JP2001250990A5 - - Google Patents
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- Bi及びSbからなる群から選択された少なくとも1種の元素と、Te及びSeからなる群から選択された少なくとも1種の元素とを含有する原料を液体急冷法により薄膜状にして、更に粉末化する第1工程と、この第1工程により得られた粉末を水素ガスにより還元する第2工程と、この第2工程により還元された粉末をホットプレス法、放電プラズマ法及び押し出し成形法からなる群から選択された1種の方法により結晶粒が粗大化しない条件で固化成形する第3工程と、を有し、結晶粒の平均粒径が50μm以下、酸素含有量が1500質量ppm以下に規制された熱電材料を得ることを特徴とする熱電材料の製造方法。
- Bi及びSbからなる群から選択された少なくとも1種の元素と、Te及びSeからなる群から選択された少なくとも1種の元素とを含有する原料を液体急冷法により薄膜状にして、更に粉末化する第1工程と、この第1工程により得られた粉末を真空度が1.33Pa以下になるまで真空引きした後に、水素ガス雰囲気下で、温度を200乃至500℃として10乃至50時間加熱することにより前記粉末を還元する第2工程と、この第2工程により還元された粉末をホットプレス法、放電プラズマ法及び押し出し成形法からなる群から選択された1種の方法により結晶粒が粗大化しない条件で固化成形する第3工程と、を有することを特徴とする熱電材料の製造方法。
- Bi及びSbからなる群から選択された少なくとも1種の元素と、Te及びSeからなる群から選択された少なくとも1種の元素と、I、Cl、Hg、Br、Ag及びCuからなる群から選択された少なくとも1種の元素とを含有する原料を液体急冷法により薄膜状にして、更に粉末化する第1工程と、この第1工程により得られた粉末を水素ガスにより還元する第2工程と、この第2工程により還元された粉末をホットプレス法、放電プラズマ法及び押し出し成形法からなる群から選択された1種の方法により結晶粒が粗大化しない条件で固化成形する第3工程と、を有し、結晶粒の平均粒径が50μm以下、酸素含有量が1500質量ppm以下に規制された熱電材料を得ることを特徴とする熱電材料の製造方法。
- Bi及びSbからなる群から選択された少なくとも1種の元素と、Te及びSeからなる群から選択された少なくとも1種の元素と、I、Cl、Hg、Br、Ag及びCuからなる群から選択された少なくとも1種の元素とを含有する原料を液体急冷法により薄膜状にして、更に粉末化する第1工程と、この第1工程により得られた粉末を真空度が1.33Pa以下になるまで真空引きした後に、水素ガス雰囲気下で、温度を200乃至500℃として10乃至50時間加熱することにより前記粉末を還元する第2工程と、この第2工程により還元された粉末をホットプレス法、放電プラズマ法及び押し出し成形法からなる群から選択された1種の方法により結晶粒が粗大化しない条件で固化成形する第3工程と、を有することを特徴とする熱電材料の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001019296A JP3909557B2 (ja) | 1996-07-03 | 2001-01-26 | 熱電材料及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8-174011 | 1996-07-03 | ||
JP17401196 | 1996-07-03 | ||
JP2001019296A JP3909557B2 (ja) | 1996-07-03 | 2001-01-26 | 熱電材料及びその製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14694497A Division JP3319338B2 (ja) | 1996-07-03 | 1997-06-04 | 熱電材料及びその製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001250990A JP2001250990A (ja) | 2001-09-14 |
JP2001250990A5 true JP2001250990A5 (ja) | 2005-06-16 |
JP3909557B2 JP3909557B2 (ja) | 2007-04-25 |
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ID=26495771
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001019296A Expired - Fee Related JP3909557B2 (ja) | 1996-07-03 | 2001-01-26 | 熱電材料及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3909557B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4876501B2 (ja) * | 2005-09-22 | 2012-02-15 | 宇部興産株式会社 | 熱電変換材料及びその製造方法 |
CN1333093C (zh) * | 2005-11-17 | 2007-08-22 | 钢铁研究总院 | 铋-碲基热电合金的制备方法 |
KR101004166B1 (ko) | 2006-04-07 | 2010-12-24 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | 합금 및 희토류 원소 합금 제조 장치 |
JP4219390B1 (ja) * | 2007-09-25 | 2009-02-04 | 昭和電工株式会社 | 合金の製造装置 |
JP2015056416A (ja) * | 2013-09-10 | 2015-03-23 | 国立大学法人島根大学 | n型熱電変換材料、熱電変換モジュール、n型熱電変換材料の製造方法 |
JP7209167B2 (ja) * | 2017-05-08 | 2023-01-20 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | ジントル相熱電変換材料 |
KR20240036123A (ko) * | 2019-01-18 | 2024-03-19 | 엘지전자 주식회사 | 열전소재의 제조방법 |
CN110212082A (zh) * | 2019-05-30 | 2019-09-06 | 上海应用技术大学 | 一种碲化银/pedot:pss/棉布复合热电材料的制备方法 |
-
2001
- 2001-01-26 JP JP2001019296A patent/JP3909557B2/ja not_active Expired - Fee Related
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