JP2001247561A - スクラレオライドの製造方法 - Google Patents
スクラレオライドの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課 題】 本発明の目的は、スクラレオールを出発原
料にし、スクラレオールの側鎖部分を酸化開裂すること
でスクラレオライドへ変換する方法において、中間体と
して生成するヒドロキシケトンおよび／またはエノール
エーテルを単離処理することなく連続的に反応を行うこ
とにより、煩雑な操作を必要とせず、高収率で、実用性
に優れた工業的なスクラレオライドの製造方法を提供す
ることにある。 【解決手段】式（１）； 【化１６】 で表されるスクラレオールを、有機溶媒中、ルテニウム
触媒、相間移動触媒およびアルカリ存在下、過硫酸塩で
酸化し、式（２）； 【化１７】 で表されるヒドロキシケトンおよび／または式（３）； 【化１８】 で表されるそのエノールエーテルを生成させ、これを次
亜塩素酸塩で酸化することを特徴とする式（４）； 【化１９】
料にし、スクラレオールの側鎖部分を酸化開裂すること
でスクラレオライドへ変換する方法において、中間体と
して生成するヒドロキシケトンおよび／またはエノール
エーテルを単離処理することなく連続的に反応を行うこ
とにより、煩雑な操作を必要とせず、高収率で、実用性
に優れた工業的なスクラレオライドの製造方法を提供す
ることにある。 【解決手段】式（１）； 【化１６】 で表されるスクラレオールを、有機溶媒中、ルテニウム
触媒、相間移動触媒およびアルカリ存在下、過硫酸塩で
酸化し、式（２）； 【化１７】 で表されるヒドロキシケトンおよび／または式（３）； 【化１８】 で表されるそのエノールエーテルを生成させ、これを次
亜塩素酸塩で酸化することを特徴とする式（４）； 【化１９】
Description
【０００１】
【発明の属する利用分野】本発明は、スクラレオールの
酸化反応による、それ自身香料として或いは香料の中間
体として使用されるスクラレオライドの製造方法に関す
る。
酸化反応による、それ自身香料として或いは香料の中間
体として使用されるスクラレオライドの製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】スクラレオライド（化学名：３a,６,６,
９a−テトラメチルデカヒドロナフト［２，１−b］フラ
ン２（１H）−オン）は、煙草の喫味改良剤として快適
な木様の香を与えるものとして重要であり（米国特許第
２，９０５，５７６号）、また、アンバー系調合香料の
素材として優れた役割を果たす化合物として知られてい
るｌ−アンブロックス（化学名：３a,６,６,９a−テト
ラメチルドデカヒドロナフト［２，１−b］フラン）の
合成中間体としても知られている。
９a−テトラメチルデカヒドロナフト［２，１−b］フラ
ン２（１H）−オン）は、煙草の喫味改良剤として快適
な木様の香を与えるものとして重要であり（米国特許第
２，９０５，５７６号）、また、アンバー系調合香料の
素材として優れた役割を果たす化合物として知られてい
るｌ−アンブロックス（化学名：３a,６,６,９a−テト
ラメチルドデカヒドロナフト［２，１−b］フラン）の
合成中間体としても知られている。
【０００３】従来から、天然のスクラレオライドと立体
的および化学的に同一である化合物を合成する方法とし
ては、クラリーセージの抽出物に含まれているスクラレ
オールを出発原料にし、側鎖部分を酸化開裂することに
よりスクラレオライドへ変換する方法が一般的に知られ
ているが、近年に至り、更に幾つかの製造方法が提案さ
れ公知となっている。
的および化学的に同一である化合物を合成する方法とし
ては、クラリーセージの抽出物に含まれているスクラレ
オールを出発原料にし、側鎖部分を酸化開裂することに
よりスクラレオライドへ変換する方法が一般的に知られ
ているが、近年に至り、更に幾つかの製造方法が提案さ
れ公知となっている。
【０００４】例えば、米国特許第３，０５０，５３２号
には、スクラレオールをアルカリ性条件下過マンガン酸
カリウムで酸化した後、酢酸酸性条件下で再び過マンガ
ン酸カリウムを用いて酸化する二段階でスクラレオライ
ドの等価体であるアセトキシカルボン酸を主生成物とす
るスクラレオライド混合物を得る方法が記載開示されて
いる。しかし、この方法によれば、過マンガン酸カリウ
ムを化学量論的に必要とすること、環境保護上問題とな
る過マンガン酸カリウム廃液を多量に排出すること、お
よび二段階目の反応時間が２０時間程度かかることな
ど、工業的な生産において問題が多い。
には、スクラレオールをアルカリ性条件下過マンガン酸
カリウムで酸化した後、酢酸酸性条件下で再び過マンガ
ン酸カリウムを用いて酸化する二段階でスクラレオライ
ドの等価体であるアセトキシカルボン酸を主生成物とす
るスクラレオライド混合物を得る方法が記載開示されて
いる。しかし、この方法によれば、過マンガン酸カリウ
ムを化学量論的に必要とすること、環境保護上問題とな
る過マンガン酸カリウム廃液を多量に排出すること、お
よび二段階目の反応時間が２０時間程度かかることな
