JP2001316358A - ジターシャルブチルペルオキシドの製造法 - Google Patents
ジターシャルブチルペルオキシドの製造法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C409/00—Peroxy compounds
- C07C409/16—Peroxy compounds the —O—O— group being bound between two carbon atoms not further substituted by oxygen atoms, i.e. peroxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C407/00—Preparation of peroxy compounds
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ターシャルブチルハイドロペルオキシドとタ
ーシャルブチルアルコールから低い触媒濃度でジターシ
ャルブチルペルオキシドを製造する方法を提供する。 【解決手段】 ターシャルブチルハイドロペルオキシド
とターシャルブチルアルコールと触媒存在下で反応させ
てジターシャルブチルペルオキシドを製造する方法にお
いて、含水量を０〜５００００ｐｐｍの範囲とするター
シャルブチルアルコールとターシャルブチルハイドロペ
ルオキシドとを使用し、触媒がスルホン酸系触媒である
ことを特徴とするジターシャルブチルペルオキシドの製
造法。
ーシャルブチルアルコールから低い触媒濃度でジターシ
ャルブチルペルオキシドを製造する方法を提供する。 【解決手段】 ターシャルブチルハイドロペルオキシド
とターシャルブチルアルコールと触媒存在下で反応させ
てジターシャルブチルペルオキシドを製造する方法にお
いて、含水量を０〜５００００ｐｐｍの範囲とするター
シャルブチルアルコールとターシャルブチルハイドロペ
ルオキシドとを使用し、触媒がスルホン酸系触媒である
ことを特徴とするジターシャルブチルペルオキシドの製
造法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はジターシャルブチル
ペルオキシドの製造法に関し、更に詳細には、ターシャ
ルブチルハイドロペルオキシドとターシャルブチルアル
コールから低い触媒濃度でジターシャルブチルペルオキ
シドを製造する方法に関する。
ペルオキシドの製造法に関し、更に詳細には、ターシャ
ルブチルハイドロペルオキシドとターシャルブチルアル
コールから低い触媒濃度でジターシャルブチルペルオキ
シドを製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ジターシャルブチルペルオキシド
を製造する方法としては、硫酸を触媒として用いて、タ
ーシャルブチルハイドロペルオキシドとターシャルブチ
ルアルコールを反応させる方法、ターシャルブチルアル
コールと過酸化水素を反応させる方法が公知である。該
反応に際しては触媒として硫酸をターシャルブチルアル
コールに対して当モル分（重量比換算でターシャルブチ
ルアルコールに対して硫酸を１３２重量％）使用し、硫
酸エステルを経由して行われている。しかしながら、硫
酸をターシャルブチルアルコールに対して当モル量と多
量に使用するこれまでの方法では、廃硫酸処理、装置材
料の腐食や硫酸エステル生成に伴う発熱制御などの問題
があった。そこで、これらの課題に対応する方法とし
て、米国特許第５４８８１７９号明細書に、廃硫酸処理
設備の付設、耐酸性材料の使用や冷却設備の付帯などが
提案されている。
を製造する方法としては、硫酸を触媒として用いて、タ
ーシャルブチルハイドロペルオキシドとターシャルブチ
ルアルコールを反応させる方法、ターシャルブチルアル
コールと過酸化水素を反応させる方法が公知である。該
反応に際しては触媒として硫酸をターシャルブチルアル
コールに対して当モル分（重量比換算でターシャルブチ
ルアルコールに対して硫酸を１３２重量％）使用し、硫
