JP2001240611A - 遷移金属錯体およびこれを含む重合触媒 - Google Patents
遷移金属錯体およびこれを含む重合触媒Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 遷移金属触媒を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で示される遷移金属錯体
（１）を含むオレフィン重合用触媒。 一般式（１）
（１）を含むオレフィン重合用触媒。 一般式（１）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な重合触媒お
よびこの触媒を用いるオレフィン系重合体の製造方法に
関する。
よびこの触媒を用いるオレフィン系重合体の製造方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】メタロセン錯体を用いるオレフィン重合
体の製造法については多くの報告がなされている。例え
ば、特開昭５８−１９３０９号公報において、メタロセ
ン錯体とアルミノキサンを用いたオレフィン重合体の製
造方法に関して報告されている。 また、最近、メタロ
セン構造をもたない重合触媒も報告されおり、例えば、
シッフベース型配位子をもつ遷移金属化合物を用いる重
合触媒（ＥＰ0874005号公報）なども報告されている。
しかしながら、アミノアルコールとケトフェノールとか
ら合成される下記一般式（１）で示されるような配位子
をもつ遷移金属錯体を重合触媒として用いる例は知られ
ていない。該錯体は、容易に収率よく合成可能であり、
また、光学活性なアミノアルコールを用いることによ
り、容易に光学活性な遷移金属錯体を得ることも可能で
ある。
体の製造法については多くの報告がなされている。例え
ば、特開昭５８−１９３０９号公報において、メタロセ
ン錯体とアルミノキサンを用いたオレフィン重合体の製
造方法に関して報告されている。 また、最近、メタロ
セン構造をもたない重合触媒も報告されおり、例えば、
シッフベース型配位子をもつ遷移金属化合物を用いる重
合触媒（ＥＰ0874005号公報）なども報告されている。
しかしながら、アミノアルコールとケトフェノールとか
ら合成される下記一般式（１）で示されるような配位子
をもつ遷移金属錯体を重合触媒として用いる例は知られ
ていない。該錯体は、容易に収率よく合成可能であり、
また、光学活性なアミノアルコールを用いることによ
り、容易に光学活性な遷移金属錯体を得ることも可能で
ある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、新規な重合
触媒およびこれを用いるオレフィン重合体の製造方法を
提供しようとするものである。
触媒およびこれを用いるオレフィン重合体の製造方法を
提供しようとするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため、鋭意検討した結果、新規重合触媒およ
びこれを用いるオレフィン系重合体の製造方法を見出
し、本発明に至った。
を解決するため、鋭意検討した結果、新規重合触媒およ
びこれを用いるオレフィン系重合体の製造方法を見出
し、本発明に至った。
【０００５】すなわち、本発明は下記遷移金属錯体
（１）を用いることを特徴とするオレフィン重合用触
媒、およびこれを用いることを特徴とするオレフィン重
合体の製造方法を提供するものである。一般式（１） （式中、Ｒ1〜Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7はそれぞれ独立に水素原
子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１
〜２０の炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素
置換シロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、スルホン、アシルオキ
シ基、アルコキシカルボニル基、スルホンアミド基、炭
化水素置換アミノ基、イミノ基、ニトロ基、シアノ基、
ホスフィノ基、ホスフィンオキシド基、ホスファイト
基、ホスフェート基、チオホスフェート基またはホスフ
ォリックアミド基を示し、Ｒ5は、水素原子または置換
基を有していてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を示
し、これらは結合して環を形成していてもよい。Ｘはハ
ロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０
の炭化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシ
ルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、スルホン、アシルオキシ基、アル
コキシカルボニル基、スルホンアミド基、炭化水素置換
アミノ基を示し、これらは結合して環を形成してもよ
い。Ｌは０価の配位性基を示す。Ｍは４〜１０族遷移金
属原子を示し、ｐは１〜６までの整数、ｑは１以上の整
数、ｒおよびｓはＭの価数を満たす０以上の整数を示
す。）
（１）を用いることを特徴とするオレフィン重合用触
媒、およびこれを用いることを特徴とするオレフィン重
合体の製造方法を提供するものである。一般式（１） （式中、Ｒ1〜Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7はそれぞれ独立に水素原
子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１
〜２０の炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素
置換シロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、スルホン、アシルオキ
シ基、アルコキシカルボニル基、スルホンアミド基、炭
化水素置換アミノ基、イミノ基、ニトロ基、シアノ基、
ホスフィノ基、ホスフィンオキシド基、ホスファイト
基、ホスフェート基、チオホスフェート基またはホスフ
ォリックアミド基を示し、Ｒ5は、水素原子または置換
基を有していてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を示
し、これらは結合して環を形成していてもよい。Ｘはハ
ロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０
の炭化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシ
ルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、スルホン、アシルオキシ基、アル
コキシカルボニル基、スルホンアミド基、炭化水素置換
アミノ基を示し、これらは結合して環を形成してもよ
い。Ｌは０価の配位性基を示す。Ｍは４〜１０族遷移金
属原子を示し、ｐは１〜６までの整数、ｑは１以上の整
数、ｒおよびｓはＭの価数を満たす０以上の整数を示
す。）
【０００６】また、一般式（４） （式中、Ｒ1はアリール基、３級アルキル基、３級アラ
ルキル基または炭化水素置換シリル基を示す。Ｒ2〜
Ｒ4、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ12〜Ｒ21は、それぞれ独立に水素原
子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１
〜２０の炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素
置換シロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、スルホン、アシルオキ
シ基、アルコキシカルボニル基、スルホンアミノ基、炭
化水素置換アミノ基、イミノ基、ニトロ基、シアノ基、
ホスフィノ基、ホスフィンオキシド基、ホスファイト
基、ホスフェート基、チオホスフェート基またはホスフ
ォリックアミド基を示し、Ｒ5は水素原子または置換基
を有していても良い炭素数１〜２０の炭化水素基を示
し、これらは結合して環を形成していてもよい。Ｒ8、
Ｒ9、Ｒ12〜Ｒ21の少なくとも１つはＮ、Ｏ、Ｐまたは
Ｓ原子を含む。Ｘはハロゲン原子、炭素数１〜２０の置
換基を有していてもよい炭化水素基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニ
ル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホン、ア
シルオキシ基、アルコキシカルボニル基、スルホンアミ
ド基、炭化水素置換アミノ基を示す。Ｌは０価の配位性
基を示す。Ｍは４〜１０族遷移金属原子を示す。ｑは１
以上の整数、ｒおよびｓはそれぞれＭの価数を満たす０
以上の整数を示す。）で示される遷移金属錯体およびそ
の製造方法をも提供するものである。
ルキル基または炭化水素置換シリル基を示す。Ｒ2〜
Ｒ4、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ12〜Ｒ21は、それぞれ独立に水素原
子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１
〜２０の炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素
置換シロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、スルホン、アシルオキ
シ基、アルコキシカルボニル基、スルホンアミノ基、炭
化水素置換アミノ基、イミノ基、ニトロ基、シアノ基、
ホスフィノ基、ホスフィンオキシド基、ホスファイト
基、ホスフェート基、チオホスフェート基またはホスフ
ォリックアミド基を示し、Ｒ5は水素原子または置換基
を有していても良い炭素数１〜２０の炭化水素基を示
し、これらは結合して環を形成していてもよい。Ｒ8、
Ｒ9、Ｒ12〜Ｒ21の少なくとも１つはＮ、Ｏ、Ｐまたは
Ｓ原子を含む。Ｘはハロゲン原子、炭素数１〜２０の置
換基を有していてもよい炭化水素基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニ
ル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホン、ア
シルオキシ基、アルコキシカルボニル基、スルホンアミ
ド基、炭化水素置換アミノ基を示す。Ｌは０価の配位性
基を示す。Ｍは４〜１０族遷移金属原子を示す。ｑは１
以上の整数、ｒおよびｓはそれぞれＭの価数を満たす０
以上の整数を示す。）で示される遷移金属錯体およびそ
の製造方法をも提供するものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明で提供されるオレフィン重合触媒は一般式
（１） （式中、Ｒ1〜Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7はそれぞれ独立に水素原
子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１
〜２０の炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素
置換シロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、スルホン、アシルオキ
シ基、アルコキシカルボニル基、スルホンアミド基、炭
化水素置換アミノ基、イミノ基、ニトロ基、シアノ基、
ホスフィノ基、ホスフィンオキシド基、ホスファイト
基、ホスフェート基、チオホスフェート基またはホスフ
ォリックアミド基を示し、Ｒ5は、水素原子、置換基を
有していてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を示し、
これらは結合して環を形成していてもよい。Ｘはハロゲ
ン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の炭
化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオ
キシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、スルホン、アシルオキシ基、アルコキシ
カルボニル基、スルホンアミド基、炭化水素置換アミノ
基を示し、これらは結合して環を形成してもよい。Ｌは
０価の配位性基を示す。Ｍは４〜１０族遷移金属原子を
示し、ｐは１〜６までの整数、ｑは１以上の整数、ｒお
よびｓはＭの価数を満たす０以上の整数を示す。）で示
される遷移金属錯体を含むことを特徴とする。一般式
（１）で示される化合物において、好ましくは、、一般
式（２） （式中、Ｒ1〜Ｒ5、Ｘ、Ｌ、Ｍ、ｑ、ｒおよびｓはそれ
ぞれ前記と同じ意味を表わす。Ｒ8〜Ｒ11はそれぞれ独
立に水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していても良
い炭素数１〜２０の炭化水素基、炭化水素置換シリル
基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アリール
オキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカル
ボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ン、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、スルホ
ンアミノ基、炭化水素置換アミノ基、イミノ基、ニトロ
基、シアノ基、ホスフィノ基、ホスフィンオキシド基、
ホスファイト基、ホスフェート基、チオホスフェート基
またはホスフォリックアミド基を示し、これらは結合し
て環を形成していてもよい。）で示される化合物、より
好ましくは、一般式（３） （式中、Ｒ1〜Ｒ5、Ｒ8、Ｒ9、Ｌ、Ｍ、Ｘ、ｑ、ｒおよ
びｓはそれぞれ前記と同じ意味を表わす。Ｒ12〜Ｒ
21は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、置換基
を有していても良い炭素数１〜２０の炭化水素基、炭化
水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、
アルコキシカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基、スルホン、アシルオキシ基、アルコキシカルボニ
ル基、スルホンアミノ基、炭化水素置換アミノ基、イミ
ノ基、ニトロ基、シアノ基、ホスフィノ基、ホスフィン
オキシド基、ホスファイト基、ホスフェート基、チオホ
スフェート基またはホスフォリックアミド基を示し、こ
れらは結合して環を形成していてもよい。）で示される
化合物が挙げられる。
する。本発明で提供されるオレフィン重合触媒は一般式
（１） （式中、Ｒ1〜Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7はそれぞれ独立に水素原
子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１
〜２０の炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素
置換シロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、スルホン、アシルオキ
シ基、アルコキシカルボニル基、スルホンアミド基、炭
化水素置換アミノ基、イミノ基、ニトロ基、シアノ基、
ホスフィノ基、ホスフィンオキシド基、ホスファイト
基、ホスフェート基、チオホスフェート基またはホスフ
ォリックアミド基を示し、Ｒ5は、水素原子、置換基を
有していてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を示し、
これらは結合して環を形成していてもよい。Ｘはハロゲ
ン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の炭
化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオ
キシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、スルホン、アシルオキシ基、アルコキシ
カルボニル基、スルホンアミド基、炭化水素置換アミノ
基を示し、これらは結合して環を形成してもよい。Ｌは
０価の配位性基を示す。Ｍは４〜１０族遷移金属原子を
示し、ｐは１〜６までの整数、ｑは１以上の整数、ｒお
よびｓはＭの価数を満たす０以上の整数を示す。）で示
される遷移金属錯体を含むことを特徴とする。一般式
（１）で示される化合物において、好ましくは、、一般
式（２） （式中、Ｒ1〜Ｒ5、Ｘ、Ｌ、Ｍ、ｑ、ｒおよびｓはそれ
ぞれ前記と同じ意味を表わす。Ｒ8〜Ｒ11はそれぞれ独
立に水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していても良
い炭素数１〜２０の炭化水素基、炭化水素置換シリル
基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アリール
オキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカル
ボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ン、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、スルホ
ンアミノ基、炭化水素置換アミノ基、イミノ基、ニトロ
基、シアノ基、ホスフィノ基、ホスフィンオキシド基、
ホスファイト基、ホスフェート基、チオホスフェート基
またはホスフォリックアミド基を示し、これらは結合し
て環を形成していてもよい。）で示される化合物、より
好ましくは、一般式（３） （式中、Ｒ1〜Ｒ5、Ｒ8、Ｒ9、Ｌ、Ｍ、Ｘ、ｑ、ｒおよ
びｓはそれぞれ前記と同じ意味を表わす。Ｒ12〜Ｒ
21は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、置換基
を有していても良い炭素数１〜２０の炭化水素基、炭化
水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、
アルコキシカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基、スルホン、アシルオキシ基、アルコキシカルボニ
ル基、スルホンアミノ基、炭化水素置換アミノ基、イミ
ノ基、ニトロ基、シアノ基、ホスフィノ基、ホスフィン
オキシド基、ホスファイト基、ホスフェート基、チオホ
スフェート基またはホスフォリックアミド基を示し、こ
れらは結合して環を形成していてもよい。）で示される
化合物が挙げられる。
【０００８】上記一般式（１）、（２）、（３）で示さ
れる遷移金属化合物において、ハロゲン原子としては、
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
れる遷移金属化合物において、ハロゲン原子としては、
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
【０００９】置換基を有していてもよい炭化水素基とし
てはメチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブ
チル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ｎ−ペ
ンチル基、ネオペンチル基、アミル基 、ｔ−アミル
基、ｎ−ヘキシル基、シクロへキシル基、ｎ−オクチル
基、ｎ−デシル基、アダマンチル基、フェニル基、トリ
ル基、ナフチル基、アントラセニル基、ベンジル基、ジ
メチルベンジル基、ジエチルベンジル基、ベンジルオキ
シメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロフェニル
基、クロロフェニル基、ヨウドフェニル基、メトキシフ
ェニル基、ジメチルアミノフェニル基、ピリジル基など
が例示される。
てはメチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブ
チル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ｎ−ペ
ンチル基、ネオペンチル基、アミル基 、ｔ−アミル
基、ｎ−ヘキシル基、シクロへキシル基、ｎ−オクチル
基、ｎ−デシル基、アダマンチル基、フェニル基、トリ
ル基、ナフチル基、アントラセニル基、ベンジル基、ジ
メチルベンジル基、ジエチルベンジル基、ベンジルオキ
シメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロフェニル
基、クロロフェニル基、ヨウドフェニル基、メトキシフ
ェニル基、ジメチルアミノフェニル基、ピリジル基など
が例示される。
【００１０】炭化水素置換シリル基としては、トリメチ
ルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシ
リル基、トリフェニルシリル基、トリベンジルシリル
基、ジメチルイソプロピルシリル基、ジエチルイソプロ
ピルシリル基、t-ブチルジメチルシリル基、t-ブチルジ
フェニルシリル基などが例示される。
ルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシ
リル基、トリフェニルシリル基、トリベンジルシリル
基、ジメチルイソプロピルシリル基、ジエチルイソプロ
ピルシリル基、t-ブチルジメチルシリル基、t-ブチルジ
フェニルシリル基などが例示される。
【００１１】炭化水素置換シロキシ基としては、トリメ
チルシロキシ基、トリエチルシロキシ基、トリイソプロ
ピルシロキシ基、トリフェニルシロキシ基、トリベンジ
ルシロキシ基、ジメチルイソプロピルシロキシ基、ジエ
チルイソプロピルシロキシ基、t-ブチルジメチルシロキ
シ基、t-ブチルジフェニルシロキシ基などが例示され
る。
チルシロキシ基、トリエチルシロキシ基、トリイソプロ
ピルシロキシ基、トリフェニルシロキシ基、トリベンジ
ルシロキシ基、ジメチルイソプロピルシロキシ基、ジエ
チルイソプロピルシロキシ基、t-ブチルジメチルシロキ
シ基、t-ブチルジフェニルシロキシ基などが例示され
る。
【００１２】アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキ
シ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ
基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ
基、ベンジル基などが例示される。アリールオキシ基、
としてはフェノキシ基、メチルフェノキシ基、ナフトキ
シ基などが例示される。
シ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ
基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ
基、ベンジル基などが例示される。アリールオキシ基、
としてはフェノキシ基、メチルフェノキシ基、ナフトキ
シ基などが例示される。
【００１３】アシル基としてはホルミル基、アセチル
基、ベンゾイル基などが例示される。アシルオキシ基、
アルコキシカルボニル基、としては、アセトキシ基、ベ
ンゾイロキシ基、メトキシカルボニル基、フェノキシカ
ルボニル基などが例示される。
基、ベンゾイル基などが例示される。アシルオキシ基、
アルコキシカルボニル基、としては、アセトキシ基、ベ
ンゾイロキシ基、メトキシカルボニル基、フェノキシカ
ルボニル基などが例示される。
【００１４】アルキルチオ基としては、メチルチオ基、
エチルチオ基が例示される。アリールチオ基としてはフ
ェニルチオ基などが例示される。スルホンエステル基と
しては、アセチルチオ基、ベンゾイルチオ基などが例示
される。スルホンアミド基としては、Ｎ−メチルスルホ
ンアミド基、フェニルスルホンアミド基などが例示され
る。
エチルチオ基が例示される。アリールチオ基としてはフ
ェニルチオ基などが例示される。スルホンエステル基と
しては、アセチルチオ基、ベンゾイルチオ基などが例示
される。スルホンアミド基としては、Ｎ−メチルスルホ
ンアミド基、フェニルスルホンアミド基などが例示され
る。
【００１５】炭化水素置換アミノ基としては、ジメチル
アミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジ
ベンジルアミノ基、ピペリジニル基などが例示される。
イミノ基としては、メチルイミノ基、エチルイミノ基、
プロピルイミノ基、シクロへキシルイミノ基、フェニル
イミノ基などが例示される。
アミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジ
ベンジルアミノ基、ピペリジニル基などが例示される。
イミノ基としては、メチルイミノ基、エチルイミノ基、
プロピルイミノ基、シクロへキシルイミノ基、フェニル
イミノ基などが例示される。
【００１６】ホスフィノ基としてはジメチルホスフィノ
基、ジエチルホスフィノ基、ジ−ｔ−ブチルホスフィノ
基、ジフェニルホスフィノ基などが例示される。ホスフ
ィンオキシド基としてはジメチルホスフィンオキシド
基、ジエチルホスフィンオキシド基、ジ−ｔ−ブチルホ
スフィンオキシド基、ジフェニルホスフィンオキシド基
などが例示される。ホスファイト基としてはジメチルホ
スファイト基、ジエチルホスファイト基、ジフェニルホ
スファイト基などが例示される。ホスフェート基として
はジメチルホスフェート基、ジエチルホスフェート基、
ジフェニルホスフェート基などが例示される。チオホス
フェート基としてはジメチルチオホスフェート基、ジエ
チルチオホスフェート基、ジフェニルチオホスフェート
基などが例示される。ホスフォリックアミド基としては
テトラメチルホスフォリックアミド基などが例示され
る。
基、ジエチルホスフィノ基、ジ−ｔ−ブチルホスフィノ
基、ジフェニルホスフィノ基などが例示される。ホスフ
ィンオキシド基としてはジメチルホスフィンオキシド
基、ジエチルホスフィンオキシド基、ジ−ｔ−ブチルホ
スフィンオキシド基、ジフェニルホスフィンオキシド基
などが例示される。ホスファイト基としてはジメチルホ
スファイト基、ジエチルホスファイト基、ジフェニルホ
スファイト基などが例示される。ホスフェート基として
はジメチルホスフェート基、ジエチルホスフェート基、
ジフェニルホスフェート基などが例示される。チオホス
フェート基としてはジメチルチオホスフェート基、ジエ
チルチオホスフェート基、ジフェニルチオホスフェート
基などが例示される。ホスフォリックアミド基としては
テトラメチルホスフォリックアミド基などが例示され
る。
【００１７】Ｌとしてはテトラヒドロフラン、ジエチル
エーテル、ジメトキシエタンなどのエーテル、トリエチ
ルアミン、テトラメチルエチレンジアミンなどのアミ
ン、アセトニトリルなどのニトリル、トリフェニルホス
フィンなどのホスフィンなどが例示される。
エーテル、ジメトキシエタンなどのエーテル、トリエチ
ルアミン、テトラメチルエチレンジアミンなどのアミ
ン、アセトニトリルなどのニトリル、トリフェニルホス
フィンなどのホスフィンなどが例示される。
【００１８】ＭとしてはＴｉ，Ｚｒ，Ｈｆなどの４族遷
移金属、Ｆｅ，Ｒｕなどの８族遷移金属、Ｎｉ，Ｐｄな
どの１０族遷移金属、Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎなどが例示され
る。
移金属、Ｆｅ，Ｒｕなどの８族遷移金属、Ｎｉ，Ｐｄな
どの１０族遷移金属、Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎなどが例示され
る。
【００１９】以下に一般式（１）で示される遷移金属化
合物の具体的な例を示すが、これらに限定されるもので
はない。Ｍとしては４〜１０族遷移金属原子を示し、好
ましくは４、８または１０族遷移金属原子を示し、より
好ましくはＺｒを示す。Ｘはハロゲン原子、置換基を有
していてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシ
カルボニル基、、アルキルチオ基、アリールチオ基、ス
ルホン、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ス
ルホンアミド基、炭化水素置換アミノ基を示す。また、
Ｘが複数ある場合、これらは同じであっても異なってい
てもよい。ビナフトキシ基などのように２座配位であっ
