JPH06154690A - 塗布装置及び方法 - Google Patents
塗布装置及び方法Info
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- JPH06154690A JPH06154690A JP4336782A JP33678292A JPH06154690A JP H06154690 A JPH06154690 A JP H06154690A JP 4336782 A JP4336782 A JP 4336782A JP 33678292 A JP33678292 A JP 33678292A JP H06154690 A JPH06154690 A JP H06154690A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0254—Coating heads with slot-shaped outlet
-
- D—TEXTILES; PAPER
- D21—PAPER-MAKING; PRODUCTION OF CELLULOSE
- D21H—PULP COMPOSITIONS; PREPARATION THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASSES D21C OR D21D; IMPREGNATING OR COATING OF PAPER; TREATMENT OF FINISHED PAPER NOT COVERED BY CLASS B31 OR SUBCLASS D21G; PAPER NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- D21H23/00—Processes or apparatus for adding material to the pulp or to the paper
- D21H23/02—Processes or apparatus for adding material to the pulp or to the paper characterised by the manner in which substances are added
- D21H23/22—Addition to the formed paper
- D21H23/46—Pouring or allowing the fluid to flow in a continuous stream on to the surface, the entire stream being carried away by the paper
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/848—Coating a support with a magnetic layer by extrusion
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高度な運転制御技術を用いることなく、広範
な運転条件範囲において、安定塗布でき、簡便に良好な
塗布面を確保可能とすること。 【構成】 押出し型塗布装置１０において、塗布ヘッド
１１の上流側リップ１２にそのスロット側エッジＢを起
点とする面取りを施し、上流側リップ１２から下流側リ
ップ１３に引いた接線をＬ、該接線と該上流側リップ１
２との接点をＯとするとき、接線Ｌと線分ＯＢとのなす
角θが０＜θ＜45度を満たすもの。
な運転条件範囲において、安定塗布でき、簡便に良好な
塗布面を確保可能とすること。 【構成】 押出し型塗布装置１０において、塗布ヘッド
１１の上流側リップ１２にそのスロット側エッジＢを起
点とする面取りを施し、上流側リップ１２から下流側リ
ップ１３に引いた接線をＬ、該接線と該上流側リップ１
２との接点をＯとするとき、接線Ｌと線分ＯＢとのなす
角θが０＜θ＜45度を満たすもの。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、走行するウエブに塗布
液を塗布する塗布装置及び方法に関する。ここで、ウエ
ブとしては、プラスチックフィルム、紙シート、布帯、
金属シート等を用い、塗布液としては、磁性分散液、感
光液、感熱分散液、粘着液等を用い、例えば磁気記録媒
体、写真フィルム、感光紙、感熱紙、粘着テープ等を製
造可能とするものである。
