JP2001281871A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物Info
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Abstract
を提供する。 【解決手段】 特定のハロシランに、非プロトン性溶媒
中でLi塩および金属ハロゲン化物の共存下にMgまた
はMg合金を作用させることにより得られる感光性樹脂
組成物であって、(a)一般式 【化1】 [式中、Rは、水素原子、水酸基、アルキル基、アルケ
ニル基、アリールアルキル基、アリール基、アルコキシ
ル基またはシリル基を示す。Rは、全てが同一でも或い
は2つ以上が異なっていてもよい。x、y、zは、それ
ぞれ0以上の数を示し、x、yおよびzの和は5〜40
0であり、かつ(y+z)/(x+y+z)が0.15
以下である。]で表されるポリシラン100重量部、お
よび(b)一般式 【化2】 [式中、Rは、水素原子、水酸基、アルキル基、アルケ
ニル基、アリールアルキル基、アリール基、アルコキシ
ル基またはシリル基を示す。Rは、全てが同一でも或い
は2つ以上が異なっていてもよい。nは4〜20であ
る。]で表される環状シラン化合物10〜200重量部
を含有してなる感光性樹脂組成物。
Description
物、その製造方法、感光性塗料および感光性塗膜に関す
る。
はない種々の機能を有していることから、半導体分野の
フォトレジスト、光分解・硬化性樹脂、CD−Rなどの
光記録材料、液晶ディスプレイのカラーフィルタなどへ
の応用が検討されている。しかしながら、これらの用途
において必要とされる露光感度を有するケイ素系感光性
樹脂組成物は得られておらず、露光感度の向上したケイ
素系感光性樹脂組成物が求められている。
感度の優れたケイ素系感光性樹脂組成物、該組成物を高
収率で得る製造方法、感光性塗料および感光性塗膜を提
供することにある。
重ねた結果、ポリシランに特定のシラン化合物を混合す
ることにより、上記目的を達成できることを見出し、本
発明を完成するに至った。
脂組成物、その製造方法、感光性塗料および感光性塗膜
を提供するものである。 項1. 一般式 R2SiX2 (3) [式中、Rは、同一または異なって、水素原子、水酸
基、アルキル基、アルケニル基、アリールアルキル基、
アリール基、アルコキシル基またはシリル基を示す。X
は、ハロゲン原子を示す。]で表されるジハロシラン、
ならびに、必要に応じて一般式 RSiX3 (4) [式中、RおよびXは、前記と同様である。]で表され
るトリハロシランおよび/または一般式 SiX4
(5) [式中、Xは、前記と同様である。]で表されるテトラ
ハロシランに、非プロトン性溶媒中でLi塩および金属
ハロゲン化物の共存下にMgまたはMg合金を作用させ
ることにより得られる感光性樹脂組成物であって、
(a)一般式
ル基、アルケニル基、アリールアルキル基、アリール
基、アルコキシル基またはシリル基を示す。Rは、全て
が同一でも或いは2つ以上が異なっていてもよい。x、
y、zは、それぞれ0以上の数を示し、x、yおよびz
の和は5〜400であり、かつ(y+z)/(x+y+
z)が0.15以下である。]で表されるポリシラン1
00重量部、および(b)一般式
ル基、アルケニル基、アリールアルキル基、アリール
基、アルコキシル基またはシリル基を示す。Rは、全て
が同一でも或いは2つ以上が異なっていてもよい。nは
4〜20である。]で表される環状シラン化合物10〜
200重量部を含有してなる感光性樹脂組成物。項2.
