JP2001246301A - 塗布方法及び装置 - Google Patents
塗布方法及び装置Info
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- JP2001246301A JP2001246301A JP2000061023A JP2000061023A JP2001246301A JP 2001246301 A JP2001246301 A JP 2001246301A JP 2000061023 A JP2000061023 A JP 2000061023A JP 2000061023 A JP2000061023 A JP 2000061023A JP 2001246301 A JP2001246301 A JP 2001246301A
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Abstract
材に塗膜形成が行なえる塗布方法を提供する。 【解決手段】 フロントエッジとドクターエッジとを備
え、これらのエッジ間のスロットから塗布液を連続して
押し出して上記エッジに対向して背面を支持することな
く連続走行する基材に塗布液を塗布する塗布方法におい
て、ドクターエッジは円弧状に基材側に凸形状に湾曲し
て形成され、ドクターエッジはスロット出口に隣接する
面取り部、これに連続する第1の湾曲部及び第1の湾曲
部曲率半径より大きい曲率を持つ第2の湾曲部からな
り、第2の湾曲部で基材を液膜により支持しつつ、基材
による第1の湾曲部のラップ角を0〜45度可変するこ
とにより塗工膜厚を制御する。
Description
ルム、紙、金属箔等の可撓性支持体、その他の被塗布体
(以下、ウェブ又は基体と称する)に、種々の塗料を塗
布する塗布方法及び装置に関するものである。
としては、ロールコート法、グラビアコート法、スライ
ドビードコート法、ドクターコート法等が用いられてき
たが、最近では生産性や操作性がよく、塗布膜の厚さ制
御性にすぐれていることから、押出し塗布法(エスクト
ルージョン(ダイ)塗布法)が注目されている。
クアップロール等で支持しないで塗工を行なう塗布法で
あって、ウェブに対して所定の張力がかかるように塗布
ヘッドにフロントエッジ面(ウェブ搬送方向に上流側)
とドクターエッジ(ウェブ搬送方向の下流側)を押し付
け、スロットから押出される塗布液の押出し量の変化に
応じてドクターエッジ面とウェブとの間隔を変化させる
ことで、所望の膜厚となるように制御して塗布を行うも
のである。
塗布装置は、これまでは主として磁気塗液の塗工に用い
られ、薄手基材への高速で均一薄膜の形成を主眼に技術
開発が進められてきた傾向がある。したがって、例えば
特公平7−114998号に開示されている塗工方法、
又は特公平7−59309号に開示されている塗布装置
では、いずれもドクターエッジの有効長(ドクターエッ
ジ面の長さ)が数mm〜15mm程度と短いダイノズル
先端形状を持ち、いずれも塗工速度50m/min〜4
00m/min程度においては均一塗工を達成している
ものと思われる。
工速度が早いため基材を安定浮上させるための特別な機
能・性能が必要ではないことによると考えられるが、塗
工速度が2〜150m/minの様に遅い塗工速度では
基材をノズル先端より液膜により安定支持することがで
きないため極めて薄いものの不均一な塗膜しか得ること
ができない。
して15〜75μm程度の薄手基材への高速薄膜均一塗
工を主眼に技術開発が進められてきたが、50〜250
μmと厚手基材への塗工の場合、これらドクターノズル
先端湾曲部曲率と基材曲率とが一致しないために均一塗
膜を形成することができない。またこれまでの塗布ノズ
ルでは、塗布液物性、塗工速度等により塗布可能な膜厚
は異なるが、同一塗布条件における湿潤膜厚の上下限差
は非常に狭く、塗布条件の変更とともに、塗布ノズルの
組み替え等の段取り作業が必要であった。そこで、特公
平7−114997号のような塗布方法が提案されてい
る。しかしながら、特公平7−114997号の塗布方
法ではドクターノズル下流端で基材ラップ角を変化さ
せ、特許公報の記載されているデータによると基材ラッ
プ角変化1度あたり約10マイクロメータ(ミクロン)
程度を示しており、湿潤膜厚10マイクロメータ(ミク
