JP2001355082A

JP2001355082A - エッチング処理方法及び装置

Info

Publication number: JP2001355082A
Application number: JP2000177241A
Authority: JP
Inventors: Kazuto Hosoi; 一人細井; Tatsuyuki Aoike; 達行青池; Hitoshi Murayama; 仁村山; Kazuyoshi Akiyama; 和敬秋山; Toshiyasu Shirasago; 寿康白砂; Daisuke Tazawa; 大介田澤; Takashi Otsuka; 崇志大塚
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 2000-06-13
Filing date: 2000-06-13
Publication date: 2001-12-25

Abstract

(57)【要約】【課題】ウエットエッチング処理による堆積膜が付着
した洗浄部材の再生を、安全で確実に行うことによる作
業性の向上と共に、エッチング処理装置のメンテナンス
性を飛躍的に向上させることが可能なエッチング処理方
法及び装置を提供する。【解決手段】洗浄部材を洗浄するエッチング処理方法
において、洗浄槽内に設置した該洗浄部材を、化学溶液
を用いてウエットエッチング処理を行い、処理終了後の
該化学溶液を、少なくとも一つの配管を通して別槽へ移
動し、該洗浄部材は移動せず、同一洗浄槽内で水洗処理
を行うことを特徴とするエッチング処理方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、エッチング処理技
術に関し、特に電子写真感光体などの製造において洗浄
部材を再生処理するのに好適なエッチング処理方法及び
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子写真感光体などに用いる堆積膜形成
方法の一つとして、低温プラズマを利用するCVD法が脚
光を浴びている。この方法は反応容器内を高真空に減圧
し、原料ガスを反応容器内に導入した後、放電電力を印
加し、グロー放電によって原料ガスを分解し、反応容器
内に配置された基体上に堆積膜を形成する方法で、例え
ばアモルファスシリコン（以下a―Siと記す）膜の形成
に応用されている。

【０００３】この方法でシランガス（SiH₄）を成膜原料
ガスとして形成したa―Si膜は、a―Siの禁止帯中に存在
する局在準位が比較的少なく、不純物のドーピングによ
り価電子制御が可能であり、a―Si電子写真感光体とし
て優れた特性を有するものが得られるので、その検討が
続けられている。特開昭６２―２０８７４号公報には、
a―Si感光体の形成のための、プラズマCVD法による堆積
膜形成装置が開示されている。

【０００４】また、特開平６―１９６４１６号公報に
は、電子写真感光体用堆積膜形成装置において、堆積膜
形成後の保持部材をCIF₃を用いたドライエッチング処理
により再生する技術が開示されている。

【０００５】また、特開平１０―１６８５７６号公報に
は、電子写真感光体の基体を移動可能な反応容器を用い
て特性のばらつきを抑えた堆積膜の形成方法が開示され
ている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上記した従来の方法及
び装置により、良好な電子写真用感光体が作製される。
しかしながら、実際の生産を考えた場合、更なる工夫の
余地がある。

【０００７】反応容器と排気装置とが分離可能な堆積膜
形成装置の構成は、生産における柔軟性を非常に高め、
生産効率の向上、生産コストの低減が可能になる。この
ような装置構成の場合には、堆積膜形成工程が終了した
後、反応容器は排気部から切り離され、反応容器内の、
堆積膜が付着した洗浄部材が取り出され、それはエッチ
ング処理されて再生される。しかしながらこのような生
産システムにおいても、まだ改善の余地が残されてい
る。

【０００８】改善の一つとして、堆積膜が付着した洗浄
部材の再生を、安全で確実に行うことが可能でコストを
抑えたエッチング処理方法及び装置の実施が擧げられ
る。堆積膜形成後の洗浄部材の再生方法として、反応ガ
スを用いたドライエッチング処理により再生することが
可能であるが、この場合にはガス設備を配した設置費用
や、使用する反応ガスのガス代が問題となり、生産コス
トの増大を招いてしまう。

【０００９】これに対して、ウエットエッチング処理の
場合には、上記のようなガス設備を配した設備費や、使
用する反応ガスのガス代が不要となり、生産コストのコ
ストダウンを図ることが可能となる。