さらに溶媒を含有してなる項1に記載の感光性樹脂組
成物。項3. 項1に記載の感光性樹脂組成物の製造方
法であって、 一般式 R2SiX2 (3) [式中、Rは、同一または異なって、水素原子、水酸
基、アルキル基、アルケニル基、アリールアルキル基、
アリール基、アルコキシル基またはシリル基を示す。X
は、ハロゲン原子を示す。]で表されるジハロシラン、
ならびに、必要に応じて一般式 RSiX3 (4) [式中、RおよびXは、前記と同様である。]で表され
るトリハロシランおよび/または一般式 SiX4
(5) [式中、Xは、前記と同様である。]で表されるテトラ
ハロシランに、非プロトン性溶媒中でLi塩および金属
ハロゲン化物の共存下にMgまたはMg合金を作用させ
ることを特徴とする方法。項4. 項2に記載の感光性
樹脂組成物からなる感光性塗料。項5. 項4に記載の
感光性塗料を基体上に塗布した後、溶媒を除去して得ら
れる感光性塗膜。
リシランと環状シラン化合物とを含有する。
(1)で表される。
ル基、アルケニル基、アリールアルキル基、アリール
基、アルコキシル基またはシリル基を示す。Rは、全て
が同一でも或いは2つ以上が異なっていてもよい。x、
y、zは、それぞれ0以上の数を示し、x、yおよびz
の和は5〜400であり、かつ(y+z)/(x+y+
z)が0.15以下である。] 式中、x、yおよびzの和は重合度を表す。これらの和
は5〜400であり、好ましくは10〜300、より好
ましくは20〜200である。また、x、y、zのう
ち、xは直鎖構造の割合を、yおよびzは分岐構造の割
合を表す。これらの割合としては、(y+z)/(x+
y+z)が通常0.15以下であり、好ましくは0.0
7以下である。すなわち、一般式(1)で表されるポリ
シランは、主として鎖状のポリシランであり、一部に分
岐構造を有することがある。
般式(2)で表される。
ル基、アルケニル基、アリールアルキル基、アリール
基、アルコキシル基またはシリル基を示す。Rは、全て
が同一でも或いは2つ以上が異なっていてもよい。nは
4〜20である。] 式中、nは重合度を表す。nは4〜20であり、好まし
くは4〜10である。すなわち、一般式(2)で表され
る環状シラン化合物は、環状のシランオリゴマーであ
る。
よび上記一般式(2)で表される環状シラン化合物にお
いて、アルキル基、アリールアルキル基のアルキル部分
およびアルコキシル基のアルキル部分としては、直鎖
状、環状または分岐状の炭素数1〜10程度、好ましく
は炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基が挙げられる。アル
ケニル基としては、少なくとも1つの炭素−炭素二重結
合を有する1価の直鎖状、環状または分岐状の炭素数1
〜10程度、好ましくは炭素数1〜6の脂肪族炭化水素
基が挙げられる。アリール基およびアリールアルキル基
のアリール部分としては、少なくとも1つの置換基を有
していてもよい芳香族炭化水素が挙げられ、好ましくは
少なくとも1つの置換基を有していてもよいフェニル基
またはナフチル基が挙げられる。アリール基およびアリ
ールアルキル基のアリール部分の置換基は、特には制限
されないが、アルキル基、アルコキシル基および水酸基
からなる群より選ばれる少なくとも1種が好ましい。シ
リル基としては、ケイ素数1〜10程度、好ましくはケ
イ素数1〜6のシリル基が挙げられる。
は、例えば、以下の方法により、両者の混合物として同
時に製造される。
基、アルキル基、アルケニル基、アリールアルキル基、
アリール基、アルコキシル基またはシリル基を示す。X
は、ハロゲン原子を示す。]で表されるジハロシラン
(sモル)、一般式 RSiX3 (4) [式中、RおよびXは、前記と同様である。]で表され
るトリハロシラン(tモル)、および一般式 SiX4
(5) [式中、Xは、前記と同様である。]で表されるテトラ
ハロシラン(uモル)に、非プロトン性溶媒中でLi塩
および金属ハロゲン化物の共存下にMgまたはMg合金
を作用させる。
数を示し、(t+u)/(s+t+u)は、0.1以下
であり、好ましくは0.05以下である。
び一般式(4)で表されるトリハロシランにおいて、ア
ルキル基、アリールアルキル基のアルキル部分およびア
ルコキシル基のアルキル部分としては、直鎖状、環状ま
たは分岐状の炭素数1〜10程度、好ましくは炭素数1
〜6の脂肪族炭化水素基が挙げられる。アルケニル基と
しては、少なくとも1つの炭素−炭素二重結合を有する
1価の直鎖状、環状または分岐状の炭素数1〜10程
度、好ましくは炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基が挙げ
られる。アリール基およびアリールアルキル基のアリー
ル部分としては、少なくとも1つの置換基を有していて