ど、工業的な生産において問題が多い。
【０００５】また、米国特許第５，２４７，１００号に
は、前述した方法の問題点を改良すべく、一段階目をア
ルカリ性条件下触媒量のルテニウム触媒と次亜塩素酸ソ
ーダ系で酸化した後、塩酸処理によりエノールエーテル
を主生成物とする酸化中間体混合物を得、次いで、二段
階目を有機過酸或いはその塩を用いる酸性条件下で酸化
することで、二段階目の反応時間を３時間に短縮し、ス
クラレオライドを得る方法が報告されている。しかしな
がら、この改良方法においてもｐHの異なる２種類の酸
化条件を組み合わせた二段階反応であり、一段階後の酸
化剤の処理、酸性化処理、抽出操作、または溶媒の留去
などの後処理も含めた操作の煩雑さおよびそれに伴う処
理時間の累積は、反応時間短縮の優位性を効果的に反映
できないことになる。
は、前述した方法の問題点を改良すべく、一段階目をア
ルカリ性条件下触媒量のルテニウム触媒と次亜塩素酸ソ
ーダ系で酸化した後、塩酸処理によりエノールエーテル
を主生成物とする酸化中間体混合物を得、次いで、二段
階目を有機過酸或いはその塩を用いる酸性条件下で酸化
することで、二段階目の反応時間を３時間に短縮し、ス
クラレオライドを得る方法が報告されている。しかしな
がら、この改良方法においてもｐHの異なる２種類の酸
化条件を組み合わせた二段階反応であり、一段階後の酸
化剤の処理、酸性化処理、抽出操作、または溶媒の留去
などの後処理も含めた操作の煩雑さおよびそれに伴う処
理時間の累積は、反応時間短縮の優位性を効果的に反映
できないことになる。
【０００６】上述したような二段階からなる操作の煩雑
さを回避することを目的として、スクラレオールからル
テニウム触媒／次亜塩素酸ソーダ系により一段階の酸化
条件でスクラレオライドまで変換する方法が知られてい
る（特表平７―５０５４０５号公報）。しかしながら、
この方法では、固体粉末のスクラレオールを有機溶媒の
不存在下、水溶媒中ノニオン系の乳化剤を用いて水性分
散液の形態で存在させるもので、５時間程度の短時間で
反応を行う条件としては、更に超音波の適用やホモジナ
イザーの使用などにより、特に微細な分散液の形成を促
進する必要があり、操作上も煩雑であった。
さを回避することを目的として、スクラレオールからル
テニウム触媒／次亜塩素酸ソーダ系により一段階の酸化
条件でスクラレオライドまで変換する方法が知られてい
る（特表平７―５０５４０５号公報）。しかしながら、
この方法では、固体粉末のスクラレオールを有機溶媒の
不存在下、水溶媒中ノニオン系の乳化剤を用いて水性分
散液の形態で存在させるもので、５時間程度の短時間で
反応を行う条件としては、更に超音波の適用やホモジナ
イザーの使用などにより、特に微細な分散液の形成を促
進する必要があり、操作上も煩雑であった。
【０００７】また、その他の一段階酸化反応としては、
ルテニウム触媒／過ヨウ素酸ソーダ系により収率８８％
でスクラレオライドまで変換する方法が知られているが
（Tetrahedron Let. Vol.34, 629(1993)）、過ヨウ素酸
ソーダは高価で危険性を伴うため実用的ではない。ま
た、四酸化オスミウム／過ヨウ素酸ソーダ系によりスク
ラレオライド等価体を含む混合物まで変換する方法が知
られているが（スペイン特許第２，０４４，７８０
号）、過ヨウ素酸ソーダに加え毒性の高い四酸化オスミ
ウムを使用していることからも多くの問題を含んでい
た。
ルテニウム触媒／過ヨウ素酸ソーダ系により収率８８％
でスクラレオライドまで変換する方法が知られているが
（Tetrahedron Let. Vol.34, 629(1993)）、過ヨウ素酸
ソーダは高価で危険性を伴うため実用的ではない。ま
た、四酸化オスミウム／過ヨウ素酸ソーダ系によりスク
ラレオライド等価体を含む混合物まで変換する方法が知
られているが（スペイン特許第２，０４４，７８０
号）、過ヨウ素酸ソーダに加え毒性の高い四酸化オスミ
ウムを使用していることからも多くの問題を含んでい
た。
【０００８】従って、スクラレオールを出発原料にし、
側鎖部分を酸化開裂することでスクラレオライドへ変換
する合成手法において、反応時間だけでなく反応処理時
間を含めた製造時間の短縮および現実的な試薬や装置を
含めた操作性の改善、簡素化が強く望まれていた。
側鎖部分を酸化開裂することでスクラレオライドへ変換
する合成手法において、反応時間だけでなく反応処理時
間を含めた製造時間の短縮および現実的な試薬や装置を
含めた操作性の改善、簡素化が強く望まれていた。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、スク
ラレオールを出発原料にし、スクラレオールの側鎖部分
を酸化開裂することでスクラレオライドへ変換する方法
において、中間体として生成するヒドロキシケトンおよ
びエノールエーテルを単離処理することなく連続的に反
応を行うことにより、煩雑な操作を必要とせず、高収率
で、実用性に優れた工業的なスクラレオライドの製造方
法を提供することにある。
ラレオールを出発原料にし、スクラレオールの側鎖部分
を酸化開裂することでスクラレオライドへ変換する方法