てもよい。
合物の具体的な例を示すが、これらに限定されるもので
はない。Ｍとしては４〜１０族遷移金属原子を示し、好
ましくは４、８または１０族遷移金属原子を示し、より
好ましくはＺｒを示す。Ｘはハロゲン原子、置換基を有
していてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシ
カルボニル基、、アルキルチオ基、アリールチオ基、ス
ルホン、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ス
ルホンアミド基、炭化水素置換アミノ基を示す。また、
Ｘが複数ある場合、これらは同じであっても異なってい
てもよい。ビナフトキシ基などのように２座配位であっ
てもよい。
【００２０】また、一般式（１）で示される遷移金属錯
体はアキラルであってもキラルであってもよい。
体はアキラルであってもキラルであってもよい。
【００２１】具体的化合物を、以下に例示する。
【００２２】
【００２３】
【００２４】
【００２５】本発明のオレフィン重合触媒には、下記化
合物（Ｂ）、さらに化合物（Ｃ）を共存させるとよりよ
い触媒効果を発揮し得る。化合物（Ｂ）としては、公知
の有機アルミニウム化合物が使用でき、好ましくは、
（Ｂ１）一般式 Ｅ1 a ＡｌＺ3-a で示される有機アル
ミニウム化合物、（Ｂ２）一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−
Ｏ−｝b で示される構造を有する環状のアルミノキサ
ン、及び（Ｂ３）一般式 Ｅ3 ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ
−｝c ＡｌＥ3 2 で示される構造を有する線状のアルミ
ノキサン（式中、Ｅ1 、Ｅ2 、Ｅ3 は、炭素数１〜８の
炭化水素基であり、Ｅ1 、Ｅ2、Ｅ3 は同じであっても
異なっていてもよい。Ｚは水素原子又はハロゲン原子を
示し、Ｚは同じであっても異なっていてもよい。ａは０
＜ａ≦３の整数で、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の
整数を示す。）のうちのいずれか、あるいはそれらの２
〜３種の混合物を例示することができる。
合物（Ｂ）、さらに化合物（Ｃ）を共存させるとよりよ
い触媒効果を発揮し得る。化合物（Ｂ）としては、公知
の有機アルミニウム化合物が使用でき、好ましくは、
（Ｂ１）一般式 Ｅ1 a ＡｌＺ3-a で示される有機アル
ミニウム化合物、（Ｂ２）一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−
Ｏ−｝b で示される構造を有する環状のアルミノキサ
ン、及び（Ｂ３）一般式 Ｅ3 ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ
−｝c ＡｌＥ3 2 で示される構造を有する線状のアルミ
ノキサン（式中、Ｅ1 、Ｅ2 、Ｅ3 は、炭素数１〜８の
炭化水素基であり、Ｅ1 、Ｅ2、Ｅ3 は同じであっても
異なっていてもよい。Ｚは水素原子又はハロゲン原子を
示し、Ｚは同じであっても異なっていてもよい。ａは０
＜ａ≦３の整数で、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の
整数を示す。）のうちのいずれか、あるいはそれらの２
〜３種の混合物を例示することができる。
【００２６】一般式 Ｅ1 a ＡｌＺ3-a で示される有機
アルミニウム化合物（Ｂ１）の具体例としては、トリメ
チルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロ
ピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ
ヘキシルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム；
ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウ
ムクロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジ
イソブチルアルミニウムハクロライド、ジヘキシルアル
ミニウムクロライド等のジアルキルアルミニウムクロラ
イド；メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミ
ニウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライ
ド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ヘキシルア
ルミニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジク
ロライド；ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチ
ルアルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウム
ハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライ
ド、ジヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアルキ
ルアルミニウムハイドライド等を例示することができ
る。好ましくは、トリアルキルアルミニウムであり、よ
り好ましくは、トリエチルアルミニウム、トリイソブチ
ルアルミニウムである。
アルミニウム化合物（Ｂ１）の具体例としては、トリメ
チルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロ
ピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ
ヘキシルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム；
ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウ
ムクロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジ
イソブチルアルミニウムハクロライド、ジヘキシルアル
ミニウムクロライド等のジアルキルアルミニウムクロラ
イド；メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミ
ニウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライ
ド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ヘキシルア
ルミニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジク
ロライド；ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチ
ルアルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウム
ハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライ
ド、ジヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアルキ
ルアルミニウムハイドライド等を例示することができ
る。好ましくは、トリアルキルアルミニウムであり、よ
り好ましくは、トリエチルアルミニウム、トリイソブチ
ルアルミニウムである。
【００２７】一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−Ｏ−｝b で示
される構造を有する環状のアルミノキサン（Ｂ２）、一
般式 Ｅ3 ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝c ＡｌＥ3 2 で示
される構造を有する線状のアルミノキサン（Ｂ３）にお
ける、Ｅ2 、Ｅ3 の具体例としては、メチル基、エチル
基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブ
チル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基、ネオペン
チル基等のアルキル基を例示することができる。ｂは２
以上の整数であり、ｃは１以上の整数である。好ましく
は、Ｅ2 及びＥ3 はメチル基、イソブチル基であり、ｂ
は２〜４０の整数、ｃは１〜４０の整数である。
される構造を有する環状のアルミノキサン（Ｂ２）、一
般式 Ｅ3 ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝c ＡｌＥ3 2 で示
される構造を有する線状のアルミノキサン（Ｂ３）にお
ける、Ｅ2 、Ｅ3 の具体例としては、メチル基、エチル
基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブ
チル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基、ネオペン
チル基等のアルキル基を例示することができる。ｂは２
以上の整数であり、ｃは１以上の整数である。好ましく
は、Ｅ2 及びＥ3 はメチル基、イソブチル基であり、ｂ
は２〜４０の整数、ｃは１〜４０の整数である。
【００２８】上記のアルミノキサンは各種の方法で造ら
れる。その方法については特に制限はなく、公知の方法
に準じて造ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウ
ム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を適当な有
機溶剤（ベンゼン、脂肪族炭化水素など）に溶かした溶
液を水と接触させて造る。また、トリアルキルアルミニ
ウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を結晶水
を含んでいる金属塩（例えば、硫酸銅水和物など）に接
触させて造る方法が例示できる。
れる。その方法については特に制限はなく、公知の方法
に準じて造ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウ
ム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を適当な有
機溶剤（ベンゼン、脂肪族炭化水素など）に溶かした溶
液を水と接触させて造る。また、トリアルキルアルミニ
ウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を結晶水
を含んでいる金属塩（例えば、硫酸銅水和物など）に接
触させて造る方法が例示できる。
【００２９】〔化合物Ｃ〕本発明の重合触媒には、化合
物（Ｃ）を共存させることができ、かかる化合物（Ｃ）
としては、（Ｃ１）一般式ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 で示されるホ
ウ素化合物、（Ｃ２）一般式Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4
）- で示されるホウ素化合物、（Ｃ３）一般式（Ｌ−
Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で示されるホウ素化合
物のいずれかを用いることができる。
物（Ｃ）を共存させることができ、かかる化合物（Ｃ）
としては、（Ｃ１）一般式ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 で示されるホ
ウ素化合物、（Ｃ２）一般式Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4
）- で示されるホウ素化合物、（Ｃ３）一般式（Ｌ−
Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で示されるホウ素化合
物のいずれかを用いることができる。
【００３０】一般式 ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 で示されるホウ素
化合物（Ｃ１）において、Ｂは３価の原子価状態のホウ
素原子であり、Ｑ1 〜Ｑ3 はハロゲン原子、１〜２０個
の炭素原子を含む炭化水素基、１〜２０個の炭素原子を
含むハロゲン化炭化水素基、１〜２０個の炭素原子を含
む置換シリル基、１〜２０個の炭素原子を含むアルコキ
シ基または２〜２０個の炭素原子を含む２置換アミノ基
であり、それらは同じであっても異なっていてもよい。
好ましいＱ1 〜Ｑ3 はハロゲン原子、１〜２０個の炭素
原子を含む炭化水素基、１〜２０個の炭素原子を含むハ
ロゲン化炭化水素基である。
化合物（Ｃ１）において、Ｂは３価の原子価状態のホウ
素原子であり、Ｑ1 〜Ｑ3 はハロゲン原子、１〜２０個
の炭素原子を含む炭化水素基、１〜２０個の炭素原子を
含むハロゲン化炭化水素基、１〜２０個の炭素原子を含
む置換シリル基、１〜２０個の炭素原子を含むアルコキ
シ基または２〜２０個の炭素原子を含む２置換アミノ基
であり、それらは同じであっても異なっていてもよい。
好ましいＱ1 〜Ｑ3 はハロゲン原子、１〜２０個の炭素
原子を含む炭化水素基、１〜２０個の炭素原子を含むハ
ロゲン化炭化水素基である。
【００３１】ホウ素化合物（Ｃ１）の具体例としては、
トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、トリス
（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボラン、
トリス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボ
ラン、トリス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボ
ラン、トリス（２，３，４−トリフルオロフェニル）ボ
ラン、フェニルビス（ペンタフルオロフェニル）ボラン
等が挙げられるが、より好ましくは、トリス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボランである。
トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、トリス
