JP2001334629A - 精密印刷用メッシュ，パターン一体化スクリーンマスクの製造方法 - Google Patents
精密印刷用メッシュ，パターン一体化スクリーンマスクの製造方法Info
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- JP2001334629A JP2001334629A JP2000157660A JP2000157660A JP2001334629A JP 2001334629 A JP2001334629 A JP 2001334629A JP 2000157660 A JP2000157660 A JP 2000157660A JP 2000157660 A JP2000157660 A JP 2000157660A JP 2001334629 A JP2001334629 A JP 2001334629A
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- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 メッシュに織網ではなくニッケルメッシュを
用い、このニッケルメッシュとパターンが一体化された
フラットな印刷用メッシュスクリーンマスクを実現でき
る製造方法を提供する。 【解決手段】 ステンレス基板１上に１次レジスト（ド
ライフィルムなど）処理を施し、この上にメッシュパタ
ーンの露光を行う。レジストの繊維に相当する部分を溝
状に溶解除去してステンレス基板上に露出部３を形成す
る。この露出部分にニッケルメッキを行い、残りのレジ
ストを溶解除去してニッケルメッシュパターン６を生成
する。この面に銅メッキを行ってメッシュを固定し、ス
テンレス基板を剥離し、剥離面の露出したメッシュの表
面に２次レジスト処理を行う。印刷目的に対応したパタ
ーンを重ねて露光し、パターン部以外のレジストを溶解
除去し、その露出部にニッケルメッキを施しパターン部
のレジストおよび銅メッキ部を溶解除去する。
用い、このニッケルメッシュとパターンが一体化された
フラットな印刷用メッシュスクリーンマスクを実現でき
る製造方法を提供する。 【解決手段】 ステンレス基板１上に１次レジスト（ド
ライフィルムなど）処理を施し、この上にメッシュパタ
ーンの露光を行う。レジストの繊維に相当する部分を溝
状に溶解除去してステンレス基板上に露出部３を形成す
る。この露出部分にニッケルメッキを行い、残りのレジ
ストを溶解除去してニッケルメッシュパターン６を生成
する。この面に銅メッキを行ってメッシュを固定し、ス
テンレス基板を剥離し、剥離面の露出したメッシュの表
面に２次レジスト処理を行う。印刷目的に対応したパタ
ーンを重ねて露光し、パターン部以外のレジストを溶解
除去し、その露出部にニッケルメッキを施しパターン部
のレジストおよび銅メッキ部を溶解除去する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、スクリーン印刷用
メッシュとマスクパターンを電鑄技術により一体化製造
する方法に関する。
メッシュとマスクパターンを電鑄技術により一体化製造
する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】スクリーン印刷は、従来、枠に張ったシ
ルク，ナイロン，ポリエステル等のメッシュの上を印刷
しようとするパターンに応じてレジストで覆い、インキ
が押し出されるメッシュの部分と、押し出されないパタ
ーンに相応した部分に分けて印刷を行う。近頃、電子回
路，電子部品，マイクロマシン等の製造プロセスに印刷
技術が導入されるに伴い、精密な微細パターンの印刷の
要望が高まり、解像性，位置，寸法の精度，耐久性等の
向上に迫られている。したがって、シルクや合成樹脂等
のメッシュやエマルジョンによるレジストパターンでは
伸縮，膨潤，摩耗性等で高精度化する今後の、ニーズに
応えることが難しく、ステンレス等の金属ワイヤによる
メッシュが用いられ、また、パターンにはエマルジョン
によるレジストからニッケルメッキ層に移行したものが
実用化され、機能的にも相応の向上を遂げている。しか