において、中間体として生成するヒドロキシケトンおよ
びエノールエーテルを単離処理することなく連続的に反
応を行うことにより、煩雑な操作を必要とせず、高収率
で、実用性に優れた工業的なスクラレオライドの製造方
法を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前述の要望
に応えるべく鋭意検討を重ねた結果、スクラレオールを
出発原料として使用し、スクラレオールの側鎖部分をル
テニウム触媒により酸化開裂しヒドロキシケトンおよび
エノールエーテルを生成する第一段階と、それらからス
クラレオライドを生成する第二段階からなるスクラレオ
ライドの製造方法において、第一段階の酸化を過硫酸塩
の存在下に行うことにより、中間体のヒドロキシケトン
およびエノールエーテルを高収率で生成することがで
き、更に、第二段階の酸化において、第一段階で生成し
たヒドロキシケトンおよびエノールエーテルを単離せず
に第一段階終了後の反応系中に次亜塩素酸塩を添加し連
続的に酸化反応を行うことにより、従来の中間体を単離
した後に再び酸化反応を行うスクラレオライドの製造方
法に比べて、著しく収率が向上することを見出し、本発
明を完成するに至った。
に応えるべく鋭意検討を重ねた結果、スクラレオールを
出発原料として使用し、スクラレオールの側鎖部分をル
テニウム触媒により酸化開裂しヒドロキシケトンおよび
エノールエーテルを生成する第一段階と、それらからス
クラレオライドを生成する第二段階からなるスクラレオ
ライドの製造方法において、第一段階の酸化を過硫酸塩
の存在下に行うことにより、中間体のヒドロキシケトン
およびエノールエーテルを高収率で生成することがで
き、更に、第二段階の酸化において、第一段階で生成し
たヒドロキシケトンおよびエノールエーテルを単離せず
に第一段階終了後の反応系中に次亜塩素酸塩を添加し連
続的に酸化反応を行うことにより、従来の中間体を単離
した後に再び酸化反応を行うスクラレオライドの製造方
法に比べて、著しく収率が向上することを見出し、本発
明を完成するに至った。
【００１１】即ち、本発明は、スクラレオールを、有機
溶媒中、ルテニウム触媒、相間移動触媒、アルカリおよ
び過硫酸塩の存在下に酸化反応を行うことによりヒドロ
キシケトンおよびエノールエーテルを生成する第一段階
と、これらを単離することなく第一段階終了後の反応系
中に次亜塩素酸塩を添加して連続的に第二段階の酸化反
応を行うことによりスクラレオライドを製造する方法を
提供するものである。したがって、本発明は（１）式
（１）：
溶媒中、ルテニウム触媒、相間移動触媒、アルカリおよ
び過硫酸塩の存在下に酸化反応を行うことによりヒドロ
キシケトンおよびエノールエーテルを生成する第一段階
と、これらを単離することなく第一段階終了後の反応系
中に次亜塩素酸塩を添加して連続的に第二段階の酸化反
応を行うことによりスクラレオライドを製造する方法を
提供するものである。したがって、本発明は（１）式
（１）：
【化８】 で表されるスクラレオールを、有機溶媒中、ルテニウム
触媒、相間移動触媒およびアルカリの存在下、過硫酸塩
で酸化することを特徴とする式（２）：
触媒、相間移動触媒およびアルカリの存在下、過硫酸塩
で酸化することを特徴とする式（２）：
【化９】 で表されるヒドロキシケトンおよび／または式（３）：
【化１０】 で表されるそのエノールエーテルの製造方法、（２）式
（１）：
（１）：
【化１１】 で表されるスクラレオールを、有機溶媒中、ルテニウム
触媒、相間移動触媒およびアルカリの存在下、過硫酸塩
で酸化し、式（２）：
触媒、相間移動触媒およびアルカリの存在下、過硫酸塩
で酸化し、式（２）：
【化１２】 で表されるヒドロキシケトンおよび／または式（３）：
【化１３】 で表されるそのエノールエーテルを生成させ、これを次
亜塩素酸塩で酸化することを特徴とする式（４）：
亜塩素酸塩で酸化することを特徴とする式（４）：
【化１４】 で表されるスクラレオライドの製造方法、（３）有機溶
媒としてクロロベンゼンまたはｎ−ヘプタンとクロロベ
ンゼンの混合溶媒を使用することを特徴とする前記
（１）または（２）に記載の製造方法、（４）アルカリ
として水酸化ナトリウムおよび／または炭酸ナトリウム
を使用することを特徴とする前記（１）〜（３）のいず
れかに記載の製造方法、（５）スクラレオールに対して
３〜３０倍モル量の過硫酸塩を使用することを特徴とす
る前記（１）〜（４）のいずれかに記載の製造方法、お
よび（６）過硫酸塩が過硫酸ナトリウムであることを特
徴とする前記（１）〜（５）のいずれかに記載の製造方
法、に関する。
媒としてクロロベンゼンまたはｎ−ヘプタンとクロロベ
ンゼンの混合溶媒を使用することを特徴とする前記
（１）または（２）に記載の製造方法、（４）アルカリ
として水酸化ナトリウムおよび／または炭酸ナトリウム
を使用することを特徴とする前記（１）〜（３）のいず
れかに記載の製造方法、（５）スクラレオールに対して
３〜３０倍モル量の過硫酸塩を使用することを特徴とす
る前記（１）〜（４）のいずれかに記載の製造方法、お
よび（６）過硫酸塩が過硫酸ナトリウムであることを特
