JP2001319849A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2001319849A5
JP2001319849A5 JP2000135226A JP2000135226A JP2001319849A5 JP 2001319849 A5 JP2001319849 A5 JP 2001319849A5 JP 2000135226 A JP2000135226 A JP 2000135226A JP 2000135226 A JP2000135226 A JP 2000135226A JP 2001319849 A5 JP2001319849 A5 JP 2001319849A5
Authority
JP
Japan
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000135226A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2001319849A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2000135226A priority Critical patent/JP2001319849A/ja
Priority claimed from JP2000135226A external-priority patent/JP2001319849A/ja
Priority to US09/849,880 priority patent/US6827814B2/en
Priority to TW090110840A priority patent/TWI263259B/zh
Priority to KR1020010024792A priority patent/KR100787067B1/ko
Publication of JP2001319849A publication Critical patent/JP2001319849A/ja
Publication of JP2001319849A5 publication Critical patent/JP2001319849A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2000135226A 2000-05-08 2000-05-08 液処理装置及び液処理方法 Pending JP2001319849A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000135226A JP2001319849A (ja) 2000-05-08 2000-05-08 液処理装置及び液処理方法
US09/849,880 US6827814B2 (en) 2000-05-08 2001-05-04 Processing apparatus, processing system and processing method
TW090110840A TWI263259B (en) 2000-05-08 2001-05-07 Processing apparatus, processing system and processing method
KR1020010024792A KR100787067B1 (ko) 2000-05-08 2001-05-08 처리 장치, 처리 시스템 및 처리 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000135226A JP2001319849A (ja) 2000-05-08 2000-05-08 液処理装置及び液処理方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001319849A JP2001319849A (ja) 2001-11-16
JP2001319849A5 true JP2001319849A5 (enExample) 2007-06-21

Family

ID=18643342

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000135226A Pending JP2001319849A (ja) 2000-05-08 2000-05-08 液処理装置及び液処理方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001319849A (enExample)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8125610B2 (en) 2005-12-02 2012-02-28 ASML Metherlands B.V. Method for preventing or reducing contamination of an immersion type projection apparatus and an immersion type lithographic apparatus

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004128251A (ja) * 2002-10-03 2004-04-22 Elpida Memory Inc 塗布機及び塗布方法
JP4043455B2 (ja) 2004-05-28 2008-02-06 東京エレクトロン株式会社 液処理装置及び液処理方法
JP4271109B2 (ja) * 2004-09-10 2009-06-03 東京エレクトロン株式会社 塗布、現像装置、レジストパターン形成方法、露光装置及び洗浄装置
JP4343069B2 (ja) * 2004-09-10 2009-10-14 東京エレクトロン株式会社 塗布、現像装置、露光装置及びレジストパターン形成方法。
KR101285951B1 (ko) * 2004-10-26 2013-07-12 가부시키가이샤 니콘 기판 처리 방법, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
JP2006339209A (ja) * 2005-05-31 2006-12-14 Sharp Corp レジスト除去装置及び方法
JP4906559B2 (ja) * 2007-03-29 2012-03-28 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置および基板処理方法
JP2013118205A (ja) * 2010-03-23 2013-06-13 Jet Co Ltd 基板処理装置
JP5913937B2 (ja) 2011-11-30 2016-05-11 株式会社Screenセミコンダクターソリューションズ カップおよび基板処理装置
TWI569349B (zh) 2013-09-27 2017-02-01 斯克林集團公司 基板處理裝置及基板處理方法
JP6324010B2 (ja) * 2013-09-27 2018-05-16 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置および基板処理方法
JP6742748B2 (ja) 2016-02-17 2020-08-19 株式会社Screenホールディングス 現像ユニット、基板処理装置、現像方法および基板処理方法
JP6649837B2 (ja) * 2016-04-13 2020-02-19 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置および基板処理方法
JP6842391B2 (ja) 2017-09-07 2021-03-17 キオクシア株式会社 半導体製造装置および半導体装置の製造方法
WO2019146775A1 (ja) * 2018-01-29 2019-08-01 東京エレクトロン株式会社 基板処理方法、基板処理装置および記憶媒体
KR102175076B1 (ko) * 2018-12-12 2020-11-05 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 방법