【００１０】従来、ウエットエッチング処理は、エッチ
ング処理槽内に貯蔵してある化学溶液中に洗浄部材を挿
入し、エッチング処理終了後、該化学溶液の中から洗浄
部材を取り出し、それを水洗処理槽へ移動させて水洗処
理を行っていた。しかしながら従来のウエットエッチン
グ処理方法においては、使用する化学溶液がアルカリ性
あるいは酸性溶液であるため、作業員が比較的大きな洗
浄部材を化学溶液中に浸け置きする場合や、それを水洗
処理槽へ移動させる場合、作業の安全性に注意を要す
る。特に洗浄部材が反応容器に使用される大型の誘電体
部材である場合は、それが衝撃に対して弱く破損しや
すく重いため、その取り扱いに非常に注意を要し、作業
時間が長くなったり、作業員の数を増やして対応する場
合や、搬送用の制御装置を使用する場合があったりし
た。

【００１１】また、従来のウエットエッチング処理方法
においては、エッチング処理槽内に化学溶液を長期間貯
蔵しているため、エッチング処理槽内及び廃液ラインの
配管内に該化学物質の固着化が発生し、これに伴うメン
テナンス上の問題が発生したりした。

【００１２】本発明は、上記問題点を解決するためにな
されたもので、その目的は、ウエットエッチング処理に
よる堆積膜が付着した洗浄部材の再生を、安全で確実に
行うことによる作業性の向上と共に、エッチング処理装
置のメンテナンス性を飛躍的に向上させることが可能な
エッチング処理方法及び装置を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するため、エッチング処理方法及びエッチング処理装
置を次のように構成したことをその特徴としている。

【００１４】すなわち、本発明のエッチング処理方法
は、洗浄部材を洗浄するエッチング処理方法において、
洗浄槽内に設置した該洗浄部材を、化学溶液を用いてウ
エットエッチング処理を行い、処理終了後の該化学溶液
を、少なくとも一つの配管を通して別槽へ移動し、該洗
浄部材は移動せず、同一洗浄槽内で水洗処理を行うこと
を特徴ととしている。

【００１５】また、本発明のエッチング処理方法は、別
槽へ移動した該化学液を再利用することを特徴としてい
る。

【００１６】また、本発明のエッチング処理方法は、該
化学溶液として、アルカリ系溶液、あるいは酸系溶液を
使用することを特徴としている。

【００１７】また、本発明のエッチング処理方法は、該
化学溶液を規定のpH値に維持させてエッチング処理を行
うことを特徴としている。

【００１８】また、本発明のエッチング処理方法は、該
洗浄槽内へ導入する該化学溶液または水の液量を、規定
液量となるように制御することを特徴としている。

【００１９】また、本発明のエッチング処理方法は、
該化学溶液の溶液温度を３０〜８０℃の範囲でエッチン
グ処理することを特徴としている。

【００２０】また、本発明のエッチング処理方法は、該
洗浄槽と該別槽とを接続する配管内を水洗することを特
徴としている。

【００２１】また、本発明のエッチング処理装置は、洗
浄部材を洗浄するエッチング処理装置において、該洗浄
部材を移動せずに化学溶液を用いたウエットエッチング
処理及び水洗処理工程を行うための洗浄槽と、使用した
該化学溶液を移動させるための別槽と、該洗浄槽と該別
槽とを接続する配管の少なくとも一つとを具備する構成
としたことを特徴とする。