ロン)以下を狙う薄膜塗工ではラップ角0.1度以下の
制御が必要になり実質的に使用できない。
題点を解決するものであって、低速から高速まで塗工速
度領域が広く、かつ厚手基材から薄手基材にまで対応で
き、薄膜塗工においても均一な塗膜の得られる塗工方
法、及び塗工装置の提供することである。
に、フロントエッジとドクターエッジとを備え、これら
のエッジ間のスロットから塗布液を連続して押し出し
て、該エッジに対向して背面を支持することなく該フロ
ントエッジ手前から該ドクターエッジ方向に連続走行す
る基材に該塗布液を塗布する塗布方法において、該ドク
ターエッジは該スロット出口に隣接する面取り部、この
面取り部に連続する第1の湾曲部、及び第1の湾曲部に
連続しその曲率半径より大きい曲率半径をもつ第2の湾
曲部を有し、かつこれら各部を合せた全体が該基材側に
凸にほぼ円弧状に湾曲して形成されてなり、主として第
2の湾曲部で該基材を液膜により支持しつつ、該基材に
よる第1の湾曲部のラップ角を0〜45度の範囲で変え
ることにより塗工膜厚を制御することを特徴とする塗布
方法が提供される。
であることを特徴とする上記第一に記載の塗布方法が提
供される。
隔が10〜200μmであることを特徴とする上記第一
又は第二に記載の塗布方法が提供される。
線とほぼ平行な方向に排出されることを特徴とする上記
第一〜三のいずれかに記載の塗布方法が提供される。
とを備え、これらのエッジ間のスロットから塗布液を連
続して押し出して、該エッジに対向して背面を支持する
ことなく該フロントエッジ手前から該ドクターエッジ方
向に連続走行する基材に該塗布液を塗布する塗布装置に
おいて、該スロット出口に隣接する直線状の面取り部、
この面取り部に連続する曲率半径が1〜15mmの第一
の湾曲部、及び第1の湾曲部に連続する曲率半径が20
〜50mmの第2の湾曲部を有し、これら各部を合わせ
た全体が該基材側に凸にほぼ円弧状に湾曲して形成され
てなり、かつ、該面取り部のスロット内方端部をA点、
該面取り部と第1の湾曲部との接線をB点、第1の湾曲
部と第2の湾曲部との接線をC点、第2の湾曲部の下流
端をDとしたとき、該面取り部の直線ABの該スロット
面に対する角度を15〜80度とし、第1の湾曲部はB
点より5〜45度の角度で湾曲し、第2の湾曲部はC点
より7〜60度の角度で湾曲しており、その曲率中心は
ドクターエッジ側スロット面より基材進行方向側に位置
し、さらに基材による第1の湾曲部のフラップ角を0〜
45度の範囲で変えられることを特徴とする塗布装置が
提供される。
弧BCの長さが0.5〜12mm、弧CDの長さが6.
1〜50mmであり、かつこれら全体のドクターエッジ
面の長さが7.0〜50mmの範囲にあることを特徴と
する上記第五に記載の塗布装置が提供される。
らに詳細に説明する。図1は本発明に係る塗布ヘッドの
要部を表わすとともに、これと塗工される基材との位置
関係を表わしたものである。塗布ヘッドはドクターエッ
ジ1とフロントエッジ2とを備え、これらエッジ間のス
ロット3から塗布液を連続して押出すようになってい
る。基材4の塗布ヘッドに対する進入角度は上流側に設
けられたガイドロール(図示せず)により調整される。
材側に凸で円弧状にほぼ湾曲して形成されている。より
具体的には、上流側から下流側に向かって、スロット出
口に隣接する面取り部11、第1の湾曲部12、第2の
湾曲部13が切れ目や段差がなく連続している。ここ
で、面取り部11は直線状であるが、第1及び第2の湾
曲部12、13は湾曲している。第1の湾曲部の曲率半
径(R1)は1〜15mm、第2の湾曲部の曲率半径
(R2)は20〜50mmであり、R2>R1の関係にな
っている。
のA点を始端とし、B点で第1の湾曲部と連絡し、スロ
ット面に対する角度(θ3)を15〜80度とし、第1
の湾曲部はB点で5〜45度の角度(θ1)をもって湾
曲し、C点において第2の湾曲部と連絡し、第1の湾曲
部及び第2の湾曲部は連続的な湾曲面を成す。第2の湾
曲部はB点より7〜60度の角度(θ2)をもって湾曲
している。切削加工、研削を容易にするために第2の湾
曲部曲率中心と第1の湾曲部曲率中心を通る線15は、
ドクターエッジ側スロット面とほぼ平行が望ましいがこ
れに制約を受けうものではない。面取り部11と第1の
湾曲部12とフロントエッジ2と基材4とによって形成
