JP2001283805A - 電池パックおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
減化を実現することができる電池パックを提供する。 【解決手段】 容器2と、この容器2に内装された電池
と、この電池に接続された回路基板3とを備え、容器2
の表面には、開口6が形成されており、回路基板3は、
その表面に薄膜状の端子部12が開口6から外部に臨む
ようにして形成された。
Description
電話機やノート型パソコン等の携帯用電子機器に着脱可
能な電池パック、およびその製造方法に関する。
ト型パソコン等では、リチウムイオン電池やマンガン電
池等のバッテリ用電池を内蔵した電池パックが用意さ
れ、この電池パックが、携帯型電話機等の本体に対して
着脱自在にされた構成とされている。上記電池パックを
用いれば、商用電源等から電源電圧を供給することな
く、一定時間、上記携帯型電話機等を使用することがで
きる。
示す斜視図であり、図12は、この電池パックに内装さ
れる回路基板の斜視図である。この電池パック1は、樹
脂製の容器2と、図示しないバッテリ電池と接続される
回路基板3とを備えて構成されている。回路基板3は、
バッテリ電池における過充電および過放電を防止するた
めの保護回路(図示せず)を含んでいる。
表面に基板実装型の端子台4が実装されるとともに、バ
ッテリ電池と接続するための接続端子7が設けられてい
る。端子台4は、その上面に複数の接触端子部5を備え
ており、回路基板3は、この接触端子部5が、容器2の
表面に形成された開口6を介して外部に露出するよう
に、容器2の内側に沿って支持されている。そして、回
路基板3は、この端子台4の接触端子部5が、たとえば
携帯型電話機の本体(図示せず)に設けられたコネクタ
ピン(図示せず)に接触することにより本体と電気的に
接続可能とされている。すなわち、回路基板3は、端子
台4の各接触端子部5を通じて上記本体への電力の供給
およびバッテリ電池への充電を行っている。
型電話機においては、軽量化および薄型化の要請がある
一方、部品コストおよび製造コストの低減化が望まれて
おり、これらの課題は、携帯型電話機に着脱される電池
パックにおいても同様である。しかしながら、上記電池
パック1における回路基板3の端子台4は、一般に高価
であり、装置全体の部品コストに影響を及ぼす。また、
端子台4は、回路基板3に対する実装高さが比較的高い
ため、電池パックの大きさに影響し、このことは軽量化
および薄型化の要請に反するものであった。
出されたものであって、軽量化および薄型化を図りつ
つ、コストの低減化を実現することのできる電池パッ
ク、およびその製造方法を提供することを、その課題と
する。
は、次の技術的手段を講じている。
よれば、容器と、この容器に内装された電池と、この電
池に接続された回路基板とを備え、容器の表面には、開
口が形成されており、回路基板は、その表面に薄膜状の
端子部が開口から外部に臨むようにして形成されたこと
を特徴とする。具体的には、端子部は、回路基板上に形
成されたベース層と、そのベース層上に形成されためっ
き層とによって構成され、めっき層は金からなるもので
ある。
の本体との接続部であって、電池パックに備えられる回
路基板の端子部は、回路基板上で薄膜状に形成される。
そのため、従来のように端子台といった電子部品を用い
ていた構成に比べ、回路基板上における部品の実装高さ
を大幅に低くすることができるとともに、部品コストの
低減化を図ることができる。したがって、これに伴い電
池パックの厚みを薄くでき、ひいては携帯型電話機の薄
型化、小型化および軽量化に寄与することができる。ま
た、端子部において最上層となるめっき層は金からなる
ので、端子部の防食性および装飾性を高めることができ
る。
回路基板には、端子部が形成される領域以外の領域に絶
縁層が形成され、絶縁層は、回路基板の表面および/ま
たはベース層の表面が外部に露出しないように、めっき
層の周縁を覆うように形成されている。
における熱の影響で絶縁層の材質が収縮し、端子部の形
成領域以外の領域に形成される絶縁層とベース層との間
等に隙間が生じる場合があった。そのため、その隙間に
よってベース層や回路基板の表面が外部に露出している
と、上記隙間に水分等が侵入した場合、めっき層を劣化
させることがある。しかし、上記のように、最上層であ
るめっき層の周縁を絶縁層が十分に覆うように形成され
れば、絶縁層が多少収縮しても上記隙間が生じることを