酸エステルを経由して行われている。しかしながら、硫
酸をターシャルブチルアルコールに対して当モル量と多
量に使用するこれまでの方法では、廃硫酸処理、装置材
料の腐食や硫酸エステル生成に伴う発熱制御などの問題
があった。そこで、これらの課題に対応する方法とし
て、米国特許第５４８８１７９号明細書に、廃硫酸処理
設備の付設、耐酸性材料の使用や冷却設備の付帯などが
提案されている。
【０００３】硫酸以外の触媒の使用例として、米国特許
第５４２０３５７号明細書には固体酸としてゼオライト
系触媒が、米国特許第５３７１２９８号明細書には酸型
イオン交換樹脂が、米国特許第５３４５００９号明細書
にはパラジウム系触媒が、米国特許第５２８８９１９号
明細書にはヘテロポリ酸がそれぞれ開示されている。し
かし、これらのものでは原料の転化率やジターシャルブ
チルペルオキシドへの選択率が不十分であり、触媒の寿
命にも問題があった。
第５４２０３５７号明細書には固体酸としてゼオライト
系触媒が、米国特許第５３７１２９８号明細書には酸型
イオン交換樹脂が、米国特許第５３４５００９号明細書
にはパラジウム系触媒が、米国特許第５２８８９１９号
明細書にはヘテロポリ酸がそれぞれ開示されている。し
かし、これらのものでは原料の転化率やジターシャルブ
チルペルオキシドへの選択率が不十分であり、触媒の寿
命にも問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明のジターシャル
ブチルペルオキシドの製造法によれば、スルホン酸系触
媒を使用し、少ない使用量でジターシャルブチルペルオ
キシドが製造できるため、従来の多量の触媒使用による
廃液処理、装置材料の腐食や反応に伴う発熱制御などの
問題が軽減される。さらに、高価な固体酸触媒を使用す
ることもないため、経済的にジターシャルブチルペルオ
キシドを製造することができる。
ブチルペルオキシドの製造法によれば、スルホン酸系触
媒を使用し、少ない使用量でジターシャルブチルペルオ
キシドが製造できるため、従来の多量の触媒使用による
廃液処理、装置材料の腐食や反応に伴う発熱制御などの
問題が軽減される。さらに、高価な固体酸触媒を使用す
ることもないため、経済的にジターシャルブチルペルオ
キシドを製造することができる。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、以下のジター
シャルブチルペルオキシドの製造方法に関する。 （１）ターシャルブチルペルオキシドとターシャルブチ
ルアルコールとを触媒存在下で反応させてジターシャル
ブチルペルオキシドを製造する方法において、含水量を
０〜５００００ｐｐｍの範囲とするターシャルブチルア
ルコールとターシャルブチルハイドロペルオキシドを使
用し、触媒がスルホン酸系触媒であることを特徴とする
ジターシャルブチルペルオキシドの製造方法。 （２）スルホン酸系触媒をターシャルブチルペルオキシ
ドに対して０．１〜２０重量％使用する前記発明（１）
記載のジターシャルブチルペルオキシドの製造法。 （３）スルホン酸系触媒が、硫酸、ｐ−トルエンスルフ
ォン酸、メタンスルホン酸である前記発明（１）又は
（２）記載のジターシャルブチルペルオキシドの製造方
法。 （４）反応開始前の溶液の水分量が、０〜５００００ｐ
ｐｍの範囲である前記発明（１）〜（３）のいずれかに
記載のジターシャルブチルペルオキシドの製造法。
シャルブチルペルオキシドの製造方法に関する。 （１）ターシャルブチルペルオキシドとターシャルブチ
ルアルコールとを触媒存在下で反応させてジターシャル
ブチルペルオキシドを製造する方法において、含水量を
０〜５００００ｐｐｍの範囲とするターシャルブチルア
ルコールとターシャルブチルハイドロペルオキシドを使
用し、触媒がスルホン酸系触媒であることを特徴とする
ジターシャルブチルペルオキシドの製造方法。 （２）スルホン酸系触媒をターシャルブチルペルオキシ
ドに対して０．１〜２０重量％使用する前記発明（１）
記載のジターシャルブチルペルオキシドの製造法。 （３）スルホン酸系触媒が、硫酸、ｐ−トルエンスルフ