徴とする前記（１）〜（５）のいずれかに記載の製造方
法、に関する。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明に関わるスクラレオライド
の製造方法は、下図に示した反応工程に従い行われる
が、以下に本発明の好ましい実施の態様について詳細に
述べる。
の製造方法は、下図に示した反応工程に従い行われる
が、以下に本発明の好ましい実施の態様について詳細に
述べる。
【化１５】
【００１３】本発明によれば、スクラレオール（１）
を、有機溶媒中にて触媒量のルテニウム触媒、触媒量の
相間移動触媒およびアルカリの存在下、酸化剤として過
硫酸塩を使用して酸化反応を行うことにより、高収率で
ヒドロキシケトン（２）および／またはエノールエーテ
ル（３）を生成させることができる。第一段階の反応終
了後、生成したヒドロキシケトン（２）および／または
エノールエーテル（３）を単離することなく連続的に次
亜塩素酸塩を添加して数時間攪拌することにより、単一
反応容器中においてスクラレオライド（４）を高収率で
製造することができる。
を、有機溶媒中にて触媒量のルテニウム触媒、触媒量の
相間移動触媒およびアルカリの存在下、酸化剤として過
硫酸塩を使用して酸化反応を行うことにより、高収率で
ヒドロキシケトン（２）および／またはエノールエーテ
ル（３）を生成させることができる。第一段階の反応終
了後、生成したヒドロキシケトン（２）および／または
エノールエーテル（３）を単離することなく連続的に次
亜塩素酸塩を添加して数時間攪拌することにより、単一
反応容器中においてスクラレオライド（４）を高収率で
製造することができる。
【００１４】また、第一段階における酸化反応終了時に
反応を終了させることにより、生成したヒドロキシケト
ン（２）および／またはエノールエーテル（３）を高収
率で製造することもできる。
反応を終了させることにより、生成したヒドロキシケト
ン（２）および／またはエノールエーテル（３）を高収
率で製造することもできる。
【００１５】本反応において使用されるルテニウム触媒
としては、塩化ルテニウム、二酸化ルテニウムまたは四
酸化ルテニウム等が挙げられるが、塩化ルテニウムが好
ましい。触媒量としては、スクラレオールに対して約
０．１〜３０モル％程度、好ましくは約０．５〜１０モ
ル％程度である。
としては、塩化ルテニウム、二酸化ルテニウムまたは四
酸化ルテニウム等が挙げられるが、塩化ルテニウムが好
ましい。触媒量としては、スクラレオールに対して約
０．１〜３０モル％程度、好ましくは約０．５〜１０モ
ル％程度である。
【００１６】相間移動触媒としては、例えばテトラアル
キルアンモニウム塩等が挙げられる。その種類は特に限
定されないが、硫酸水素テトラブチルアンモニウム塩、
塩化トリオクチルメチルアンモニウム塩または臭化テト
ラブチルアンモニウム塩等各種四級アンモニウム塩が好
ましい。触媒量としては、スクラレオールに対して約
０．１〜３０モル％程度、好ましくは約０．５〜１０モ
ル％程度である。
キルアンモニウム塩等が挙げられる。その種類は特に限
定されないが、硫酸水素テトラブチルアンモニウム塩、
塩化トリオクチルメチルアンモニウム塩または臭化テト
ラブチルアンモニウム塩等各種四級アンモニウム塩が好
ましい。触媒量としては、スクラレオールに対して約
０．１〜３０モル％程度、好ましくは約０．５〜１０モ
ル％程度である。
【００１７】アルカリとしては、アルカリ金属あるいは
アルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩またはそれらの混
合物の水溶液が挙げられるが、水酸化ナトリウムおよび
／または炭酸ナトリウム等が好ましい。アルカリ水溶液
の使用量としては、使用する過硫酸塩に対して約５０〜
１０００モル％程度、好ましくは約１００〜５００モル
％程度である。
アルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩またはそれらの混
合物の水溶液が挙げられるが、水酸化ナトリウムおよび
／または炭酸ナトリウム等が好ましい。アルカリ水溶液
の使用量としては、使用する過硫酸塩に対して約５０〜
１０００モル％程度、好ましくは約１００〜５００モル
％程度である。
【００１８】有機溶媒は、単一の溶媒でも混合溶媒でも
よい。混合有機溶媒としては、原料のスクラレオールを
良好に溶かし二相系における沸点が必要とする反応温度
以上であれば良い。有機溶媒としては、塩化メチレン、
クロロベンゼン或いはテトラクロロエチレン等のハロゲ
ン化溶媒、トルエン或いはヘプタン等の炭化水素溶媒、
またはそれらの混合溶媒が使用でき、クロロベンゼンま
たはクロロベンゼンとヘプタンの混合溶媒が特に好まし
い。また、これらの有機溶媒は通常非親水性であるが、
本発明の反応系には、上記有機溶媒以外に、例えば水な
どの他の溶媒が存在していてもよい。相間移動触媒を用
いるので、反応系は好ましくは有機溶媒層と水層からな
り、反応は通常有機溶媒層中で行われる。溶媒量として
は、スクラレオールに対して約１〜３０倍容量程度、好
ましくは約３〜１０倍容量程度である。