（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボラン、
トリス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボ
ラン、トリス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボ
ラン、トリス（２，３，４−トリフルオロフェニル）ボ
ラン、フェニルビス（ペンタフルオロフェニル）ボラン
等が挙げられるが、より好ましくは、トリス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボランである。
【００３２】一般式Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で示
されるホウ素化合物（Ｃ２）において、Ｚ+ は無機また
は有機のカチオンであり、Ｂは３価の原子価状態のホウ
素原子であり、Ｑ1 〜Ｑ4 は上記の（Ｃ１）におけるＱ
1 〜Ｑ3 と同様である。
されるホウ素化合物（Ｃ２）において、Ｚ+ は無機また
は有機のカチオンであり、Ｂは３価の原子価状態のホウ
素原子であり、Ｑ1 〜Ｑ4 は上記の（Ｃ１）におけるＱ
1 〜Ｑ3 と同様である。
【００３３】一般式 Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で
示される化合物の具体例としては、無機のカチオンであ
るＺ+ には、フェロセニウムカチオン、アルキル置換フ
ェロセニウムカチオン、銀陽イオンなどが、有機のカチ
オンであるＺ+ には、トリフェニルメチルカチオンなど
が挙げられる。（ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- には、テトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス
（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボレー
ト、テトラキス（２，３，４，５−テトラフルオロフェ
ニル）ボレート、テトラキス（３，４，５−トリフルオ
ロフェニル）ボレート、テトラキス（２，２，４ートリ
フルオロフェニル）ボレート、フェニルビス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレ−ト、テトラキス（３，５−ビス
トリフルオロメチルフェニル）ボレートなどが挙げられ
る。
示される化合物の具体例としては、無機のカチオンであ
るＺ+ には、フェロセニウムカチオン、アルキル置換フ
ェロセニウムカチオン、銀陽イオンなどが、有機のカチ
オンであるＺ+ には、トリフェニルメチルカチオンなど
が挙げられる。（ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- には、テトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス
（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボレー
ト、テトラキス（２，３，４，５−テトラフルオロフェ
ニル）ボレート、テトラキス（３，４，５−トリフルオ
ロフェニル）ボレート、テトラキス（２，２，４ートリ
フルオロフェニル）ボレート、フェニルビス（ペンタフ
ルオロフェニル）ボレ−ト、テトラキス（３，５−ビス
トリフルオロメチルフェニル）ボレートなどが挙げられ
る。
【００３４】これらの具体的な組み合わせとしては、フ
ェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レート、１，１’−ジメチルフェロセニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、銀テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメ
チルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
トリフェニルメチルテトラキス（３，５−ビストリフル
オロメチルフェニル）ボレートなどを挙げることができ
るが、より好ましくは、トリフェニルメチルテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレートである。
ェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レート、１，１’−ジメチルフェロセニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、銀テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメ
チルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
トリフェニルメチルテトラキス（３，５−ビストリフル
オロメチルフェニル）ボレートなどを挙げることができ
るが、より好ましくは、トリフェニルメチルテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレートである。
【００３５】また、一般式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ
3 Ｑ4 ）- で示されるホウ素化合物（Ｃ３）ＮＩおいて
は、Ｌは中性ルイス塩基であり、（Ｌ−Ｈ）+ はブレン
ステッド酸であり、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子
であり、Ｑ1 〜Ｑ4 は上記の（Ｃ１）におけるＱ1 〜Ｑ
3 と同様である。
3 Ｑ4 ）- で示されるホウ素化合物（Ｃ３）ＮＩおいて
は、Ｌは中性ルイス塩基であり、（Ｌ−Ｈ）+ はブレン
ステッド酸であり、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子
であり、Ｑ1 〜Ｑ4 は上記の（Ｃ１）におけるＱ1 〜Ｑ
3 と同様である。
【００３６】一般式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4
）- で示される化合物の具体例としては、ブレンステ
ッド酸である（Ｌ−Ｈ）+ には、トリアルキル置換アン
モニウム、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム、ジアルキ
ルアンモニウム、トリアリールホスホニウムなどが挙げ
られ、（ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- には、前述と同様のも
のが挙げられる。
）- で示される化合物の具体例としては、ブレンステ
ッド酸である（Ｌ−Ｈ）+ には、トリアルキル置換アン
モニウム、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム、ジアルキ
ルアンモニウム、トリアリールホスホニウムなどが挙げ
られ、（ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- には、前述と同様のも
のが挙げられる。
【００３７】これらの具体的な組み合わせとしては、ト
リエチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマル
ブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウム
テトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニ
ル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジエ
チルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニ
リニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（３，５
−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、ジイソ
プロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニ
ルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート、トリ（メチルフェニル）ホスホニウムテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ジメ
チルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレートなどを挙げることができるが、よ
り好ましくは、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、もしく
は、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。
リエチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマル
ブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウム
テトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニ
ル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジエ
チルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニ
リニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（３，５
−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、ジイソ
プロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニ
ルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）
ボレート、トリ（メチルフェニル）ホスホニウムテトラ
キス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ジメ
チルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオ
ロフェニル）ボレートなどを挙げることができるが、よ
り好ましくは、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、もしく
は、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。
【００３８】以下、重合方法について説明する。重合に
用いる各触媒成分の使用量は、通常、化合物（Ｂ）／遷
移金属錯体（１）のモル比は、通常、０．１〜１０００
０、好ましくは５〜２０００であり、化合物（Ｃ）／遷
移金属錯体（１）のモル比は通常、０．０１〜１００、
好ましくは０．５〜１０の範囲にあるように、各成分を
用いることが好ましい。
用いる各触媒成分の使用量は、通常、化合物（Ｂ）／遷
移金属錯体（１）のモル比は、通常、０．１〜１０００
０、好ましくは５〜２０００であり、化合物（Ｃ）／遷
移金属錯体（１）のモル比は通常、０．０１〜１００、
好ましくは０．５〜１０の範囲にあるように、各成分を
用いることが好ましい。
【００３９】本発明において、重合に使用するモノマー
は、炭素原子数２〜２０個からなるオレフィン、ジオレ
フィン及びカルボン酸、エステル、アミノ基、等の極性
の置換基をもつオレフィン等のいずれをも用いることが
でき、同時に２種類以上のモノマーを用いることもでき
る。かかるモノマーを以下に例示するが、本発明は下記
化合物に限定されるべきものではない。かかるオレフィ
ンの具体例としては、エチレン、プロピレン、ブテン−
１、ペンテン−１、ヘキセン−１、ヘプテン−１、オク
テン−１、ノネン−１、デセン−１、５−メチル−２−
ペンテン−１、ビニルシクロヘキセン等が挙げられ、ジ
オレフィン化合物としては、炭化水素化合物の共役ジエ
ン、非共役ジエンが挙げられ、かかる化合物の具体例と
しては、非共役ジエン化合物の具体例として、１，５−
ヘキサジエン、１，４−ヘキサジエン、１，４−ペンタ
ジエン、１，７−オクタジエン、１，８−ノナジエン、
１，９−デカジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエ
ン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、７−メチル−
１，６−オクタジエン、５−エチリデン−２−ノルボル
ネン、ジシクロペンタジエン、５−ビニル−２−ノルボ
ルネン、５−メチル−２−ノルボルネン、ノルボルナジ
エン、５−メチレン−２−ノルボルネン、１，５−シク
ロオクタジエン、５，８−エンドメチレンヘキサヒドロ
ナフタレン等が例示され、共役ジエン化合物の具体例と
しては、１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ヘ
キサジエン、１，３−オクタジエン、１，３−シクロオ
クタジエン、１，３−シクロヘキサジエン等を例示する
ことができ、極性の置換基をもつオレフィンの具体例と
しては、アクリル酸、アクリル酸メチル、メタクリル
酸、メタクリル酸メチル、酢酸ビニル等が例示される。
より好ましくは、エチレンが挙げられる。
は、炭素原子数２〜２０個からなるオレフィン、ジオレ
フィン及びカルボン酸、エステル、アミノ基、等の極性
の置換基をもつオレフィン等のいずれをも用いることが
でき、同時に２種類以上のモノマーを用いることもでき
る。かかるモノマーを以下に例示するが、本発明は下記
化合物に限定されるべきものではない。かかるオレフィ
ンの具体例としては、エチレン、プロピレン、ブテン−
１、ペンテン−１、ヘキセン−１、ヘプテン−１、オク
テン−１、ノネン−１、デセン−１、５−メチル−２−
ペンテン−１、ビニルシクロヘキセン等が挙げられ、ジ
オレフィン化合物としては、炭化水素化合物の共役ジエ
ン、非共役ジエンが挙げられ、かかる化合物の具体例と
しては、非共役ジエン化合物の具体例として、１，５−
ヘキサジエン、１，４−ヘキサジエン、１，４−ペンタ
