JP2001288380A - 近赤外線吸収色素及びこれを用いた近赤外線吸収材 - Google Patents
近赤外線吸収色素及びこれを用いた近赤外線吸収材Info
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A40/00—Adaptation technologies in agriculture, forestry, livestock or agroalimentary production
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- Y02A40/25—Greenhouse technology, e.g. cooling systems therefor
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Protection Of Plants (AREA)
- Greenhouses (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 均一で近赤外線吸収能に優れるとともに、高
い耐久性を示す近赤外線吸収色素とそれを用いた近赤外
線吸収材を提供する。 【解決手段】 本発明の近赤外線吸収色素は、ジアルキ
ルアミノ基、置換或いは無置換モルホリノ基、置換或い
は無置換ピペリジノ基、置換或いは無置換ピロリジノ
基、置換或いは無置換チオモルホリノ基、置換或いは無
置換ピペラジノ基、アリール基又はアルキル基で置換さ
れた置換スルホニルベンゼンジチオールニッケル錯体を
含み、式（１）で表わされる。この色素を、例えばガラ
ス基板上にフィルム状に塗布すれば近赤外線吸収材が得
られる。 （式中、Ｒはジアルキルアミノ基、置換或いは無置換モ
ルホリノ基、置換或いは無置換ピペリジノ基、置換或い
は無置換ピロリジノ基、置換或いは無置換チオモルホリ
ノ基、置換或いは無置換ピペラジノ基、アリール基又は
アルキル基を示す。Ａ＋はアンモニウムカチオン又はホ
スホニウムカチオンを示す。）
い耐久性を示す近赤外線吸収色素とそれを用いた近赤外
線吸収材を提供する。 【解決手段】 本発明の近赤外線吸収色素は、ジアルキ
ルアミノ基、置換或いは無置換モルホリノ基、置換或い
は無置換ピペリジノ基、置換或いは無置換ピロリジノ
基、置換或いは無置換チオモルホリノ基、置換或いは無
置換ピペラジノ基、アリール基又はアルキル基で置換さ
れた置換スルホニルベンゼンジチオールニッケル錯体を
含み、式（１）で表わされる。この色素を、例えばガラ
ス基板上にフィルム状に塗布すれば近赤外線吸収材が得
られる。 （式中、Ｒはジアルキルアミノ基、置換或いは無置換モ
ルホリノ基、置換或いは無置換ピペリジノ基、置換或い
は無置換ピロリジノ基、置換或いは無置換チオモルホリ
ノ基、置換或いは無置換ピペラジノ基、アリール基又は
アルキル基を示す。Ａ＋はアンモニウムカチオン又はホ
スホニウムカチオンを示す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、置換スルホニルベ
ンゼンジチオールニッケル錯体を含む近赤外線吸収色素
及びこれを用いて作成した近赤外線吸収材に関する。
ンゼンジチオールニッケル錯体を含む近赤外線吸収色素
及びこれを用いて作成した近赤外線吸収材に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、赤外線の中でも、可視領域に最も
近い近赤外線（波長約７８０ｎｍ〜２０００ｎｍ）を吸
収する成分を含む近赤外線吸収材が、種々の分野で使用
されている。例えば、近赤外線を吸収・カットする機能
を有する半導体受光素子用の光学フィルター、省エネル
ギー用に熱線を遮断する近赤外線吸収フィルムや近赤外
線吸収板、太陽光の選択的な利用を目的とする農業用近
赤外線吸収フィルム、近赤外線の吸収熱を利用する記録
媒体等として広く利用されている。上記した近赤外線吸
収材においては、近赤外線を吸収する成分として、一般
的に、近赤外線吸収色素が用いられている。
近い近赤外線（波長約７８０ｎｍ〜２０００ｎｍ）を吸
収する成分を含む近赤外線吸収材が、種々の分野で使用
されている。例えば、近赤外線を吸収・カットする機能
を有する半導体受光素子用の光学フィルター、省エネル
ギー用に熱線を遮断する近赤外線吸収フィルムや近赤外
線吸収板、太陽光の選択的な利用を目的とする農業用近
赤外線吸収フィルム、近赤外線の吸収熱を利用する記録
媒体等として広く利用されている。上記した近赤外線吸
収材においては、近赤外線を吸収する成分として、一般
的に、近赤外線吸収色素が用いられている。
【０００３】上記近赤外線吸収色素を用いた近赤外線吸
収材としては、例えば、ｔ−ブチル置換ベンゼンジチオ
ールニッケル錯体を含むプラスチック組成物（特開昭６
３−１６５３９２号）、また置換ベンゼンジチオールニ
ッケル錯体を含む透明記録体（特開平５−１７７９５０
号）が知られている。
収材としては、例えば、ｔ−ブチル置換ベンゼンジチオ
ールニッケル錯体を含むプラスチック組成物（特開昭６
３−１６５３９２号）、また置換ベンゼンジチオールニ
ッケル錯体を含む透明記録体（特開平５−１７７９５０
号）が知られている。
【０００４】また、フタロシアニン環に置換基を有する
フタロシアニン化合物を含む近赤外線吸収フィルム及び
フィルタ（特開平３−６２８７８号）、或いは熱線遮断
シート（特開平６−１９４５１７号）も知られている。
更に、アントラキノン類、フタロシアニン類或いは置換
ベンゼンジチオールニッケル錯体等を含む農業用近赤外
線吸収フィルム（特開平７−７９６４９号）、フタロシ
アニン系色素、ビスジチオベンジルニッケル錯体或いは
置換ベンゼンジチオールニッケル錯体を含むエチレン−
酢酸ビニル系接着性ポリマ（特開平７−１７８８６１
号）も知られている。
フタロシアニン化合物を含む近赤外線吸収フィルム及び
フィルタ（特開平３−６２８７８号）、或いは熱線遮断
シート（特開平６−１９４５１７号）も知られている。
更に、アントラキノン類、フタロシアニン類或いは置換
ベンゼンジチオールニッケル錯体等を含む農業用近赤外
線吸収フィルム（特開平７−７９６４９号）、フタロシ
アニン系色素、ビスジチオベンジルニッケル錯体或いは
置換ベンゼンジチオールニッケル錯体を含むエチレン−
酢酸ビニル系接着性ポリマ（特開平７−１７８８６１
号）も知られている。
【０００５】上記近赤外線吸収材に用いられる近赤外線
吸収色素は、一般的に、溶媒に溶解させた後、プラスチ
ック等の基板にコーティングするか、或いは樹脂と加熱
混練されて、シート状、板状或いはその他の形状に成形
されて用いられる。そのため、上記近赤外線吸収色素に
は、溶媒に対する溶解性や樹脂との相溶性等に優れてい
ることが要求される。さらに、上記近赤外線吸収材は、
野外で使用される場合もあるので、近赤外線吸収色素自
身にも高い耐久性、熱安定性等が要求される。
吸収色素は、一般的に、溶媒に溶解させた後、プラスチ
ック等の基板にコーティングするか、或いは樹脂と加熱
混練されて、シート状、板状或いはその他の形状に成形
されて用いられる。そのため、上記近赤外線吸収色素に
は、溶媒に対する溶解性や樹脂との相溶性等に優れてい
ることが要求される。さらに、上記近赤外線吸収材は、
野外で使用される場合もあるので、近赤外線吸収色素自
身にも高い耐久性、熱安定性等が要求される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来用
いられている、置換ベンゼンジチオールニッケル錯体
類、フタロシアニン類、アントラキノン類、ビスジチオ
ベンジルニッケル錯体類等は、近赤外線吸収材に配合さ
れて用いられたとき、必ずしも満足すべき効果を示して
いるとはいえない。
いられている、置換ベンゼンジチオールニッケル錯体
類、フタロシアニン類、アントラキノン類、ビスジチオ
ベンジルニッケル錯体類等は、近赤外線吸収材に配合さ