防止することができる。そのため、回路基板の表面およ
び/またはベース層の表面が外部に露出することがなく
なるので、水分等の侵入を防止でき、めっき層の表面劣
化を抑制することができる。したがって、信頼性の高い
電池パックを提供することができる。
製造方法によれば、容器と、この容器に内装される電池
と、この電池に接続される回路基板とを備える電池パッ
クの製造方法であって、回路基板の製造には、回路基板
の表面に、銅からなるベース層および金からなるめっき
層を順次積層して端子部を形成する端子部形成工程を含
むことを特徴とする。
れば、本願発明の第1の側面に係る電池パックの回路基
板を容易に実現することができ、本願の第1の側面に係
る電池パックにおける作用効果と同様の効果を奏するこ
とができる。
回路基板の製造には、端子部形成工程の後に、端子部が
形成される領域以外の領域に絶縁層を形成する絶縁層形
成工程を含み、絶縁層形成工程では、回路基板の表面お
よび/またはベース層の表面が外部に露出しないよう
に、絶縁層を、めっき層の周縁を覆うように形成する。
この発明によれば、端子部形成工程においてベース層お
よびめっき層を形成した後で、絶縁層形成工程において
絶縁層を形成するので、めっき層の周縁を覆うように絶
縁層を容易に形成することができ、本願の第1の側面に
係る電池パックにおける作用効果と同様の効果を奏する
ことができる。
付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より
明らかとなろう。
形態を、添付図面を参照して具体的に説明する。
である。なお、以下の説明では、従来の説明の欄で説明
した電池パックの斜視図である図11を再び参照し、図
11と同符号を示す部品については同機能を示すものと
する。
機の本体(図示せず)に対して着脱自在とされ、樹脂製
の容器2と、容器2内に組み込まれ、たとえばリチウム
イオン電池からなる図示しないバッテリ電池と、それに
接続される回路基板11とを備えている。回路基板11
は、バッテリ電池からの電力を携帯型電話機等の本体側
に供給する機能を有している。また、上記本体はバッテ
リ電池を充電することができ、回路基板11は、上記本
体からの充電用電力をバッテリ電池に与える機能を有
し、これに伴い、回路基板11は、過放電、過充電を防
止する保護回路を有している。
形成され、図11に示すように、その背面に開口6が形
成されている。この開口6からは、回路基板11の表面
に形成される端子部12(後述)が外部に臨むようにさ
れ、この端子部12が携帯型電話機の本体側のコネクタ
ピン等に接触することにより、電池パック1が上記本体
に電気的に接続される。
樹脂からなる矩形状とされたリジッド型のプリント配線
基板であり、容器2内においてバッテリ電池との接触を
回避するように、すなわち、容器2の長手方向一端面2
aの近傍に配されている。回路基板11は、その表面に
銅箔等からなる配線パターン(図示せず)が形成され、
配線パターンの所定箇所においてICや抵抗等の電子部
品が実装されている。また、回路基板11には、容器2
内のバッテリ電池等に接続される接続端子7が設けられ
ている。
膜状に形成され、この端子部12は、図2に示すよう
に、回路基板11上に形成され銅からなるベース層14
と、ベース層14の上面にめっき等により形成され、ニ
ッケルからなる第1めっき層15と、第1めっき層15
の上面に最上層となるようめっき等により形成され、金
からなる第2めっき層16とによって構成されている。
なお、図2には示していないが、ベース層14には、配
線パターンが接続されている。また、各層14,15,
16の厚みは、ベース層14が約35μm、第1めっき
層15が約4μm以上、第2めっき層16が約1.5μ
m以上とされる。
が用いられれば、銅からなるベース層14と金からなる
第2めっき層16との接合強度を高めることができる。
また、端子部12において最上層となる第2めっき層に
金が用いられれば、端子部12の防食性および装飾性を
高めることができる。
14が形成される領域以外の領域に、グリーンレジスト
と呼称され、回路基板11の表面や配線パターンを保護
するための絶縁層17が形成されている。絶縁層17
は、エポキシ樹脂等からなり電気絶縁性を有しており、
その厚みは、約7μmとされる。
4、第1めっき層15、および第2めっき層16が積層
されてなり、回路基板11上で薄膜状に形成されるの
で、従来のように端子台といった電子部品を用いていた
構成に比べ、部品コストの低減化を図ることができると