ジエン、１，７−オクタジエン、１，８−ノナジエン、
１，９−デカジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエ
ン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、７−メチル−
１，６−オクタジエン、５−エチリデン−２−ノルボル
ネン、ジシクロペンタジエン、５−ビニル−２−ノルボ
ルネン、５−メチル−２−ノルボルネン、ノルボルナジ
エン、５−メチレン−２−ノルボルネン、１，５−シク
ロオクタジエン、５，８−エンドメチレンヘキサヒドロ
ナフタレン等が例示され、共役ジエン化合物の具体例と
しては、１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ヘ
キサジエン、１，３−オクタジエン、１，３−シクロオ
クタジエン、１，３−シクロヘキサジエン等を例示する
ことができ、極性の置換基をもつオレフィンの具体例と
しては、アクリル酸、アクリル酸メチル、メタクリル
酸、メタクリル酸メチル、酢酸ビニル等が例示される。
より好ましくは、エチレンが挙げられる。
【００４０】共重合体を構成するモノマーの具体例とし
ては、エチレンとプロピレン、エチレンとブテン−１、
エチレンとヘキセン−１、プロピレンとブテン−１等が
例示されるが、本発明は、上記化合物に限定されるべき
ものではない。
ては、エチレンとプロピレン、エチレンとブテン−１、
エチレンとヘキセン−１、プロピレンとブテン−１等が
例示されるが、本発明は、上記化合物に限定されるべき
ものではない。
【００４１】重合方法も、特に限定されるべきものでは
ないが、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン
等の芳香族炭化水素、又はメチレンジクロライド等のハ
ロゲン化炭化水素を溶媒として用いる溶媒重合、又はス
ラリー重合、ガス状のモノマー中での気相重合等が可能
であり、また、連続重合、回分式重合のどちらでも可能
である。
ないが、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン
等の芳香族炭化水素、又はメチレンジクロライド等のハ
ロゲン化炭化水素を溶媒として用いる溶媒重合、又はス
ラリー重合、ガス状のモノマー中での気相重合等が可能
であり、また、連続重合、回分式重合のどちらでも可能
である。
【００４２】重合温度は、通常、−５０℃〜２００℃程
度の範囲を取り得るが、特に、−２０℃〜１００℃程度
の範囲が好ましく、重合圧力は、常圧〜６０ｋｇ／ｃｍ
２Ｇ（６ＭＰａ）程度が好ましい。重合時間は、目的と
するポリマーの種類、反応装置により適宜決定される
が、一般的に、１分間〜２０時間程度の範囲とすること
ができる。また、本発明は共重合体の分子量を調節する
ために水素等の連鎖移動剤を添加することもできる。
度の範囲を取り得るが、特に、−２０℃〜１００℃程度
の範囲が好ましく、重合圧力は、常圧〜６０ｋｇ／ｃｍ
２Ｇ（６ＭＰａ）程度が好ましい。重合時間は、目的と
するポリマーの種類、反応装置により適宜決定される
が、一般的に、１分間〜２０時間程度の範囲とすること
ができる。また、本発明は共重合体の分子量を調節する
ために水素等の連鎖移動剤を添加することもできる。
【００４３】一般式（４） （式中、Ｒ1はアリール基、３級アルキル基、３級アラ
ルキル基または炭化水素置換シリル基を示す。Ｒ2〜
Ｒ4、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ12〜Ｒ21は、それぞれ独立に水素原
子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１
〜２０の炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素
置換シロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
シル基、、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホン、アシルオ
キシ基、アルコキシカルボニル基、スルホンアミノ基、
炭化水素置換アミノ基、イミノ基、ニトロ基、シアノ
基、ホスフィノ基、ホスフィンオキシド基、ホスファイ
ト基、ホスフェート基、チオホスフェート基またはホス
フォリックアミド基を示し、これらは結合して環を形成
していてもよい。Ｒ8、Ｒ9、Ｒ12〜Ｒ21の少なくとも１
つはＮ、Ｏ、ＰまたはＳ原子を含む。Ｒ5は水素原子ま
たは置換基を有していても良い炭素数１〜２０の炭化水
素基を示す。Ｘはハロゲン原子、炭素数１〜２０の（置
換）炭化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
シルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、スルホン、アシルオキシ基、アル
コキシカルボニル基、スルホンアミド基、炭化水素置換
アミノ基を示す。Ｌは０価の配位性基を示す。Ｍは４〜
１０族遷移金属原子を示す。ｑは１以上の整数、ｒおよ
びｓはそれぞれＭの価数を満たす０以上の整数を示
す。）で示される遷移金属錯体はEur. J. Org. Che
m.（1998）,(6),1063、J. Org.Chem.（1993）,58(6),1
515、EP0874005号などに記載されている方法に準じて合
成できる。例えば塩基の存在下、一般式（５） （式中、Ｒ1はアリール基、３級アルキル基、３級アラ
ルキル基または炭化水素置換シリル基を示す。Ｒ2〜
Ｒ4、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ12〜Ｒ21は、それぞれ独立に水素原
子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１
〜２０の炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素
置換シロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、スルホン、アシルオキ
シ基、アルコキシカルボニル基、スルホンアミノ基、炭
化水素置換アミノ基、イミノ基、ニトロ基、シアノ基、
ホスフィノ基、ホスフィンオキシド基、ホスファイト
基、ホスフェート基、チオホスフェート基またはホスフ
ォリックアミド基を示し、これらは結合して環を形成し
ていてもよい。Ｒ8、Ｒ9、Ｒ12〜Ｒ21の少なくとも１つ
はＮ、Ｏ、ＰまたはＳ原子を含む。Ｒ5は水素原子また
は置換基を有していても良い炭素数１〜２０の炭化水素
基を示す。Ｘはハロゲン原子、炭素数１〜２０の（置
換）炭化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
シルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、スルホン、アシルオキシ基、アル
コキシカルボニル基、スルホンアミド基、炭化水素置換
アミノ基を示す。）で示されるシッフベース型アルコー
ルと 一般式（６） ＭＸ(r+2)ＬS （式中、Ｍ、Ｘ、Ｌ、ｒおよびｓは前記と同じ。）で示
される遷移金属化合物とを反応させることにより製造す
ることができる。
ルキル基または炭化水素置換シリル基を示す。Ｒ2〜
Ｒ4、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ12〜Ｒ21は、それぞれ独立に水素原
子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１
〜２０の炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素
置換シロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
シル基、、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホン、アシルオ
キシ基、アルコキシカルボニル基、スルホンアミノ基、
炭化水素置換アミノ基、イミノ基、ニトロ基、シアノ
基、ホスフィノ基、ホスフィンオキシド基、ホスファイ
ト基、ホスフェート基、チオホスフェート基またはホス
フォリックアミド基を示し、これらは結合して環を形成
していてもよい。Ｒ8、Ｒ9、Ｒ12〜Ｒ21の少なくとも１
つはＮ、Ｏ、ＰまたはＳ原子を含む。Ｒ5は水素原子ま
たは置換基を有していても良い炭素数１〜２０の炭化水
素基を示す。Ｘはハロゲン原子、炭素数１〜２０の（置
換）炭化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
シルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、スルホン、アシルオキシ基、アル
コキシカルボニル基、スルホンアミド基、炭化水素置換
アミノ基を示す。Ｌは０価の配位性基を示す。Ｍは４〜
１０族遷移金属原子を示す。ｑは１以上の整数、ｒおよ
びｓはそれぞれＭの価数を満たす０以上の整数を示
す。）で示される遷移金属錯体はEur. J. Org. Che
m.（1998）,(6),1063、J. Org.Chem.（1993）,58(6),1
515、EP0874005号などに記載されている方法に準じて合
成できる。例えば塩基の存在下、一般式（５） （式中、Ｒ1はアリール基、３級アルキル基、３級アラ
ルキル基または炭化水素置換シリル基を示す。Ｒ2〜
Ｒ4、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ12〜Ｒ21は、それぞれ独立に水素原
子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１
〜２０の炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素
置換シロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、スルホン、アシルオキ
シ基、アルコキシカルボニル基、スルホンアミノ基、炭
化水素置換アミノ基、イミノ基、ニトロ基、シアノ基、
ホスフィノ基、ホスフィンオキシド基、ホスファイト
基、ホスフェート基、チオホスフェート基またはホスフ
ォリックアミド基を示し、これらは結合して環を形成し
ていてもよい。Ｒ8、Ｒ9、Ｒ12〜Ｒ21の少なくとも１つ
はＮ、Ｏ、ＰまたはＳ原子を含む。Ｒ5は水素原子また
は置換基を有していても良い炭素数１〜２０の炭化水素
基を示す。Ｘはハロゲン原子、炭素数１〜２０の（置
換）炭化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
シルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、スルホン、アシルオキシ基、アル
コキシカルボニル基、スルホンアミド基、炭化水素置換
アミノ基を示す。）で示されるシッフベース型アルコー
ルと 一般式（６） ＭＸ(r+2)ＬS （式中、Ｍ、Ｘ、Ｌ、ｒおよびｓは前記と同じ。）で示
される遷移金属化合物とを反応させることにより製造す
ることができる。
【００４４】反応の方法は特に限定されないが通常、窒
素、アルゴンなどの不活性雰囲気において、溶媒の存在
下、 一般式（５）で示されるシッフベース型アルコー
ルと有機アルカリ（土類）金属および／または有機塩基
と接触させた後、遷移金属化合物（６）を反応させるこ
とにより実施できる。
素、アルゴンなどの不活性雰囲気において、溶媒の存在
下、 一般式（５）で示されるシッフベース型アルコー
ルと有機アルカリ（土類）金属および／または有機塩基
と接触させた後、遷移金属化合物（６）を反応させるこ
とにより実施できる。
【００４５】上記反応において、有機アルカリ（土類）
金属としては、メチルリチウム、n-ブチルリチウム、se
c-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウム、リチウムヘ
キサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラ
ジド、カリウムヘキサメチルジシラジド、リチウムジイ
ソウロピルアミド、メチルマグネシウムブロミド、フェ
ニルマグネシウムブロミド、水素化ナトリウム、水素化
カリウム、水素化カルシウムなどが例示される。
金属としては、メチルリチウム、n-ブチルリチウム、se
c-ブチルリチウム、tert-ブチルリチウム、リチウムヘ
キサメチルジシラジド、ナトリウムヘキサメチルジシラ
ジド、カリウムヘキサメチルジシラジド、リチウムジイ
ソウロピルアミド、メチルマグネシウムブロミド、フェ
ニルマグネシウムブロミド、水素化ナトリウム、水素化
カリウム、水素化カルシウムなどが例示される。
【００４６】有機塩基としては、トリメチルアミン、ト
リエチルアミン、ピリジン、メチルピリジン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノピリジン、ジメチルアニリン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウン
デカ-7-エン（ＤＢＵ）、1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]
ノナ-5-エン（ＤＢＮ）、テトラメチルエチレンジアミ
ン（ＴＭＥＤＡ）などが例示される。
リエチルアミン、ピリジン、メチルピリジン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノピリジン、ジメチルアニリン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウン
デカ-7-エン（ＤＢＵ）、1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]
ノナ-5-エン（ＤＢＮ）、テトラメチルエチレンジアミ
ン（ＴＭＥＤＡ）などが例示される。
【００４７】塩基の仕込み比はシッフベース型アルコー
ル（４）に対して、通常０．５〜１０モル倍であり、好
ましくは、１〜４モル倍である。
ル（４）に対して、通常０．５〜１０モル倍であり、好
ましくは、１〜４モル倍である。
【００４８】シッフベース型アルコール（５）に対する
遷移金属化合物（６）の仕込み比は、通常０．１〜５モ
ル倍であり、好ましくは、０．２〜２モル倍である。