よい。混合有機溶媒としては、原料のスクラレオールを
良好に溶かし二相系における沸点が必要とする反応温度
以上であれば良い。有機溶媒としては、塩化メチレン、
クロロベンゼン或いはテトラクロロエチレン等のハロゲ
ン化溶媒、トルエン或いはヘプタン等の炭化水素溶媒、
またはそれらの混合溶媒が使用でき、クロロベンゼンま
たはクロロベンゼンとヘプタンの混合溶媒が特に好まし
い。また、これらの有機溶媒は通常非親水性であるが、
本発明の反応系には、上記有機溶媒以外に、例えば水な
どの他の溶媒が存在していてもよい。相間移動触媒を用
いるので、反応系は好ましくは有機溶媒層と水層からな
り、反応は通常有機溶媒層中で行われる。溶媒量として
は、スクラレオールに対して約１〜３０倍容量程度、好
ましくは約３〜１０倍容量程度である。
【００１９】過硫酸塩としては、過硫酸ナトリウム、過
硫酸カリウムまたは過硫酸アンモニウム等が挙げられる
が、過硫酸ナトリウムが好ましい。過硫酸ナトリウムの
使用量としては、スクラレオールに対して約３〜３０倍
モル程度、好ましくは約５〜１５倍モル程度である。
硫酸カリウムまたは過硫酸アンモニウム等が挙げられる
が、過硫酸ナトリウムが好ましい。過硫酸ナトリウムの
使用量としては、スクラレオールに対して約３〜３０倍
モル程度、好ましくは約５〜１５倍モル程度である。
【００２０】次亜塩素酸塩としては、次亜塩素酸のアル
カリ金属またはアルカリ土類金属塩、例えば次亜塩素酸
ナトリウムまたは次亜塩素酸カリウム等が挙げられる
が、次亜塩素酸ナトリウムが好ましい。次亜塩素酸塩水
溶液の濃度としては、約５容量％〜２０容量％程度、好
ましくは約１０容量〜１５容量％程度である。次亜塩素
酸水溶液の使用量としては、スクラレオールに対して有
効塩素濃度として約１〜２０倍モル程度、好ましくは約
３〜１０倍モル程度である。
カリ金属またはアルカリ土類金属塩、例えば次亜塩素酸
ナトリウムまたは次亜塩素酸カリウム等が挙げられる
が、次亜塩素酸ナトリウムが好ましい。次亜塩素酸塩水
溶液の濃度としては、約５容量％〜２０容量％程度、好
ましくは約１０容量〜１５容量％程度である。次亜塩素
酸水溶液の使用量としては、スクラレオールに対して有
効塩素濃度として約１〜２０倍モル程度、好ましくは約
３〜１０倍モル程度である。
【００２１】反応温度としては、室温〜約８０℃程度の
広範囲において可能であるが、反応の収率および反応時
間の関係から特に約４０〜６０℃程度が好ましい。
ここで、室温とは、約１０℃〜３５℃程度の温度をい
う。
広範囲において可能であるが、反応の収率および反応時
間の関係から特に約４０〜６０℃程度が好ましい。
ここで、室温とは、約１０℃〜３５℃程度の温度をい
う。
【００２２】反応時間としては、諸条件により異なる
が、第一段階だけの場合で１〜６時間程度、連続的に第
二段階まで行う場合で３〜１０時間程度必要とするが、
転化率および操作性等から好ましくは４〜８時間程度で
ある。
が、第一段階だけの場合で１〜６時間程度、連続的に第
二段階まで行う場合で３〜１０時間程度必要とするが、
転化率および操作性等から好ましくは４〜８時間程度で
ある。
【００２３】本発明における反応の際に、スクラレオラ
イド（４）の他にヒドロキシカルボン酸塩（７）が反応
系中に生成するが、これらは常法に従い、例えば塩酸な
どの存在下にトルエン溶媒で水抜きなどを行い環化反応
を行うことで容易にスクラレオライド（４）に変換する
ことができる。該反応の反応温度としては、約８０〜１
５０℃程度が好ましい。また、該反応の反応時間として
は、約１〜３時間程度必要とする。
イド（４）の他にヒドロキシカルボン酸塩（７）が反応
系中に生成するが、これらは常法に従い、例えば塩酸な
どの存在下にトルエン溶媒で水抜きなどを行い環化反応
を行うことで容易にスクラレオライド（４）に変換する
ことができる。該反応の反応温度としては、約８０〜１
５０℃程度が好ましい。また、該反応の反応時間として
は、約１〜３時間程度必要とする。
【００２４】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらの実施例により限定されるもの
ではない。なお、％は特に断りのない限り、容量％を表
す。
するが、本発明はこれらの実施例により限定されるもの
ではない。なお、％は特に断りのない限り、容量％を表
す。
【００２５】〔実施例１〕 スクラレオールからヒドロキシケトンおよび／またはエ
ノールエーテルの合成 ２００ml 4つ口フラスコにスクラレオール（２．０g，
６．４８mmol）、塩化ルテニウム（４０mg，１．９３mm
ol）、テトラブチル硫酸水素アンモニウム（２０mg，
０．０６mmol）、５０重量％水酸化ナトリウム水溶液
（１２．０g，１４９mmol）、ヘプタン（２ml）／クロ
ロベンゼン（８ml）混合溶媒、およびヘキサデカン（内
標：０．２９３g，１．３０mmol）を量り込み、２０℃
以下を保ちながら過硫酸ナトリウム水溶液（１５．４
g，６４．８mmol：水３３ml）を６分かけて滴下した。
同温で３０分間攪拌した後、５０℃に加熱し５時間反応
をおこなった。ガスクロマトグラム上で、原料ピークが
