形態の構成を示
す。この第２実施形態は、ゾーン情報メモリ１１を備え
ている点だけが前述の第１実施形態と異なっている。し
たがって、この第２実施形態は、ゾーン情報メモリ１１
に関連する部分を重点的に説明する。なお、ゾーンと
は、複数本のトラックで構成されるものであり、上記ゾ
ーン情報とは、記録信号がどのゾーンに属する信号であ
るのかを表す情報である。この第２実施形態は、ゾーン
毎に基準クロックが変化する記録方式に対応して、補正
したピット露光用信号によって光ディスク原盤を露光す
るものである。

【００３４】上記ゾーン情報メモリ１１は、上記記録情
報部２から記録情報と半径位置データメモリ７からの半
径位置データとが入力されるようになっており、上記記
録信号と半径位置データとの組に対応しているゾーン情
報を格納している。そして、上記ゾーン情報メモリ１１
は、入力された記録情報と半径位置データとの組に対応
したゾーン情報をパルス幅補正データメモリ５と露光光
量データ部９とに出力する。

【００３５】この第２実施形態では、パルス幅補正デー
タメモリ５は、上記ゾーン情報メモリ１１からのゾーン
情報とパルス幅検知回路４で検知した倍数値との組み合
わせに対応して格納しているパルス幅補正データをパル
ス幅補正回路６に入力する。上記パルス幅補正データ
は、上記ゾーン情報に対応し、記録信号が属するゾーン
での基準クロック周波数の高低に応じて、記録信号のパ
ルス幅減少量を減増させるように設定されている。な
お、上記パルス幅補正データが、上記検知倍数値の大小
に対してパルス幅を減少させる量を大小に（あるいは所
望の値に）補正するように設定されている点は、上述の
第１実施形態と同じである。上記パルス幅補正回路６は
上記パルス幅補正データに基づいて、上記記録信号のパ
ルス幅を補正し、この補正した記録信号を露光光量設定
回路８に出力する。

【００３６】一方、上記露光光量データ部９は、上記パ
ルス幅検知回路４からのパルス幅信号とゾーン情報メモ
リ１１からのゾーン情報と半径位置データメモリ７から
の半径位置データとの組み合わせに対応して設定された
パルス強度補正量を格納している。このパルス強度補正
量は、上記ゾーン情報に基づき、記録信号が属するゾー
ンでの基準クロック周波数の高低に応じて、パルス強度
減少量を減増させるように設定されている。また、この
パルス強度補正量は、上記第１実施形態と同じく、上記
パルス幅が大きいほど、上記パルス強度を減らす量が大
きくなり、上記パルス幅が所定値を越えると、上記補正
量が飽和するように設定されている。

【００３７】そして、露光光量設定回路８は、上記露光
光量データ部９からの露光光量データに基づいて上記記
録信号のパルス強度を補正し、この補正された記録信号
をピット露光用信号として光ディスク露光機１０に入力
する。光ディスク露光機１０は、上記ピット露光用信号
に応じた強度とパルス幅のレーザ光を円形基盤上に塗布
されたレジストに照射して、ピットを露光する。

【００３８】この第２実施形態によれば、上記パルス幅
検知回路４で上記記録信号のパルス幅を検知し、上記ゾ
ーン情報メモリ１１で上記記録信号のゾーンを検知し
て、正確な記録信号パルス幅と記録信号が属するゾーン
とに応じてピット露光用パルスのパルス強度とパルス幅
を設定する。

【００３９】したがって、この第２実施形態の光ディス
ク原盤露光装置によれば、記録信号の長さだけでなく、
記録信号のゾーンにも正確に追随したレーザ光強度とレ
ーザ光時間長を設定できる。したがって、ゾーン毎に記
録周波数が変化する記録方式においても、全面において
最適な再生波形が得られる光ディスクの原盤を製造でき
る。

【００４０】次に、上記光ディスク原盤露光装置で作製
された光ディスク、ここではいわゆる５倍密度３．５型
光磁気ディスクについて説明する。

【００４１】５倍密度３．５型光磁気ディスクでは、１
−７ＲＬＬ（ラン・レングス・リミッテド）変調が行わ
れるので、記録パルス幅はセクターマーク信号を除い
て、Ｔ(記録信号基準クロックの逆数)の２倍から８倍の
長さとなる。２Ｔのパルスと２Ｔのスペースの繰り返し
によって形成されたピット列の再生波形がちょうど対称
をなすようなパルス幅の補正量とレーザ光の強度を決定
し、その後、３Ｔ，４Ｔ，５Ｔ，６Ｔ，７Ｔ,８Ｔのパ
ルスにより形成されるピットが、それぞれ、２Ｔのパル
スにより形成されたピットの幅と同じになり、かつそれ
らの再生信号が基準クロックの周波数の逆数Ｔの３，
４，５，６，７，８倍に近くなるように、レーザ光の強
度とパルス幅の補正量を決定する。これにより、２Ｔ〜
８Ｔのパルスにより生成されるピットによる再生波形を
最適化し、再生時のサーボ制御の安定性を増すことがで
きる。