【００２２】また、本発明のエッチング処理装置は、該
化学溶液のpH値を規定値にコントロールするためのpHセ
ンサーを備えたことを特徴としている。

【００２３】また、本発明のエッチング処理装置は、該
洗浄槽に導入する化学溶液または水の液量をコントロー
ルするための液量センサーを備えたことを特徴としてい
る。

【００２４】また、本発明のエッチング処理装置は、該
化学溶液を加熱するための加熱手段を備えた構成とした
ことを特徴としている。

【００２５】また、本発明のエッチング処理装置は、該
洗浄槽と該別槽とを接続した配管を、バルブを介して給
水部と接続したことを特徴としている。

【００２６】また、本発明のエッチング処理装置は、該
洗浄槽と該別槽との間にバッファー槽を設けたことを特
徴といている。

【００２７】

【作用】上記本発明のエッチング処理方法によれば、エ
ッチング処理工程及び水洗処理工程を同一洗浄槽内で洗
浄部材を移動することなく処理工程を進めることができ
るので、堆積膜が付着した洗浄部材の再生を安全で確実
に行うことによる作業性の向上が可能となる。例えば、
洗浄部材の設置において、洗浄部材を化学溶液中に挿入
し設置するのではなく、洗浄槽内に洗浄部材を設置した
後化学溶液を注入することで、化学溶液の飛散や反応ガ
スの吸引による人体への危険性を回避することができ、
安全に作業を行うことができる。また、堆積膜形成後に
再生される洗浄部材は、金属やセラミックス性の部材な
どが多岐にわたっており、比較的大きくて重い洗浄部材
や衝撃に弱く破損しやすい洗浄部材を取り扱う必要があ
る。そのため、このような洗浄部材に対して、エッチン
グ処理後、化学溶液中から洗浄部材を取り出し水洗処理
槽へ移動させるのではなく、同一槽内で、洗浄部材を移
動させることなく水洗処理工程まで行うことで安全で確
実に作業を行うことができ、作業性が向上する。

【００２８】本発明によれば、使用する化学溶液を、循
環手段として例えばポンプにより再利用可能とすること
で、コストを抑制することが可能となる。

【００２９】本発明によれば、使用する化学溶液は、ア
ルカリ性あるいは酸性の化学溶液が有効で、アルカリ性
では水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液な
ど、酸系では、硝酸水溶液、フッ酸水溶液などが好適で
ある。

【００３０】本発明によれば、使用する化学溶液のpH値
及び液量を規定値に制御し、前記化学溶液の溶液温度を
３０〜８０℃の範囲に設定することで、エッチング処理
による洗浄部材の再生のばらつきを抑制し、確実に再現
性よく作業を行うことが可能となる。

【００３１】本発明によれば、前記貯蔵槽と前記別槽と
を接続した配管内を水洗することで、飛躍的にエッチン
グ処理装置のメンテナンス性が向上する。配管内に化学
溶液が残存すると、配管内で化学物質の固着化が発生
し、詰まりが発生してしまうが、処理工程の終了後に配
管内を水洗することで、固着化を防止することが可能と
なる。

【００３２】本発明によれば、前記洗浄槽と前記別槽と
の間に、バッファー槽を設けることで、洗浄槽から別槽
へポンプを用いて前記化学溶液を移動させる場合、前記
洗浄槽内が空になりポンプが空気を吸引するのを防止す
ることができ、装置のメンテナンス性が向上する。設置
するバッファ槽の位置としては、前記洗浄槽よりも低い
位置に設置することが好ましい。

【００３３】

【実施例】以下、本発明の実施例であるエッチング処理
方法及び装置を図１〜図３を用いて説明するが、本発明
はこれらの実施例によって限定的に解釈されるべきもの
ではない。

【００３４】図１は、エッチング処理及び水洗処理を行
う洗浄槽１０１、化学溶液を再利用するための貯蔵槽１
０２、バッファー槽１０３、及び循環手段としてのポン
プ１１０からなっている。

【００３５】図１において、洗浄槽１０１は耐酸・アル
カリ性のものであればいずれの材質でもかまわないが、
例えばアルカリ性の化学溶液を用いる場合は、ステンレ
ス合金などが採用される。酸性の化学溶液を用いる場合
は、ポリエチレン系樹脂などが採用される。また洗浄槽
１０１内の上部には、水を導入するためのシャワーノズ
ル１０６が設置されている。さらに化学溶液１０９を導
入する配管が設置されており、化学溶液の溶液温度を調
整するための加熱手段１０５が、洗浄槽１０１底側面に
設置してある。加熱手段としては、例えば予めヒーター
により加熱した温水を循環させた構成にしてもよいし、
ヒーターにより直接槽を加熱する構成にしてもかまわな
い。またエッチング処理工程及び水洗処理工程時に導入
される溶液量を、規定量に制御するため、液量センサー
１０７が設けられている。

【００３６】図１において、貯蔵槽１０２は化学溶液循
環手段のポンプ１１０により導入された化学溶液１０９
を貯蔵するための槽で、化学溶液１０９の溶液温度を制
御するための加熱手段１０５が、貯蔵槽１０２底側部に
設置してある。また貯蔵する化学溶液１０９のpH値を制
御するためのセンサー１０８が取り付けられている。さ
らに、化学溶液１０９の溶液量を毎回規定溶液量に制御
するためセンサー１０７が設置してある。