遷移金属化合物（６）の仕込み比は、通常０．１〜５モ
ル倍であり、好ましくは、０．２〜２モル倍である。
【００４９】かかる溶媒は特に限定されないが、ペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族
炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン
等の芳香族炭化水素、ジクロロロメタン、クロロホル
ム、ジクロロエタン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素、モ
ノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族ハロゲ
ン化炭化水素、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、
メチル ｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン等の
エーテル類およびこれらの混合物が例示される。その使
用量は、 通常、シッフベース型アルコール（５）の１
〜２００重量倍であり、好ましくは３〜３０重量倍であ
る。
ン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族
炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン
等の芳香族炭化水素、ジクロロロメタン、クロロホル
ム、ジクロロエタン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素、モ
ノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族ハロゲ
ン化炭化水素、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、
メチル ｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン等の
エーテル類およびこれらの混合物が例示される。その使
用量は、 通常、シッフベース型アルコール（５）の１
〜２００重量倍であり、好ましくは３〜３０重量倍であ
る。
【００５０】反応温度としては、通常は−100℃〜溶媒
の沸点において実施され、好ましくは−80〜30℃程度で
ある。
の沸点において実施され、好ましくは−80〜30℃程度で
ある。
【００５１】反応後、例えば不溶固体を除去し、溶媒を
留去することにより遷移金属錯体（４）を得ることがで
きる。必要に応じ、再結晶、昇華など通常の方法により
精製することができる。
留去することにより遷移金属錯体（４）を得ることがで
きる。必要に応じ、再結晶、昇華など通常の方法により
精製することができる。
【００５２】一般式（５）で示されるシッフベース型ア
ルコールは特開昭50-29535号公報、Pure＆Appl.Chem.,v
ol.57,No12,1839(1985)、などに記載の方法に従い製造
することができる。
ルコールは特開昭50-29535号公報、Pure＆Appl.Chem.,v
ol.57,No12,1839(1985)、などに記載の方法に従い製造
することができる。
【００５３】すなわちアミノ酸エステルに過剰のGrigna
rd試薬を反応させることにより、一般式（７） （式中、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ12〜Ｒ21は、前記と同じ意味を表
す。）で示されるアミノアルコールを製造することがで
きる。なお、原料に光学活性アミノ酸エステルを用いる
と、光学活性なアミノアルコール（７）が得られる。
rd試薬を反応させることにより、一般式（７） （式中、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ12〜Ｒ21は、前記と同じ意味を表
す。）で示されるアミノアルコールを製造することがで
きる。なお、原料に光学活性アミノ酸エステルを用いる
と、光学活性なアミノアルコール（７）が得られる。
【００５４】上記反応の方法は特に限定されないが、窒
素、アルゴンなどの不活性雰囲気において、溶媒の存在
下、アミノ酸エステルに過剰のGrignard試薬を反応させ
ることにより製造することができる。
素、アルゴンなどの不活性雰囲気において、溶媒の存在
下、アミノ酸エステルに過剰のGrignard試薬を反応させ
ることにより製造することができる。
【００５５】Grignard試薬の仕込比はアミノ酸エステル
に対し、通常２モル倍以上であり、好ましくは３〜５モ
ル倍である。
に対し、通常２モル倍以上であり、好ましくは３〜５モ
ル倍である。
【００５６】溶媒は特に限定されないが、ジエチルエー
テル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラ
ンなどのエーテル類あるいはヘキサン、ベンゼン、トル
エンなどの炭化水素類、あるいはこれら２種以上よりな
る混合溶媒系が好ましい。
テル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラ
ンなどのエーテル類あるいはヘキサン、ベンゼン、トル
エンなどの炭化水素類、あるいはこれら２種以上よりな
る混合溶媒系が好ましい。
【００５７】反応温度としては、通常、-100℃〜溶媒の
沸点において実施され、好ましくは-80℃〜50℃であ
る。
沸点において実施され、好ましくは-80℃〜50℃であ
る。
【００５８】得られたアミノアルコール（７）と一般式
（８） （式中、Ｒ1〜Ｒ5は、前記と同じ意味を表す。）で示さ
れるフェノール類縁体を反応させることによりシッフベ
ース型アルコール（５）を得ることができる。
（８） （式中、Ｒ1〜Ｒ5は、前記と同じ意味を表す。）で示さ
れるフェノール類縁体を反応させることによりシッフベ
ース型アルコール（５）を得ることができる。
【００５９】上記反応の方法は特に限定されないが、溶
媒の存在下、アミノアルコール（７）とフェノール類縁
体（８）とを反応させることにより製造することができ
る。
媒の存在下、アミノアルコール（７）とフェノール類縁
体（８）とを反応させることにより製造することができ
る。
【００６０】溶媒は特に限定されないが、ペンタン、ヘ
キサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族炭化水
素、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳
香族炭化水素、ジクロロロメタン、クロロホルム、ジク
ロロエタン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素、モノクロロ
ベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族ハロゲン化炭化
水素、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、メチル
ｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル
類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ルなどのアルコール類およびこれらの混合物が例示され
る。
キサン、ヘプタン、オクタン、デカン等の脂肪族炭化水
素、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳
香族炭化水素、ジクロロロメタン、クロロホルム、ジク
ロロエタン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素、モノクロロ
ベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族ハロゲン化炭化
水素、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、メチル
ｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル
類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ルなどのアルコール類およびこれらの混合物が例示され
る。
【００６１】反応温度としては、通常-100℃〜溶媒の沸
点において実施され、好ましくは０℃〜50℃程度であ
る。
点において実施され、好ましくは０℃〜50℃程度であ
る。
【００６２】
【発明の効果】本発明の遷移金属錯体は、高いオレフィ
ン重合能を持ち、オレフィン重合用触媒として有用であ
る。
ン重合能を持ち、オレフィン重合用触媒として有用であ
る。
【００６３】
【実施例】以下、実施例をあげて、本発明をより詳しく
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
【００６４】(触媒合成) （実施例１） （Ａ） 不活性ガス雰囲気下、光学活性な（Ｒ）−シッフベース
型アルコール（Ａ）（０．１１７ｇ）およびトリエチル
アミン（０．０８４ｍｌ）のトルエン（３．０ｍｌ）溶
液を、四塩化チタン（０．０２８ｇ）のトルエン（３．
０ｍｌ）溶液に０℃で滴下し、１時間攪拌した。その
後、２５℃に昇温し、１２時間攪拌した。不溶物をろ過
により除き、減圧下、溶媒を留去することにより、（Ａ
−Ｉ）０．１５ｇを得た。 （Ａ−Ｉ）1 ＨＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：δ８．３２−５．８１（ｍ，２
４Ｈ），８．２０（ｓ，２Ｈ），６．０２（ｑ，２Ｈ，
Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．１５（ｓ，６Ｈ），３．０３
（ｓ，６Ｈ），１．８１（ｄ，６Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ） ＦＤ−ＭＳ：８２６（Ｍ＋）
型アルコール（Ａ）（０．１１７ｇ）およびトリエチル
アミン（０．０８４ｍｌ）のトルエン（３．０ｍｌ）溶
液を、四塩化チタン（０．０２８ｇ）のトルエン（３．
０ｍｌ）溶液に０℃で滴下し、１時間攪拌した。その
後、２５℃に昇温し、１２時間攪拌した。不溶物をろ過
により除き、減圧下、溶媒を留去することにより、（Ａ
−Ｉ）０．１５ｇを得た。 （Ａ−Ｉ）1 ＨＮＭＲ（Ｃ6Ｄ6）：δ８．３２−５．８１（ｍ，２
４Ｈ），８．２０（ｓ，２Ｈ），６．０２（ｑ，２Ｈ，
Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．１５（ｓ，６Ｈ），３．０３
（ｓ，６Ｈ），１．８１（ｄ，６Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ） ＦＤ−ＭＳ：８２６（Ｍ＋）
【００６５】（実施例２）不活性ガス雰囲気下、（Ｒ）
−シッフベース型アルコール（Ａ）（０．１１７ｇ）お
よびトリエチルアミン（０．０８４ｍｌ）のトルエン
（３．０ｍｌ）溶液を、四塩化ジルコニウムのテトラヒ
ドロフラン錯体（０．０５７ｇ）のトルエン（３．０ｍ
ｌ）溶液に０℃で滴下し、１時間攪拌した。その後、２
５℃に昇温し、１２時間攪拌した。不溶物をろ過により
除き、減圧下、溶媒を留去することにより、化合物（Ａ
−II）０．１５ｇを得た。 （Ａ−II）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．３４−６．５０（ｍ，２
４Ｈ），８．２３（ｓ，２Ｈ），５．７２（ｑ，２
Ｈ），３．２５（ｓ，６Ｈ），３．２０（ｓ，６Ｈ），
１．７１（ｄ，６Ｈ） ＦＤ−ＭＳ：８６９（Ｍ＋）
−シッフベース型アルコール（Ａ）（０．１１７ｇ）お
よびトリエチルアミン（０．０８４ｍｌ）のトルエン
（３．０ｍｌ）溶液を、四塩化ジルコニウムのテトラヒ
ドロフラン錯体（０．０５７ｇ）のトルエン（３．０ｍ
ｌ）溶液に０℃で滴下し、１時間攪拌した。その後、２
５℃に昇温し、１２時間攪拌した。不溶物をろ過により
除き、減圧下、溶媒を留去することにより、化合物（Ａ
−II）０．１５ｇを得た。 （Ａ−II）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．３４−６．５０（ｍ，２
４Ｈ），８．２３（ｓ，２Ｈ），５．７２（ｑ，２
Ｈ），３．２５（ｓ，６Ｈ），３．２０（ｓ，６Ｈ），
１．７１（ｄ，６Ｈ） ＦＤ−ＭＳ：８６９（Ｍ＋）
【００６６】（実施例３） （Ｂ） アルゴン置換したシュレンク管中に、四塩化チタン0.21
g（1.1mmol）をとり、10mlのトルエンに溶かした。-30
℃に冷却した後、（Ｒ）−シッフベース型アルコール
（Ｂ）0.50g（1.1 mmol）、トリエチルアミン0.33ml
（2.4mmol）を溶解したトルエン溶液（10ml）を滴下し
た。室温に昇温し、20時間攪拌後、濾過し、残さをトル
エンで洗浄した。濾洗液を合わせ、濃縮し、0.24gの錯
体（Ｂ−Ｉ）を得た。 （Ｂ−Ｉ）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ７．４４−６．３０（ｍ，１
１Ｈ）、４．８０（ｍ，１Ｈ）、３．４２（ｓ，３
Ｈ）、３．３４（ｓ，３Ｈ）、１．７５（ｓ，９Ｈ）、
１．３２（ｂｒ，１Ｈ） ＦＤ−ＭＳ：５６４（Ｍ＋）
g（1.1mmol）をとり、10mlのトルエンに溶かした。-30
℃に冷却した後、（Ｒ）−シッフベース型アルコール
（Ｂ）0.50g（1.1 mmol）、トリエチルアミン0.33ml
（2.4mmol）を溶解したトルエン溶液（10ml）を滴下し
た。室温に昇温し、20時間攪拌後、濾過し、残さをトル
エンで洗浄した。濾洗液を合わせ、濃縮し、0.24gの錯
体（Ｂ−Ｉ）を得た。 （Ｂ−Ｉ）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ７．４４−６．３０（ｍ，１
１Ｈ）、４．８０（ｍ，１Ｈ）、３．４２（ｓ，３
Ｈ）、３．３４（ｓ，３Ｈ）、１．７５（ｓ，９Ｈ）、
１．３２（ｂｒ，１Ｈ） ＦＤ−ＭＳ：５６４（Ｍ＋）
【００６７】（実施例４）アルゴン置換したシュレンク
管中に、四塩化チタン0.04g（0.22mmol）をとり、4.0ml
のトルエンに溶かした。0℃に冷却した後、（Ｒ）シッ
フベース型アルコール（Ｂ）0.20g（0.45mmol）、トリ
エチルアミン0.13ml（0.94mmol）を溶解したトルエン溶
液を滴下した。20時間攪拌後、濾過し、残さをトルエン