【００４２】また、５倍密度３．５型光ディスクでは基
準クロックの周波数がゾーン毎に変化するので、ゾーン
毎にパルス幅の補正量とレーザ光の強度を設定すること
によって、ディスク全面において再生波形を良好にする
ことができる。

【００４３】なお、ここで述べた例は、一例であり、本
発明は基準クロックの周波数の逆数Ｔの整数倍のパルス
によりピットが形成される４倍密度光磁気ディスク、Ｃ
Ｄ(コンパクトディスク)、ＭＤ(ミニディスク）等に対
しても有効である。

【００４４】

【発明の効果】以上より明らかなように、請求項１の発
明の光ディスク原盤の製造方法では、記録信号のパルス
幅が基準クロックの周波数の逆数Ｔ(すなわち周期)の何
倍であるのかを表す倍数を検知して、この倍数つまり記
録信号の時間的長さに応じて、ピット露光用パルスのパ
ルス強度とパルス幅を設定する。

【００４５】したがって、この発明では、記録信号の長
さを基準クロックの周波数の周期を基準にして正確に検
出でき、正確な記録信号のパルス幅に基づいて、ピット
露光用パルスのパルス強度とパルス幅を設定できる。し
たがって、記録信号のパルスの長短に正確に追随したレ
ーザ光強度およびレーザ光の時間長を設定でき、ピット
幅が一定で所望の再生信号が得られる光ディスク原盤を
作製できる。

【００４６】また、請求項２の発明の光ディスク原盤露
光装置は、パルス幅検知手段で、記録信号のパルス幅が
基準クロックの周波数の逆数Ｔすなわち周期の何倍であ
るのかを表す倍数を検知して、ピット露光用パルス設定
手段で、この倍数つまり記録信号のパルス幅に応じて、
ピット露光用パルスのパルス強度とパルス幅を設定でき
る。

【００４７】したがって、この発明では、パルス幅検知
手段で、記録信号のパルス幅を基準クロックの周波数の
周期を基準にして正確に検出でき、ピット露光用パルス
設定手段は、正確な記録信号のパルス幅に基づいて、ピ
ット露光用パルスのパルス強度とパルス幅を設定でき
る。したがって、記録信号のパルス幅の長短に正確に追
随したレーザ光強度およびレーザ光のパルス幅を設定で
き、ピット幅が一定で所望の再生信号が得られる光ディ
スク原盤を作製できる。

【００４８】また、請求項３の発明の光ディスク原盤の
製造方法は、パルス幅検知ステップで記録信号のパルス
幅を検知し、ゾーン検知ステップで記録信号のゾーンを
検知して、ピット露光用パルス設定ステップで、正確な
記録信号のパルス幅と記録信号のゾーンとに応じてピッ
ト露光用パルスのパルス強度とパルス幅を設定できる。
したがって、この請求項３の発明によれば、記録信号の
パルス幅だけでなく、記録信号のゾーンにも正確に追随
したレーザ光強度とレーザ光のパルス幅を設定できるか
ら、ゾーン毎に基準クロック周波数が変化する記録方式
に対応でき、全面において最適な再生波形が得られる光
ディスク原盤を製造できる。

【００４９】また、請求項４の発明の光ディスク原盤露
光装置は、パルス幅検知手段で録信号のパルス幅を検知
し、ゾーン検知手段で記録信号のゾーンを検知して、ピ
ット露光用パルス設定手段で、正確な記録信号のパルス
幅と記録信号のゾーンとに応じてピット露光用パルスの
パルス強度とパルス幅を設定できる。したがって、この
請求項４の発明によれば、記録信号のパルス幅だけでな
く、記録信号のゾーンにも正確に追随したレーザ光強度
とレーザ光のパルス幅を設定できるから、ゾーン毎に基
準クロック周波数が変化する記録方式にも対応でき、全
面において最適な再生波形が得られる光ディスク原盤を
製造できる。

【００５０】また、請求項５の発明は、請求項１または
３に記載の光ディスク原盤の製造方法において、上記ピ
ット露光用パルス設定ステップで、上記記録信号のパル
ス幅の上記倍数の大小に応じて、ピット露光用パルスの
パルス強度を小大に設定する。したがって、この請求項
５の発明では、記録信号が短パルスでピットが狭くなり
やすいときに、ピット露光用パルスの強度を大きくする
一方、記録信号のパルス幅が長いときにはピット露光用
パルスの強度を小さくする。これにより、ピット幅の均
一化を図れ、再生波形を最適化できる。

【００５１】また、請求項６の発明は、請求項１または
３に記載の光ディスク原盤の製造方法において、上記ピ
ット露光用パルス設定ステップで、上記記録信号のパル
ス幅の上記倍数の大小に応じて、ピット露光用パルス立
ち下がり進み時間を所定の値に設定する。この請求項６
の発明では、記録信号により形成されるピットの再生波
形のパルス幅が短くなる場合には、ピット露光用パルス
立ち下がり進み時間を短くするから、最適な長さのピッ
トを形成でき、再生波形を最適化できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 この発明の光ディスク原盤露光装置の第１実
施形態の構成を示すブロック図である。