もよい芳香族炭化水素が挙げられ、好ましくは少なくと
も1つの置換基を有していてもよいフェニル基またはナ
フチル基が挙げられる。アリール基およびアリールアル
キル基のアリール部分の置換基は、特には制限されない
が、アルキル基、アルコキシル基および水酸基からなる
群より選ばれる少なくとも1種が好ましい。シリル基と
しては、ケイ素数1〜10程度、好ましくはケイ素数1
〜6のシリル基が挙げられる。Rが、上記の有機置換基
またはシリル基である場合には、その水素原子の少なく
とも1つが、他のアルキル基、アリール基、アルコキシ
ル基などの官能基により置換されていてもよい。このよ
うな官能基としては、上記と同様なものが挙げられる。
ロシランにおいて、Xは、ハロゲン原子(Cl、F、B
r、I)を示す。ハロゲン原子としては、Clが好まし
い。
で表されるそれぞれのハロシランを、それぞれ1種単独
で使用してもよいし、或いはそれぞれ2種以上を混合使
用してもよい。
あることが好ましく、例えば、液体のハロシランについ
ては、水素化カルシウムにより乾燥し、蒸留して使用す
ることが好ましく、また、固体のハロシランについて
は、再結晶法により、精製し、使用することが好まし
い。
して使用する。溶媒としては、非プロトン性溶媒が広く
使用でき、より具体的には、テトラヒドロフラン、1,
2−ジメトキシエタン、プロピレンカーボネート、アセ
トニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、ビス(2−メトキシエチル)エーテル、1,4−
ジオキサン、塩化メチレンなどの極性溶媒;トルエン、
キシレン、ベンゼン、n−ペンタン、n−ヘキサン、n
−オクタン、n−デカン、シクロヘキサンなどの非極性
溶媒が例示される。これらの溶媒は、単独でも、或いは
2種以上の混合物としても使用できる。溶媒としては、
極性溶媒の単独、2種以上の極性溶媒の混合物、極性溶
媒と非極性溶媒との混合物が好ましい。極性溶媒と非極
性溶媒との混合物を使用する場合には、前者:後者=
1:0.01〜20程度とすることが好ましい。単独で
或いは他の溶媒との混合物として使用する極性溶媒とし
ては、テトラヒドロフランおよび1,2−ジメトキシエ
タンが好ましい。
合には、重合が効率よく行われないのに対し、高すぎる
場合には、反応に使用するLi塩および金属ハロゲン化
物が溶解しないことがある。従って、溶媒中のハロシラ
ンの濃度は、通常0.05〜20mol/l程度であ
り、好ましくは0.2〜15mol/l程度であり、よ
り好ましくは0.3〜13mol/l程度である。
Li2CO3、LiClO4などが例示される。これらの
Li塩は、単独で使用してもよく、或いは2種以上を併
用してもよい。これらLi塩の中でも、LiClが最も
好ましい。
5mol/l程度であり、好ましくは0.1〜4mol
/l程度であり、より好ましくは0.15〜3mol/
l程度である。
FeCl3、FeBr2、FeBr3、CuCl2、AlC
l3、AlBr3、ZnCl2、SnCl2、SnCl4、
CoCl2、VCl2、TiCl4、PdCl2、SmCl
2、SmI2などが例示される。これらの金属ハロゲン化
物の中でも、FeCl2、ZnCl2およびCuCl2が
より好ましい。
ぎる場合には、反応が十分に進行しなくなり、一方、高
すぎる場合には、反応に関与しなくなる。従って、溶媒
中の金属ハロゲン化物の濃度は、通常0.01〜6mo
l/l程度であり、好ましくは0.02〜4mol/l
程度であり、より好ましくは0.03〜3mol/l程
度である。
いうる限り特に限定されないが、粉体、粒状体、リボン
状体、切削片状体、塊状体、棒状体、平板などが例示さ
れ、これらの中でも、表面積の大きい粉体、粒状体、リ
ボン状体、切削片状体などが好ましい。MgまたはMg
系合金の使用量は、通常ハロシランに対して等モル(M
gとして)以上であり、好ましくは3倍モル以上であ
り、より好ましくは5倍モル以上である。MgまたはM
g系合金は、一般式(3)〜(5)で表されるハロシラ
ンを還元して、一般式(1)で表されるポリシランおよ
び一般式(2)で表される環状シラン化合物を形成させ
るとともに、それ自身は酸化されて、ハロゲン化Mgを
形成する。
例えば、密閉可能な反応容器に一般式(3)〜(5)で
表されるハロシラン、Li塩、金属ハロゲン化物および
Mg(またはMg系合金)を溶媒とともに収容し、好ま
しくは機械的もしくは磁気的に撹拌しつつ、反応を行わ
せる方法により行うことができる。反応容器は、密閉で
きる限り、形状および構造についての制限は特にない。
が、乾燥した窒素または不活性ガス雰囲気であることが
好ましく、さらに脱酸素し、乾燥した窒素雰囲気或いは
不活性ガス雰囲気であることがより好ましい。