しながら、織網によるメッシュ特有の凹凸，平滑性の不
足からメッシュとニッケルメッキ層によるパターンとの
整合性に問題が残り、微細部の再現は容易でない。
ルク，ナイロン，ポリエステル等のメッシュの上を印刷
しようとするパターンに応じてレジストで覆い、インキ
が押し出されるメッシュの部分と、押し出されないパタ
ーンに相応した部分に分けて印刷を行う。近頃、電子回
路，電子部品，マイクロマシン等の製造プロセスに印刷
技術が導入されるに伴い、精密な微細パターンの印刷の
要望が高まり、解像性，位置，寸法の精度，耐久性等の
向上に迫られている。したがって、シルクや合成樹脂等
のメッシュやエマルジョンによるレジストパターンでは
伸縮，膨潤，摩耗性等で高精度化する今後の、ニーズに
応えることが難しく、ステンレス等の金属ワイヤによる
メッシュが用いられ、また、パターンにはエマルジョン
によるレジストからニッケルメッキ層に移行したものが
実用化され、機能的にも相応の向上を遂げている。しか
しながら、織網によるメッシュ特有の凹凸，平滑性の不
足からメッシュとニッケルメッキ層によるパターンとの
整合性に問題が残り、微細部の再現は容易でない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来のスクリーン印刷
におけるメッシュとパターンの組み合わせを図２
（ａ），（ｂ）を用いて説明する。図２（ａ）はシル
ク，合成樹脂等で平織されたメッシュ１４の上に印刷し
ようとするパターンに応じて、インキの遮蔽部をレジス
ト１５で覆ったスクリーン印刷用マスクである。図２
（ｂ）は伸縮，膨潤性を防ぎ、寸法精度，耐久性を改善
するために、ステンレスメッシュ１６を用い、パターン
開口部に一旦レジストを残して、ステンレスメッシュ露
出部にニッケルメッキ層１７を生成した後、レジストを
溶解除去して印刷用マスクを構成したものである。した
がって、図２（ｂ）は図２（ａ）に比べ、印刷寸法精
度，安定性，耐久性等において優れている。しかしなが
ら、いずれも繊維を織ったメッシュ特有の縦横交叉部の
凸部を含む波形の面がメッシュのフラット性を損なう。
そのため、メッシュとパターンの境界付近の整合性に問
題を残し、微細なパターンの再現性において満足すべき
結果が得難い。
におけるメッシュとパターンの組み合わせを図２
（ａ），（ｂ）を用いて説明する。図２（ａ）はシル
ク，合成樹脂等で平織されたメッシュ１４の上に印刷し
ようとするパターンに応じて、インキの遮蔽部をレジス
ト１５で覆ったスクリーン印刷用マスクである。図２
（ｂ）は伸縮，膨潤性を防ぎ、寸法精度，耐久性を改善
するために、ステンレスメッシュ１６を用い、パターン
開口部に一旦レジストを残して、ステンレスメッシュ露
出部にニッケルメッキ層１７を生成した後、レジストを
溶解除去して印刷用マスクを構成したものである。した
がって、図２（ｂ）は図２（ａ）に比べ、印刷寸法精
度，安定性，耐久性等において優れている。しかしなが
ら、いずれも繊維を織ったメッシュ特有の縦横交叉部の
凸部を含む波形の面がメッシュのフラット性を損なう。
そのため、メッシュとパターンの境界付近の整合性に問
題を残し、微細なパターンの再現性において満足すべき
結果が得難い。
【０００４】本発明は上記諸問題を解決するもので、そ
の目的は、メッシュに織網ではなくニッケルメッシュを
用い、このニッケルメッシュとパターンが一体化された
フラットな印刷用メッシュスクリーンマスクを得ること
ができる製造方法を提供することにある。
の目的は、メッシュに織網ではなくニッケルメッシュを
用い、このニッケルメッシュとパターンが一体化された
フラットな印刷用メッシュスクリーンマスクを得ること
ができる製造方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明による精密印刷用メッシュ，パターン一体化ス
クリーンマスクの製造方法は、ステンレス基板上にエマ
ルジョンレジストまたはドライフィルムを施し、この上
にメッシュパターンの露光を行う１次レジスト処理露光
工程と、前記エマルジョンレジストまたはドライフィル
ムのメッシュの繊維に相当する部分を溝状に溶解除去し