される液溜りは、面取り部の長さ(直線ABの長さ)を
0.5〜10mm、スロット面に対する角度(θ3)を
15〜80度とし、第1の湾曲部の曲率半径(R1)を
1〜15mmとし弧BCの長さを0.5〜12mmとす
ることで、液溜り量が塗工速度2〜150mm/min
かつwet膜厚5〜50μm程度の条件では、スロット
から液溜りに流入する塗工液の巾方向不均一の解消が可
能となる。基材進行方向断面液留まり断面積が大きくな
ると、塗工速度を大きくした場合空気同伴が発生しやす
い、塗膜耳部の直線性が低下する等の問題が発生する。
前記寸法の通りの面取り形状とすることにより、液溜ま
りの断面形状、断面積が最適化され、これらの問題発生
を抑制することが可能となる。
その有効長さが6.1〜50mmと大きい第2の湾曲部
では、曲率半径と有効長(弧CDの長さ)が大きいため
基材をあたかもバックアップロールで基材を支持するが
ごとく液膜により支持することで安定支持が可能とな
り、これまでのドクターエッジ面の長さが数mm〜15
mm程度と短いダイノズル先端形状では困難であった2
〜150m/minの低速塗工での基材のドクターエッ
ジ先端からの安定浮上が可能となった。
面部曲率半径、基材テンション、塗工液粘度、塗工速度
によって決定されてしまいwet10μm以下の薄膜塗
工が困難になることが分かった。そこで、本発明におい
ては基材による第1の湾曲部のラップ角(θ0)を0度
より大きくし45度以下の範囲に設定することにより、
薄膜化が可能となりwet10μm以下更にはwet5
μm以下の薄膜塗工の達成を可能としている。
湾曲部の曲率半径(R1)を小さく設定し、厚手又は曲
げ剛性の大きい基材では第1の湾曲部の曲率半径(R
1)は大きく設定することで基材による第1の湾曲部の
ラップにより、この部分局部的に高い基材の押し付け圧
を発生させ、液溜りで基材に塗れた塗工液の第1の湾曲
部と基材基材間への流入量をラップ角0度の場合より低
減させることが可能となり更なる薄膜塗工化が可能とな
りwet10μm以下更にはwet5μm以下の薄膜塗
工を実現できる。この時、基体はフロントエッジ手前か
らドクターエッジ方向に搬送され、フロントエッジ先端
X点と基材との間隔を10〜200μmとし、D点で第
2の湾曲部の接線とほぼ平行な方向に搬出されることで
良好な塗膜品質を得ることができる。なお、本発明にお
いてはドクターエッジ面の長さ(有効長)は7.0〜5
0mmの範囲にあるのが望ましい。
塗布ヘッドによる塗布に適した塗布液があれば特に制限
されない。
明する。
を用いて、ウェブ(幅250mmのポリエステルフィル
ム)の片面にPVA(ポリビニルアルコール)の塗膜を
形成した。塗布条件は下記のとおりであり、塗布ヘッド
におけるウェブの張力、ラップ角(抱き角)等を表1に
示すように設定した。結果を併せて表1に示す。 (塗布条件) 塗布液:クラレ社製、ポリビニルアルコール(PVA) 11.5%水溶液:液粘度20CPS 14.0%水溶液:液粘度100CPS 塗布幅:200mm
用いた以外は実施例1〜11を同様にしてウェブの片面
にPVA層を形成した。結果を表2に示す。
〜4に記載の塗布方法及び請求項5、6に記載の塗布装
置によれば、低速から高速まで塗工速度領域が広く、か
つ厚手基材から薄手基材に対応でき、薄膜塗工において
も均一な塗膜を得ることが可能となる。
Claims (6)
- 【請求項1】 フロントエッジとドクターエッジとを備
え、これらのエッジ間のスロットから塗布液を連続して
押し出して、該エッジに対向して背面を支持することな
く該フロントエッジ手前から該ドクターエッジ方向に連
続走行する基材に該塗布液を塗布する方法において、該
ドクターエッジは該スロット出口に隣接する面取り部、
この面取り部に連続する第1の湾曲部、及び第1の湾曲
部に連続しその曲率半径より大きい曲率半径をもつ第2
の湾曲部を有し、かつこれら各部を合せた全体が該基材
側に凸にほぼ円弧状に湾曲して形成されてなり、主とし
て第2の湾曲部で該基材を液膜により支持しつつ、該基
材による第1の湾曲部のラップ角を0〜45度の範囲で
変えることにより塗工膜厚を制御することを特徴とする
塗布方法。 - 【請求項2】 塗工速度が2〜150m/minである