【００３７】図１において、バッファー槽１０３は洗浄
槽１０１と貯蔵槽１０２との間に設けられており、洗浄
槽１０１内の化学溶液が空になって循環手段のポンプ１
１０に空気を吸引しないように、洗浄槽１０１よりも低
い位置に設置してある。

【００３８】前記構成からなるエッチング処理装置を用
いて、洗浄部材１０４を洗浄する方法及びそのエッチン
グ装置の動作について説明する。なお貯蔵槽１０２に
は、予め化学溶液１０９が満たしてあるものとする。

【００３９】まず、堆積膜形成を終えた洗浄部材１０４
を洗浄槽１０１内に設置する。そしてバルブ１２７、１
２５を開き、ポンプ１１０を駆動させて貯蔵槽１０２内
の化学溶液１０９を、洗浄槽１０１内へ規定液量導入
し、規定液量に到達後ポンプを停止し、バルブ１２７、
１２５を閉じて、洗浄部材１０４のエッチング処理を行
う。化学溶液による堆積膜のエッチング処理は、化学溶
液を加熱手段１０５により設定温度に加熱し、堆積膜を
十分に除去できるようエッチング時間を設定するのが好
ましい。また使用する化学溶液の濃度は、貯蔵槽１０２
に設置したpHセンサー１０８により規定のpH値に制御し
た溶液を使用する。規定pHの制御法としては、適宜貯蔵
槽内に純水を補充して調整することが好ましい。なお、
この実施例では、化学溶液としてpH12のアルカリ系水酸
化ナトリウム水溶液を用いている。またエッチング処理
反応を促進させるために、洗浄槽１０１内の化学溶液を
流動手段により流動させることがより好ましい。

【００４０】エッチング処理終了後、バルブ１２２を開
き化学溶液をバッファ槽１０３へ導入し、続いてバルブ
１２３、１２６を開きポンプ１１０を駆動させて貯蔵槽
１０２へ導入する。その後洗浄槽１０１内の化学溶液が
空になった時点で、バルブ１２２、１２３、１２６を閉
じてポンプ１１０を停止する。洗浄槽１０１内の化学溶
液を貯蔵槽１０２へ移動した後、洗浄部材１０４を移動
させずにバルブ１２１を開き、洗浄用給水ラインから市
水をシャワーノズル１０６に導入し、前記洗浄部材１０
４を水洗処理する。

【００４１】市水による水洗処理は、規定量の市水を導
入しバルブ１２１を閉じてしばらく放置した後、バルブ
１２２を開き排水廃液ラインから排出する。排出が終了
した時点でバルブ１２２を閉じる。水洗処理の回数は前
記洗浄部材の大きさ及び部品点数などにより適宜決定す
ることが好ましい。

【００４２】さらに市水による水洗処理後、バルブ１２
０を開き洗浄用純水ラインから純水をシャワーノズル１
０６に導入し、前記洗浄部材１０４を水洗処理する。純
水による水洗処理も規定量純水を導入しバルブ１２０を
閉じ、放置後バルブ１２２を開き廃水廃液ラインから排
出する。排出後はバルブ１２２を閉じる。

【００４３】エッチング処理及び水洗処理工程の終了
後、バッファー槽１０３及び貯蔵槽１０２を接続する配
管内を水洗するためにバルブ１２４、１２５を開き、ポ
ンプ１１０を駆動させて洗浄用給水ラインから市水を導
入し配管内を水洗する。また、洗浄槽１０１、バッファ
ー槽１０３及び貯蔵槽１０２を接続する配管内を水洗す
るためにバルブ１２１、１２２、１２３、１２５を開
き、ポンプ１１０を駆動させ洗浄用給水ラインから洗浄
槽１０１内へ市水を導入して配管内の水洗を行うことも
好ましい。その後、配管内の水洗が終了した時点で全て
のバルブを閉じ、続いてバルブ１２２を開いて廃水廃液
ラインから排出する。配管内の水洗は、洗浄部材の洗浄
後毎回行うことが望ましいが、洗浄部材の大きさや部品
点数で決定することが好ましい。また配管内の水洗は、
エッチング処理工程の終了後行ってもよいし、エッチン
グ処理工程及び水洗処理工程の終了後に行ってもかまわ
ない。