れて用いられたとき、必ずしも満足すべき効果を示して
いるとはいえない。
【０００７】例えば、フタロシアニン類は、種々の置換
基で置換されて、溶媒への溶解性を向上させているが、
その結果、耐光性、熱安定性等が劣ったものとなってい
る。一方、置換ベンゼンジチオールニッケル錯体類は、
製造が比較的容易であること、耐久性が良好という等の
点においては優れているが、溶媒或いはモノマへの溶解
性が小さく、また樹脂との相溶性に劣るという問題があ
る。
基で置換されて、溶媒への溶解性を向上させているが、
その結果、耐光性、熱安定性等が劣ったものとなってい
る。一方、置換ベンゼンジチオールニッケル錯体類は、
製造が比較的容易であること、耐久性が良好という等の
点においては優れているが、溶媒或いはモノマへの溶解
性が小さく、また樹脂との相溶性に劣るという問題があ
る。
【０００８】すなわち、溶媒への溶解度が小さいと、近
赤外線吸収色素を溶媒に溶解させて用いるときに、基板
として用いるガラス、紙又は樹脂の表面に、近赤外線を
遮断するのに十分な量の色素を含有させることが困難と
なる。また、近赤外線吸収色素をモノマと混合し、この
モノマを重合硬化させて近赤外線吸収材とするときも、
モノマへの溶解度が小さいと、十分な量の色素を含有さ
せることが困難となり、未溶解の色素が原因となって、
部分的に不透明になるという問題が生じる。さらに、上
記近赤外線吸収色素と樹脂との相溶性が悪いと、例え
ば、樹脂と混練し、押出し機で成形した場合、均一な近
赤外線吸収材を得ることができないという問題がある。
赤外線吸収色素を溶媒に溶解させて用いるときに、基板
として用いるガラス、紙又は樹脂の表面に、近赤外線を
遮断するのに十分な量の色素を含有させることが困難と
なる。また、近赤外線吸収色素をモノマと混合し、この
モノマを重合硬化させて近赤外線吸収材とするときも、
モノマへの溶解度が小さいと、十分な量の色素を含有さ
せることが困難となり、未溶解の色素が原因となって、
部分的に不透明になるという問題が生じる。さらに、上
記近赤外線吸収色素と樹脂との相溶性が悪いと、例え
ば、樹脂と混練し、押出し機で成形した場合、均一な近
赤外線吸収材を得ることができないという問題がある。
【０００９】本発明は、このような事情のもとで考え出
されたものであって、近赤外線吸収能と耐久性に優れて
いるばかりでなく、溶媒、モノマ等への溶解性や樹脂と
の相溶性にも優れた近赤外線吸収色素、及びそれを用い
た近赤外線吸収材を提供することをその課題とする。
されたものであって、近赤外線吸収能と耐久性に優れて
いるばかりでなく、溶媒、モノマ等への溶解性や樹脂と
の相溶性にも優れた近赤外線吸収色素、及びそれを用い
た近赤外線吸収材を提供することをその課題とする。
【００１０】
【発明の開示】上記課題を解決するため、本発明では、
次の技術的手段を講じている。
次の技術的手段を講じている。
【００１１】すなわち、本発明の第１の側面によれば、
下記一般式（I）
下記一般式（I）
【化２】 （式中、Rはジアルキルアミノ基、置換或いは無置換モ
ルホリノ基、置換或いは無置換ピペリジノ基、置換或い
は無置換ピロリジノ基、置換或いは無置換チオモルホリ
ノ基、置換或いは無置換ピペラジノ基、アリール基又は
アルキル基を示す。Ａ+はアンモニウムカチオン又はホ
スホニウムカチオンを示す。）で表される置換スルホニ
ルベンゼンジチオールニッケル錯体を含む近赤外線吸収
色素が提供される。
ルホリノ基、置換或いは無置換ピペリジノ基、置換或い
は無置換ピロリジノ基、置換或いは無置換チオモルホリ
ノ基、置換或いは無置換ピペラジノ基、アリール基又は
アルキル基を示す。Ａ+はアンモニウムカチオン又はホ
スホニウムカチオンを示す。）で表される置換スルホニ
ルベンゼンジチオールニッケル錯体を含む近赤外線吸収
色素が提供される。
【００１２】上記一般式（I）で表される置換スルホニ
ルベンゼンジチオールニッケル錯体は、後に実施例で示
すように、溶媒、モノマへの溶解度が高く、また樹脂と
の相溶性も良好である。したがって、上記置換スルホニ
ルベンゼンジチオールニッケル錯体は、近赤外線を遮断
するのに十分な量を溶媒やモノマに溶解させたり、均一
に樹脂と混練させることができるため、このニッケル錯
体を色素として含む近赤外線吸収材は、十分な近赤外線
吸収能を発揮することができる。また、本発明者らは、
当該色素を含む近赤外線吸収材が耐久性の点でも非常に
優れたものであることを確認している。
ルベンゼンジチオールニッケル錯体は、後に実施例で示
すように、溶媒、モノマへの溶解度が高く、また樹脂と
の相溶性も良好である。したがって、上記置換スルホニ
ルベンゼンジチオールニッケル錯体は、近赤外線を遮断
するのに十分な量を溶媒やモノマに溶解させたり、均一
に樹脂と混練させることができるため、このニッケル錯
体を色素として含む近赤外線吸収材は、十分な近赤外線
吸収能を発揮することができる。また、本発明者らは、
当該色素を含む近赤外線吸収材が耐久性の点でも非常に
優れたものであることを確認している。
【００１３】一方、本発明の第２の側面によれば、上記
近赤外線吸収色素を用いた近赤外線吸収材が提供され
る。この吸収材は、以下のようにいくつかの形態を採る
ことができる。
近赤外線吸収色素を用いた近赤外線吸収材が提供され
る。この吸収材は、以下のようにいくつかの形態を採る
ことができる。
【００１４】すなわち、第１の形態の近赤外線吸収材
は、上記一般式（I）で表される置換スルホニルベンゼ
ンジチオールニッケル錯体を少なくとも含む組成物を基
板上に層状に塗布形成した構成を有する。
は、上記一般式（I）で表される置換スルホニルベンゼ
ンジチオールニッケル錯体を少なくとも含む組成物を基
板上に層状に塗布形成した構成を有する。
【００１５】また、第２の形態の近赤外線吸収材は、上
記置換スルホニルベンゼンジチオールニッケル錯体とモ
ノマとを少なくとも含む組成物を上記モノマの重合によ
り硬化して得られるものであり、例えばシート状や板状
の構成を採ることができる。
記置換スルホニルベンゼンジチオールニッケル錯体とモ
ノマとを少なくとも含む組成物を上記モノマの重合によ
り硬化して得られるものであり、例えばシート状や板状
の構成を採ることができる。
【００１６】さらに、第３の形態の近赤外線吸収材は、
上記置換スルホニルベンゼンジチオールニッケル錯体と
樹脂とを混練して得られる樹脂組成物を所定形状に成形
した構成を有する。
上記置換スルホニルベンゼンジチオールニッケル錯体と
樹脂とを混練して得られる樹脂組成物を所定形状に成形
した構成を有する。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施形態
を詳細に説明する。
を詳細に説明する。
【００１８】本発明において、近赤外線吸収色素として
用いられる、上記一般式（I）で表される置換スルホニ
ルベンゼンジチオールニッケル錯体は、例えば特開平９
―３０９８８６号公報や特開平１０―４５７６７号公報
に開示されているのと同様の方法で合成することができ
る。すなわち、まず置換ハロゲノベンゼンと水硫化物と
を硫黄及び鉄紛の存在下、極性有機溶媒中で反応させ、
置換ベンゼンジチオールの鉄錯体を形成させる。得られ
た置換ベンゼンジチオール鉄錯体とニッケルのハロゲン
化物とを反応させ、ついでアンモニウム塩、ホスホニウ
ム塩と反応させることにより、目的物である置換スルホ
ニルベンゼンジチオールニッケル錯体を得ることができ
る。
用いられる、上記一般式（I）で表される置換スルホニ
ルベンゼンジチオールニッケル錯体は、例えば特開平９
―３０９８８６号公報や特開平１０―４５７６７号公報
に開示されているのと同様の方法で合成することができ
る。すなわち、まず置換ハロゲノベンゼンと水硫化物と
を硫黄及び鉄紛の存在下、極性有機溶媒中で反応させ、
置換ベンゼンジチオールの鉄錯体を形成させる。得られ
た置換ベンゼンジチオール鉄錯体とニッケルのハロゲン
化物とを反応させ、ついでアンモニウム塩、ホスホニウ