同様に、撹拌速度が大きいほど、重合に必要な反応時間
が短縮される。撹拌状態は、重合装置により異なるが、
例えば、100mlナスフラスコを使用する場合には、
長さ10mm以上の撹拌子を使用し、撹拌子の回転数を
20回/分以上とすることにより、反応がより円滑に進
行する。
属ハロゲン化物およびMg(および/またはMg合金)
の量などによって異なり得るが、30分程度以上であ
り、通常1〜100時間程度である。
る溶媒の沸点までの温度範囲内にあり、好ましくは−1
0〜50℃程度の範囲内にあり、より好ましくは−5〜
35℃程度の範囲内にある。
などの操作を行うことにより、目的の組成物を得ること
ができる。
シラン化合物は、混合物として同時に得られる。混合物
中の比率は、製造の条件によって変動するが、ポリシラ
ン100重量部に対して環状シラン化合物は10〜20
0重量部程度の範囲である。
得られた混合物をそのまま目的の樹脂組成物とすること
もできるし、また、上記製造方法で得られた混合物を公
知の方法によりポリシランと環状シラン化合物とに一旦
分別した後、適当な割合で混合してもよい。さらに、上
記製造方法で得られた混合物に、分別したポリシランま
たは環状シラン化合物を、適当な割合となるように添加
してもよい。
シランと環状シラン化合物の割合は、使用目的によって
最適値は異なるが、ポリシラン100重量部に対して、
環状シラン化合物10〜200重量部程度、好ましくは
環状シラン化合物20〜150重量部程度である。
を含有してもよい。
に応じて各種添加剤を含有していてもよい。このような
添加剤としては、増感剤、可塑剤、充填剤、難燃助剤、
表面改質剤、低応力化剤、流動調整剤、レベリング剤、
消泡剤、分散剤などが挙げられる。これらの添加剤は、
1種または2種以上を混合して用いることができる。
溶解または分散させ、感光性塗料の形態にし得る。
ラン化合物の構造、ならびに用途によって適宜選択され
る。溶媒は、一般に、ポリシランおよび環状シラン化合
物を溶解できるか、または不溶もしくは難溶であっても
均一に分散可能であることが好ましい。一例として、ト
ルエン、キシレン、ベンゼン、n−ペンタン、n−ヘキ
サン、n−オクタン、n−デカン、シクロヘキサン、テ
トラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、プロピ
レンカーボネート、アセトニトリル、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、ビス(2−メトキシエチ
ル)エーテル、1,4−ジオキサン、塩化メチレン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メタノー
ル、エタノール、n−プロパノール、i−プロパノー
ル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、乳酸ブ
チル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、またはこれらの混合溶媒などを挙げることができ
る。
び環状シラン化合物との割合は、塗膜の形成方法や使用
目的により異なるが、溶媒100重量部に対し、ポリシ
ランおよび環状シラン化合物は、好ましくは0.1〜3
00重量部程度である。
(基体)上に塗布した後、溶媒を留去することにより、
感光性の塗膜を形成し得る。
ては、公知の方法、例えば、フローコーティング法、ス
ピンコーティング法、スプレーコーティング法、スクリ
ーン印刷法、キャスト法、バーコート法、カーテンコー
ト法、ロールコート法、ディップ法などを用いることが
できる。
を行ってもよい。乾燥処理は、公知の方法を用いて行う
ことができる。乾燥処理の際は、必要に応じて加熱して
もよい。加熱温度は、溶媒および目的に応じて適宜設定
できるが、通常40〜250℃程度である。また、乾燥
処理は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気中また
は空気中において行ってもよい。乾燥処理は、常圧下、
加圧下または減圧下で行ってもよい。
よび感光性塗膜は、光照射により諸物性が変性すること
により種々の用途に応用できる。例えば、半導体分野の
フォトレジスト、光分解・硬化性樹脂、CD−Rなどの
光記録材料、液晶ディスプレイのカラーフィルタなどの
用途に応用できる。
する領域の波長成分を有していれば、特に制限されず、
また、波長域は、感光性樹脂組成物の構造、増感剤など
の添加剤によって適宜定められる。光照射源としては、
例えば、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀
ランプ、水素ランプ、重水素ランプ、蛍光灯、ハロゲン
ランプ、エキシマレーザー、窒素レーザー、色素レーザ