ともに、回路基板11上における部品の実装高さを大幅
に低くすることができる。そのため、これに伴い電池パ
ック1の厚みを薄くでき、ひいては携帯型電話機の薄型
化、小型化および軽量化に寄与することができる。
される場合、回路基板11において従来の端子台に代え
て薄膜状の端子部12が用いられれば、従来に比べ、回
路基板11における実装高さが極端に低くなる。そのた
め、端子部12と、たとえば本体のコネクタピンとの接
触抵抗を維持するために、回路基板11が容器2に対し
て適当な位置関係で備えられることが望ましい。
上に薄膜状の端子部12を形成した場合、その製造方法
によっては以下のような不具合が生じることがある。す
なわち、上記端子部12を形成するときには、公知のフ
ォトリソグラフィー法を用い、ベース層14が形成され
る。次いで、回路基板11の表面の、端子部12が形成
される以外の領域に、エポキシ樹脂等からなる絶縁層1
7がこの場合も公知のフォトリソグラフィー法を用いて
形成される。詳細には、絶縁層17の端部17aは、図
2に示すように、ベース層14の周縁14aに載り上が
るようにして形成される。その後、ベース層14上にニ
ッケルによるめっきを施して第1めっき層15が形成さ
れ、第1めっき層15上に金によるめっきを施して第2
めっき層16が形成される。
6を形成するときの熱によって、図3に示すように、絶
縁層17を形成するエポキシ樹脂等が収縮し、絶縁層1
7の端部17aとニッケルからなる第1めっき層15と
の間に隙間Dが生じ、ベース層14の表面の一部が外部
に露出することがある。そして、このような隙間Dに、
たとえば水分や硫化水素あるいは亜硫酸ガス等が侵入す
ると、第1めっき層15の表面に不純物の結晶が生じ、
金からなる第2めっき層16の表面を劣化させるおそれ
がある。
層14が形成された後、絶縁層17がベース層14の周
囲に形成され、その後、第1および第2めっき層15,
16が形成される場合、絶縁層17の、ベース層14寄
りの端部17aの上部を覆うように第2めっき層16の
端部16aが形成されることもある。この場合、絶縁層
17が上記と同様に収縮すると、図5に示すように、絶
縁層17とベース層14との間に隙間Dが生じ、ベース
層14の表面および回路基板11の表面が外部に露出す
ることがある。
は、図5に示すように、複数のガラス繊維11aが縦横
に交差し、その交差したガラス繊維11aの隙間に樹脂
成分(図示せず)が含有された構成である。しかし、上
記ガラス繊維11aの編み具合等の影響によって、回路
基板11の表面が外部に露出されると、水分が回路基板
11に含浸することがある。その場合、ベース層14を
構成する銅等がイオン化し、その銅イオン(図5におけ
る三角印参照)が回路基板11内を進行し、露出された
隙間Dの領域からベース層14上を伝い、第2めっき層
16上に銅化合物として析出される場合があり、これが
第2めっき層16の表面を劣化させる原因となることが
ある。
法として、以下に示す構成を採用している。すなわち、
回路基板11には、端子部12が形成される領域以外の
領域に絶縁層17が形成されるが、その絶縁層17は、
その端部17aが図6に示すように、上記ベース層14
の表面が外部に露出しないように、第2めっき層16の
周縁16aを覆うように形成される。このように、絶縁
層17が第2めっき層16の周縁を十分に覆うように形
成されれば、たとえ絶縁層17が熱等によって収縮した
としても、隙間Dが生じることがなく、ベース層14の
表面は、絶縁層17によって外部に露出することがなく
なる。そのため、水分や硫化水素あるいは亜硫酸ガス等
の侵入を防止でき、第2めっき層16の表面劣化を抑制
することができる。
16上に銅化合物が析出していた場合でも、絶縁層17
が、第2めっき層16の周縁16aを覆うように形成さ
れれば、隙間Dが生じなくなるので、回路基板11の表
面およびベース層14の表面が外部に露出することはな
い。そのため、水分等の侵入を防止できるので、上記と
同様に、第2めっき層16の表面の劣化を防止すること
ができる。
5および第2めっき層16が、ベース層14の周縁14
aを覆うように形成され、絶縁層17の端部17aが、
それらを覆うように形成された構成とされてもよい。こ
の構成によれば、ベース層14および第1めっき層15
の周縁部では、第1めっき層16および絶縁層17によ
って二重に覆われた構成となるので、ベース層14およ
び第1めっき層15が外部に露出する可能性がより少な
くなるので、水分等の侵入をより確実に防止できるとい
