JP2001250990A5 - - Google Patents

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  1. Bi及びSbからなる群から選択された少なくとも1種の元素と、Te及びSeからなる群から選択された少なくとも1種の元素とを含有する原料を液体急冷法により薄膜状にして、更に粉末化する第1工程と、この第1工程により得られた粉末を水素ガスにより還元する第2工程と、この第2工程により還元された粉末をホットプレス法、放電プラズマ法及び押し出し成形法からなる群から選択された1種の方法により結晶粒が粗大化しない条件で固化成形する第3工程と、を有し、結晶粒の平均粒径が50μm以下、酸素含有量が1500質量ppm以下に規制された熱電材料を得ることを特徴とする熱電材料の製造方法。
  2. Bi及びSbからなる群から選択された少なくとも1種の元素と、Te及びSeからなる群から選択された少なくとも1種の元素とを含有する原料を液体急冷法により薄膜状にして、更に粉末化する第1工程と、この第1工程により得られた粉末を真空度が1.33Pa以下になるまで真空引きした後に、水素ガス雰囲気下で、温度を200乃至500℃として10乃至50時間加熱することにより前記粉末を還元する第2工程と、この第2工程により還元された粉末をホットプレス法、放電プラズマ法及び押し出し成形法からなる群から選択された1種の方法により結晶粒が粗大化しない条件で固化成形する第3工程と、を有することを特徴とする熱電材料の製造方法。
  3. Bi及びSbからなる群から選択された少なくとも1種の元素と、Te及びSeからなる群から選択された少なくとも1種の元素と、I、Cl、Hg、Br、Ag及びCuからなる群から選択された少なくとも1種の元素とを含有する原料を液体急冷法により薄膜状にして、更に粉末化する第1工程と、この第1工程により得られた粉末を水素ガスにより還元する第2工程と、この第2工程により還元された粉末をホットプレス法、放電プラズマ法及び押し出し成形法からなる群から選択された1種の方法により結晶粒が粗大化しない条件で固化成形する第3工程と、を有し、結晶粒の平均粒径が50μm以下、酸素含有量が1500質量ppm以下に規制された熱電材料を得ることを特徴とする熱電材料の製造方法。
  4. Bi及びSbからなる群から選択された少なくとも1種の元素と、Te及びSeからなる群から選択された少なくとも1種の元素と、I、Cl、Hg、Br、Ag及びCuからなる群から選択された少なくとも1種の元素とを含有する原料を液体急冷法により薄膜状にして、更に粉末化する第1工程と、この第1工程により得られた粉末を真空度が1.33Pa以下になるまで真空引きした後に、水素ガス雰囲気下で、温度を200乃至500℃として10乃至50時間加熱することにより前記粉末を還元する第2工程と、この第2工程により還元された粉末をホットプレス法、放電プラズマ法及び押し出し成形法からなる群から選択された1種の方法により結晶粒が粗大化しない条件で固化成形する第3工程と、を有することを特徴とする熱電材料の製造方法。
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