液を塗布する塗布装置及び方法に関する。ここで、ウエ
ブとしては、プラスチックフィルム、紙シート、布帯、
金属シート等を用い、塗布液としては、磁性分散液、感
光液、感熱分散液、粘着液等を用い、例えば磁気記録媒
体、写真フィルム、感光紙、感熱紙、粘着テープ等を製
造可能とするものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、特開昭62-117666 号公報に記載の
如くの押出し型塗布装置（エクストルージョン型塗布装
置）が用いられている。この塗布装置は、押出し型塗布
ヘッドの上流側リップと下流側リップの間に設けられた
スロットから塗布液を押出し、該両リップに沿うように
走行するウエブに該塗布液を塗布するものである。
如くの押出し型塗布装置（エクストルージョン型塗布装
置）が用いられている。この塗布装置は、押出し型塗布
ヘッドの上流側リップと下流側リップの間に設けられた
スロットから塗布液を押出し、該両リップに沿うように
走行するウエブに該塗布液を塗布するものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】然しながら、従来の押
出し塗布装置にあっては、安定塗布可能とする運転条件
の範囲が非常に狭い。
出し塗布装置にあっては、安定塗布可能とする運転条件
の範囲が非常に狭い。
【０００４】具体的には、本発明者の研究結果によれ
ば、塗布ヘッドのスロット出口に形成される塗布液のビ
ード（塗布部上流側気液自由界面）端点を上流側リップ
のスロット側エッジに固定的に保持し続ける場合のみ良
好な塗布面が得られる。他方、ビード端点が上流側リッ
プのスロット側エッジの前後にずれる場合には、塗布面
にウエブ走行方向に沿う縦スジムラや、空気同伴ムラを
生ずる。
ば、塗布ヘッドのスロット出口に形成される塗布液のビ
ード（塗布部上流側気液自由界面）端点を上流側リップ
のスロット側エッジに固定的に保持し続ける場合のみ良
好な塗布面が得られる。他方、ビード端点が上流側リッ
プのスロット側エッジの前後にずれる場合には、塗布面
にウエブ走行方向に沿う縦スジムラや、空気同伴ムラを
生ずる。
【０００５】そして、ビード端点を上流側リップのスロ
ット側エッジに安定保持するためには、高度な運転制御
技術、例えばウエブ搬送技術（ウエブ走行速度、ウエブ
張力）、塗布ヘッド設定技術（塗布ヘッドが上、下流の
ガイドロール接線を越えて押し込まれる押込量）、塗布
液供給技術（塗布液供給圧）等が要求される。
ット側エッジに安定保持するためには、高度な運転制御
技術、例えばウエブ搬送技術（ウエブ走行速度、ウエブ
張力）、塗布ヘッド設定技術（塗布ヘッドが上、下流の
ガイドロール接線を越えて押し込まれる押込量）、塗布
液供給技術（塗布液供給圧）等が要求される。
【０００６】本発明は、高度な運転制御技術を用いるこ
となく、広範な運転条件範囲において、安定塗布でき、
簡便に良好な塗布面を確保可能とすることを目的とす
る。
となく、広範な運転条件範囲において、安定塗布でき、
簡便に良好な塗布面を確保可能とすることを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の本発明
は、押出し型塗布ヘッドの上流側リップと下流側リップ
の間に設けられたスロットから塗布液を押出し、該両リ
ップ面に沿うように走行するウエブに該塗布液を塗布す
る塗布装置において、上記塗布ヘッドの上流側リップに
そのスロット側エッジＢを起点とする面取りを施し、上
流側リップから下流側リップに引いた接線をＬ、該接線
と該上流側リップとの接点をＯとするとき、接線Ｌと線
分ＯＢとのなす角θが、Ｏ＜θ＜45度を満たすようにし
たものである。
は、押出し型塗布ヘッドの上流側リップと下流側リップ
の間に設けられたスロットから塗布液を押出し、該両リ
ップ面に沿うように走行するウエブに該塗布液を塗布す
る塗布装置において、上記塗布ヘッドの上流側リップに
そのスロット側エッジＢを起点とする面取りを施し、上
流側リップから下流側リップに引いた接線をＬ、該接線
と該上流側リップとの接点をＯとするとき、接線Ｌと線
分ＯＢとのなす角θが、Ｏ＜θ＜45度を満たすようにし
たものである。
【０００８】請求項２に記載の本発明は、請求項１に記
載の塗布装置を用いる塗布方法であって、塗布ヘッドの
スロット出口に形成される塗布液のビードをＯ〜Ｂ間に
保持し、該塗布液をウエブに塗布するようにしたもので
ある。