てステンレス基板上に露出部を形成し、この露出部分に
ニッケルメッキを行うニッケルメッキ工程と、前記ニッ
ケルメッキ層が所定の厚みに達した後、残りのレジスト
を溶解除去してニッケルメッシュパターンを生成するニ
ッケルメッシュパターン生成工程と、前記ニッケルメッ
シュパターンと同じ面に銅メッキを行ってメッシュを固
定するニッケルメッシュパターン固定工程と、前記ニッ
ケルメッシュパターンを固定した後、ステンレス基板を
剥離し、剥離面の露出したメッシュの表面に直接レジス
ト処理を行う２次レジスト処理工程と、印刷目的に対応
したパターンを重ねて露光し、パターン部以外のレジス
トを溶解除去するパターン露光レジスト除去工程と、前
記パターン露光レジスト除去工程でレジスト除去した露
出部にニッケルメッキを施して遮蔽マスク部とした後、
パターン部のレジストおよび銅メッキ部を溶解除去する
工程とから構成されている。
に本発明による精密印刷用メッシュ，パターン一体化ス
クリーンマスクの製造方法は、ステンレス基板上にエマ
ルジョンレジストまたはドライフィルムを施し、この上
にメッシュパターンの露光を行う１次レジスト処理露光
工程と、前記エマルジョンレジストまたはドライフィル
ムのメッシュの繊維に相当する部分を溝状に溶解除去し
てステンレス基板上に露出部を形成し、この露出部分に
ニッケルメッキを行うニッケルメッキ工程と、前記ニッ
ケルメッキ層が所定の厚みに達した後、残りのレジスト
を溶解除去してニッケルメッシュパターンを生成するニ
ッケルメッシュパターン生成工程と、前記ニッケルメッ
シュパターンと同じ面に銅メッキを行ってメッシュを固
定するニッケルメッシュパターン固定工程と、前記ニッ
ケルメッシュパターンを固定した後、ステンレス基板を
剥離し、剥離面の露出したメッシュの表面に直接レジス
ト処理を行う２次レジスト処理工程と、印刷目的に対応
したパターンを重ねて露光し、パターン部以外のレジス
トを溶解除去するパターン露光レジスト除去工程と、前
記パターン露光レジスト除去工程でレジスト除去した露
出部にニッケルメッキを施して遮蔽マスク部とした後、
パターン部のレジストおよび銅メッキ部を溶解除去する
工程とから構成されている。
【０００６】
【作用】この製造方法によれば、織網の欠点である網目
の変形や伸び，凹凸等のない、平滑性の高い、強度と寸
法安定性に優れたニッケルメッシュの製造に連続した一
貫工程によりパターンが一体化されるため、メッシュと
パターンの整合性は大幅に改善され微細パターン，薄膜
印刷にも充分適応でき、精度，耐久性も著しく向上す
る。
の変形や伸び，凹凸等のない、平滑性の高い、強度と寸
法安定性に優れたニッケルメッシュの製造に連続した一
貫工程によりパターンが一体化されるため、メッシュと
パターンの整合性は大幅に改善され微細パターン，薄膜
印刷にも充分適応でき、精度，耐久性も著しく向上す
る。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明を
さらに詳しく説明する。図１Ａおよび図１Ｂは、本発明
による一体化印刷用メッシュスクリーンマスクの製造方
法の実施の形態を示す図である。（ａ）〜（ｅ）はニッ
ケルメッシュパターンを生成する工程を、（ｆ）は工程
（ｅ）におけるメッシュパターンの平面図をそれぞれ示
している。
さらに詳しく説明する。図１Ａおよび図１Ｂは、本発明
による一体化印刷用メッシュスクリーンマスクの製造方
法の実施の形態を示す図である。（ａ）〜（ｅ）はニッ
ケルメッシュパターンを生成する工程を、（ｆ）は工程
（ｅ）におけるメッシュパターンの平面図をそれぞれ示
している。
【０００８】図１Ａ（ａ）に示すステンレス基板１の表
面に１次ニッケルメッキ層によるメッシュを生成するた
め、図１Ａ（ｂ）のように１次レジスト処理（ドライフ
ィルム）２を施し、メッシュパターンの露光を行う。露
光後、レジストを溶解除去することにより、メッシュ繊
維部に相当する溝状のステンレス基板露出部３を形成す
る（図１Ａ（ｃ））。露出部３に図１Ａ（ｄ）に示すよ
うに１次ニッケルメッキを施し、１次ニッケルメッキ層
４によるメッシュ部を生成する。
面に１次ニッケルメッキ層によるメッシュを生成するた