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60173841A (ja) * 1984-02-20 1985-09-07 Oki Electric Ind Co Ltd 基板の洗浄装置
JPH0715895B2 (ja) * 1984-10-29 1995-02-22 富士通株式会社 基板表面洗浄方法
JPS62264626A (ja) * 1986-05-12 1987-11-17 Nec Kyushu Ltd ウエツトエツチング装置
JPH0238440Y2 (enExample) * 1986-07-02 1990-10-17
JPS6331533U (enExample) * 1986-08-15 1988-03-01
JPH0795540B2 (ja) * 1988-04-11 1995-10-11 株式会社日立製作所 超音波洗浄スプレイノズルを用いた基板両面の洗浄方法及び洗浄装置
JP3057533B2 (ja) * 1991-10-14 2000-06-26 ソニー株式会社 半導体ウエーハの洗浄方法
JP3248970B2 (ja) * 1993-01-11 2002-01-21 大日本スクリーン製造株式会社 基板端縁洗浄装置
JP3277404B2 (ja) * 1993-03-31 2002-04-22 ソニー株式会社 基板洗浄方法及び基板洗浄装置
JPH07115081A (ja) * 1993-10-14 1995-05-02 Sony Corp 処理装置
JP3573504B2 (ja) * 1994-11-04 2004-10-06 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置の製造方法
JP3691227B2 (ja) * 1996-10-07 2005-09-07 東京エレクトロン株式会社 液処理方法及びその装置
JPH10163146A (ja) * 1996-12-03 1998-06-19 Sugai:Kk 基板洗浄システム
JPH10226888A (ja) * 1997-02-19 1998-08-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd ニッケル無電解めっき装置
JP3745863B2 (ja) * 1997-02-28 2006-02-15 芝浦メカトロニクス株式会社 ウエットエッチング処理方法およびその処理装置
JPH10256216A (ja) * 1997-03-11 1998-09-25 Hitachi Ltd 半導体装置製造方法および半導体装置製造装置
JPH11102885A (ja) * 1997-09-29 1999-04-13 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置および基板処理方法
JP3164048B2 (ja) * 1997-12-16 2001-05-08 日本電気株式会社 半導体製造装置
JPH11260778A (ja) * 1998-03-06 1999-09-24 Sony Corp 枚葉式表面洗浄方法及び装置
TW452828B (en) * 1998-03-13 2001-09-01 Semitool Inc Micro-environment reactor for processing a microelectronic workpiece
JP2000003897A (ja) * 1998-06-16 2000-01-07 Sony Corp 基板洗浄方法及び基板洗浄装置
JP2000058498A (ja) * 1998-08-17 2000-02-25 Seiko Epson Corp ウェハ乾燥方法及び乾燥槽及び洗浄槽及び洗浄装置
JP3395696B2 (ja) * 1999-03-15 2003-04-14 日本電気株式会社 ウェハ処理装置およびウェハ処理方法
JP2000331975A (ja) * 1999-05-19 2000-11-30 Ebara Corp ウエハ洗浄装置
JP3322853B2 (ja) * 1999-08-10 2002-09-09 株式会社プレテック 基板の乾燥装置および洗浄装置並びに乾燥方法および洗浄方法
JP2001196349A (ja) * 2000-01-12 2001-07-19 Okamoto Machine Tool Works Ltd 基板のエッチング方法
JP4931285B2 (ja) * 2000-04-20 2012-05-16 アイメック 基板の表面の局所化された液体処理のための方法及び装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8125610B2 (en) 2005-12-02 2012-02-28 ASML Metherlands B.V. Method for preventing or reducing contamination of an immersion type projection apparatus and an immersion type lithographic apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
BE2017C009I2 (enExample)
BE2016C059I2 (enExample)
BE2016C018I2 (enExample)
BE2012C016I2 (enExample)
BE2010C018I2 (enExample)
BRPI0113085B8 (enExample)
JP2000315731A5 (enExample)
BRPI0112928B8 (enExample)
JP2000311054A5 (enExample)
BE2011C041I2 (enExample)
JP2002542648A5 (enExample)
AU2000236813A8 (enExample)
JP2000353809A5 (enExample)
JP2001096355A5 (enExample)
JP2001162845A5 (enExample)
JP2003511712A5 (enExample)
JP2001015764A5 (enExample)
JP2001268306A5 (enExample)
JP2001282273A5 (enExample)
CN3143841S (enExample)
CN3139851S (enExample)
AU2000280319A8 (enExample)
CN3143853S (enExample)
AM949A2 (enExample)
CN3143306S (enExample)