ー、ヘリウム−カドミウムレーザーなどが挙げられる。
光照射エネルギー量は、用途、塗膜の膜厚などによって
異なるが、通常0.1〜10000mJ/cm2程度、
好ましくは0.5〜2000mJ/cm2程度である。
光照射は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気中ま
たは空気中において行ってよく、また、常圧下、加圧下
または減圧下で行ってもよい。
々の実施例を示す。本発明はこれら実施例に限定される
ものではない。
に、粒状のマグネシウム6.0g、無水塩化リチウム
(LiCl)1.6gおよび無水塩化第一鉄(FeCl
2)0.96gを収容し、50℃で133Paに加熱減
圧して、収容物を乾燥した後、乾燥アルゴンガスを反応
器内に導入し、さらに予めナトリウム−ベンゾフェノン
ケチルで乾燥したテトラヒドロフラン60mlを加え、
室温で約30分撹拌した。これに、予め蒸留により精製
したメチルフェニルジクロロシラン(MePhSiCl
2)7.6g(40mmol)をシリンジで加え、室温
で約12時間撹拌した。反応終了後、反応液を1mol
/l塩酸50ml中に投入し、さらにエーテル100m
lで抽出した。エーテル層を純水50mlで2回洗浄
し、エーテル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、
エーテルを留去することにより反応生成物である樹脂組
成物(a)4.6g(収率95%)を得た。
析したところ、メチルフェニルポリシラン(重量平均分
子量13200、平均重合度110程度)と環状メチル
フェニルシラン(重量平均分子量640、平均重合度
5.3)の2成分から構成されており、構成割合は前者
が71重量%、後者が29重量%であった。
を、良溶媒テトラヒドロフラン20ml、貧溶媒エタノ
ール200mlを用いて再沈殿して濾過し、重量平均分
子量14500(平均重合度121程度)のメチルフェ
ニルポリシラン(b)2.2gを得た。
良溶媒テトラヒドロフラン20mlに溶解し、これを貧
溶媒エタノール200mlに滴下して沈殿したポリシラ
ンを濾過により除去し、濾液を濃縮することにより、重
量平均分子量650(平均重合度5.4)の環状メチル
フェニルシラン(c)1.2gを得た。
に、粒状のマグネシウム6.0g、無水塩化リチウム
(LiCl)1.6gおよび無水塩化第一鉄(FeCl
2)0.96gを収容し、50℃で133Paに加熱減
圧して、収容物を乾燥した後、乾燥アルゴンガスを反応
器内に導入し、さらに予めナトリウム−ベンゾフェノン
ケチルで乾燥したテトラヒドロフラン60mlを加え、
室温で約30分撹拌した。これに、予め蒸留により精製
したメチルフェニルジクロロシラン(MePhSiCl
2)7.3g(38mmol)およびメチルトリクロロ
シラン(MeSiCl3)0.3g(2mmol)をシ
リンジで加え、室温で約12時間撹拌した。反応終了
後、反応液を1mol/l塩酸50ml中に投入し、さ
らにエーテル100mlで抽出した。エーテル層を純水
50mlで2回洗浄し、エーテル層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、エーテルを留去することにより反応
生成物である樹脂組成物(d)4.3g(収率93%)
を得た。
析したところ、分岐構造を有するメチルフェニルポリシ
ラン(重量平均分子量12800、平均重合度107程
度)と環状メチルフェニルシラン(重量平均分子量63
0、平均重合度5.3)の2成分から構成されており、
構成割合は前者が68重量%、後者が32重量%であっ
た。
を、良溶媒テトラヒドロフラン20ml、貧溶媒エタノ
ール200mlを用いて再沈殿して濾過し、重量平均分
子量13800(平均重合度115程度)の分岐構造を
有するメチルフェニルポリシラン(e)2.0gを得
た。
良溶媒テトラヒドロフラン20mlに溶解し、これを貧
溶媒エタノール200mlに滴下して沈殿したポリシラ
ンを濾過により除去し、濾液を濃縮することにより、重
量平均分子量650(平均重合度5.4)の環状メチル
フェニルシラン(f)1.2gを得た。
に、粒状のマグネシウム6.0g、無水塩化リチウム
(LiCl)1.6gおよび無水塩化第一鉄(FeCl
2)0.96gを収容し、50℃で133Paに加熱減
圧して、収容物を乾燥した後、乾燥アルゴンガスを反応
器内に導入し、さらに予めナトリウム−ベンゾフェノン
ケチルで乾燥したテトラヒドロフラン60mlを加え、
室温で約30分撹拌した。これに、予め蒸留により精製
したメチルフェニルジクロロシラン(MePhSiCl
2)7.2g(38mmol)、メチルトリクロロシラ
ン(MeSiCl3)0.18g(1.2mmol)お
よびテトラクロロシラン(SiCl4)0.2g(1.