め、図１Ａ（ｂ）のように１次レジスト処理（ドライフ
ィルム）２を施し、メッシュパターンの露光を行う。露
光後、レジストを溶解除去することにより、メッシュ繊
維部に相当する溝状のステンレス基板露出部３を形成す
る（図１Ａ（ｃ））。露出部３に図１Ａ（ｄ）に示すよ
うに１次ニッケルメッキを施し、１次ニッケルメッキ層
４によるメッシュ部を生成する。
【０００９】次に残りのレジストを除去して、図１Ａ
（ｅ）に示すようにメッシュパターン開口部５を形成す
る。図１Ａ（ｆ）は（ｅ）を矢印方向から見た平面図
で、ステンレス基板１の上に生成されたニッケルメッキ
層のメッシュパターン６の完成状態を示している。
（ｅ）に示すようにメッシュパターン開口部５を形成す
る。図１Ａ（ｆ）は（ｅ）を矢印方向から見た平面図
で、ステンレス基板１の上に生成されたニッケルメッキ
層のメッシュパターン６の完成状態を示している。
【００１０】図１Ｂ（ｇ）〜（ｌ）は、図１Ａ（ｆ）の
ニッケルメッシュパターン６の上に２次ニッケルメッキ
層よりなるパターンを一体化生成する工程を、（ｍ）
は、工程（ｌ）におけるスクリーンマスクの平面図をそ
れぞれ示している。ニッケルメッシュパターン６を固定
するためにステンレス基板１の反対側の面に銅メッキ層
７を施す（図１Ｂ（ｇ））。これによって、図１Ｂ
（ｈ）以降の工程作業中にニッケルメッシュが変形や損
傷を受けることがない。
ニッケルメッシュパターン６の上に２次ニッケルメッキ
層よりなるパターンを一体化生成する工程を、（ｍ）
は、工程（ｌ）におけるスクリーンマスクの平面図をそ
れぞれ示している。ニッケルメッシュパターン６を固定
するためにステンレス基板１の反対側の面に銅メッキ層
７を施す（図１Ｂ（ｇ））。これによって、図１Ｂ
（ｈ）以降の工程作業中にニッケルメッシュが変形や損
傷を受けることがない。
【００１１】次に図１Ｂ（ｈ）に示すように、ステンレ
ス基板１をニッケルメッシュパターン６より剥離し、図
１Ｂ（ｉ）のようにニッケルメッシュパターン６の剥離
面に直接２次レジスト８を施す。印刷しようとするパタ
ーンに対応する露光を行い、図１（ｊ）に示すように、
パターン部１０以外のレジスト除去する。
ス基板１をニッケルメッシュパターン６より剥離し、図
１Ｂ（ｉ）のようにニッケルメッシュパターン６の剥離
面に直接２次レジスト８を施す。印刷しようとするパタ
ーンに対応する露光を行い、図１（ｊ）に示すように、
パターン部１０以外のレジスト除去する。
【００１２】次いでレジスト除去部９に２次ニッケルメ
ッキ層（マスク部）１１を生成する（図１Ｂ（ｋ））。
したがって、２次ニッケルメッキ層１１は直接メッシュ
に固定され、印刷時にインキを遮蔽するマスクとなる。
図１Ｂ（ｌ）は銅メッキ層７と残ったレジスト（パター
ン部）１０を溶解除去し、メッシュとパターンが一体化
された印刷用メッシュスクリーンマスクである。図１Ｂ
（ｎ）は図１Ｂ（ｍ）を用いて印刷されたパターンを示
したものである。
ッキ層（マスク部）１１を生成する（図１Ｂ（ｋ））。
したがって、２次ニッケルメッキ層１１は直接メッシュ
に固定され、印刷時にインキを遮蔽するマスクとなる。
図１Ｂ（ｌ）は銅メッキ層７と残ったレジスト（パター
ン部）１０を溶解除去し、メッシュとパターンが一体化
された印刷用メッシュスクリーンマスクである。図１Ｂ
（ｎ）は図１Ｂ（ｍ）を用いて印刷されたパターンを示
したものである。
【００１３】
【発明の効果】以上、説明したように本発明は上記の工
程によって構成されているので、以下のような効果を有
する。 （１）電鑄法によって生成されたニッケルのフラットな
スクリーンプレートであり、織網と異なり繊維交叉部の
凸起や波形のうねりや伸縮がなく、平滑度が高く、寸法
位置精度が安定で、従来より精密な印刷が可能である。 （２）織網繊維の線径に等しい幅のメッシュの生成に際
して、厚みはそれよりも薄く作ることが容易であり、ま
た、素材の特性から引張強度や変形に対する抗力が高
く、印刷精度，耐久性において著しく有利である。 （３）細いメッシュの生成にあたって、銅メッキの介在
によりパターンの一体化の最終工程に至るまで、変形の
防止，寸法安定性が確保されるため、大きい開口率を保