【図２】 この発明の第２実施形態の構成を示すブロッ
ク図である。

【図３】 図３(Ａ)は基準クロックの波形図であり、図
３(Ｂ)は記録信号の波形図であり、図３(Ｃ)はピット露
光用信号の波形図である。

【符号の説明】

１…クロック信号発生器、２…記録情報部、３…データ
エンコーダ、４…パルス幅検知回路、５…パルス幅補正
データメモリ、６…パルス幅補正回路、７…半径位置デ
ータメモリ、８…露光光量設定回路、９…露光光量デー
タ部、１０…光ディスク露光機、１１…ゾーン情報メモ
リ。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 円形基板上に塗布されたレジストに、基
   準クロックの周波数の逆数Ｔの整数倍のパルス幅の信号
   に基づいて、ピットを露光する光ディスク原盤の製造方
   法であって、 上記基準クロックの周波数に基づいて変調された記録信
   号のパルス毎に、そのパルス幅が上記基準クロックの周
   波数の逆数Ｔの何倍であるのかを表わす倍数を検知する
   パルス幅検知ステップと、 上記記録信号のパルス幅の上記倍数に応じて、その記録
   信号のパルスに対応するパルス強度とパルス幅でもっ
   て、ピット露光用パルスを設定するピット露光用パルス
   設定ステップと、 上記設定されたピット露光用パルスでもって、円形基板
   上に塗布されたレジストにピットを露光するピット露光
   ステップとを備えたことを特徴とする光ディスク原盤の
   製造方法。
2. 【請求項２】 円形基板上に塗布されたレジストに、基
   準クロックの周波数の逆数Ｔの整数倍のパルス幅の信号
   に基づいて、ピットを露光する光ディスク原盤露光装置
   であって、 上記基準クロックの周波数に基づいて変調された記録信
   号のパルス毎に、そのパルス幅が上記基準クロックの周
   波数の逆数Ｔの何倍であるかを表わす倍数を検知するパ
   ルス幅検知手段と、 上記記録信号のパルス幅の上記倍数に応じて、その記録
   信号のパルスに対応するパルス強度とパルス幅でもっ
   て、ピット露光用パルスを設定するピット露光用パルス
   設定手段と、 上記設定されたピット露光用パルスでもって、円形基板
   上に塗布されたレジストにピットを露光するピット露光
   手段とを備えたことを特徴とする光ディスク原盤露光装
   置。
3. 【請求項３】 一定回転数で回転する円形基板の同心円
   状に分割されたゾーン毎に基準クロックの周波数を変化
   させて、上記基準クロックの周波数の逆数Ｔの整数倍の
   パルス幅のパルスによって、上記円形基板上に塗布され
   たレジストにピットを露光する光ディスク原盤の製造方
   法であって、 上記基準クロックの周波数に基づいて変調された記録信
   号のパルス毎に、そのパルス幅が上記基準クロックの周
   波数の逆数Ｔの何倍であるのかを表わす倍数を検知する
   パルス幅検知ステップと、 上記記録信号のゾーンを検知するゾーン検知ステップ
   と、 上記倍数と上記ゾーンとに応じて、ビット露光用パルス
   のパルス強度とパルス幅を設定するピット露光用パルス
   設定ステップと、 上記設定されたピット露光用パルスでもって、円形基板
   上に塗布されたレジストにピットを露光するピット露光
   ステップとを備えたことを特徴とする光ディスク原盤の
   製造方法。
4. 【請求項４】 一定回転数で回転する円形基板の同心円
   状に分割されたゾーン毎に基準クロックの周波数を変化
   させて、上記基準クロックの周波数の逆数Ｔの整数倍の
   パルス幅のパルスによって、上記円形基板上に塗布され
   たレジストにピットを露光する光ディスク原盤露光装置
   であって、 上記基準クロックの周波数に基づいて変調された記録信
   号のパルス毎に、そのパルス幅が上記基準クロックの周
   波数の逆数Ｔの何倍であるのかを表わす倍数を検知する
   パルス幅検知手段と、 上記記録信号のゾーンを検知するゾーン検知手段と、 上記倍数と上記ゾーンとに応じて、ピット露光用パルス
   のパルス強度とパルス幅を設定するピット露光用パルス
   設定手段と、 上記設定されたピット露光用パルスでもって、円形基板
   上に塗布されたレジストにピットを露光するピット露光
   手段とを備えたことを特徴とする光ディスク原盤露光装
   置。
5. 【請求項５】 請求項１または３に記載の光ディスク原
   盤の製造方法において、 上記ピット露光用パルス設定ステップで、上記記録信号
   のパルス幅の上記倍数の大小に応じて、ピット露光用パ
   ルスのパルス強度を小大に設定することを特徴とする光
   ディスク原盤の製造方法。
6. 【請求項６】 請求項１または３に記載の光ディスク原
   盤の製造方法において、 上記ピット露光用パルス設定ステップで、上記記録信号
   のパルス幅の上記倍数の大小に応じて、ピット露光用パ
   ルスの立ち下がり進み時間を所望値に設定することを特
   徴とする光ディスク原盤の製造方法。