消失したところで反応終了とした。反応終了時はヒドロ
キシケトンが主生成物であるが、下記酸性処理により等
価体のエノールエーテルに変換し収率測定を行った。氷
浴で反応液を冷却し、４０℃以下に保ちつつ１０％塩酸
を１０分かけて滴下し、ｐＨ１〜２として３０分間攪拌
後、トルエン１０mlと水道水２０mlを加えて静置・分液
した。水相を廃棄し、有機相を水道水２０mlで洗浄し、
ガスクロマログラムにて内標収率を決定した（内標収率
９３．６％：スクラレオールから）。
ノールエーテルの合成 ２００ml 4つ口フラスコにスクラレオール（２．０g，
６．４８mmol）、塩化ルテニウム（４０mg，１．９３mm
ol）、テトラブチル硫酸水素アンモニウム（２０mg，
０．０６mmol）、５０重量％水酸化ナトリウム水溶液
（１２．０g，１４９mmol）、ヘプタン（２ml）／クロ
ロベンゼン（８ml）混合溶媒、およびヘキサデカン（内
標：０．２９３g，１．３０mmol）を量り込み、２０℃
以下を保ちながら過硫酸ナトリウム水溶液（１５．４
g，６４．８mmol：水３３ml）を６分かけて滴下した。
同温で３０分間攪拌した後、５０℃に加熱し５時間反応
をおこなった。ガスクロマトグラム上で、原料ピークが
消失したところで反応終了とした。反応終了時はヒドロ
キシケトンが主生成物であるが、下記酸性処理により等
価体のエノールエーテルに変換し収率測定を行った。氷
浴で反応液を冷却し、４０℃以下に保ちつつ１０％塩酸
を１０分かけて滴下し、ｐＨ１〜２として３０分間攪拌
後、トルエン１０mlと水道水２０mlを加えて静置・分液
した。水相を廃棄し、有機相を水道水２０mlで洗浄し、
ガスクロマログラムにて内標収率を決定した（内標収率
９３．６％：スクラレオールから）。
【００２６】〔実施例２〕以上の標準操作を基に、溶媒
およびアルカリに関する各種反応条件について検討を行
ったので、その結果を以下の表に示す。
およびアルカリに関する各種反応条件について検討を行
ったので、その結果を以下の表に示す。
【表１】 表１より、クロロベンゼンまたはｎ-ヘプタンとクロロ
ベンゼンの混合溶媒を使用した場合には、反応時間が短
く、内標収率においても９０％以上の高い数値を示し
た。
ベンゼンの混合溶媒を使用した場合には、反応時間が短
く、内標収率においても９０％以上の高い数値を示し
た。
【００２７】
【表２】 表２より、水酸化ナトリウムを使用した場合には、反応
時間が短く、内標収率において９０％以上の高い数値を
示した。
時間が短く、内標収率において９０％以上の高い数値を
示した。
【００２８】〔実施例３〕 スクラレオールからスクラレオライドの合成 ２００ml４つ口フラスコにスクラレオール（２．０g，
６．４８mmol）、塩化ルテニウム（４０mg，１．９３mm
ol）、テトラブチル硫酸水素アンモニウム（２０mg，
０．０６mmol）、５０重量％水酸化ナトリウム水溶液
（１２．０g，１４９mmol）、ヘプタン（２ml）とクロ
ロベンゼン（８ml）混合溶媒、およびヘキサデカン（内
標：０．２９３g，１．３０mmol）を量り込み、２０℃
以下を保ちながら過硫酸ナトリウム水溶液（１５．４
g，６４．８mmol：水３３ml）を６分かけて滴下した。
同温で３０分間攪拌した後、５０℃に加熱し５時間反応
をおこなった。ガスクロマトグラム上で原料ピークが消
失したところで、同温を保ちつつ次亜塩素酸ナトリウム
水溶液（２８g：有効塩素濃度１０．８％）を１０分か
けて滴下した。２時間後、ガスクロマトグラムにて中間
体の消失を確認し、反応終了とした。氷浴で反応液を冷
却し、３０℃以下を保ちつつ２０％亜硫酸ナトリウム水
溶液（２ml）を滴下し、３０分間攪拌した。次いで１０
％塩酸５mlを５分かけて滴下し、ｐＨ６として１５分間
攪拌後、トルエン１０mlと水道水２０mlを加えて静置・
分液した。界面のモヤを含む有機相を１０％塩酸２mlで
洗浄し、有機相について２時間水抜き還流をおこなって
スクラレオライドの内標収率をガスクロマトグラムにて
決定した（内標収率７８．４％：スクラレオールか
ら）。
６．４８mmol）、塩化ルテニウム（４０mg，１．９３mm
ol）、テトラブチル硫酸水素アンモニウム（２０mg，
０．０６mmol）、５０重量％水酸化ナトリウム水溶液
（１２．０g，１４９mmol）、ヘプタン（２ml）とクロ
ロベンゼン（８ml）混合溶媒、およびヘキサデカン（内
標：０．２９３g，１．３０mmol）を量り込み、２０℃
以下を保ちながら過硫酸ナトリウム水溶液（１５．４
g，６４．８mmol：水３３ml）を６分かけて滴下した。
同温で３０分間攪拌した後、５０℃に加熱し５時間反応
をおこなった。ガスクロマトグラム上で原料ピークが消
失したところで、同温を保ちつつ次亜塩素酸ナトリウム
水溶液（２８g：有効塩素濃度１０．８％）を１０分か
けて滴下した。２時間後、ガスクロマトグラムにて中間
体の消失を確認し、反応終了とした。氷浴で反応液を冷
却し、３０℃以下を保ちつつ２０％亜硫酸ナトリウム水
溶液（２ml）を滴下し、３０分間攪拌した。次いで１０
％塩酸５mlを５分かけて滴下し、ｐＨ６として１５分間