載の塗布装置を用いる塗布方法であって、塗布ヘッドの
スロット出口に形成される塗布液のビードをＯ〜Ｂ間に
保持し、該塗布液をウエブに塗布するようにしたもので
ある。
【０００９】
【作用】 塗布ヘッドにおける上流側リップにスロット側エッジ
Ｂを起点とし、上流側リップから下流側リップに引いた
接線Ｌと該上流側リップとの接点Ｏを終点とする、Ｏ〜
Ｂ間をビード保持面とすることができる。即ち、このビ
ード保持面とウエブとにより略テーパ状の間隙を形成
し、ビードをこの間隙の範囲内にて容易に保持し続ける
ことができる。
Ｂを起点とし、上流側リップから下流側リップに引いた
接線Ｌと該上流側リップとの接点Ｏを終点とする、Ｏ〜
Ｂ間をビード保持面とすることができる。即ち、このビ
ード保持面とウエブとにより略テーパ状の間隙を形成
し、ビードをこの間隙の範囲内にて容易に保持し続ける
ことができる。
【００１０】従って、空気同伴防止のために不可欠な
ビードを、上記接線Ｌとスロット側エッジＢとの間の広
い空隙にて容易に発生させることができる。これによ
り、ビードの非形成、もしくは破壊による空気同伴を確
実に防止できる。
ビードを、上記接線Ｌとスロット側エッジＢとの間の広
い空隙にて容易に発生させることができる。これによ
り、ビードの非形成、もしくは破壊による空気同伴を確
実に防止できる。
【００１１】また、過大に成長しようとするビード
を、上記接線Ｌと接点Ｏ近傍との間の狭い空隙により防
止し、ビードのウエブ上流側への過大成長を防止でき
る。これにより、ビードの過大成長による液流れの不安
定さを回避し、縦スジムラ等の欠陥を防止できる。
を、上記接線Ｌと接点Ｏ近傍との間の狭い空隙により防
止し、ビードのウエブ上流側への過大成長を防止でき
る。これにより、ビードの過大成長による液流れの不安
定さを回避し、縦スジムラ等の欠陥を防止できる。
【００１２】上記〜により、高度な運転制御技術
を用いることなく、広範な運転条件範囲において、安定
塗布でき、簡便に良好な塗布面を確保可能とすることが
できる。
を用いることなく、広範な運転条件範囲において、安定
塗布でき、簡便に良好な塗布面を確保可能とすることが
できる。
【００１３】
【実施例】図１は本発明の第１実施例に係る塗布装置を
示す模式図、図２は本発明の第２実施例に係る塗布装置
を示す模式図、図３は塗布ヘッドのタイプ１を示す模式
図、図４は塗布ヘッドのタイプ２を示す模式図、図５は
塗布ヘッドのタイプ３を示す模式図である。
示す模式図、図２は本発明の第２実施例に係る塗布装置
を示す模式図、図３は塗布ヘッドのタイプ１を示す模式
図、図４は塗布ヘッドのタイプ２を示す模式図、図５は
塗布ヘッドのタイプ３を示す模式図である。
【００１４】（第１実施例）（図１、図３〜図５参照） 塗布装置１０は、図１に示す如く、押出し型塗布ヘッド
１１の上流側リップ１２と下流側リップ１３の間に設け
られたスロット１４から塗布液を押出し、両リップ１
２、１３に沿うように走行するウエブ１に塗布液を塗布
する。
１１の上流側リップ１２と下流側リップ１３の間に設け
られたスロット１４から塗布液を押出し、両リップ１
２、１３に沿うように走行するウエブ１に塗布液を塗布
する。
【００１５】ここで、塗布装置１０は、ウエブ１の背面
をバックアップロール等で支持せず、塗布ヘッド１１の
入側と出側のそれぞれに設けられるガイドロール１５、
１６により支持されたウエブ１に、塗布ヘッド１１を押
付ける状態で該ウエブ１に塗布液を塗布する。
をバックアップロール等で支持せず、塗布ヘッド１１の
入側と出側のそれぞれに設けられるガイドロール１５、
１６により支持されたウエブ１に、塗布ヘッド１１を押
付ける状態で該ウエブ１に塗布液を塗布する。
【００１６】塗布装置１０の作動について詳述すれば、
以下の如くである。即ち、塗布液供給系１７より圧送さ
れる塗布液は塗布ヘッド１１のチャンバー１８に送られ
る。チャンバー１８は塗布ヘッド１１の全塗布幅に渡っ
て延在され、塗布幅方向における塗布量の均一化を図る
ように、塗布液をその塗布幅方向に分配させる。チャン
バー１８に送給された塗布液は、上流側リップ１２と下
流側リップ１３の間に設けられたスリット状の狭路であ
る前述のスロット１４を通過し、ウエブ１の走行ライン
側へと排出される。スロット１４は、チャンバー１８と
ともに塗布幅方向における塗布量の均一化を図るように
塗布液をその塗布幅方向に分配させるための圧損付与を
果たし、また塗布液に剪断応力を付与する。スロット１