ム塩と反応させることにより、目的物である置換スルホ
ニルベンゼンジチオールニッケル錯体を得ることができ
る。
【００１９】上述したとおり、上記一般式（I）におい
て、Ｒで表される置換基は、ジアルキルアミノ基、置換
或いは無置換モルホリノ基、置換或いは無置換ピペリジ
ノ基、置換或いは無置換ピロリジノ基、置換或いは無置
換チオモルホリノ基、置換或いは無置換ピペラジノ基、
アリール基又はアルキル基である。
て、Ｒで表される置換基は、ジアルキルアミノ基、置換
或いは無置換モルホリノ基、置換或いは無置換ピペリジ
ノ基、置換或いは無置換ピロリジノ基、置換或いは無置
換チオモルホリノ基、置換或いは無置換ピペラジノ基、
アリール基又はアルキル基である。
【００２０】上記各置換基の中、ジアルキルアミノ基と
しては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−
メチルエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、
Ｎ，Ｎ−エチル−ｉｓｏ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−
ジ−ｉｓｏ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−プロ
ピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−ブチルアミノ基等をあ
げることができる。
しては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−
メチルエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、
Ｎ，Ｎ−エチル−ｉｓｏ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−
ジ−ｉｓｏ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−プロ
ピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−ブチルアミノ基等をあ
げることができる。
【００２１】置換モルホリノ基としては、例えば、２−
メチルモルホリノ基、３−メチルモルホリノ基、４−メ
チルモルホリノ基、２−エチルモルホリノ基、４−ｎ−
プロピルモルホリノ基、３−ｎ−ブチルモルホリノ基、
２，４−ジメチルモルホリノ基、２，６−ジメチルモル
ホリノ基、４−フェニルモルホリノ基等をあげることが
できる。
メチルモルホリノ基、３−メチルモルホリノ基、４−メ
チルモルホリノ基、２−エチルモルホリノ基、４−ｎ−
プロピルモルホリノ基、３−ｎ−ブチルモルホリノ基、
２，４−ジメチルモルホリノ基、２，６−ジメチルモル
ホリノ基、４−フェニルモルホリノ基等をあげることが
できる。
【００２２】置換ピペリジノ基としては、例えば、２−
メチルピペリジノ基、３−メチルピペリジノ基、４−メ
チルピペリジノ基、２−エチルピペリジノ基、４−ｎ−
プロピルピペリジノ基、３−ｎ−ブチルピペリジノ基、
２，４−ジメチルピペリジノ基、２，６−ジメチルピペ
リジノ基、４−フェニルピペリジノ基等をあげることが
できる。
メチルピペリジノ基、３−メチルピペリジノ基、４−メ
チルピペリジノ基、２−エチルピペリジノ基、４−ｎ−
プロピルピペリジノ基、３−ｎ−ブチルピペリジノ基、
２，４−ジメチルピペリジノ基、２，６−ジメチルピペ
リジノ基、４−フェニルピペリジノ基等をあげることが
できる。
【００２３】置換ピロリジノ基としては、例えば、２−
メチルピロリジノ基、３−メチルピロリジノ基、４−メ
チルピロリジノ基、２−エチルピロリジノ基、４−ｎ−
プロピルピロリジノ基、３−ｎ−ブチルピロリジノ基、
２，４−ジメチルピロリジノ基、２，５−ジメチルピロ
リジノ基、４−フェニルピロリジノ基等があげられる。
メチルピロリジノ基、３−メチルピロリジノ基、４−メ
チルピロリジノ基、２−エチルピロリジノ基、４−ｎ−
プロピルピロリジノ基、３−ｎ−ブチルピロリジノ基、
２，４−ジメチルピロリジノ基、２，５−ジメチルピロ
リジノ基、４−フェニルピロリジノ基等があげられる。
【００２４】置換チオモルホリノ基としては、例えば、
２−メチルチオモルホリノ基、３−メチルチオモルホリ
ノ基、４−メチルチオモルホリノ基、２−エチルチオモ
ルホリノ基、４−ｎ−プロピルチオモルホリノ基、３−
ｎ−ブチルチオモルホリノ基、２，４−ジメチルチオモ
ルホリノ基、２，６−ジメチルチオモルホリノ基、４−
フェニルチオモルホリノ基等があげられる。
２−メチルチオモルホリノ基、３−メチルチオモルホリ
ノ基、４−メチルチオモルホリノ基、２−エチルチオモ
ルホリノ基、４−ｎ−プロピルチオモルホリノ基、３−
ｎ−ブチルチオモルホリノ基、２，４−ジメチルチオモ
ルホリノ基、２，６−ジメチルチオモルホリノ基、４−
フェニルチオモルホリノ基等があげられる。
【００２５】置換ピペラジノ基としては、例えば、２−
メチルピペラジノ基、３−メチルピペラジノ基、４−メ
チルピペラジノ基、２−エチルピペラジノ基、４−ｎ−
プロピルピペラジノ基、３−ｎ−ブチルピペラジノ基、
２，４−ジメチルピペラジノ基、２，６−ジメチルピペ
ラジノ基、４−フェニルピペラジノ基、２−ピリミジル
ピペラジノ基等があげられる。
メチルピペラジノ基、３−メチルピペラジノ基、４−メ
チルピペラジノ基、２−エチルピペラジノ基、４−ｎ−
プロピルピペラジノ基、３−ｎ−ブチルピペラジノ基、
２，４−ジメチルピペラジノ基、２，６−ジメチルピペ
ラジノ基、４−フェニルピペラジノ基、２−ピリミジル
ピペラジノ基等があげられる。
【００２６】アリール基としては、例えば、フェニル
基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４
−メチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、４
−エチルフェニル基、２−ｎ−プロピルフェニル基、４
−ｎ−ブチルフェニル基、２−クロロフェニル基、４−
クロロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、２−
ブロモフェニル基、４−ブロモフェニル基、２−クロロ
−４−ブロモフェニル基、４−アミノフェニル基、２，
４−ジアミノフェニル基、２，４−ジニトロフェニル
基、２−アセチルフェニル基、４−アセチルフェニル
基、２−ヒドロキシフェニル基、４−ヒドロキシフェニ
ル、２−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル
基、２−メチルチオフェニル基、４−メチルチオフェニ
ル基等があげられる。
基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４
−メチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、４
−エチルフェニル基、２−ｎ−プロピルフェニル基、４
−ｎ−ブチルフェニル基、２−クロロフェニル基、４−
クロロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、２−
ブロモフェニル基、４−ブロモフェニル基、２−クロロ
−４−ブロモフェニル基、４−アミノフェニル基、２，
４−ジアミノフェニル基、２，４−ジニトロフェニル
基、２−アセチルフェニル基、４−アセチルフェニル
基、２−ヒドロキシフェニル基、４−ヒドロキシフェニ
ル、２−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル
基、２−メチルチオフェニル基、４−メチルチオフェニ
ル基等があげられる。
【００２７】アルキル基としては、例えば、メチル基、
エチル基、ｉｓｏ―プロピル基、ｎープロピル基、ｎ−
ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ
−ペンチル基、ｉｓｏーペンチル基、ｎｅｏ−ペンチル
基、ｎ−ヘキシル基、ｉｓｏ―ヘキシル基等をあげられ
る。
エチル基、ｉｓｏ―プロピル基、ｎープロピル基、ｎ−
ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ
−ペンチル基、ｉｓｏーペンチル基、ｎｅｏ−ペンチル
基、ｎ−ヘキシル基、ｉｓｏ―ヘキシル基等をあげられ
る。
【００２８】上記した各種の置換基の中、Ｒとして、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピロリジノ
基、ピペリジノ基、ピペラジノ基、フェニル基を用いる
と特に好ましい結果が得られる。
Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピロリジノ
基、ピペリジノ基、ピペラジノ基、フェニル基を用いる
と特に好ましい結果が得られる。
【００２９】また、Ａ+はアンモニウムカチオン又はホ
スホニウムカチオンを意味する。Ａ+で表されるアンモ
ニウムカチオンの具体例としては、テトラメチルアンモ
ニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラ−ｎ−ブチ
ルアンモニウム、テトラフェニルアンモニウム、テトラ
ベンジルアンモニウム、トリメチルベンジルアンモニウ
ム等の各カチオンを例示することができる。
スホニウムカチオンを意味する。Ａ+で表されるアンモ
ニウムカチオンの具体例としては、テトラメチルアンモ
ニウム、テトラエチルアンモニウム、テトラ−ｎ−ブチ
ルアンモニウム、テトラフェニルアンモニウム、テトラ
ベンジルアンモニウム、トリメチルベンジルアンモニウ
ム等の各カチオンを例示することができる。
【００３０】Ａ+で示されるホスホニウムカチオンの具
体例としては、テトラメチルホスホニウム、テトラエチ
ルホスホニウム、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウム、テ
トラフェニルホスホニウム、テトラベンジルホスホニウ
ム、トリメチルベンジルホスホニウム等の各カチオンを
例示することができる。
体例としては、テトラメチルホスホニウム、テトラエチ
ルホスホニウム、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウム、テ
トラフェニルホスホニウム、テトラベンジルホスホニウ
ム、トリメチルベンジルホスホニウム等の各カチオンを
例示することができる。
【００３１】上記した各種の置換スルホニルベンゼンジ
チオールニッケル錯体は単独で用いてもよく、また２種
以上を併用してもよい。また、トランス体又はシス体を
単独又は混合して使用してもよい。
チオールニッケル錯体は単独で用いてもよく、また２種
以上を併用してもよい。また、トランス体又はシス体を
単独又は混合して使用してもよい。
【００３２】本発明において、一般式（I）で表される
色素としての置換スルホニルベンゼンジチオールニッケ
ル錯体を使用するに際しては、同錯体を溶媒やモノマに
溶解したり、或いは樹脂と混練したりする。その後、用
途、目的等に応じて種々の形態とされ、近赤外線吸収材
として用いられる。以下に、その実施形態を説明する。
色素としての置換スルホニルベンゼンジチオールニッケ
ル錯体を使用するに際しては、同錯体を溶媒やモノマに
溶解したり、或いは樹脂と混練したりする。その後、用
途、目的等に応じて種々の形態とされ、近赤外線吸収材
として用いられる。以下に、その実施形態を説明する。
【００３３】（１）第１の実施形態（基板へ色素溶液を
塗布） 一般式（I）の置換スルホニルベンゼンジチオールニッ
ケル錯体を溶媒に溶解して得られた近赤外線吸収色素溶
液を、ガラス又は樹脂の基板上に塗布し、乾燥させて溶
媒を除去する。溶媒を除去した後、基板上には、置換ス
ルホニルベンゼンジチオールニッケル錯体を含む色素層
が残る。
塗布） 一般式（I）の置換スルホニルベンゼンジチオールニッ
ケル錯体を溶媒に溶解して得られた近赤外線吸収色素溶
液を、ガラス又は樹脂の基板上に塗布し、乾燥させて溶
媒を除去する。溶媒を除去した後、基板上には、置換ス
ルホニルベンゼンジチオールニッケル錯体を含む色素層
が残る。
【００３４】上記溶媒としては、トルエン、キシレン、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭
化水素類、メタノール、エタノール、ｉｓｏ−プロパノ
ール等のアルコール類、メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ等のセロソルブ類、酢酸エチル、酢酸プロピル、
酢酸ブチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン等のケトン類等が例示さ
れる。これらの溶媒は単独又は２種以上を混合して用い
てもよい。
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の炭
化水素類、メタノール、エタノール、ｉｓｏ−プロパノ
ール等のアルコール類、メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ等のセロソルブ類、酢酸エチル、酢酸プロピル、
酢酸ブチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン等のケトン類等が例示さ
れる。これらの溶媒は単独又は２種以上を混合して用い
てもよい。
【００３５】上記基板としては、ガラス、樹脂等の透明
部材が用いられる。樹脂としては、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネー
ト、ポリエチレン、ポリサルホン、ポリエーテルサルホ
ン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリアクリレート等
の透明性の高い樹脂が好ましい。上記基板は、フレキシ
ブルなものであっても、ハードなものであってもよく、
板状、シート状又はフィルム状とすることができる。
部材が用いられる。樹脂としては、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネー
ト、ポリエチレン、ポリサルホン、ポリエーテルサルホ
ン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリアクリレート等
の透明性の高い樹脂が好ましい。上記基板は、フレキシ
ブルなものであっても、ハードなものであってもよく、
板状、シート状又はフィルム状とすることができる。
【００３６】上記色素溶液の上記基板への塗布方法とし
てはバーコート法、スピンコート法等が挙げられる。こ
の場合、上記色素溶液にバインダを添加してもよい。バ
インダとしては酢酸セルロース、アクリル樹脂、フェノ
ール樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂が好ましい。これらの
樹脂は、単独又は２種以上混合して用いてもよい。
てはバーコート法、スピンコート法等が挙げられる。こ
の場合、上記色素溶液にバインダを添加してもよい。バ
インダとしては酢酸セルロース、アクリル樹脂、フェノ
ール樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂が好ましい。これらの
樹脂は、単独又は２種以上混合して用いてもよい。
【００３７】置換スルホニルベンゼンジチオールニッケ
ル錯体の使用量は、溶媒１００重量部に対して０．０１
〜１０重量部が好ましく、より好ましくは０．１〜５重
量部である。０．０１重量部より少ないと近赤外線吸収
能が十分ではなく、また１０重量部を超えて用いても不
溶部分が残り、不透明な部分が形成されるおそれがある
ため上記範囲が好ましい。