攪拌後、トルエン１０mlと水道水２０mlを加えて静置・
分液した。界面のモヤを含む有機相を１０％塩酸２mlで
洗浄し、有機相について２時間水抜き還流をおこなって
スクラレオライドの内標収率をガスクロマトグラムにて
決定した（内標収率７８．４％：スクラレオールか
ら）。
【００２９】〔比較例〕 エノールエーテルからスクラレオライドの合成 以下に、実施例２の第一段階の酸化反応終了後に単離し
て得られたエノールエーテルを使用して、本発明のスク
ラレオライドの製造方法との比較を行った。２００ml４
つ口フラスコに塩化ルテニウム（４０mg，１．９３mmo
l）、テトラブチル硫酸水素アンモニウム（１７mg，１
重量％）、５０重量％水酸化ナトリウム水溶液（２．６
g，３２．５mmol）、ヘプタン／クロロベンゼン（１／
４）混溶媒４．３ml、およびヘキサデカン（内標：０．
２９３g，１．３０mmol）を量り込み、２０℃以下を保
ちながら次亜塩素酸ナトリウム水溶液（２８g：有効塩
素濃度１０．８％）を１０分かけて滴下し、１５分間攪
拌して酸化剤を調製した。同温度でヘプタン／クロロベ
ンゼン（１／４）混合溶媒４．３mlに溶解したエノール
エーテル（１．７０g，６．４８mmol）を１０分間かけ
て滴下し、５０℃に加熱して３時間反応を行った。初め
の１時間前後は、多少反応による発熱があるために必要
に応じて冷却を行った。ガスクロマトグラム上で原料ピ
ーク消失を確認し、反応終了とした。その後、実施例２
と同様な処理を行い、スクラレオライドの内標収率をガ
スクロマトグラムにて決定した（内標収率６６．０％：
エノールエーテル体から）。
て得られたエノールエーテルを使用して、本発明のスク
ラレオライドの製造方法との比較を行った。２００ml４
つ口フラスコに塩化ルテニウム（４０mg，１．９３mmo
l）、テトラブチル硫酸水素アンモニウム（１７mg，１
重量％）、５０重量％水酸化ナトリウム水溶液（２．６
g，３２．５mmol）、ヘプタン／クロロベンゼン（１／
４）混溶媒４．３ml、およびヘキサデカン（内標：０．
２９３g，１．３０mmol）を量り込み、２０℃以下を保
ちながら次亜塩素酸ナトリウム水溶液（２８g：有効塩
素濃度１０．８％）を１０分かけて滴下し、１５分間攪
拌して酸化剤を調製した。同温度でヘプタン／クロロベ
ンゼン（１／４）混合溶媒４．３mlに溶解したエノール
エーテル（１．７０g，６．４８mmol）を１０分間かけ
て滴下し、５０℃に加熱して３時間反応を行った。初め
の１時間前後は、多少反応による発熱があるために必要
に応じて冷却を行った。ガスクロマトグラム上で原料ピ
ーク消失を確認し、反応終了とした。その後、実施例２
と同様な処理を行い、スクラレオライドの内標収率をガ
スクロマトグラムにて決定した（内標収率６６．０％：
エノールエーテル体から）。
【００３０】上記比較例で示した通り、中間体であるヒ
ドロキシケトンおよびエノールエーテルを単離して行う
二段階による酸化反応ではスクレオライドの収率は６６
％であったのに対して、本発明である実施例２の第一段
階と第二段階を連続的に行う酸化反応ではスクレオライ
ドの収率は７８．４％であり、１０％以上の大幅な収率
の改善が認められた。
ドロキシケトンおよびエノールエーテルを単離して行う
二段階による酸化反応ではスクレオライドの収率は６６
％であったのに対して、本発明である実施例２の第一段
階と第二段階を連続的に行う酸化反応ではスクレオライ
ドの収率は７８．４％であり、１０％以上の大幅な収率
の改善が認められた。
【００３１】
【発明の効果】本発明の製造方法においては、従来の製
造方法のように第一段階酸化後の反応停止および後処理
等で中間体のヒドロキシケトン或いはエノールエーテル
を単離する必要が無く、また、操作的にも通常の加熱攪
拌だけで、特に微細な分散液の形成のために超音波或い
はホモジナイザーなどを使用する煩雑な操作も不要であ
る。従って、従来法に比べて各反応工程間の後処理が不
要となり、反応時間ばかりでなく反応処理時間も含めた
製造に要する時間を大幅に短縮することを可能とした。
また、単一の反応容器で連続的に反応を行うことから、
実用性に優れた簡便な操作により、高収率でスクラレオ
ライドを製造することができる。
造方法のように第一段階酸化後の反応停止および後処理
等で中間体のヒドロキシケトン或いはエノールエーテル
を単離する必要が無く、また、操作的にも通常の加熱攪
拌だけで、特に微細な分散液の形成のために超音波或い
はホモジナイザーなどを使用する煩雑な操作も不要であ
る。従って、従来法に比べて各反応工程間の後処理が不
要となり、反応時間ばかりでなく反応処理時間も含めた
製造に要する時間を大幅に短縮することを可能とした。
また、単一の反応容器で連続的に反応を行うことから、
実用性に優れた簡便な操作により、高収率でスクラレオ
ライドを製造することができる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 萩原 利光 神奈川県平塚市西八幡１丁目４番11号 高 砂香料工業株式会社総合研究所内 Ｆターム(参考） 4C037 TA02 4C062 HH55 4G069 AA06 BA21A BA21B BB08B BB10B BB11B BC70B CB07 CB71 CB72 4H006 AA02 AB14 AC13 AC44 BA23 BA37 BA65 BB11 BB12 BE03 BE10 BE12 4H039 CA62 CC20