ちながら微細なパターンの高精度の再現が容易である。 （４）高精度を確保しながらメッシュとパターンの一体
化生成が進められるため，特に微細部品製造工程への導
入に適している。
程によって構成されているので、以下のような効果を有
する。 （１）電鑄法によって生成されたニッケルのフラットな
スクリーンプレートであり、織網と異なり繊維交叉部の
凸起や波形のうねりや伸縮がなく、平滑度が高く、寸法
位置精度が安定で、従来より精密な印刷が可能である。 （２）織網繊維の線径に等しい幅のメッシュの生成に際
して、厚みはそれよりも薄く作ることが容易であり、ま
た、素材の特性から引張強度や変形に対する抗力が高
く、印刷精度，耐久性において著しく有利である。 （３）細いメッシュの生成にあたって、銅メッキの介在
によりパターンの一体化の最終工程に至るまで、変形の
防止，寸法安定性が確保されるため、大きい開口率を保
ちながら微細なパターンの高精度の再現が容易である。 （４）高精度を確保しながらメッシュとパターンの一体
化生成が進められるため，特に微細部品製造工程への導
入に適している。
【図１Ａ】本発明による精密印刷用メッシュ，パターン
一体化スクリーンマスクの製造方法の実施の形態を示す
図で、（ａ）〜（ｅ）は工程図を，（ｆ）は工程（ｅ）
におけるメッシュパターンの平面図をそれぞれ示してい
る。
一体化スクリーンマスクの製造方法の実施の形態を示す
図で、（ａ）〜（ｅ）は工程図を，（ｆ）は工程（ｅ）
におけるメッシュパターンの平面図をそれぞれ示してい
る。
【図１Ｂ】本発明による精密印刷用メッシュ，パターン
一体化スクリーンマスクの製造方法の実施の形態を示す
図で、（ｇ）〜（ｌ）は工程図を，（ｍ）は工程（ｌ）
におけるスクリーンマスクの平面図を、（ｎ）は（ｍ）
を用いて印刷されたパターン図をそれぞれ示している。
一体化スクリーンマスクの製造方法の実施の形態を示す
図で、（ｇ）〜（ｌ）は工程図を，（ｍ）は工程（ｌ）
におけるスクリーンマスクの平面図を、（ｎ）は（ｍ）
を用いて印刷されたパターン図をそれぞれ示している。
【図２】従来のスクリーン印刷におけるメッシュとパタ
ーンの組み合わせを説明するための図である。
ーンの組み合わせを説明するための図である。
１…ステンレス基板 ２…１次レジスト（ドライフィルム） ３…ステンレス基板露出部（メッシュパターン露光後の
レジスト溶解除去部） ４…１次ニッケルメッキ層 ５…メッシュ開口部（残りのレジスト除去部） ６…ニッケルメッシュパターン ７…銅メッキ層 ８…２次レジスト（ドライフィルム） ９…レジスト除去部（４，７の露出部） １０…パターン部 １１…２次ニッケルメッキ層 １２…印刷されたパターン（メッシュ部） １３…マスク部 １４…シルク，樹脂等のメッシュ １５…レジスト（マスク） １６…ステンレスメッシュ（ワイヤ） １７…ニッケルメッキ層（マスク）
レジスト溶解除去部） ４…１次ニッケルメッキ層 ５…メッシュ開口部（残りのレジスト除去部） ６…ニッケルメッシュパターン ７…銅メッキ層 ８…２次レジスト（ドライフィルム） ９…レジスト除去部（４，７の露出部） １０…パターン部 １１…２次ニッケルメッキ層 １２…印刷されたパターン（メッシュ部） １３…マスク部 １４…シルク，樹脂等のメッシュ １５…レジスト（マスク） １６…ステンレスメッシュ（ワイヤ） １７…ニッケルメッキ層（マスク）
【手続補正書】
【提出日】平成１２年６月１３日（２０００．６．１
３）
３）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００２】
【従来の技術】スクリーン印刷は、従来、枠に張ったシ
ルク，ナイロン，ポリエステル等のメッシュの上を印刷
しようとするパターンに応じてレジストで覆い、インキ
が押し出されないメッシュのマスク部分と押し出される
メッシュのパターンに相応した部分に分けて印刷を行
う。近頃、電子回路，電子部品，マイクロマシン等の製
造プロセスに印刷技術が導入されるに伴い、精密な微細
パターンの印刷の要望が高まり、解像性，位置，寸法の
精度，耐久性等の向上に迫られている。したがって、シ
ルクや合成樹脂等のメッシュやエマルジョンによるレジ