ル錯体の使用量は、溶媒１００重量部に対して０．０１
〜１０重量部が好ましく、より好ましくは０．１〜５重
量部である。０．０１重量部より少ないと近赤外線吸収
能が十分ではなく、また１０重量部を超えて用いても不
溶部分が残り、不透明な部分が形成されるおそれがある
ため上記範囲が好ましい。
【００３８】（２）第２の実施形態（色素とモノマとを
含む組成物の硬化） 一般式（I）で表される置換スルホニルベンゼンジチオ
ールニッケル錯体、モノマ、重合開始剤を含む硬化性組
成物をモールドに注入し重合硬化させるか、或いはガラ
ス板状にキャストして重合硬化させて近赤外線吸収材を
得る。
含む組成物の硬化） 一般式（I）で表される置換スルホニルベンゼンジチオ
ールニッケル錯体、モノマ、重合開始剤を含む硬化性組
成物をモールドに注入し重合硬化させるか、或いはガラ
ス板状にキャストして重合硬化させて近赤外線吸収材を
得る。
【００３９】上記モノマとしてはメタクリル酸エステル
類、アクリル酸エステル類、芳香族及び脂肪族ビニル
類、グリシジルエーテル類、ビニルスルフィド類、ビニ
ルエーテル類等があげられる。
類、アクリル酸エステル類、芳香族及び脂肪族ビニル
類、グリシジルエーテル類、ビニルスルフィド類、ビニ
ルエーテル類等があげられる。
【００４０】上記メタクリル酸エステル類としては、メ
タクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、エチレングリ
コールジメタクリレート、グリシジルメタクリレート、
ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、
ビス（２−メタクリロイルチオエチル）スルフィド等を
例示することができる。
タクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、エチレングリ
コールジメタクリレート、グリシジルメタクリレート、
ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、
ビス（２−メタクリロイルチオエチル）スルフィド等を
例示することができる。
【００４１】上記アクリル酸エステル類としては、アク
リル酸メチル、アクリル酸エチル、エチレングリコール
ジアクリレート、グリシジルアクリレート等を例示する
ことができる。
リル酸メチル、アクリル酸エチル、エチレングリコール
ジアクリレート、グリシジルアクリレート等を例示する
ことができる。
【００４２】芳香族及び脂肪族ビニル類としては、例え
ば、スチレン、クロルスチレン、ヒドロキシスチレン、
α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、４−ビニルシ
クロヘキセン、１、５−シクロオクタジエン等を例示す
ることができる。
ば、スチレン、クロルスチレン、ヒドロキシスチレン、
α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、４−ビニルシ
クロヘキセン、１、５−シクロオクタジエン等を例示す
ることができる。
【００４３】グリシジルエーテル類としては、アリルグ
リシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、トリ
メチロールプロパングリシジルエーテル、１、６−ヘキ
サンジオールグリシジルエーテル等を例示することがで
きる。
リシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、トリ
メチロールプロパングリシジルエーテル、１、６−ヘキ
サンジオールグリシジルエーテル等を例示することがで
きる。
【００４４】ビニルスルフィド類としては、プロピルビ
ニルスルフィド、フェニルビニルスルフィド、ビス（４
−ビニルチオフェニル）スルフィド等を例示することが
でき、また、ビニルエーテル類としては、プロピルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル、ビス（４−ビニ
ルオキシフェニル）スルフィド等が例示される。これら
のモノマは単独で、又は２種以上混合して用いてもよ
い。
ニルスルフィド、フェニルビニルスルフィド、ビス（４
−ビニルチオフェニル）スルフィド等を例示することが
でき、また、ビニルエーテル類としては、プロピルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル、ビス（４−ビニ
ルオキシフェニル）スルフィド等が例示される。これら
のモノマは単独で、又は２種以上混合して用いてもよ
い。
【００４５】硬化方法としては特に限定されず、熱硬化
法及び紫外線や電子線等を用いる光硬化法等から用途等
により適宜選択すればよい。
法及び紫外線や電子線等を用いる光硬化法等から用途等
により適宜選択すればよい。
【００４６】上記置換スルホニルベンゼンジチオールニ
ッケル錯体の使用量は、モノマ１００重量部に対して
０．０１〜２０重量部が好ましく、より好ましくは０．
０５〜１０重量部である。０．０１重量部より少ないと
近赤外線吸収能が十分ではなく、また２０重量部を超え
て用いても不溶部分が残り、不透明な部分が吸収材に形
成されるおそれがあるため上記範囲が好ましい。
ッケル錯体の使用量は、モノマ１００重量部に対して
０．０１〜２０重量部が好ましく、より好ましくは０．
０５〜１０重量部である。０．０１重量部より少ないと
近赤外線吸収能が十分ではなく、また２０重量部を超え
て用いても不溶部分が残り、不透明な部分が吸収材に形
成されるおそれがあるため上記範囲が好ましい。
【００４７】熱硬化反応において用いられる重合開始剤
としては、例えば２，２’−アゾビス（２−メチルブチ
ロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−イソブチロニ
トリル）、２，２’−アゾビス（２、４−ジメチルバレ
ロニトリル）等のアゾ化合物、メチルエチルケトンパー
オキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、
ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ベンゾイルパー
オキシド等の過酸化物等をあげることができる。
としては、例えば２，２’−アゾビス（２−メチルブチ
ロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−イソブチロニ
トリル）、２，２’−アゾビス（２、４−ジメチルバレ
ロニトリル）等のアゾ化合物、メチルエチルケトンパー
オキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、
ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ベンゾイルパー
オキシド等の過酸化物等をあげることができる。
【００４８】光硬化反応において用いられる重合開始剤
としては、例えば２，２−ジエトキシアセトフェノン、
２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ベ
ンゾフェノン、１−（４−イソピロピルフェニル）−２
−ヒドロキシ−２−メチルプロパンー１−オン、ベンゾ
インイソプロピルエーテル、２，４−ジメチルチオキサ
ントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニル
ホスフィンオキサイド等をあげることができる。
としては、例えば２，２−ジエトキシアセトフェノン、
２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ベ
ンゾフェノン、１−（４−イソピロピルフェニル）−２
−ヒドロキシ−２−メチルプロパンー１−オン、ベンゾ
インイソプロピルエーテル、２，４−ジメチルチオキサ
ントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニル
ホスフィンオキサイド等をあげることができる。
【００４９】重合開始剤の量はモノマ１００重量部に対
して０．０１〜２重量部が好ましく、より好ましくは
０．１〜１重量部である。硬化温度、硬化時間は本発明
の近赤外線吸収材の用途、形状、使用する重合開始剤の
種類により異なるが、硬化温度は０〜２００℃が好まし
く、より好ましくは１０〜１５０℃である。硬化時間は
０．５分から５０時間が好ましく、より好ましくは１分
〜２０時間である。
して０．０１〜２重量部が好ましく、より好ましくは
０．１〜１重量部である。硬化温度、硬化時間は本発明
の近赤外線吸収材の用途、形状、使用する重合開始剤の
種類により異なるが、硬化温度は０〜２００℃が好まし
く、より好ましくは１０〜１５０℃である。硬化時間は
０．５分から５０時間が好ましく、より好ましくは１分
〜２０時間である。
【００５０】（３）第３の実施形態（色素を含有する樹
脂組成物を成形） 一般式（I）で表される置換スルホニルベンゼンジチオ
ールニッケル錯体と樹脂（例えば、樹脂粉体や樹脂ペレ
ット）を含む樹脂組成物を溶融押出機にて混練・押出
し、シート、フィルム、その他の形状に成形する。或い
は、シート（原反）を周知の延伸方法により１軸ないし
は２軸に延伸してフィルムとしてもよい。
脂組成物を成形） 一般式（I）で表される置換スルホニルベンゼンジチオ
ールニッケル錯体と樹脂（例えば、樹脂粉体や樹脂ペレ
ット）を含む樹脂組成物を溶融押出機にて混練・押出
し、シート、フィルム、その他の形状に成形する。或い
は、シート（原反）を周知の延伸方法により１軸ないし
は２軸に延伸してフィルムとしてもよい。
【００５１】上記置換スルホニルベンゼンジチオールニ
ッケル錯体と混練される樹脂としては、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボ
ネート、ポリエチレン、ポリサルホン、ポリエーテルサ
ルホン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリアクリレー
ト等の透明性の高い樹脂が好ましい。また、樹脂組成物
中には上記以外に紫外線吸収剤、酸化防止剤、着色剤、
可塑剤、界面活性剤、帯電防止剤、滑剤、難燃剤、分散
剤等を含有させてもよい。
ッケル錯体と混練される樹脂としては、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボ
ネート、ポリエチレン、ポリサルホン、ポリエーテルサ
ルホン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリアクリレー
ト等の透明性の高い樹脂が好ましい。また、樹脂組成物
中には上記以外に紫外線吸収剤、酸化防止剤、着色剤、
可塑剤、界面活性剤、帯電防止剤、滑剤、難燃剤、分散
剤等を含有させてもよい。
【００５２】置換スルホニルベンゼンジチオールニッケ
ル錯体の使用量は、上記第２の実施形態で述べたのと同
様に、樹脂１００重量部に対して０．０１〜２０重量部
が好ましく、より好ましくは０．１〜１０重量部であ
る。溶融温度としては１５０〜３５０℃が好ましく、よ
り好ましくは２００〜３００℃である。
ル錯体の使用量は、上記第２の実施形態で述べたのと同
様に、樹脂１００重量部に対して０．０１〜２０重量部
が好ましく、より好ましくは０．１〜１０重量部であ
る。溶融温度としては１５０〜３５０℃が好ましく、よ
り好ましくは２００〜３００℃である。
【００５３】以下、実施例により本発明についてさらに
詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。なお、実施例の説明の順序としては、
実施例１にて、本発明の近赤外線吸収色素の合成例を先
ず説明したのちに、実施例２以降において、当該色素を
用いた近赤外線吸収材の作成例を説明する。
詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。なお、実施例の説明の順序としては、
実施例１にて、本発明の近赤外線吸収色素の合成例を先
ず説明したのちに、実施例２以降において、当該色素を
用いた近赤外線吸収材の作成例を説明する。
【００５４】
【実施例1】４−（モルホリノスルホニル）−１，２−
ジクロロベンゼン５９．２ｇ（０．２モル）にＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド１８３ｇ、７０％水硫化ナトリウ
ム３３．６ｇ（０．４２モル）を加え、６５℃で３時間
反応させた。この溶液に鉄粉５．９ｇ（０．１１モル）
及び硫黄末６．７ｇ（０．２１モル）を添加し、９０〜
９５℃で６時間反応させた。
ジクロロベンゼン５９．２ｇ（０．２モル）にＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド１８３ｇ、７０％水硫化ナトリウ
ム３３．６ｇ（０．４２モル）を加え、６５℃で３時間
反応させた。この溶液に鉄粉５．９ｇ（０．１１モル）
及び硫黄末６．７ｇ（０．２１モル）を添加し、９０〜
９５℃で６時間反応させた。
【００５５】得られた反応液に室温でメタノール１０８
０ｇを加えた後、２８％ナトリウムメチラート溶液７
７．２ｇ（ナトリウムメチラートとして０．２１モル）
を添加して１時間攪拌し、塩化ニッケル（II）６水和物
２２．９ｇ（０．１モル）を添加して、さらに室温で３
時間反応させた。ついで、この反応液にテトラブチルア
ンモニウムブロマイド３２．２ｇ（０．１モル）を添加
し、室温で空気を吹き込みながら２時間反応させた。
０ｇを加えた後、２８％ナトリウムメチラート溶液７
７．２ｇ（ナトリウムメチラートとして０．２１モル）
を添加して１時間攪拌し、塩化ニッケル（II）６水和物
２２．９ｇ（０．１モル）を添加して、さらに室温で３
時間反応させた。ついで、この反応液にテトラブチルア
ンモニウムブロマイド３２．２ｇ（０．１モル）を添加
し、室温で空気を吹き込みながら２時間反応させた。
【００５６】かくして得られた反応液を濃縮し、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィにより精製を行い、目的と
する緑色の置換スルホニルベンゼンジチオールニッケル
錯体Ｄ１（下記の表１を参照）を３６．３ｇ得た。この
錯体の近赤外線領域での最大吸収波長（λｍａｘ）を分
光光度計で測定したところ８５８ｎｍであり、また、モ
ル吸光係数を分光光度計で測定したところ１５５００で
あった。
ゲルカラムクロマトグラフィにより精製を行い、目的と
する緑色の置換スルホニルベンゼンジチオールニッケル
錯体Ｄ１（下記の表１を参照）を３６．３ｇ得た。この
錯体の近赤外線領域での最大吸収波長（λｍａｘ）を分
光光度計で測定したところ８５８ｎｍであり、また、モ
ル吸光係数を分光光度計で測定したところ１５５００で
あった。
【００５７】さらに、同様にして各種の置換スルホニル
ベンゼンジチオールニッケル錯体Ｄ２〜Ｄ７を合成し
た。各ニッケル錯体の構造式を、上記ニッケル錯体Ｄ１
と併せて表１に示している。
ベンゼンジチオールニッケル錯体Ｄ２〜Ｄ７を合成し
た。各ニッケル錯体の構造式を、上記ニッケル錯体Ｄ１
と併せて表１に示している。
【００５８】
【表１】
【００５９】
【実施例２】エチルセロソルブ１００重量部に対して、
実施例１で得た置換スルホニルベンゼンジチオールニッ
ケル錯体Ｄ１の１重量部を溶解した。得られた近赤外線
吸収色素溶液をポリエステルフィルム上にメイヤーバー
で塗布し、常温で乾燥し、膜厚１０μmの近赤外線吸収
フィルムを得た。この近赤外線吸収フィルムの８３０ｎ
ｍでの透過率を分光光度計によって測定したところ、１
５．２％であった。同様に、太陽光で１ヶ月暴露した後
の透過率を測定したところ、１７．５％であった。
実施例１で得た置換スルホニルベンゼンジチオールニッ
ケル錯体Ｄ１の１重量部を溶解した。得られた近赤外線