Claims (6)
- 【請求項１】 式（１）： 【化１】 で表されるスクラレオールを、有機溶媒中、ルテニウム
触媒、相間移動触媒およびアルカリの存在下、過硫酸塩
で酸化することを特徴とする式（２）： 【化２】 で表されるヒドロキシケトンおよび／または式（３）： 【化３】 で表されるエノールエーテルの製造方法。 - 【請求項２】 式（１）： 【化４】 で表されるスクラレオールを、有機溶媒中、ルテニウム
触媒、相間移動触媒およびアルカリの存在下、過硫酸塩
で酸化し、式（２）： 【化５】 で表されるヒドロキシケトンおよび／または式（３）： 【化６】 で表されるエノールエーテルを生成させ、これを次亜塩
素酸塩で酸化することを特徴とする式（４）： 【化７】 で表されるスクラレオライドの製造方法。 - 【請求項３】 有機溶媒としてクロロベンゼンまたはｎ
−ヘプタンとクロロベンゼンの混合溶媒を使用すること
を特徴とする請求項１または２に記載の製造方法。 - 【請求項４】 アルカリとして水酸化ナトリウムおよび
／または炭酸ナトリウムを使用することを特徴とする請
求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。 - 【請求項５】 スクラレオールに対して３〜３０倍モル
量の過硫酸塩を使用することを特徴とする請求項１〜４
のいずれかに記載の製造方法。 - 【請求項６】 過硫酸塩が過硫酸ナトリウムであること
を特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000062551A JP2001247561A (ja) | 2000-03-07 | 2000-03-07 | スクラレオライドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000062551A JP2001247561A (ja) | 2000-03-07 | 2000-03-07 | スクラレオライドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001247561A true JP2001247561A (ja) | 2001-09-11 |
Family
ID=18582553
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000062551A Pending JP2001247561A (ja) | 2000-03-07 | 2000-03-07 | スクラレオライドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001247561A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100355742C (zh) * | 2005-02-24 | 2007-12-19 | 陕西师范大学 | 香紫苏内酯的合成方法 |
| CN100357285C (zh) * | 2005-02-24 | 2007-12-26 | 陕西师范大学 | 环氧香紫苏醇的合成方法 |
| CN102766123A (zh) * | 2011-05-04 | 2012-11-07 | 焦作市馨之源科技有限公司 | 一种由香紫苏醇合成香紫苏内酯的生产工艺 |
| JP2014527051A (ja) * | 2011-08-05 | 2014-10-09 | カウンスィル オブ サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ | Ｃ−９位に酸素が官能化されたラブダン誘導体 |
-
2000
- 2000-03-07 JP JP2000062551A patent/JP2001247561A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100355742C (zh) * | 2005-02-24 | 2007-12-19 | 陕西师范大学 | 香紫苏内酯的合成方法 |
| CN100357285C (zh) * | 2005-02-24 | 2007-12-26 | 陕西师范大学 | 环氧香紫苏醇的合成方法 |
| CN102766123A (zh) * | 2011-05-04 | 2012-11-07 | 焦作市馨之源科技有限公司 | 一种由香紫苏醇合成香紫苏内酯的生产工艺 |
| JP2014527051A (ja) * | 2011-08-05 | 2014-10-09 | カウンスィル オブ サイエンティフィック アンド インダストリアル リサーチ | Ｃ−９位に酸素が官能化されたラブダン誘導体 |
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