JP2001319849A5 - - Google Patents
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|---|---|---|---|---|
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Families Citing this family (16)
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|---|---|---|---|---|
| JP2004128251A (ja) * | 2002-10-03 | 2004-04-22 | Elpida Memory Inc | 塗布機及び塗布方法 |
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| KR101285951B1 (ko) * | 2004-10-26 | 2013-07-12 | 가부시키가이샤 니콘 | 기판 처리 방법, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 |
| JP2006339209A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Sharp Corp | レジスト除去装置及び方法 |
| JP4906559B2 (ja) * | 2007-03-29 | 2012-03-28 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置および基板処理方法 |
| JP2013118205A (ja) * | 2010-03-23 | 2013-06-13 | Jet Co Ltd | 基板処理装置 |
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Family Cites Families (27)
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|---|---|---|---|---|
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| JPH0795540B2 (ja) * | 1988-04-11 | 1995-10-11 | 株式会社日立製作所 | 超音波洗浄スプレイノズルを用いた基板両面の洗浄方法及び洗浄装置 |
| JP3057533B2 (ja) * | 1991-10-14 | 2000-06-26 | ソニー株式会社 | 半導体ウエーハの洗浄方法 |
| JP3248970B2 (ja) * | 1993-01-11 | 2002-01-21 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板端縁洗浄装置 |
| JP3277404B2 (ja) * | 1993-03-31 | 2002-04-22 | ソニー株式会社 | 基板洗浄方法及び基板洗浄装置 |
| JPH07115081A (ja) * | 1993-10-14 | 1995-05-02 | Sony Corp | 処理装置 |
| JP3573504B2 (ja) * | 1994-11-04 | 2004-10-06 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体装置の製造方法 |
| JP3691227B2 (ja) * | 1996-10-07 | 2005-09-07 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理方法及びその装置 |
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| JP3745863B2 (ja) * | 1997-02-28 | 2006-02-15 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | ウエットエッチング処理方法およびその処理装置 |
| JPH10256216A (ja) * | 1997-03-11 | 1998-09-25 | Hitachi Ltd | 半導体装置製造方法および半導体装置製造装置 |
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| JPH11260778A (ja) * | 1998-03-06 | 1999-09-24 | Sony Corp | 枚葉式表面洗浄方法及び装置 |
| TW452828B (en) * | 1998-03-13 | 2001-09-01 | Semitool Inc | Micro-environment reactor for processing a microelectronic workpiece |
| JP2000003897A (ja) * | 1998-06-16 | 2000-01-07 | Sony Corp | 基板洗浄方法及び基板洗浄装置 |
| JP2000058498A (ja) * | 1998-08-17 | 2000-02-25 | Seiko Epson Corp | ウェハ乾燥方法及び乾燥槽及び洗浄槽及び洗浄装置 |
| JP3395696B2 (ja) * | 1999-03-15 | 2003-04-14 | 日本電気株式会社 | ウェハ処理装置およびウェハ処理方法 |
| JP2000331975A (ja) * | 1999-05-19 | 2000-11-30 | Ebara Corp | ウエハ洗浄装置 |
| JP3322853B2 (ja) * | 1999-08-10 | 2002-09-09 | 株式会社プレテック | 基板の乾燥装置および洗浄装置並びに乾燥方法および洗浄方法 |
| JP2001196349A (ja) * | 2000-01-12 | 2001-07-19 | Okamoto Machine Tool Works Ltd | 基板のエッチング方法 |
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