で洗浄した。濾洗液を合わせ、濃縮し、0.22gの錯体
（Ｂ−IIを得た。 （Ｂ−II）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．１５（ｓ，２Ｈ），７．
９２−６．２５（ｍ，２２Ｈ），５．８５（ｑ，２Ｈ，
Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．１９（ｓ，６Ｈ），２．９５
（ｓ，６Ｈ），１．４１（ｓ，１８Ｈ），１．２３
（ｄ，６Ｈ，Ｊ＝６．８） ＦＤ−ＭＳ：９３８（Ｍ＋）
管中に、四塩化チタン0.04g（0.22mmol）をとり、4.0ml
のトルエンに溶かした。0℃に冷却した後、（Ｒ）シッ
フベース型アルコール（Ｂ）0.20g（0.45mmol）、トリ
エチルアミン0.13ml（0.94mmol）を溶解したトルエン溶
液を滴下した。20時間攪拌後、濾過し、残さをトルエン
で洗浄した。濾洗液を合わせ、濃縮し、0.22gの錯体
（Ｂ−IIを得た。 （Ｂ−II）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．１５（ｓ，２Ｈ），７．
９２−６．２５（ｍ，２２Ｈ），５．８５（ｑ，２Ｈ，
Ｊ＝６．８Ｈｚ），３．１９（ｓ，６Ｈ），２．９５
（ｓ，６Ｈ），１．４１（ｓ，１８Ｈ），１．２３
（ｄ，６Ｈ，Ｊ＝６．８） ＦＤ−ＭＳ：９３８（Ｍ＋）
【００６８】（実施例５）アルゴン置換したシュレンク
管中に（Ｒ）−シッフベース型アミノアルコール（Ｂ）
0.11g（0.26mmol）をＴＨＦ2.0mlに溶解した。-78℃に
てn-ブチルリチウム0.36ml（1.50M ヘキサン溶液、0.54
mmol）を滴下した。室温まで昇温し、４時間攪拌した。
この溶液を-78℃に冷却した塩化ジルコニウム0.031g
（0.13mmol）のＴＨＦ溶液（2.0ml）に滴下した。室温
まで昇温した後、４時間攪拌し、濃縮した。トルエン可
溶部を濃縮して0.13gの錯体（Ｂ−III）を得た。 （Ｂ−III）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．１４（ｓ，２Ｈ），７．
４２−６．２５（ｍ，２２Ｈ），４．７０（ｑ，２Ｈ，
Ｊ＝６．４Ｈｚ），３．４９（ｓ，６Ｈ），３．３５
（ｓ，６Ｈ），１．６７（ｓ，１８Ｈ），１．３０
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．４） ＦＤ−ＭＳ：６０６（Ｍ＋）
管中に（Ｒ）−シッフベース型アミノアルコール（Ｂ）
0.11g（0.26mmol）をＴＨＦ2.0mlに溶解した。-78℃に
てn-ブチルリチウム0.36ml（1.50M ヘキサン溶液、0.54
mmol）を滴下した。室温まで昇温し、４時間攪拌した。
この溶液を-78℃に冷却した塩化ジルコニウム0.031g
（0.13mmol）のＴＨＦ溶液（2.0ml）に滴下した。室温
まで昇温した後、４時間攪拌し、濃縮した。トルエン可
溶部を濃縮して0.13gの錯体（Ｂ−III）を得た。 （Ｂ−III）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．１４（ｓ，２Ｈ），７．
４２−６．２５（ｍ，２２Ｈ），４．７０（ｑ，２Ｈ，
Ｊ＝６．４Ｈｚ），３．４９（ｓ，６Ｈ），３．３５
（ｓ，６Ｈ），１．６７（ｓ，１８Ｈ），１．３０
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．４） ＦＤ−ＭＳ：６０６（Ｍ＋）
【００６９】（実施例６）アルゴン置換したシュレンク
管中に（Ｒ）−シッフベース型アミノアルコール（Ｂ）
0.715g（1.60mmol）をＴＨＦ10mlに溶解した。-78℃に
てn-ブチルリチウム2.24ml（1.50M ヘキサン溶液、3.35
mmol）を滴下した。室温まで昇温し、3時間攪拌した。
この溶液を-78℃に冷却した塩化ジルコニウム0.184g
（0.77mmol）のＴＨＦ溶液(10ml)に滴下した。室温まで
昇温した後、４時間攪拌し、濃縮した。トルエン可溶部
を濃縮して0.967gの錯体（Ｂ−IV）を得た。 （Ｂ−IV）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．１９（ｓ，２Ｈ）、７．
５３−５．８３（ｍ、２２Ｈ）、３．４１（ｂｒ，２
Ｈ）、３．３０（ｓ，３Ｈ）、３．１３（ｓ，３Ｈ）、
１．６２（ｂｒ，６Ｈ）、０．８６（ｓ，１８Ｈ） ＦＤ−ＭＳ：９８１（Ｍ＋）、４４７
管中に（Ｒ）−シッフベース型アミノアルコール（Ｂ）
0.715g（1.60mmol）をＴＨＦ10mlに溶解した。-78℃に
てn-ブチルリチウム2.24ml（1.50M ヘキサン溶液、3.35
mmol）を滴下した。室温まで昇温し、3時間攪拌した。
この溶液を-78℃に冷却した塩化ジルコニウム0.184g
（0.77mmol）のＴＨＦ溶液(10ml)に滴下した。室温まで
昇温した後、４時間攪拌し、濃縮した。トルエン可溶部
を濃縮して0.967gの錯体（Ｂ−IV）を得た。 （Ｂ−IV）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．１９（ｓ，２Ｈ）、７．
５３−５．８３（ｍ、２２Ｈ）、３．４１（ｂｒ，２
Ｈ）、３．３０（ｓ，３Ｈ）、３．１３（ｓ，３Ｈ）、
１．６２（ｂｒ，６Ｈ）、０．８６（ｓ，１８Ｈ） ＦＤ−ＭＳ：９８１（Ｍ＋）、４４７
【００７０】（実施例７）アルゴン置換したシュレンク
管中に（Ｒ）−シッフベース型アミノアルコール（Ｂ）
0.200g（0.44mmol）をＴＨＦ3.0mlに溶解した。-78℃に
てn-ブチルリチウム0.57ml（1.60M ヘキサン溶液、0.91
mmol）を滴下した。室温まで昇温し、2時間攪拌した。
この溶液を-78℃に冷却した塩化鉄0.085g（0.52mmol）
のＴＨＦ溶液(3.0ml)に滴下した。室温まで昇温した
後、5時間攪拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮し
て0.273gの錯体（Ｂ−Ｖ）を得た。 （Ｂ−Ｖ） ＦＤ−ＭＳ：５３６
管中に（Ｒ）−シッフベース型アミノアルコール（Ｂ）
0.200g（0.44mmol）をＴＨＦ3.0mlに溶解した。-78℃に
てn-ブチルリチウム0.57ml（1.60M ヘキサン溶液、0.91
mmol）を滴下した。室温まで昇温し、2時間攪拌した。
この溶液を-78℃に冷却した塩化鉄0.085g（0.52mmol）
のＴＨＦ溶液(3.0ml)に滴下した。室温まで昇温した
後、5時間攪拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮し
て0.273gの錯体（Ｂ−Ｖ）を得た。 （Ｂ−Ｖ） ＦＤ−ＭＳ：５３６
【００７１】実施例８アルゴン置換したシュレンク管中
に（Ｒ）−シッフベース型アミノアルコール（Ｂ）0.27
0g（0.59mmol）をＴＨＦ4.0mlに溶解した。-78℃にてn-
ブチルリチウム0.78ml（1.60M ヘキサン溶液、1.24 mmo
l）を滴下した。室温まで昇温し、2時間攪拌した。この
溶液を-78℃に冷却したビス（トリフェニルホスフィ
ン）塩化ニッケル（II）0.462g（0.71mmol）のＴＨＦ溶
液(4.0ml)に滴下した。室温まで昇温した後、20時間攪
拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮して0.727gの粗
生成物を得た。ヘキサンから再結晶し、0.316gの錯体
（Ｂ−VI）を得た。 （Ｂ−VI）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．１０−６．３６（ｍ，２
９Ｈ）、５．３９（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）、３．
２８（ｓ，３Ｈ）、３．０７（ｓ，３Ｈ）、１．３２
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）、０．６９（ｓ，９Ｈ） ＦＤ−ＭＳ：７６６、７６５
に（Ｒ）−シッフベース型アミノアルコール（Ｂ）0.27
0g（0.59mmol）をＴＨＦ4.0mlに溶解した。-78℃にてn-
ブチルリチウム0.78ml（1.60M ヘキサン溶液、1.24 mmo
l）を滴下した。室温まで昇温し、2時間攪拌した。この
溶液を-78℃に冷却したビス（トリフェニルホスフィ
ン）塩化ニッケル（II）0.462g（0.71mmol）のＴＨＦ溶
液(4.0ml)に滴下した。室温まで昇温した後、20時間攪
拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮して0.727gの粗
生成物を得た。ヘキサンから再結晶し、0.316gの錯体
（Ｂ−VI）を得た。 （Ｂ−VI）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．１０−６．３６（ｍ，２
９Ｈ）、５．３９（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）、３．
２８（ｓ，３Ｈ）、３．０７（ｓ，３Ｈ）、１．３２
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）、０．６９（ｓ，９Ｈ） ＦＤ−ＭＳ：７６６、７６５
【００７２】（実施例９）アルゴン置換したシュレンク
管中に（Ｒ）−シッフベース型アミノアルコール（Ｂ）
0.135g（0.29mmol）をＴＨＦ2.0mlに溶解した。-78℃に
てn-ブチルリチウム0.39ml（1.60M ヘキサン溶液、0.91
mmol）を滴下した。室温まで昇温し、2時間攪拌した。
この溶液を-78℃に冷却したビス（アセトニトリル）塩
化パラジウム0.092g（0.35mmol）のＴＨＦ溶液(2.0ml)
に滴下した。室温まで昇温した後、20時間攪拌し、濃縮
した。トルエン可溶部を濃縮して0.199gの粗生成物を得
た。へキサンから再結晶し、0.175gの錯体（Ｂ−VII）
を得た。 （Ｂ−VII）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ７．５３−６．２５（ｍ，１
２Ｈ）、４．９２（ｑ，１Ｈ，ｄ＝６．４Ｈｚ）、３．
１１（ｓ，３Ｈ）、２．９４（ｓ，３Ｈ）、１．５７
（ｓ，９Ｈ）、１．２７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）
ＦＤ−ＭＳ：５９３（Ｍ＋）、４４７
管中に（Ｒ）−シッフベース型アミノアルコール（Ｂ）
0.135g（0.29mmol）をＴＨＦ2.0mlに溶解した。-78℃に
てn-ブチルリチウム0.39ml（1.60M ヘキサン溶液、0.91
mmol）を滴下した。室温まで昇温し、2時間攪拌した。
この溶液を-78℃に冷却したビス（アセトニトリル）塩
化パラジウム0.092g（0.35mmol）のＴＨＦ溶液(2.0ml)
に滴下した。室温まで昇温した後、20時間攪拌し、濃縮
した。トルエン可溶部を濃縮して0.199gの粗生成物を得
た。へキサンから再結晶し、0.175gの錯体（Ｂ−VII）
を得た。 （Ｂ−VII）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ７．５３−６．２５（ｍ，１
２Ｈ）、４．９２（ｑ，１Ｈ，ｄ＝６．４Ｈｚ）、３．
１１（ｓ，３Ｈ）、２．９４（ｓ，３Ｈ）、１．５７
（ｓ，９Ｈ）、１．２７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）
ＦＤ−ＭＳ：５９３（Ｍ＋）、４４７
【００７３】（実施例１０） （Ｃ） アルゴン置換したシュレンク管中に（Ｒ）−シッフベー
ス型アミノアルコール（Ｃ）0.188g（0.49mmol）をＴＨ
Ｆ2.8mlに溶解した。-78℃にてn-ブチルリチウム0.68ml
（1.50M ヘキサン溶液、1.02 mmol）を滴下した。室温
まで昇温し、3時間攪拌した。この溶液を-78℃に冷却し
た塩化ジルコニウム（IV）0.210g（0.87mmol）のＴＨＦ
溶液(2.8ml)に滴下した。室温まで昇温した後、4時間攪
拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮して0.545gの粗
生成物を得た。トルエンから再結晶し、0.310gの錯体
（Ｃ−I）を得た。 （Ｃ−I）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ７．９５（ｓ，１Ｈ）、７．
５０−６．７６（ｍ，１３Ｈ）、４．５６（ｑ，１Ｈ，
Ｊ＝６．９Ｈｚ）、１．５７（ｓ，９Ｈ）、１．１３
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） ＦＤ−ＭＳ： ５４８、５４６（Ｍ＋）
ス型アミノアルコール（Ｃ）0.188g（0.49mmol）をＴＨ
Ｆ2.8mlに溶解した。-78℃にてn-ブチルリチウム0.68ml
（1.50M ヘキサン溶液、1.02 mmol）を滴下した。室温
まで昇温し、3時間攪拌した。この溶液を-78℃に冷却し
た塩化ジルコニウム（IV）0.210g（0.87mmol）のＴＨＦ
溶液(2.8ml)に滴下した。室温まで昇温した後、4時間攪
拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮して0.545gの粗
生成物を得た。トルエンから再結晶し、0.310gの錯体
（Ｃ−I）を得た。 （Ｃ−I）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ７．９５（ｓ，１Ｈ）、７．
５０−６．７６（ｍ，１３Ｈ）、４．５６（ｑ，１Ｈ，
Ｊ＝６．９Ｈｚ）、１．５７（ｓ，９Ｈ）、１．１３
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） ＦＤ−ＭＳ： ５４８、５４６（Ｍ＋）
【００７４】（実施例１１）アルゴン置換したシュレン
ク管中に（Ｒ）−シッフベース型アミノアルコール
（Ｃ）0.169g（0.44mmol）をＴＨＦ2.5mlに溶解した。-
78℃にてn-ブチルリチウム0.61ml（1.50M ヘキサン溶
液、0.92 mmol）を滴下した。室温まで昇温し、2時間攪
拌した。この溶液を-78℃に冷却した塩化ジルコニウム
（IV）0.052g（0.22mmol）のＴＨＦ溶液(2.5ml)に滴下
した。室温まで昇温した後、6時間攪拌し、濃縮した。