ことを特徴とする請求項1記載の塗布方法。 - 【請求項3】 フロントエッジ先端と基材との間隔が1
0〜200μmであることを特徴とする請求項1又は2
記載の塗布方法。 - 【請求項4】 基材が第2の湾曲部の下流端の接線とほ
ぼ平行な方向に排出されることを特徴とする請求項1〜
3のいずれかに記載の塗布方法。 - 【請求項5】 フロントエッジとドクターエッジとを備
え、これらのエッジ間のスロットから塗布液を連続して
押し出して、該エッジに対向して背面を支持することな
く該フロントエッジ手前から該ドクターエッジ方向に連
続走行する基材に該塗布液を塗布する装置において、該
スロット出口に隣接する直線状の面取り部、この面取り
部に連続する曲率半径が1〜15mmの第1の湾曲部、
及び第1の湾曲部に連続する曲率半径が20〜50mm
の第2の湾曲部を有し、これら各部を合わせた全体が該
基材側に凸にほぼ円弧状に湾曲して形成されてなり、か
つ、該面取り部のスロット内方端部をA点、該面取り部
と第1の湾曲部との接線をB点、第1の湾曲部と第2の
湾曲部との接線をC点、第2の湾曲部の下流端をD点と
したとき、該面取り部の直線ABの該スロット面に対す
る角度を15〜80度とし、第1の湾曲部はB点より5
〜45度の角度で湾曲し、第2の湾曲部はC点より7〜
60度の角度で湾曲しており、その曲率中心はドクター
エッジ側スロット面より基材進行方向側に位置し、さら
に基材による第1の湾曲部のフラップ角を0〜45度の
範囲で変えられることを特徴とする塗布装置。 - 【請求項6】 ABの長さが0.5〜10mm、弧BC
の長さが0.5〜12mm、弧CDの長さが6.1〜5
0mmであり、かつ、これら全体のドクターエッジ面の
長さが7.0〜50mmの範囲にあることを特徴とする
請求項5記載の塗布装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000061023A JP2001246301A (ja) | 2000-03-06 | 2000-03-06 | 塗布方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000061023A JP2001246301A (ja) | 2000-03-06 | 2000-03-06 | 塗布方法及び装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001246301A true JP2001246301A (ja) | 2001-09-11 |
Family
ID=18581237
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000061023A Pending JP2001246301A (ja) | 2000-03-06 | 2000-03-06 | 塗布方法及び装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001246301A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003088790A (ja) * | 2001-09-18 | 2003-03-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布装置 |
JP2009254958A (ja) * | 2008-04-15 | 2009-11-05 | Hitachi Maxell Ltd | フィルムの製造方法 |
-
2000
- 2000-03-06 JP JP2000061023A patent/JP2001246301A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2003088790A (ja) * | 2001-09-18 | 2003-03-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布装置 |
JP2009254958A (ja) * | 2008-04-15 | 2009-11-05 | Hitachi Maxell Ltd | フィルムの製造方法 |
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