吸収色素溶液をポリエステルフィルム上にメイヤーバー
で塗布し、常温で乾燥し、膜厚１０μmの近赤外線吸収
フィルムを得た。この近赤外線吸収フィルムの８３０ｎ
ｍでの透過率を分光光度計によって測定したところ、１
５．２％であった。同様に、太陽光で１ヶ月暴露した後
の透過率を測定したところ、１７．５％であった。
【００６０】
【実施例３】メチルエチルケトン１００重量部に対し
て、表１に示した置換スルホニルベンゼンジチオールニ
ッケル錯体Ｄ２の１重量部を溶解した。この近赤外線吸
収色素溶液をガラス基板上にスピンコート法で厚さ２０
０ｎｍに塗布し、常温で乾燥し近赤外線吸収板を得た。
この近赤外線吸収板の８３０ｎｍでの透過率は１２．５
％であり、太陽光で１ヶ月暴露した後の透過率は１４．
２％であった。
て、表１に示した置換スルホニルベンゼンジチオールニ
ッケル錯体Ｄ２の１重量部を溶解した。この近赤外線吸
収色素溶液をガラス基板上にスピンコート法で厚さ２０
０ｎｍに塗布し、常温で乾燥し近赤外線吸収板を得た。
この近赤外線吸収板の８３０ｎｍでの透過率は１２．５
％であり、太陽光で１ヶ月暴露した後の透過率は１４．
２％であった。
【００６１】
【実施例４】エチルセロソルブ１００重量部に対して、
表１に示した置換スルホニルベンゼンジチオールニッケ
ル錯体Ｄ３の１重量部を溶解した。この近赤外線吸収色
素溶液をポリカーボネート基板上にスピンコート法で厚
さ２００ｎｍに塗布し、常温で乾燥し近赤外線吸収板を
得た。この近赤外線吸収板の８３０ｎｍでの透過率は１
３．７％であり、太陽光で１ヶ月暴露した後の透過率は
１６．１％であった。
表１に示した置換スルホニルベンゼンジチオールニッケ
ル錯体Ｄ３の１重量部を溶解した。この近赤外線吸収色
素溶液をポリカーボネート基板上にスピンコート法で厚
さ２００ｎｍに塗布し、常温で乾燥し近赤外線吸収板を
得た。この近赤外線吸収板の８３０ｎｍでの透過率は１
３．７％であり、太陽光で１ヶ月暴露した後の透過率は
１６．１％であった。
【００６２】
【比較例１】メチルエチルケトン１００重量部に対し
て、下記式（II）
て、下記式（II）
【化３】 で表されるテトラハロゲノベンゼンジチオールニッケル
錯体１重量部を溶解した。この溶液をガラス基板上にス
ピンコート法で厚さ２００ｎｍに塗布し、常温で乾燥さ
せたところ、一部不透明な部分のある近赤外線吸収記録
体となった。不透明の原因は、上記式（II）で表される
近赤外線吸収色素が十分に溶解せずに不溶物として残存
していたためであると思われる。
錯体１重量部を溶解した。この溶液をガラス基板上にス
ピンコート法で厚さ２００ｎｍに塗布し、常温で乾燥さ
せたところ、一部不透明な部分のある近赤外線吸収記録
体となった。不透明の原因は、上記式（II）で表される
近赤外線吸収色素が十分に溶解せずに不溶物として残存
していたためであると思われる。
【００６３】
【実施例５】色素として表１に示した置換スルホニルベ
ンゼンジチオールニッケル錯体Ｄ４の０．１重量部をス
チレン１００重量部に対して溶解し、重合開始剤として
２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリ
ル）０．２重量部を添加し、混合溶液とした。この溶液
をガラス製のモールドに注入し、４０℃で３時間加熱し
た後、５時間かけて１００℃まで昇温し、最後に１００
℃で２時間加熱し硬化させた。冷却後、ガラス板を剥離
させて厚さ３ｍｍの透明な近赤外線吸収板を得た。この
近赤外線吸収板の８３０ｎｍでの透過率は１１．０％で
あり、太陽光で１ヶ月暴露した後の透過率は１５．２％
であった。
ンゼンジチオールニッケル錯体Ｄ４の０．１重量部をス
チレン１００重量部に対して溶解し、重合開始剤として
２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリ
ル）０．２重量部を添加し、混合溶液とした。この溶液
をガラス製のモールドに注入し、４０℃で３時間加熱し
た後、５時間かけて１００℃まで昇温し、最後に１００
℃で２時間加熱し硬化させた。冷却後、ガラス板を剥離
させて厚さ３ｍｍの透明な近赤外線吸収板を得た。この
近赤外線吸収板の８３０ｎｍでの透過率は１１．０％で
あり、太陽光で１ヶ月暴露した後の透過率は１５．２％
であった。
【００６４】
【実施例６】近赤外線吸収色素として表１に示した置換
スルホニルベンゼンジチオールニッケル錯体Ｄ５の０．
１重量部をメタクリル酸メチル１００重量部に対して溶
解し、重合開始剤として２，２’−アゾビス（２，４−
ジメチルバレロニトリル）０．２重量部を添加し、混合
溶液とした。この溶液をガラス製のモールドに注入し、
４０℃で３時間加熱した後、５時間かけて１００℃まで
昇温し、最後に１００℃で２時間加熱し硬化させた。冷
却後、ガラス板を剥離させて厚さ３ｍｍの透明な近赤外
線吸収板を得た。この近赤外線吸収板の８３０ｎｍでの
透過率は１２．４％であり、太陽光で１ヶ月暴露した後
の透過率は１４．１％であった。
スルホニルベンゼンジチオールニッケル錯体Ｄ５の０．
１重量部をメタクリル酸メチル１００重量部に対して溶
解し、重合開始剤として２，２’−アゾビス（２，４−
ジメチルバレロニトリル）０．２重量部を添加し、混合
溶液とした。この溶液をガラス製のモールドに注入し、
４０℃で３時間加熱した後、５時間かけて１００℃まで
昇温し、最後に１００℃で２時間加熱し硬化させた。冷
却後、ガラス板を剥離させて厚さ３ｍｍの透明な近赤外
線吸収板を得た。この近赤外線吸収板の８３０ｎｍでの
透過率は１２．４％であり、太陽光で１ヶ月暴露した後
の透過率は１４．１％であった。
【００６５】
【比較例２】近赤外線吸収色素として下記式（III）
【化４】 で表されるフタロシアニン色素０．１重量部をメタクリ
ル酸メチル１００重量部に溶解し、ラジカル重合開始剤
として２，２’−アゾビス（２−イソブチロニトリル）
０．５重量部を添加し、混合溶液とした。この溶液をガ
ラス製のモールドに注入し、４０℃で３時間加熱した
後、５時間かけて１００℃まで昇温し、最後に１００℃
で２時間加熱し硬化させた。冷却後、ガラス板を剥離さ
せて厚さ３ｍｍの近赤外線吸収板を得た。この近赤外線
吸収板には析出物がみられ、不透明な部分があった。こ
の不透明の原因はフタロシアニン色素が完全に溶解しな
かったためであると思われる。
ル酸メチル１００重量部に溶解し、ラジカル重合開始剤
として２，２’−アゾビス（２−イソブチロニトリル）
０．５重量部を添加し、混合溶液とした。この溶液をガ
ラス製のモールドに注入し、４０℃で３時間加熱した
後、５時間かけて１００℃まで昇温し、最後に１００℃
で２時間加熱し硬化させた。冷却後、ガラス板を剥離さ
せて厚さ３ｍｍの近赤外線吸収板を得た。この近赤外線
吸収板には析出物がみられ、不透明な部分があった。こ
の不透明の原因はフタロシアニン色素が完全に溶解しな
かったためであると思われる。
【００６６】
【実施例７】ポリメチルメタクリレートのペレット１０
００重量部と表１に示した置換スルホニルベンゼンジチ
オールニッケル錯体Ｄ６の１重量部とを混合して、２５
０℃に加熱、溶融させ、押出機で厚さ１ｍｍの近赤外線
吸収フィルムを作成した。この近赤外線吸収フィルムの
８３０ｎｍの透過率は１３．１％であり、太陽光で1ヶ
月暴露した後の透過率は１８．３％であった。
００重量部と表１に示した置換スルホニルベンゼンジチ
オールニッケル錯体Ｄ６の１重量部とを混合して、２５
０℃に加熱、溶融させ、押出機で厚さ１ｍｍの近赤外線
吸収フィルムを作成した。この近赤外線吸収フィルムの
８３０ｎｍの透過率は１３．１％であり、太陽光で1ヶ
月暴露した後の透過率は１８．３％であった。
【００６７】
【実施例８】ポリメチルメタクリレートのペレット１０
００重量部と表１の置換スルホニルベンゼンジチオール
ニッケル錯体Ｄ７の１重量部とを混合して、２５０℃に
加熱、溶融させ、押出機で厚さ１ｍｍの近赤外線吸収フ
ィルムを作成した。この近赤外線吸収フィルムの８３０