ストパターンでは伸縮，膨潤，摩耗性等で高精度化する
今後の、ニーズに応えることが難しく、ステンレス等の
金属ワイヤによるメッシュが用いられ、また、パターン
にはエマルジョンによるレジストからニッケルメッキ層
に移行したものが実用化され、機能的にも相応の向上を
遂げている。しかしながら、織網によるメッシュ特有の
凹凸，平滑性の不足からメッシュとニッケルメッキ層に
よるパターンとの整合性に問題が残り、微細部の再現は
容易でない。
ルク，ナイロン，ポリエステル等のメッシュの上を印刷
しようとするパターンに応じてレジストで覆い、インキ
が押し出されないメッシュのマスク部分と押し出される
メッシュのパターンに相応した部分に分けて印刷を行
う。近頃、電子回路，電子部品，マイクロマシン等の製
造プロセスに印刷技術が導入されるに伴い、精密な微細
パターンの印刷の要望が高まり、解像性，位置，寸法の
精度，耐久性等の向上に迫られている。したがって、シ
ルクや合成樹脂等のメッシュやエマルジョンによるレジ
ストパターンでは伸縮，膨潤，摩耗性等で高精度化する
今後の、ニーズに応えることが難しく、ステンレス等の
金属ワイヤによるメッシュが用いられ、また、パターン
にはエマルジョンによるレジストからニッケルメッキ層
に移行したものが実用化され、機能的にも相応の向上を
遂げている。しかしながら、織網によるメッシュ特有の
凹凸，平滑性の不足からメッシュとニッケルメッキ層に
よるパターンとの整合性に問題が残り、微細部の再現は
容易でない。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００４】本発明は上記諸問題を解決するもので、そ
の目的は、メッシュに織網ではなくニッケル電鋳の生成
によるメッシュを用い、このニッケルメッシュとパター
ンが一体化されたフラットな印刷用メッシュスクリーン
マスクを得ることができる製造方法を提供することにあ
る。
の目的は、メッシュに織網ではなくニッケル電鋳の生成
によるメッシュを用い、このニッケルメッシュとパター
ンが一体化されたフラットな印刷用メッシュスクリーン
マスクを得ることができる製造方法を提供することにあ
る。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１Ａ
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１Ａ】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H084 AA30 AA32 BB02 BB08 BB13 CC10 2H095 AA10 AB25 AB26 2H096 AA19 CA01 CA16 HA27 HA30
Claims (1)
- 【請求項１】 ステンレス基板上にエマルジョンレジス
トまたはドライフィルムを施し、この上にメッシュパタ
ーンの露光を行う１次レジスト処理露光工程と、前記エ
マルジョンレジストまたはドライフィルムのメッシュの
繊維に相当する部分を溝状に溶解除去してステンレス基
板上に露出部を形成し、この露出部分にニッケルメッキ
を行うニッケルメッキ工程と、前記ニッケルメッキ層が
所定の厚みに達した後、残りのレジストを溶解除去して
ニッケルメッシュパターンを生成するニッケルメッシュ
パターン生成工程と、前記ニッケルメッシュパターンと
同じ面に銅メッキを行ってメッシュを固定するニッケル
メッシュパターン固定工程と、前記ニッケルメッシュパ
ターンを固定した後、ステンレス基板を剥離し、剥離面
の露出したメッシュの表面に直接レジスト処理を行う２
次レジスト処理工程と、印刷目的に対応したパターンを
重ねて露光し、パターン部以外のレジストを溶解除去す
るパターン露光レジスト除去工程と、前記パターン露光
レジスト除去工程でレジスト除去した露出部にニッケル
メッキを施して遮蔽マスク部とした後、パターン部のレ
ジストおよび銅メッキ部を溶解除去する工程と、からな
ることを特徴とする精密印刷用メッシュ，パターン一体
化スクリーンマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000157660A JP4488589B2 (ja) | 2000-05-29 | 2000-05-29 | 精密印刷用メッシュ，パターン一体化スクリーンマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000157660A JP4488589B2 (ja) | 2000-05-29 | 2000-05-29 | 精密印刷用メッシュ，パターン一体化スクリーンマスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001334629A true JP2001334629A (ja) | 2001-12-04 |
| JP4488589B2 JP4488589B2 (ja) | 2010-06-23 |
Family
ID=18662250
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000157660A Expired - Lifetime JP4488589B2 (ja) | 2000-05-29 | 2000-05-29 | 精密印刷用メッシュ，パターン一体化スクリーンマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4488589B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008044243A (ja) * | 2006-08-17 | 2008-02-28 | Kobe Steel Ltd | メッシュ一体型マスクの原板及びその製造方法 |
| JP2009258232A (ja) * | 2008-04-14 | 2009-11-05 | Murata Mfg Co Ltd | マスクの製造方法 |
| KR101453585B1 (ko) | 2007-03-01 | 2014-10-23 | 코닝 인코포레이티드 | 유리 패키지 밀봉용 마스크를 제조하는 방법 |
| JP2015519223A (ja) * | 2012-04-10 | 2015-07-09 | 昆山允升吉光電科技有限公司 | 金属メッシュクロス |
| CN110356097A (zh) * | 2019-08-28 | 2019-10-22 | 江苏盛矽电子科技有限公司 | 一种受力均匀式网版结构 |
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Citations (1)
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|---|---|---|---|---|
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Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10228114A (ja) * | 1997-02-13 | 1998-08-25 | Oputonikusu Seimitsu:Kk | メタルマスクの製造方法 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008044243A (ja) * | 2006-08-17 | 2008-02-28 | Kobe Steel Ltd | メッシュ一体型マスクの原板及びその製造方法 |
| KR101453585B1 (ko) | 2007-03-01 | 2014-10-23 | 코닝 인코포레이티드 | 유리 패키지 밀봉용 마스크를 제조하는 방법 |
| JP2009258232A (ja) * | 2008-04-14 | 2009-11-05 | Murata Mfg Co Ltd | マスクの製造方法 |
| JP2015519223A (ja) * | 2012-04-10 | 2015-07-09 | 昆山允升吉光電科技有限公司 | 金属メッシュクロス |
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