った利点がある。
て説明する。回路基板11は、図8に示すように、長尺
状の集合基板21を用いて製作される。すなわち、集合
基板21は、一般的なリジッド型の原板によって構成さ
れ、集合基板21の表面に対して、上記した回路基板1
1に相当する領域22(図8における一点破線内)に、
上記公知のフォトリソグラフィー法により配線パターン
が形成される。
対してレジスト材料を塗布し、所定のパターンが形成さ
れたマスクを用いて露光、現像した後、エッチングによ
って銅箔の不要部分を除去する。これにより、回路基板
11に相当する領域22に、配線パターンおよびベース
層14が形成される。次いで、ベース層14上にニッケ
ル等のめっきを施して第1めっき層15を形成する。そ
の後、第1めっき層15上に金等のめっきを施して第2
めっき層16を形成する。
の表面の、端子部12が形成される以外の領域に、この
場合も公知のフォトリソグラフィー法を用いて絶縁層1
7を形成する。絶縁層17は、上記回路基板11の表面
およびベース層14の表面が外部に露出しないように、
上記端子部12の第2めっき層16の周縁16aを覆う
ように形成する(図6参照)。次いで、半田リフロー処
理によって、配線パターンの所定位置にICや抵抗等の
電子部品が実装される。
に、所定の金型によって上述した領域22に沿って打ち
抜き加工し、回路基板11に相当する複数の基板品23
を形成する。そして、連設部24を切断した後、接続端
子7を接続することにより、図1に示す回路基板11が
得られる。このようにして製作された回路基板11は、
たとえば、図10に示すように、電池パック1に組み込
まれる。
池パック1は、たとえば携帯型電話機本体Pの背面側の
所定位置に装着される。この場合、携帯型電話機の本体
Pには、電池パック1の端子部12に対向する位置に、
コネクタ25が設けられている。コネクタ25には、複
数のコネクタピン26が設けられており、電池パック1
が携帯型電話機の本体Pに取り付けられた状態では、端
子部12がコネクタピン26に接触することにより、電
池パック1と本体とが電気的に接続される。
の形態に限定されるものではない。たとえば、上記実施
形態において説明した回路基板11の端子部12の積層
構造は、上記実施形態に示した構成に限るものではな
い。また、回路基板11は、上述した電池パック1に組
み込まれて適用されることに限定されず、カメラやビデ
オ等の小型電子機器等に適用されるようにしてもよい。
また、上記実施形態における端子部12の端子数は、上
記した数に限るものではない。
板の斜視図である。
る。
る。
斜視図である。
視図である。
Claims (5)
- 【請求項1】 容器と、この容器に内装された電池と、
この電池に接続された回路基板とを備え、 上記容器の表面には、開口が形成されており、 上記回路基板は、その表面に薄膜状の端子部が上記開口
から外部に臨むようにして形成されたことを特徴とす
る、電池パック。 - 【請求項2】 上記端子部は、上記回路基板上に形成さ
れたベース層と、そのベース層上に形成されためっき層
とによって構成され、 上記めっき層は、金からなる、請求項1に記載の電池パ
ック。 - 【請求項3】 上記回路基板には、上記端子部が形成さ
れる領域以外の領域に絶縁層が形成され、 上記絶縁層は、上記回路基板の表面および/または上記
ベース層の表面が外部に露出しないように、上記めっき
層の周縁を覆うように形成された、請求項1または2に
記載の電池パック。 - 【請求項4】 容器と、この容器に内装される電池と、
この電池に接続される回路基板とを備える電池パックの
製造方法であって、 上記回路基板の製造には、上記回路基板の表面に、銅か
らなるベース層および金からなるめっき層を順次積層し
て端子部を形成する端子部形成工程を含むことを特徴と
する電池パックの製造方法。 - 【請求項5】 上記回路基板の製造には、上記端子部形
成工程の後に、上記端子部が形成される領域以外の領域
に絶縁層を形成する絶縁層形成工程を含み、 上記絶縁層形成工程では、上記回路基板の表面および/
または上記ベース層の表面が外部に露出しないように、
上記絶縁層を、上記めっき層の周縁を覆うように形成す
る、請求項4に記載の電池パックの製造方法。
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Publications (2)
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