４から排出された塗布液は、両リップ１２、１３とウエ
ブ１とによって形成される間隙においてウエブ１に塗布
されるが、ここで、この間隙でのビード２の形成が不可
欠である。ビード２の非形成、もしくは破壊は空気同伴
を招き、塗布膜としての致命的な欠陥を生ずる。また、
ビード２のウエブ上流側への過大成長は、液流れの不安
定性を招き、縦スジムラ等の欠陥を生ずる。
以下の如くである。即ち、塗布液供給系１７より圧送さ
れる塗布液は塗布ヘッド１１のチャンバー１８に送られ
る。チャンバー１８は塗布ヘッド１１の全塗布幅に渡っ
て延在され、塗布幅方向における塗布量の均一化を図る
ように、塗布液をその塗布幅方向に分配させる。チャン
バー１８に送給された塗布液は、上流側リップ１２と下
流側リップ１３の間に設けられたスリット状の狭路であ
る前述のスロット１４を通過し、ウエブ１の走行ライン
側へと排出される。スロット１４は、チャンバー１８と
ともに塗布幅方向における塗布量の均一化を図るように
塗布液をその塗布幅方向に分配させるための圧損付与を
果たし、また塗布液に剪断応力を付与する。スロット１
４から排出された塗布液は、両リップ１２、１３とウエ
ブ１とによって形成される間隙においてウエブ１に塗布
されるが、ここで、この間隙でのビード２の形成が不可
欠である。ビード２の非形成、もしくは破壊は空気同伴
を招き、塗布膜としての致命的な欠陥を生ずる。また、
ビード２のウエブ上流側への過大成長は、液流れの不安
定性を招き、縦スジムラ等の欠陥を生ずる。
【００１７】然るに、塗布装置１０は、塗布ヘッド１１
として図３に示すタイプ１のものを用いている。図３に
おいて、Ａ、Ｂは上流側リップ１２の上流側エッジ、下
流側エッジであり、Ｃ、Ｄは下流側リップ１３の上流側
エッジ、下流側エッジであり、Ｌは上流側リップ１２か
ら下流側リップ１３に引いた接線であり、Ｏ、Ｐは接線
Ｌと上流側リップ１２、下流側リップ１３との接点であ
る。そして、このタイプ１の塗布ヘッド１１は、上流側
リップ１２にそのスロット側エッジＢを起点とする平面
状面取りを施し、接線Ｌと線分ＯＢとのなす角が、０＜
θ＜45度を満たすように設定されたものである。
として図３に示すタイプ１のものを用いている。図３に
おいて、Ａ、Ｂは上流側リップ１２の上流側エッジ、下
流側エッジであり、Ｃ、Ｄは下流側リップ１３の上流側
エッジ、下流側エッジであり、Ｌは上流側リップ１２か
ら下流側リップ１３に引いた接線であり、Ｏ、Ｐは接線
Ｌと上流側リップ１２、下流側リップ１３との接点であ
る。そして、このタイプ１の塗布ヘッド１１は、上流側
リップ１２にそのスロット側エッジＢを起点とする平面
状面取りを施し、接線Ｌと線分ＯＢとのなす角が、０＜
θ＜45度を満たすように設定されたものである。
【００１８】尚、塗布装置１０は、塗布ヘッド１１とし
て図４に示すタイプ２のものを用いることもできる。こ
のタイプ２の塗布ヘッド１１がタイプ１の塗布ヘッド１
１と異なる点は、上流側リップ１２にそのスロット側エ
ッジＢを起点とする凸曲面状面取りを施したことにあ
る。このタイプ２の塗布ヘッド１１も、接線Ｌと線分Ｏ
Ｂとのなす角が、０＜θ＜45度を満たすように設定され
たものである。
て図４に示すタイプ２のものを用いることもできる。こ
のタイプ２の塗布ヘッド１１がタイプ１の塗布ヘッド１
１と異なる点は、上流側リップ１２にそのスロット側エ
ッジＢを起点とする凸曲面状面取りを施したことにあ
る。このタイプ２の塗布ヘッド１１も、接線Ｌと線分Ｏ
Ｂとのなす角が、０＜θ＜45度を満たすように設定され
たものである。
【００１９】また、塗布装置１０は、塗布ヘッド１１と
して図５に示すタイプ３のものを用いることもできる。
このタイプ３の塗布ヘッド１１がタイプ１の塗布ヘッド
１１と異なる点は、上流側リップ１２にそのスロット側
エッジＢを起点とする凹曲面状面取りを施したことにあ
る。このタイプ３の塗布ヘッド１１も、接線Ｌと線分Ｏ
Ｂとのなす角が、０＜θ＜45度を満たすように設定され
たものである。
して図５に示すタイプ３のものを用いることもできる。
このタイプ３の塗布ヘッド１１がタイプ１の塗布ヘッド
１１と異なる点は、上流側リップ１２にそのスロット側
エッジＢを起点とする凹曲面状面取りを施したことにあ
る。このタイプ３の塗布ヘッド１１も、接線Ｌと線分Ｏ
Ｂとのなす角が、０＜θ＜45度を満たすように設定され
たものである。
【００２０】以下、本実施例の作用について説明する。 塗布ヘッド１１における上流側リップ１２にスロット