ォン酸、メタンスルホン酸である前記発明（１）又は
（２）記載のジターシャルブチルペルオキシドの製造方
法。 （４）反応開始前の溶液の水分量が、０〜５００００ｐ
ｐｍの範囲である前記発明（１）〜（３）のいずれかに
記載のジターシャルブチルペルオキシドの製造法。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の製造方法において、原料
として使用するターシャルブチルペルオキシドおよびタ
ーシャルブチルアルコールは、含水量を０〜５００００
ｐｐｍの範囲に、好ましくは０〜３００００ｐｐｍの範
囲に脱水した原料である。原料に含まれる水分の除去に
は、通常の共沸蒸留操作及び脱水剤を使用して行う。含
水量が多いと、使用触媒量を少なくし、高い反応活性を
得ることはできない。
として使用するターシャルブチルペルオキシドおよびタ
ーシャルブチルアルコールは、含水量を０〜５００００
ｐｐｍの範囲に、好ましくは０〜３００００ｐｐｍの範
囲に脱水した原料である。原料に含まれる水分の除去に
は、通常の共沸蒸留操作及び脱水剤を使用して行う。含
水量が多いと、使用触媒量を少なくし、高い反応活性を
得ることはできない。
【０００７】本発明の製造方法において、ターシャルブ
チルペルオキシドおよびターシャルブチルアルコール
は、単品及びこれらを含む混合物を原料に使用すること
ができる。ターシャルブチルペルオキシドとターシャル
ブチルアルコールとの仕込み比は、ターシャルブチルハ
イドロペルオキシド１モルに対してターシャルブチルア
ルコールを０．５〜１０モルの範囲であるが、釜効率を
考慮に入れて、１〜２モルの割合で仕込むことが特に好
ましい。０．５モル未満では、ターシャルブチルハイド
ロペルオキシドのジターシャルブチルペルオキシド選択
率が低下するため適さない。
チルペルオキシドおよびターシャルブチルアルコール
は、単品及びこれらを含む混合物を原料に使用すること
ができる。ターシャルブチルペルオキシドとターシャル
ブチルアルコールとの仕込み比は、ターシャルブチルハ
イドロペルオキシド１モルに対してターシャルブチルア
ルコールを０．５〜１０モルの範囲であるが、釜効率を
考慮に入れて、１〜２モルの割合で仕込むことが特に好
ましい。０．５モル未満では、ターシャルブチルハイド
ロペルオキシドのジターシャルブチルペルオキシド選択
率が低下するため適さない。
【０００８】本発明の製造方法における酸触媒は、例え
ば、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸
等のスルホン酸系であり、これらの１種ないし２種以上
の混合物として使用することができる。使用する酸触媒
の含水量は０〜５００００ｐｐｍの範囲が好ましいが、
反応系中の水分量が０〜５００００ｐｐｍの範囲に収ま
るのであれば、５００００ｐｐｍ以上でも構わない。な
お、触媒に含まれる水分の除去には、通常の蒸留操作に
より行う。使用する触媒の濃度は、ターシャルブチルペ
ルオキシドに対して０．１〜２０重量％とし、好ましく
は１〜１０重量％である。ここで、０．１重量％以上の
触媒使用量であれば充分な作用がなされるが、０．１重
量％未満は反応活性が著しく低くなる。一方で、使用量
が２０重量％より多いと、廃酸処理量の増大、装置の腐
食等の問題が生じ、反応時の発熱制御などの問題が生じ
る。
ば、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸
等のスルホン酸系であり、これらの１種ないし２種以上
の混合物として使用することができる。使用する酸触媒
の含水量は０〜５００００ｐｐｍの範囲が好ましいが、
反応系中の水分量が０〜５００００ｐｐｍの範囲に収ま
るのであれば、５００００ｐｐｍ以上でも構わない。な
お、触媒に含まれる水分の除去には、通常の蒸留操作に
より行う。使用する触媒の濃度は、ターシャルブチルペ
ルオキシドに対して０．１〜２０重量％とし、好ましく
は１〜１０重量％である。ここで、０．１重量％以上の
触媒使用量であれば充分な作用がなされるが、０．１重