【００４４】図２に、上記実施例とは別の一実施例とな
るエッチング処理装置を示す。

【００４５】図２においては、洗浄槽２０１A、２０１B
の二つ備えた構成をとっており、さらに各洗浄槽２０１
A、２０１Bは貯蔵槽の役目も兼ね備えていることを特徴
としている。各洗浄槽２０１A、２０１Bには、シャワー
ノズル２０６、加熱手段２０５、液量センサー２０７、
の他にpHセンサー２０８も設置してある。

【００４６】洗浄部材の洗浄方法としては、上記の実施
例と同様であり、一方の洗浄槽２０１B内に化学溶液を
貯蔵した状態で、別の洗浄槽２０１A内に清浄部材２０
４を設置し、バルブ２３０、２２７、２２５を開いてポ
ンプ２１０を駆動させて、化学溶液２０９を洗浄槽２０
１Bから洗浄槽２０１Aへ導入し、化学溶液の移動が終了
後全てのバルブを閉じてエッチング処理を行う。またエ
ッチング処理の間、空になった洗浄槽２０１Bに別の洗
浄部材を設置し、次のエッチング処理工程の準備をして
おく。洗浄槽２０１Aのエッチング処理終了後、バルブ
２２２、２２３、２２６を開きポンプ２１０を駆動させ
て化学溶液を、洗浄槽２０１Bへ導入し、化学溶液の移
動が終了後全てのバルブを閉じて、エッチング処理工程
に入る。洗浄槽２０１Aのエッチング処理が終了した洗
浄部材２０４は、引き続き水洗処理を行う。洗浄槽２０
１Aに設置した洗浄部材２０４の水洗処理工程の終了
後、洗浄部材２０４を洗浄槽２０１Aから取り出し、バ
ルブ２２４、２２５を開きポンプ２１０を駆動させて配
管内を水洗する。配管内の水洗後、全てのバルブを閉じ
てポンプ２１０を停止し、バルブ２２２を開き廃水廃液
ラインから排出し、終了後バルブ２２２を閉じる。配管
内の水洗は、エッチング処理工程が終了した時点でバル
ブ２２０、２２２、２２３、２２５を開きポンプ２１０
を駆動させて、配管内を水洗してもかまわない。配管内
の水洗後、全てのバルブを閉じてポンプ２１０を停止
し、バルブ２２２を開き廃水廃液ラインから排出し、終
了後バルブ２２２を閉じる。

【００４７】上記のような処理方法及び装置構成をとる
ことで、前記の実施例と同様の効果を得ることができ、
さらにはエッチング処理能力を高めることが可能とな
り、作業効果が向上する。

【００４８】図３に、上記実施例は別の一実施例となる
エッチング処理装置を示す。

【００４９】図３においては、洗浄槽３０１A、３０１B
の二つにに加え、貯蔵槽３０３の一つを設けた構成をと
ることを特徴としている。

【００５０】洗浄部材の洗浄方法としては、上記の実施
例と同様であり、貯蔵槽３０３内に貯蔵してある化学溶
液を洗浄槽３０１Aへ導入し、エッチング処理を行い、
続いて化学溶液を洗浄槽３０１Bへ移動させてエッチン
グ処理を行う。また貯蔵槽３０３内に貯蔵する化学溶液
の溶液量を、洗浄槽３０１A、３０１Bの２槽分貯蔵する
ことで、２槽同時にエッチング処理及び水洗処理工程を
行うことが可能となる。配管内の水洗処理工程は、各洗
浄槽のエッチング処理工程または水洗処理工程の終了後
行ってもよいし、貯蔵槽３０３へ化学溶液を移動後行っ
てもかまわない。

【００５１】このような装置構成をとることで、前記の
実施例と同様の効果を得ることができ、さらには洗浄部
材の大きさ及び部品点数により処理工程の自由度を高
め、効率よく実施することができる。