側エッジＢを起点とし、上流側リップ１２から下流側リ
ップ１３に引いた接線Ｌと該上流側リップ１２との接点
Ｏを終点とする、Ｏ〜Ｂ間をビード保持面１２Ａとする
ことができる。即ち、このビード保持面１２Ａとウエブ
１とにより略テーパ状の間隙を形成し、ビード２をこの
間隙の範囲内にて容易に保持し続けることができる。
側エッジＢを起点とし、上流側リップ１２から下流側リ
ップ１３に引いた接線Ｌと該上流側リップ１２との接点
Ｏを終点とする、Ｏ〜Ｂ間をビード保持面１２Ａとする
ことができる。即ち、このビード保持面１２Ａとウエブ
１とにより略テーパ状の間隙を形成し、ビード２をこの
間隙の範囲内にて容易に保持し続けることができる。
【００２１】即ち、塗布装置１０の運転条件がある程度
変動したとしても、ビード２の端点２Ａ（反ウエブ走行
方向の端点）はＯ〜Ｂ間を往来するのみであってＯ〜Ｂ
間から前後に外れることなく、上述のビード保持面１２
Ａ上に保持されるものとなり、結果として、塗布装置１
０の運転条件を緩和しながら安定塗布状態を維持でき
る。
変動したとしても、ビード２の端点２Ａ（反ウエブ走行
方向の端点）はＯ〜Ｂ間を往来するのみであってＯ〜Ｂ
間から前後に外れることなく、上述のビード保持面１２
Ａ上に保持されるものとなり、結果として、塗布装置１
０の運転条件を緩和しながら安定塗布状態を維持でき
る。
【００２２】従って、空気同伴防止のために不可欠な
ビード２を、上記接線Ｌとスロット側エッジＢとの間の
広い空隙にて容易に発生させることができる。これによ
り、ビード２の非形成、もしくは破壊による空気同伴を
確実に防止できる。
ビード２を、上記接線Ｌとスロット側エッジＢとの間の
広い空隙にて容易に発生させることができる。これによ
り、ビード２の非形成、もしくは破壊による空気同伴を
確実に防止できる。
【００２３】また、過大に成長しようとするビード２
を、上記接線Ｌと接点Ｏ近傍との間の狭い空隙により防
止し、ビード２のウエブ上流側への過大成長を防止でき
る。これにより、ビード２の過大成長による液流れの不
安定さを回避し、縦スジムラ等の欠陥を防止できる。
を、上記接線Ｌと接点Ｏ近傍との間の狭い空隙により防
止し、ビード２のウエブ上流側への過大成長を防止でき
る。これにより、ビード２の過大成長による液流れの不
安定さを回避し、縦スジムラ等の欠陥を防止できる。
【００２４】上記〜により、高度な運転制御技術
を用いることなく、広範な運転条件範囲において、安定
塗布でき、簡便に良好な塗布面を確保可能とすることが
できる。
を用いることなく、広範な運転条件範囲において、安定
塗布でき、簡便に良好な塗布面を確保可能とすることが
できる。
【００２５】（第２実施例）（図２参照） 塗布装置２０が塗布装置１０と異なる点は、塗布ヘッド
１１によって塗布液を塗布されるウエブ１の背面を回転
バックアップロール２１によって支持したことのみにあ
る。即ち、塗布装置２０にあっても、図３〜図５に示し
た前述の塗布ヘッド１１を用いることにより、前述と同
一の作用により、高度な運転制御技術を用いることな
く、広範な運転条件範囲において、安定塗布でき、簡便
に良好な塗布面を確保可能とすることができる。
１１によって塗布液を塗布されるウエブ１の背面を回転
バックアップロール２１によって支持したことのみにあ
る。即ち、塗布装置２０にあっても、図３〜図５に示し
た前述の塗布ヘッド１１を用いることにより、前述と同
一の作用により、高度な運転制御技術を用いることな
く、広範な運転条件範囲において、安定塗布でき、簡便
に良好な塗布面を確保可能とすることができる。
【００２６】以下、本発明の実験結果について説明す
る。塗布装置として図１に示したと同様のものを用い、
表１の実験結果を得た。
る。塗布装置として図１に示したと同様のものを用い、
表１の実験結果を得た。
【００２７】
【表１】
【００２８】表１によれば、０＜θ＜45度の本発明塗布
ヘッドを用いることにより、良好な塗布面が得られるこ
とが認められる。尚、運転条件は以下の如くである。
ヘッドを用いることにより、良好な塗布面が得られるこ
とが認められる。尚、運転条件は以下の如くである。
【００２９】(1) 塗布液 シェアレート 1×102sec-1において１ポアズでチキソ
トロピー的性質を示す磁性分散液（塗布液Ａ）
トロピー的性質を示す磁性分散液（塗布液Ａ）
【００３０】シェアレート 1〜 1×103sec-1において
約20センチ・ポアズのニュートニアン的性質を示すバイ