量％未満は反応活性が著しく低くなる。一方で、使用量
が２０重量％より多いと、廃酸処理量の増大、装置の腐
食等の問題が生じ、反応時の発熱制御などの問題が生じ
る。
【０００９】本発明の製造方法では、原料のターシャル
ブチルペルオキシドとターシャルブチルアルコールとを
直接に反応することができるが、必要に応じてベンゼ
ン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、ヘキサン、
クロロホルム、塩化メチレン等の有機溶媒を総原料に対
して０．２〜２倍容量の範囲で用いても差し支えない。
溶媒中の含水量は、０〜５００００ｐｐｍの範囲とする
ことが好ましい。溶媒の水分の除去には、通常の蒸留操
作もしくは硫酸マグネシウム等の脱水剤を用いて行う。
水分量が多いと、使用触媒量を少なくし、高い反応活性
を得ることはできない。
ブチルペルオキシドとターシャルブチルアルコールとを
直接に反応することができるが、必要に応じてベンゼ
ン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、ヘキサン、
クロロホルム、塩化メチレン等の有機溶媒を総原料に対
して０．２〜２倍容量の範囲で用いても差し支えない。
溶媒中の含水量は、０〜５００００ｐｐｍの範囲とする
ことが好ましい。溶媒の水分の除去には、通常の蒸留操
作もしくは硫酸マグネシウム等の脱水剤を用いて行う。
水分量が多いと、使用触媒量を少なくし、高い反応活性
を得ることはできない。
【００１０】本発明の製造方法において、使用触媒量を
少なくし、高い反応活性を得るためには反応開始前の溶
液の水分量を０〜５００００ｐｐｍの範囲、好ましくは
０〜３００００ｐｐｍ、更に好ましくは０〜１００００
ｐｐｍの範囲とする。
少なくし、高い反応活性を得るためには反応開始前の溶
液の水分量を０〜５００００ｐｐｍの範囲、好ましくは
０〜３００００ｐｐｍ、更に好ましくは０〜１００００
ｐｐｍの範囲とする。
【００１１】本発明の製造法における反応条件は、目的
の反応転化率、選択率を考慮して以下のように設定す
る。反応温度は、０〜１００℃、好ましくは２０〜８０
℃の範囲とすることが好ましい。０℃未満では反応率が
低くなり、１００℃を超えると副生成物が多くなる。反
応時間は、反応温度にもよるが、０．１〜１０時間、好
ましくは０．２〜６時間の範囲とする。０．１時間未満
では反応率が低く、１０時間を超えると反応率はほぼ一
定になる。また、反応雰囲気は、空気中、不活性ガス気
流下のいずれの雰囲気下でも実施することができ、反応
圧力は常圧〜２０ｋｇ／ｃｍ2で行う。
の反応転化率、選択率を考慮して以下のように設定す
る。反応温度は、０〜１００℃、好ましくは２０〜８０
℃の範囲とすることが好ましい。０℃未満では反応率が
低くなり、１００℃を超えると副生成物が多くなる。反
応時間は、反応温度にもよるが、０．１〜１０時間、好
ましくは０．２〜６時間の範囲とする。０．１時間未満
では反応率が低く、１０時間を超えると反応率はほぼ一
定になる。また、反応雰囲気は、空気中、不活性ガス気
流下のいずれの雰囲気下でも実施することができ、反応
圧力は常圧〜２０ｋｇ／ｃｍ2で行う。
【００１２】本発明の製造法により得られた反応物から
ジターシャルブチルペルオキシドを得るには、水又は苛
性ソーダや苛性カリ等のアルカリ水溶液で反応物を中和
洗浄した後、そのままで又は蒸留による方法により精製
することが好ましい。
ジターシャルブチルペルオキシドを得るには、水又は苛
性ソーダや苛性カリ等のアルカリ水溶液で反応物を中和
洗浄した後、そのままで又は蒸留による方法により精製
することが好ましい。
【００１３】
【発明の効果】本発明のジターシャルブチルペルオキシ
ドの製造法によれば、一般的な触媒であるスルホン酸系
触媒を使用し、少ない使用量でジターシャルブチルペル
オキシドが製造できるので、従来の触媒使用量が多量で
あったことによる廃液処理、装置材料の腐食や反応に伴
う発熱制御などの問題が軽減される。さらに、高価な固
体酸触媒を使用することもないため、経済的にジターシ