2mmol)をシリンジで加え、室温で約12時間撹拌
した。反応終了後、反応液を1mol/l塩酸50ml
中に投入し、さらにエーテル100mlで抽出した。エ
ーテル層を純水50mlで2回洗浄し、エーテル層を無
水硫酸マグネシウムで乾燥した後、エーテルを留去する
ことにより反応生成物である樹脂組成物(g)4.3g
(収率94%)を得た。
析したところ、分岐構造を有するメチルフェニルポリシ
ラン(重量平均分子量11900、平均重合度99程
度)と環状メチルフェニルシラン(重量平均分子量64
0、平均重合度5.3)の2成分から構成されており、
構成割合は前者が73重量%、後者が27重量%であっ
た。
に、粒状のマグネシウム6.0g、無水塩化リチウム
(LiCl)1.6gおよびZnCl2を0.92g収
容し、50℃で133Paに加熱減圧して、収容物を乾
燥した後、乾燥アルゴンガスを反応器内に導入し、さら
に予めナトリウム−ベンゾフェノンケチルで乾燥したテ
トラヒドロフラン60mlを加え、室温で約30分撹拌
した。これに、予め蒸留により精製したメチルフェニル
ジクロロシラン(MePhSiCl 2)7.4g(39
mmol)およびメチルトリクロロシラン(MeSiC
l3)0.18g(1.2mmol)をシリンジで加
え、室温で約12時間撹拌した。反応終了後、反応液を
1mol/l塩酸50ml中に投入し、さらにエーテル
100mlで抽出した。エーテル層を純水50mlで2
回洗浄し、エーテル層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た後、エーテルを留去することにより反応生成物である
樹脂組成物(h)4.5g(収率95%)を得た。
析したところ、分岐構造を有するメチルフェニルポリシ
ラン(重量平均分子量12100、平均重合度101程
度)と環状メチルフェニルシラン(重量平均分子量63
0、平均重合度5.3)の2成分から構成されており、
構成割合は前者が69重量%、後者が31重量%であっ
た。
は、合成例1と同様にして反応を行った。その結果、反
応生成物である樹脂組成物(i)4.5g(収率93
%)を得た。
析したところ、メチルフェニルポリシラン(重量平均分
子量14000、平均重合度117程度)と環状メチル
フェニルシラン(重量平均分子量630、平均重合度
5.3)の2成分から構成されており、構成割合は前者
が71重量%、後者が29重量%であった。
せて10重量%の塗料を調製した。次いで、この塗料を
スピンコート法にてガラス基板上に塗布した後、100
℃で15分間乾燥を行い、膜厚0.48μmの塗膜を得
た。
mJ/cm2の紫外光を照射した。照射前後の吸光度ス
ペクトルの測定を行い、220〜370nmの吸光度の
積分値を比較したところ、照射後の値は照射前の53%
まで低下しており、効率良く光反応していた。また、4
50nmにおける屈折率が照射前は1.74であった
が、照射後は1.66まで低下した。
シラン(c)0.05gをトルエン0.9gに溶解させ
て10重量%の塗料を調製した。次いで、この塗料をス
ピンコート法にてガラス基板上に塗布した後、100℃
で15分間乾燥を行い、膜厚0.47μmの塗膜を得
た。
mJ/cm2の紫外光を照射した。照射前後の吸光度ス
ペクトルの測定を行い、220〜370nmの吸光度の
積分値を比較したところ、照射後の値は照射前の40%
まで低下しており、効率良く光反応していた。また、4
50nmにおける屈折率が照射前は1.73であった
が、照射後は1.65まで低下した。
せて10重量%の塗料を調製した。次いで、この塗料を
スピンコート法にてガラス基板上に塗布した後、100
℃で15分間乾燥を行い、膜厚0.48μmの塗膜を得
た。
mJ/cm2の紫外光を照射した。照射前後の吸光度ス
ペクトルの測定を行い、220〜370nmの吸光度の
積分値を比較したところ、照射後の値は照射前の51%
まで低下しており、効率良く光反応していた。また、4
50nmにおける屈折率が照射前は1.74であった
が、照射後は1.65まで低下した。
シラン(f)0.05gをトルエン0.9gに溶解させ
て10重量%の塗料を調製した。次いで、この塗料をス
ピンコート法にてガラス基板上に塗布した後、100℃
で15分間乾燥を行い、膜厚0.48μmの塗膜を得
た。
mJ/cm2の紫外光を照射した。照射前後の吸光度ス
ペクトルの測定を行い、220〜370nmの吸光度の
積分値を比較したところ、照射後の値は照射前の41%