ンダー希釈溶液（塗布液Ｂ）
約20センチ・ポアズのニュートニアン的性質を示すバイ
ンダー希釈溶液（塗布液Ｂ）
【００３１】(2) 塗布速度：150m/min (3) 塗布膜厚：乾燥 1μm (4) ウエブ：75μm 厚PET-film (5) 角θ：-10 度、 0度、5 度、15度、30度、45度、60
度
度
【００３２】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、高度な運
転制御技術を用いることなく、広範な運転条件範囲にお
いて、安定塗布でき、簡便に良好な塗布面を確保可能と
することができる。
転制御技術を用いることなく、広範な運転条件範囲にお
いて、安定塗布でき、簡便に良好な塗布面を確保可能と
することができる。
【図１】図１は本発明の第１実施例に係る塗布装置を示
す模式図である。
す模式図である。
【図２】図２は本発明の第２実施例に係る塗布装置を示
す模式図である。
す模式図である。
【図３】図３は塗布ヘッドのタイプ１を示す模式図であ
る。
る。
【図４】図４は塗布ヘッドのタイプ２を示す模式図であ
る。
る。
【図５】図５は塗布ヘッドのタイプ３を示す模式図であ
る。
る。
１ ウエブ ２ ビード １０、２０ 塗布装置 １１ 塗布ヘッド １２ 上流側リップ １３ 下流側リップ １４ スロット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 仲間 豊 東京都墨田区文花２−１−３ 花王株式会 社内
Claims (2)
- 【請求項１】 押出し型塗布ヘッドの上流側リップと下
流側リップの間に設けられたスロットから塗布液を押出
し、該両リップ面に沿うように走行するウエブに該塗布
液を塗布する塗布装置において、 上記塗布ヘッドの上流側リップにそのスロット側エッジ
Ｂを起点とする面取りを施し、 上流側リップから下流側リップに引いた接線をＬ、該接
線と該上流側リップとの接点をＯとするとき、接線Ｌと
線分ＯＢとのなす角θが、Ｏ＜θ＜45度を満たすことを
特徴とする塗布装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の塗布装置を用いる塗布
方法であって、塗布ヘッドのスロット出口に形成される
塗布液のビードをＯ〜Ｂ間に保持し、該塗布液をウエブ
に塗布することを特徴とする塗布方法。
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|---|---|---|---|
| JP4336782A JP2902238B2 (ja) | 1992-11-25 | 1992-11-25 | 塗布装置及び方法 |
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4336782A JP2902238B2 (ja) | 1992-11-25 | 1992-11-25 | 塗布装置及び方法 |
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| JP2902238B2 JP2902238B2 (ja) | 1999-06-07 |
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Family Applications (1)
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| CN108568380B (zh) * | 2018-05-26 | 2020-03-27 | 深圳市信宇人科技股份有限公司 | 弯道式挤压涂布头 |
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- 1992-11-25 JP JP4336782A patent/JP2902238B2/ja not_active Expired - Fee Related
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1993
- 1993-11-23 US US08/156,553 patent/US5418004A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
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