ャルブチルペルオキシドを製造することができる。
ドの製造法によれば、一般的な触媒であるスルホン酸系
触媒を使用し、少ない使用量でジターシャルブチルペル
オキシドが製造できるので、従来の触媒使用量が多量で
あったことによる廃液処理、装置材料の腐食や反応に伴
う発熱制御などの問題が軽減される。さらに、高価な固
体酸触媒を使用することもないため、経済的にジターシ
ャルブチルペルオキシドを製造することができる。
【００１４】
【実施例】実施例１〜４ 水分量１５９４００ｐｐｍのターシャルブチルアルコー
ル（ＴＢＡ：日本油脂（株）製）を、共沸蒸留及び脱水
剤処理により、純度９９．９５％、含水量１０ｐｐｍの
ＴＢＡを調製した。なお、水分量は、カールフィシャー
法にて測定した。温度計、滴下ロート、攪拌機を付した
２００ｃｃの四つ口フラスコにＴＢＡを３７．３ｇと硫
酸（和光純薬工業（株）製試薬特級）３．６５ｇを仕込
み、攪拌し反応系を２０℃に保ちながら水分量３０００
ｐｐｍのターシャルブチルハイドロペルオキシド（ＴＢ
ＨＰ）の７３．１重量％ＴＢＡ溶液（日本油脂（株）
製）を表１に示す所定のモル比になるよう滴下ロートか
ら添加した。反応温度は、５０℃および８０℃とし、各
々５時間反応させた。反応終了後、分液ロートにより油
層を分離し、１％水酸化ナトリウム水溶液および水で中
和水洗した。得られた反応物は、ＧＣにより各成分を内
部標準法により分析し、ＴＢＨＰ消費量からＴＢＨＰ転
化率を、生成したジターシャルブチルペルオキシド（Ｄ
ＴＢＰ）とＴＢＨＰ消費量との割合からＤＴＢＰ選択率
を、生成したＤＴＢＰと仕込みのＴＢＨＰ量の割合から
ＤＴＢＰ収率を求めた。なお、原料及び触媒の水分はカ
ールフィシャー法により求め、反応開始前の溶液（原料
と触媒）の水分量を計算により求めた。結果を表１に示
す。
ル（ＴＢＡ：日本油脂（株）製）を、共沸蒸留及び脱水
剤処理により、純度９９．９５％、含水量１０ｐｐｍの
ＴＢＡを調製した。なお、水分量は、カールフィシャー
法にて測定した。温度計、滴下ロート、攪拌機を付した
２００ｃｃの四つ口フラスコにＴＢＡを３７．３ｇと硫
酸（和光純薬工業（株）製試薬特級）３．６５ｇを仕込
み、攪拌し反応系を２０℃に保ちながら水分量３０００
ｐｐｍのターシャルブチルハイドロペルオキシド（ＴＢ
ＨＰ）の７３．１重量％ＴＢＡ溶液（日本油脂（株）
製）を表１に示す所定のモル比になるよう滴下ロートか
ら添加した。反応温度は、５０℃および８０℃とし、各
々５時間反応させた。反応終了後、分液ロートにより油
層を分離し、１％水酸化ナトリウム水溶液および水で中
和水洗した。得られた反応物は、ＧＣにより各成分を内
部標準法により分析し、ＴＢＨＰ消費量からＴＢＨＰ転
化率を、生成したジターシャルブチルペルオキシド（Ｄ
ＴＢＰ）とＴＢＨＰ消費量との割合からＤＴＢＰ選択率
を、生成したＤＴＢＰと仕込みのＴＢＨＰ量の割合から
ＤＴＢＰ収率を求めた。なお、原料及び触媒の水分はカ
ールフィシャー法により求め、反応開始前の溶液（原料
と触媒）の水分量を計算により求めた。結果を表１に示
す。
【００１５】実施例５、６ 硫酸触媒の代わりにｐ−トルエンスルホン酸（ＰＴＳ）
又はメタンスルホン酸（ＭＳ）を用いた以外実施例１と
全く同様に反応させ、中和洗浄、ＧＣ分析を行った。結
果は表１に示した。
又はメタンスルホン酸（ＭＳ）を用いた以外実施例１と
全く同様に反応させ、中和洗浄、ＧＣ分析を行った。結
果は表１に示した。
【００１６】比較例１〜３ 硫酸触媒の代わりに酸触媒としてゼオライトとして東ソ
ー（株）製ＨＳＺ−３３１ＨＡＳ、イオン交換樹脂とし
て三菱化学（株）製ＰＫ２２８ＬＨおよび日本無機化学
（株）製リンタングステン酸を用いた以外実施例１と全
く同様に反応させ、中和洗浄、ＧＣ分析を行った。結果
は表１に示した。
ー（株）製ＨＳＺ−３３１ＨＡＳ、イオン交換樹脂とし
て三菱化学（株）製ＰＫ２２８ＬＨおよび日本無機化学
（株）製リンタングステン酸を用いた以外実施例１と全
く同様に反応させ、中和洗浄、ＧＣ分析を行った。結果
は表１に示した。
【００１７】比較例４ ＴＢＡ（日本油脂（株）製、純度７３．３９％、含水量