【００５２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
堆積膜形成後の洗浄部材を移動することなくウエットエ
ッチング処理及び水洗処理を行うことが可能となること
で、比較的大きな破壊性のある洗浄部材を安全で確実に
ウエットエッチング処理及び水洗処理を行うことが可能
となり、大幅な作業性向上の効果を得ることができる。
また、洗浄槽と別槽とを接続する配管内を水洗処理する
ことで、配管内の化学物質の固着化を防止することがで
き、エッチング処理装置のメンテナンス性を飛躍的に向
上させることが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係わるエッチング処理装置の一例を示
した模式的な構成図である。

【図２】本発明に係わるエッチング処理装置の別の一例
を示した模式的な構成図である。

【図３】本発明に係わるエッチング処理装置の別の一例
を示した模式的な構成図である。

【符号の説明】

１０１、２０１A、２０１B、３０１A、３０１B 洗浄
槽１０２、３０３貯蔵槽１０３バッファ槽１０４、２０４、３０４洗浄部材１０５、２０５、３０５加熱手段１０６、２０６、３０６シャワーノズル１０７、２０７、３０７液量センサー１０８、２０８、３０８ pHセンサー１０９、２０９、３０９化学溶液１１０、２１０、３１０ポンプ１２０〜１２７、２２０〜２３０、３２０〜３３４
バルブ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者村山仁東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内 (72)発明者秋山和敬東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内 (72)発明者白砂寿康東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内 (72)発明者田澤大介東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内 (72)発明者大塚崇志東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内Ｆターム(参考） 2H068 AA59 EA47 4K057 WA01 WB01 WB20 WE02 WE07 WE21 WE22 WG02 WM01 WM04 WM17 WN10

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】洗浄部材を洗浄するエッチング処理方法
において、洗浄槽内に設置した該洗浄部材を、化学溶液
を用いてウエットエッチング処理を行い、処理終了後の
該化学溶液を、少なくとも一つの配管を通して別槽へ移
動し、該洗浄部材は移動せず、同一洗浄槽内で水洗処理
を行うことを特徴とするエッチング処理方法。
【請求項２】別槽へ移動した前記化学溶液を再利用す
ることを特徴とする請求項１に記載のエッチング処理方
法。
【請求項３】前記化学溶液として、アルカリ系溶液を
使用することを特徴とする請求項１又は２に記載のエッ
チング処理方法。
【請求項４】前記化学溶液として、酸系溶液を使用す
ることを特徴とする請求項１又は２に記載のエッチング
処理方法。
【請求項５】前記化学溶液を規定のpH値に維持させて
エッチング処理を行うことを特徴とする請求項１〜４の
いずれか１項に記載のエッチング処理方法。
【請求項６】前記洗浄槽内へ導入する前記化学溶液ま
たは水の液量を、規定液量となるように制御することを
特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のエッチ
ング処理方法。
【請求項７】前記化学溶液の溶液温度を３０〜８０℃
の範囲でエッチング処理することを特徴とする請求項１
〜６のいずれか１項に記載のエッチング処理方法。
【請求項８】前記洗浄槽と前記別槽とを接続する配管
内を水洗することを特徴とする請求項１〜７のいずれか
１項に記載のエッチング処理方法。
【請求項９】洗浄部材を洗浄するエッチング処理装置
において、前記洗浄部材を移動せずに化学溶液を用いた
ウエットエッチング処理及び水洗処理工程を行うための
洗浄槽と、使用した前記化学溶液を移動させるための別
槽と、前記洗浄槽と前記別槽とを接続する配管の少なく
とも一つとを具備する構成としたことを特徴とするエッ
チング処理装置。
【請求項１０】前記化学溶液のpH値を規定値にコント
ロールするためのpHセンサーを備えたことを特徴とする
請求項９に記載のエッチング処理装置。
【請求項１１】前記洗浄槽に導入する化学溶液または
水の液量をコントロールするための液量センサーを備え
たことを特徴とする請求項９又は１０に記載のエッチン
グ処理装置。
【請求項１２】前記化学溶液を加熱するための加熱手
段を備えたことを特徴とする請求項９〜１１のいずれか
１項に記載のエッチング処理装置。
【請求項１３】前記洗浄槽と前記別槽とを接続した配
管を、バルブを介して給水部と接続したことを特徴とす
る請求項９〜１２のいずれか１項に記載のエッチング処
理装置。
【請求項１４】前記洗浄槽と前記別槽との間にバッフ
ァー槽を設けたことを特徴とする請求項９〜１３のいず
れか１項に記載のエッチング処理装置。