ｎｍでの透過率は１５．２％であり、太陽光で1ヶ月暴
露した後の透過率は１９．２％であった。
００重量部と表１の置換スルホニルベンゼンジチオール
ニッケル錯体Ｄ７の１重量部とを混合して、２５０℃に
加熱、溶融させ、押出機で厚さ１ｍｍの近赤外線吸収フ
ィルムを作成した。この近赤外線吸収フィルムの８３０
ｎｍでの透過率は１５．２％であり、太陽光で1ヶ月暴
露した後の透過率は１９．２％であった。
【００６８】
【比較例３】ポリメチルメタクリレートのペレット１０
００重量部と下記式（IV）
００重量部と下記式（IV）
【化５】 で表されるビスジチオベンジルニッケル色素１重量部と
を混合して、２５０℃に加熱、溶融させ、押し出し機で
厚さ１ｍｍの近赤外線吸収フィルムを作成した。この近
赤外線吸収フィルムは不透明であった。この不透明の原
因は、上記色素がポリマに均一に溶解しなかったためで
あると思われる。
を混合して、２５０℃に加熱、溶融させ、押し出し機で
厚さ１ｍｍの近赤外線吸収フィルムを作成した。この近
赤外線吸収フィルムは不透明であった。この不透明の原
因は、上記色素がポリマに均一に溶解しなかったためで
あると思われる。
【００６９】
【発明の効果】以上述べたように、本発明において用い
られる置換スルホニルベンゼンジチオールニッケル錯体
は、溶媒及びモノマに対する溶解性が大であり、樹脂と
の相溶性にも優れているため、この錯体を近赤外線吸収
色素として含む近赤外線吸収材は、均一で近赤外線吸収
能に優れるとともに、高い耐久性を示す。したがって、
本発明の近赤外線吸収材は、光学機器、電子機器、情報
記録機器、農業用或いは建築用等に好適に用いられる。
られる置換スルホニルベンゼンジチオールニッケル錯体
は、溶媒及びモノマに対する溶解性が大であり、樹脂と
の相溶性にも優れているため、この錯体を近赤外線吸収
色素として含む近赤外線吸収材は、均一で近赤外線吸収
能に優れるとともに、高い耐久性を示す。したがって、
本発明の近赤外線吸収材は、光学機器、電子機器、情報
記録機器、農業用或いは建築用等に好適に用いられる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｋ 3/00 １０５ Ｃ０９Ｋ 3/00 １０５ Ｇ０２Ｂ 5/22 Ｇ０２Ｂ 5/22 // Ｃ０７Ｆ 15/04 Ｃ０７Ｆ 15/04 (72)発明者 木村 聡 兵庫県加古郡播磨町宮西346番地の１ 住 友精化株式会社精密化学品研究所内 Ｆターム(参考） 2B024 DA04 DB01 2B029 EA01 EB02 EC01 EC09 EC14 2H048 CA04 CA12 CA17 CA18 4H006 AA02 AB92 AB99 TA02 TA04 TB04 TB81 4H050 AA03 AB92 WB15 WB21
Claims (4)
- 【請求項１】 下記一般式（I） 【化１】 （式中、Rはジアルキルアミノ基、置換或いは無置換モ
ルホリノ基、置換或いは無置換ピペリジノ基、置換或い
は無置換ピロリジノ基、置換或いは無置換チオモルホリ
ノ基、置換或いは無置換ピペラジノ基、アリール基又は
アルキル基を示す。Ａ+はアンモニウムカチオン又はホ
スホニウムカチオンを示す。）で表される置換スルホニ
ルベンゼンジチオールニッケル錯体を含む近赤外線吸収
色素。 - 【請求項２】 請求項１に記載の置換スルホニルベンゼ
ンジチオールニッケル錯体を少なくとも含む組成物を基
板上に層状に塗布形成して得られる、近赤外線吸収材。 - 【請求項３】 請求項１に記載の置換スルホニルベンゼ
ンジチオールニッケル錯体とモノマとを少なくとも含む
組成物を上記モノマの重合により硬化して得られる、近
赤外線吸収材。 - 【請求項４】 請求項１に記載の置換スルホニルベンゼ
ンジチオールニッケル錯体と樹脂とを混練して得られる
樹脂組成物を所定形状に成形して得られる、近赤外線吸
収材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000101680A JP2001288380A (ja) | 2000-04-04 | 2000-04-04 | 近赤外線吸収色素及びこれを用いた近赤外線吸収材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000101680A JP2001288380A (ja) | 2000-04-04 | 2000-04-04 | 近赤外線吸収色素及びこれを用いた近赤外線吸収材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001288380A true JP2001288380A (ja) | 2001-10-16 |
Family
ID=18615678
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000101680A Pending JP2001288380A (ja) | 2000-04-04 | 2000-04-04 | 近赤外線吸収色素及びこれを用いた近赤外線吸収材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001288380A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007018065A1 (ja) * | 2005-08-10 | 2007-02-15 | Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. | 近赤外線吸収材料およびその用途 |
| JP2010018735A (ja) * | 2008-07-11 | 2010-01-28 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | 近赤外線吸収部材用組成物およびそれを用いた近赤外線吸収部材。 |
| WO2011114792A1 (ja) * | 2010-03-17 | 2011-09-22 | 住友精化株式会社 | 置換ベンゼンジチオール金属錯体の微粒子を含有する光吸収分散液、ならびにこれを用いた光吸収部材用組成物および光吸収部材 |
| CN110494531A (zh) * | 2016-12-21 | 2019-11-22 | 国立大学法人九州大学 | 发光材料、化合物及有机发光元件 |
-
2000
- 2000-04-04 JP JP2000101680A patent/JP2001288380A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007018065A1 (ja) * | 2005-08-10 | 2007-02-15 | Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. | 近赤外線吸収材料およびその用途 |
| JP2010018735A (ja) * | 2008-07-11 | 2010-01-28 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | 近赤外線吸収部材用組成物およびそれを用いた近赤外線吸収部材。 |
| WO2011114792A1 (ja) * | 2010-03-17 | 2011-09-22 | 住友精化株式会社 | 置換ベンゼンジチオール金属錯体の微粒子を含有する光吸収分散液、ならびにこれを用いた光吸収部材用組成物および光吸収部材 |
| CN110494531A (zh) * | 2016-12-21 | 2019-11-22 | 国立大学法人九州大学 | 发光材料、化合物及有机发光元件 |
| CN110494531B (zh) * | 2016-12-21 | 2023-05-12 | 国立大学法人九州大学 | 发光材料、化合物及有机发光元件 |
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