１５９４００ｐｐｍ）を５０．８ｇ使用した以外、実施
例１と全く同様の実験を行った。結果を表１に示した。
１５９４００ｐｐｍ）を５０．８ｇ使用した以外、実施
例１と全く同様の実験を行った。結果を表１に示した。
【００１８】
【表１】
【００１９】実施例１〜６より、反応前の系の水分量を
抑えることで、スルホン酸系触媒使用量を減らしても高
いＤＴＢＰ選択率と比較的高いＤＴＢＰ収率を維持でき
ることが認められる。一方、本発明で規定される触媒以
外のゼオライト系触媒を使用した比較例１はＤＴＢＰ収
率が低いことが認められる。同様にイオン交換樹脂を使
用した比較例２及び３ではＤＴＢＰの収率が低かった
り、選択率が低いことがわかる。また、比較例４より反
応前の系の水分量が増加すると、ＤＴＢＰ選択率が低下
することを確認できる。
抑えることで、スルホン酸系触媒使用量を減らしても高
いＤＴＢＰ選択率と比較的高いＤＴＢＰ収率を維持でき
ることが認められる。一方、本発明で規定される触媒以
外のゼオライト系触媒を使用した比較例１はＤＴＢＰ収
率が低いことが認められる。同様にイオン交換樹脂を使
用した比較例２及び３ではＤＴＢＰの収率が低かった
り、選択率が低いことがわかる。また、比較例４より反
応前の系の水分量が増加すると、ＤＴＢＰ選択率が低下
することを確認できる。
Claims (4)
- 【請求項１】 ターシャルブチルハイドロペルオキシド
とターシャルブチルアルコールと触媒の存在下で反応さ
せてジターシャルブチルペルオキシドを製造する方法に
おいて、含水量を０〜５００００ｐｐｍの範囲とするタ
ーシャルブチルアルコールとターシャルブチルハイドロ
ペルオキシドとを使用し、触媒がスルホン酸系触媒であ
ることを特徴とするジターシャルブチルペルオキシドの
製造法。 - 【請求項２】 スルホン酸系触媒をターシャルブチルペ
ルオキシドに対して０．１〜２０重量％使用する請求項
１記載のジターシャルブチルペルオキシドの製造法。 - 【請求項３】 スルホン酸系触媒が、硫酸、ｐ−トルエ
ンスルホン酸、メタンスルホン酸である請求項１又は２
記載のジターシャルブチルペルオキシドの製造法。 - 【請求項４】 反応開始前の溶液の水分量が、０〜５０
０００ｐｐｍの範囲である請求項１〜３のいずれかに記
載のジターシャルブチルペルオキシドの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000131186A JP2001316358A (ja) | 2000-04-28 | 2000-04-28 | ジターシャルブチルペルオキシドの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000131186A JP2001316358A (ja) | 2000-04-28 | 2000-04-28 | ジターシャルブチルペルオキシドの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001316358A true JP2001316358A (ja) | 2001-11-13 |
Family
ID=18640129
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000131186A Pending JP2001316358A (ja) | 2000-04-28 | 2000-04-28 | ジターシャルブチルペルオキシドの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001316358A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007500188A (ja) * | 2003-07-30 | 2007-01-11 | ケムチュア コーポレイション | 過酸化ジアルキル類からのジアルキルエーテル類の除去 |
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