まで低下しており、効率良く光反応していた。また、4
50nmにおける屈折率が照射前は1.72であった
が、照射後は1.65まで低下した。
せて10重量%の塗料を調製した。次いで、この塗料を
スピンコート法にてガラス基板上に塗布した後、100
℃で15分間乾燥を行い、膜厚0.48μmの塗膜を得
た。
mJ/cm2の紫外光を照射した。照射前後の吸光度ス
ペクトルの測定を行い、220〜370nmの吸光度の
積分値を比較したところ、照射後の値は照射前の55%
まで低下しており、効率良く光反応していた。また、4
50nmにおける屈折率が照射前は1.74であった
が、照射後は1.66まで低下した。
せて10重量%の塗料を調製した。次いで、この塗料を
スピンコート法にてガラス基板上に塗布した後、100
℃で15分間乾燥を行い、膜厚0.47μmの塗膜を得
た。
mJ/cm2の紫外光を照射した。照射前後の吸光度ス
ペクトルの測定を行い、220〜370nmの吸光度の
積分値を比較したところ、照射後の値は照射前の52%
まで低下しており、効率良く光反応していた。また、4
50nmにおける屈折率が照射前は1.73であった
が、照射後は1.64まで低下した。
シラン(c)0.05gをトルエン0.9gに溶解させ
て10重量%の塗料を調製した。次いで、この塗料をス
ピンコート法にてガラス基板上に塗布した後、100℃
で15分間乾燥を行い、膜厚0.48μmの塗膜を得
た。
mJ/cm2の紫外光を照射した。照射前後の吸光度ス
ペクトルの測定を行い、220〜370nmの吸光度の
積分値を比較したところ、照射後の値は照射前の39%
まで低下しており、効率良く光反応していた。また、4
50nmにおける屈折率が照射前は1.71であった
が、照射後は1.63まで低下した。
せて10重量%の塗料を調製した。次いで、この塗料を
スピンコート法にてガラス基板上に塗布した後、100
℃で15分間乾燥を行い、膜厚0.48μmの塗膜を得
た。
mJ/cm2の紫外光を照射した。照射前後の吸光度ス
ペクトルの測定を行い、220〜370nmの吸光度の
積分値を比較したところ、照射後の値は照射前の57%
まで低下しており、効率良く光反応していた。また、4
50nmにおける屈折率が照射前は1.75であった
が、照射後は1.67まで低下した。
0.9gに溶解させて10重量%の塗料を調整した。次
いで、この塗料をスピンコート法にてガラス基板上に塗
布した後、100℃で15分間乾燥を行い、膜厚0.4
7μmの塗膜を得た。
mJ/cm2の紫外光を照射した。照射前後の吸光度ス
ペクトルの測定を行い、220〜370nmの吸光度の
積分値を比較したところ、照射後の値は照射前の74%
までの低下にとどまった。また、450nmにおける屈
折率が照射前は1.76、照射後は1.70であり、環
状メチルフェニルシランが含まれている場合(実施例)
に比較して変化の程度は小さかった。
0.9gに溶解させて10重量%の塗料を調整した。次
いで、この塗料をスピンコート法にてガラス基板上に塗
布した後、100℃で15分間乾燥を行い、膜厚0.4
8μmの塗膜を得た。
mJ/cm2の紫外光を照射した。照射前後の吸光度ス
ペクトルの測定を行い、220〜370nmの吸光度の
積分値を比較したところ、照射後の値は照射前の77%
までの低下にとどまった。また、450nmにおける屈
折率が照射前は1.75、照射後は1.71であり、環
状メチルフェニルシランが含まれている場合(実施例)
に比較して変化の程度は小さかった。
光性樹脂組成物を提供する。
Claims (5)
- 【請求項1】 一般式 R2SiX2 (3) [式中、Rは、同一または異なって、水素原子、水酸
基、アルキル基、アルケニル基、アリールアルキル基、
アリール基、アルコキシル基またはシリル基を示す。X
は、ハロゲン原子を示す。]で表されるジハロシラン、
ならびに、必要に応じて一般式 RSiX3 (4) [式中、RおよびXは、前記と同様である。]で表され
るトリハロシランおよび/または一般式 SiX4
(5) [式中、Xは、前記と同様である。]で表されるテトラ
ハロシランに、非プロトン性溶媒中でLi塩および金属
ハロゲン化物の共存下にMgまたはMg合金を作用させ
ることにより得られる感光性樹脂組成物であって、
(a)一般式 【化1】 [式中、Rは、水素原子、水酸基、アルキル基、アルケ
ニル基、アリールアルキル基、アリール基、アルコキシ
ル基またはシリル基を示す。Rは、全てが同一でも或い
は2つ以上が異なっていてもよい。x、y、zは、それ
ぞれ0以上の数を示し、x、yおよびzの和は5〜40
0であり、かつ(y+z)/(x+y+z)が0.15
以下である。]で表されるポリシラン100重量部、お
よび(b)一般式 【化2】 [式中、Rは、水素原子、水酸基、アルキル基、アルケ
ニル基、アリールアルキル基、アリール基、アルコキシ
ル基またはシリル基を示す。Rは、全てが同一でも或い
は2つ以上が異なっていてもよい。nは4〜20であ
る。]で表される環状シラン化合物10〜200重量部
を含有してなる感光性樹脂組成物。 - 【請求項2】 さらに溶媒を含有してなる請求項1に記
載の感光性樹脂組成物。 - 【請求項3】 請求項1に記載の感光性樹脂組成物の製
造方法であって、 一般式 R2SiX2 (3) [式中、Rは、同一または異なって、水素原子、水酸
基、アルキル基、アルケニル基、アリールアルキル基、
アリール基、アルコキシル基またはシリル基を示す。X
は、ハロゲン原子を示す。]で表されるジハロシラン、
ならびに、必要に応じて一般式 RSiX3 (4) [式中、RおよびXは、前記と同様である。]で表され
るトリハロシランおよび/または一般式 SiX4
(5) [式中、Xは、前記と同様である。]で表されるテトラ
ハロシランに、非プロトン性溶媒中でLi塩および金属
ハロゲン化物の共存下にMgまたはMg合金を作用させ
ることを特徴とする方法。 - 【請求項4】 請求項2に記載の感光性樹脂組成物から
なる感光性塗料。 - 【請求項5】 請求項4に記載の感光性塗料を基体上に
塗布した後、溶媒を除去して得られる感光性塗膜。
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---|---|---|---|
JP2000099403A JP4171861B2 (ja) | 2000-03-31 | 2000-03-31 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000099403A JP4171861B2 (ja) | 2000-03-31 | 2000-03-31 | 感光性樹脂組成物 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2001281871A true JP2001281871A (ja) | 2001-10-10 |
JP4171861B2 JP4171861B2 (ja) | 2008-10-29 |
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ID=18613764
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2018168340A (ja) * | 2017-03-30 | 2018-11-01 | 大阪ガスケミカル株式会社 | ネットワーク状ポリシラン及びその製造方法 |
WO2020045614A1 (ja) | 2018-08-30 | 2020-03-05 | 株式会社クレハ | 環状ポリシラン化合物の製造方法 |
-
2000
- 2000-03-31 JP JP2000099403A patent/JP4171861B2/ja not_active Expired - Lifetime
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JPWO2020045614A1 (ja) * | 2018-08-30 | 2021-02-25 | 株式会社クレハ | 環状ポリシラン化合物の製造方法 |
CN112469726A (zh) * | 2018-08-30 | 2021-03-09 | 株式会社吴羽 | 环状聚硅烷化合物的制造方法 |
US11192905B2 (en) | 2018-08-30 | 2021-12-07 | Kureha Corporation | Method for producing cyclic polysilane compound |
JP7026241B2 (ja) | 2018-08-30 | 2022-02-25 | 株式会社クレハ | 環状ポリシラン化合物の製造方法 |
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