トルエン可溶部を濃縮して0.151gの錯体（Ｃ−II）を得
た。 （Ｃ−II）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．０８（ｓ，２Ｈ）、７．
７２−６．６３（ｍ，２６Ｈ）、４．７１（ｑ，２Ｈ，
Ｊ＝６．７Ｈｚ）、１．４８（ｄ，６Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈ
ｚ）、０．７９（ｓ，１８Ｈ） ＦＤ−ＭＳ：８６１（Ｍ＋）
ク管中に（Ｒ）−シッフベース型アミノアルコール
（Ｃ）0.169g（0.44mmol）をＴＨＦ2.5mlに溶解した。-
78℃にてn-ブチルリチウム0.61ml（1.50M ヘキサン溶
液、0.92 mmol）を滴下した。室温まで昇温し、2時間攪
拌した。この溶液を-78℃に冷却した塩化ジルコニウム
（IV）0.052g（0.22mmol）のＴＨＦ溶液(2.5ml)に滴下
した。室温まで昇温した後、6時間攪拌し、濃縮した。
トルエン可溶部を濃縮して0.151gの錯体（Ｃ−II）を得
た。 （Ｃ−II）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．０８（ｓ，２Ｈ）、７．
７２−６．６３（ｍ，２６Ｈ）、４．７１（ｑ，２Ｈ，
Ｊ＝６．７Ｈｚ）、１．４８（ｄ，６Ｈ，Ｊ＝６．７Ｈ
ｚ）、０．７９（ｓ，１８Ｈ） ＦＤ−ＭＳ：８６１（Ｍ＋）
【００７５】（実施例１２） （Ｄ） アルゴン置換したシュレンク管中に（Ｓ）−シッフベー
ス型アミノアルコール（Ｄ）0.095g（0.23mmol）をＴＨ
Ｆ1.4mlに溶解した。-78℃にてn-ブチルリチウム0.32ml
（1.50M ヘキサン溶液、0.48 mmol）を滴下した。室温
まで昇温し、3時間攪拌した。この溶液を-78℃に冷却し
た塩化ジルコニウム（IV）0.055g（0.23mmol）のＴＨＦ
溶液(1.4ml)に滴下した。室温まで昇温した後、5時間攪
拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮して0.150gの錯
体（Ｄ−I）を得た。 （Ｄ−I）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ７．９３（ｓ，１Ｈ）、７．
４２−６．７０（ｍ，１３Ｈ）、３．５４（ｍ，１
Ｈ）、１．５６（ｓ，９Ｈ）、１．４０（ｍ，１Ｈ）、
０．７０（ｍ，３Ｈ）、０．１７（ｍ，３Ｈ） ＦＤ−ＭＳ：５７４
ス型アミノアルコール（Ｄ）0.095g（0.23mmol）をＴＨ
Ｆ1.4mlに溶解した。-78℃にてn-ブチルリチウム0.32ml
（1.50M ヘキサン溶液、0.48 mmol）を滴下した。室温
まで昇温し、3時間攪拌した。この溶液を-78℃に冷却し
た塩化ジルコニウム（IV）0.055g（0.23mmol）のＴＨＦ
溶液(1.4ml)に滴下した。室温まで昇温した後、5時間攪
拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮して0.150gの錯
体（Ｄ−I）を得た。 （Ｄ−I）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ７．９３（ｓ，１Ｈ）、７．
４２−６．７０（ｍ，１３Ｈ）、３．５４（ｍ，１
Ｈ）、１．５６（ｓ，９Ｈ）、１．４０（ｍ，１Ｈ）、
０．７０（ｍ，３Ｈ）、０．１７（ｍ，３Ｈ） ＦＤ−ＭＳ：５７４
【００７６】（実施例１３）アルゴン置換したシュレン
ク管中に（Ｓ）−シッフベース型アミノアルコール
（Ｄ）0.175g（0.40mmol）をＴＨＦ2.6mlに溶解した。-
78℃にてn-ブチルリチウム0.59ml（1.50M ヘキサン溶
液、0.88 mmol）を滴下した。室温まで昇温し、3時間攪
拌した。この溶液を-78℃に冷却した塩化ジルコニウム
（IV）0.048g（0.20mmol）のＴＨＦ溶液(2.6ml)に滴下
した。室温まで昇温した後、4時間攪拌し、濃縮した。
トルエン可溶部を濃縮して0.219gの粗生成物を得た。粗
生成物をヘキサン洗浄し、0.040gの錯体（Ｄ−II）を得
た。 （Ｄ−II）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．１９（ｓ，２Ｈ）、７．
７３−６．６２（ｍ，２６Ｈ）、４．５０（ｄ，２Ｈ，
Ｊ＝６．１Ｈｚ）、２．８５（ｍ，２Ｈ）、１．４０
（ｄ，６Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、０．７６（ｓ，１８
Ｈ）、０．６１（ｄ，６Ｈ，Ｊ＝６．９） ＦＤ−ＭＳ：９１７
ク管中に（Ｓ）−シッフベース型アミノアルコール
（Ｄ）0.175g（0.40mmol）をＴＨＦ2.6mlに溶解した。-
78℃にてn-ブチルリチウム0.59ml（1.50M ヘキサン溶
液、0.88 mmol）を滴下した。室温まで昇温し、3時間攪
拌した。この溶液を-78℃に冷却した塩化ジルコニウム
（IV）0.048g（0.20mmol）のＴＨＦ溶液(2.6ml)に滴下
した。室温まで昇温した後、4時間攪拌し、濃縮した。
トルエン可溶部を濃縮して0.219gの粗生成物を得た。粗
生成物をヘキサン洗浄し、0.040gの錯体（Ｄ−II）を得
た。 （Ｄ−II）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．１９（ｓ，２Ｈ）、７．
７３−６．６２（ｍ，２６Ｈ）、４．５０（ｄ，２Ｈ，
Ｊ＝６．１Ｈｚ）、２．８５（ｍ，２Ｈ）、１．４０
（ｄ，６Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、０．７６（ｓ，１８
Ｈ）、０．６１（ｄ，６Ｈ，Ｊ＝６．９） ＦＤ−ＭＳ：９１７
【００７７】（実施例１４） （Ｅ） アルゴン置換したシュレンク管中に（Ｓ）−シッフベー
ス型アミノアルコール（Ｅ）0.228g（0.48mmol）をＴＨ
Ｆ3.4mlに溶解した。-78℃にてn-ブチルリチウム0.67ml
（1.50M ヘキサン溶液、1.01 mmol）を滴下した。室温
まで昇温し、3時間攪拌した。この溶液を-78℃に冷却し
た塩化ジルコニウム（IV）0.115g（0.48mmol）のＴＨＦ
溶液(3.4ml)に滴下した。室温まで昇温した後、5時間攪
拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮して0.361gの錯
体（Ｅ−I）を得た。 （Ｅ−I）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．４１−６．４０（ｍ，１
９Ｈ）、４．７９（ｍ，１Ｈ）、３．７５（ｍ，１
Ｈ）、２．４９（ｍ，１Ｈ）、１．５４（ｓ，９Ｈ） ＦＤ−ＭＳ：６２２
ス型アミノアルコール（Ｅ）0.228g（0.48mmol）をＴＨ
Ｆ3.4mlに溶解した。-78℃にてn-ブチルリチウム0.67ml
（1.50M ヘキサン溶液、1.01 mmol）を滴下した。室温
まで昇温し、3時間攪拌した。この溶液を-78℃に冷却し
た塩化ジルコニウム（IV）0.115g（0.48mmol）のＴＨＦ
溶液(3.4ml)に滴下した。室温まで昇温した後、5時間攪
拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮して0.361gの錯
体（Ｅ−I）を得た。 （Ｅ−I）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．４１−６．４０（ｍ，１
９Ｈ）、４．７９（ｍ，１Ｈ）、３．７５（ｍ，１
Ｈ）、２．４９（ｍ，１Ｈ）、１．５４（ｓ，９Ｈ） ＦＤ−ＭＳ：６２２
【００７８】（実施例１５）アルゴン置換したシュレン
ク管中に（Ｓ）−シッフベース型アミノアルコール
（Ｅ）0.235g（0.51mmol）をＴＨＦ3.5mlに溶解した。-
78℃にてn-ブチルリチウム0.71ml（1.50M ヘキサン溶
液、1.06 mmol）を滴下した。室温まで昇温し、3時間攪
拌した。この溶液を-78℃に冷却した塩化ジルコニウム
（IV）0.061g（0.25mmol）のＴＨＦ溶液(3.5ml)に滴下
した。室温まで昇温した後、4時間攪拌し、濃縮した。
トルエン可溶部を濃縮して0.300gの錯体（Ｅ−II）を得
た。 （Ｅ−II）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ７．８７−６．４４（ｍ，３
８Ｈ）、５．００（ｍ，２Ｈ）、４．２５（ｍ．２
Ｈ）、３．０６（ｍ，１Ｈ）、０．７４（１８Ｈ） ＦＤ−ＭＳ：１０１３
ク管中に（Ｓ）−シッフベース型アミノアルコール
（Ｅ）0.235g（0.51mmol）をＴＨＦ3.5mlに溶解した。-
78℃にてn-ブチルリチウム0.71ml（1.50M ヘキサン溶
液、1.06 mmol）を滴下した。室温まで昇温し、3時間攪
拌した。この溶液を-78℃に冷却した塩化ジルコニウム
（IV）0.061g（0.25mmol）のＴＨＦ溶液(3.5ml)に滴下
した。室温まで昇温した後、4時間攪拌し、濃縮した。
トルエン可溶部を濃縮して0.300gの錯体（Ｅ−II）を得
た。 （Ｅ−II）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ７．８７−６．４４（ｍ，３
８Ｈ）、５．００（ｍ，２Ｈ）、４．２５（ｍ．２
Ｈ）、３．０６（ｍ，１Ｈ）、０．７４（１８Ｈ） ＦＤ−ＭＳ：１０１３
【００７９】実施例１６ （Ｆ） アルゴン置換したシュレンク管中に（Ｓ）−シッフベー
ス型アミノアルコール（Ｆ）0.320g（0.71mmol）をＴＨ
Ｆ4.8mlに溶解した。-78℃にてn-ブチルリチウム1.00 m
l（1.50M ヘキサン溶液、1.50 mmol）を滴下した。室温
まで昇温し、2時間攪拌した。この溶液を-78℃に冷却し
た塩化ジルコニウム（IV）0.206g（0.86mmol）のＴＨＦ
溶液(4.8ml)に滴下した。室温まで昇温した後、5時間攪
拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮して0.589gの粗
生成物を得た。トルエン／へキサンから再結晶し、0.29
4gの錯体（Ｆ−I）を得た。 （Ｆ−I）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ７．８４（ｓ，１Ｈ）、７．
５２−６．４９（ｍ，１１Ｈ）、４．５０（ｍ，１
Ｈ）、３．４３（ｓ，３Ｈ）、３．１５（ｓ，３Ｈ）、
１．５７（ｓ，９Ｈ）１．１６（ｍ，３Ｈ）
ス型アミノアルコール（Ｆ）0.320g（0.71mmol）をＴＨ
Ｆ4.8mlに溶解した。-78℃にてn-ブチルリチウム1.00 m
l（1.50M ヘキサン溶液、1.50 mmol）を滴下した。室温
まで昇温し、2時間攪拌した。この溶液を-78℃に冷却し
た塩化ジルコニウム（IV）0.206g（0.86mmol）のＴＨＦ
溶液(4.8ml)に滴下した。室温まで昇温した後、5時間攪
拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮して0.589gの粗
生成物を得た。トルエン／へキサンから再結晶し、0.29
4gの錯体（Ｆ−I）を得た。 （Ｆ−I）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ７．８４（ｓ，１Ｈ）、７．
５２−６．４９（ｍ，１１Ｈ）、４．５０（ｍ，１
Ｈ）、３．４３（ｓ，３Ｈ）、３．１５（ｓ，３Ｈ）、
１．５７（ｓ，９Ｈ）１．１６（ｍ，３Ｈ）
【００８０】（実施例１７） （Ｇ）アルゴン置換したシュレンク管中に（Ｓ）−シッ
フベース型アミノアルコール（Ｇ）0.330g（0.74 mmo
l）をＴＨＦ5.0 mlに溶解した。-78℃にてn-ブチルリチ
ウム1.03 ml（1.50M ヘキサン溶液、1.55 mmol）を滴下
した。室温まで昇温し、2時間攪拌した。この溶液を-78
℃に冷却した塩化ジルコニウム（IV）0.213g（0.88mmo
l）のＴＨＦ溶液(5.0ml)に滴下した。室温まで昇温した
後、5時間攪拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮し
て0.596gの粗生成物を得た。トルエン／へキサンから再
結晶し、0.114gの錯体（Ｇ−Ｉ）を得た。 （Ｇ−Ｉ）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．１３−６．５６（ｍ，１
２Ｈ）、４．５３（ｍ，１Ｈ）、３．２７（ｓ，３
Ｈ）、３．２１（ｓ，３Ｈ）、１．５９（ｓ，９Ｈ）、
１．１９（ｍ，３Ｈ）
フベース型アミノアルコール（Ｇ）0.330g（0.74 mmo
l）をＴＨＦ5.0 mlに溶解した。-78℃にてn-ブチルリチ
ウム1.03 ml（1.50M ヘキサン溶液、1.55 mmol）を滴下
した。室温まで昇温し、2時間攪拌した。この溶液を-78
℃に冷却した塩化ジルコニウム（IV）0.213g（0.88mmo
l）のＴＨＦ溶液(5.0ml)に滴下した。室温まで昇温した
後、5時間攪拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮し
て0.596gの粗生成物を得た。トルエン／へキサンから再
結晶し、0.114gの錯体（Ｇ−Ｉ）を得た。 （Ｇ−Ｉ）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．１３−６．５６（ｍ，１
２Ｈ）、４．５３（ｍ，１Ｈ）、３．２７（ｓ，３
Ｈ）、３．２１（ｓ，３Ｈ）、１．５９（ｓ，９Ｈ）、
１．１９（ｍ，３Ｈ）
【００８１】（実施例１８） （Ｈ） アルゴン置換したシュレンク管中に（Ｒ）−シッフベー
ス型アミノアルコール（Ｈ）0.585g（1.16 mmol）をＴ
ＨＦ8.8 mlに溶解した。-78℃にてn-ブチルリチウム1.6
3 ml（1.50M ヘキサン溶液、2.44 mmol）を滴下した。
室温まで昇温し、2時間攪拌した。この溶液を-78℃に冷
却した塩化ジルコニウム（IV）0.335g（1.39mmol）のＴ
ＨＦ溶液(8.8ml)に滴下した。室温まで昇温した後、3時
間攪拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮して0.951g
の粗生成物を得た。得られた粗生成物をへキサン洗浄
し、0.761gの錯体（Ｈ−Ｉ）を得た。 （Ｈ−Ｉ）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．１８（ｍ，１Ｈ）、７．
７５（ｓ，１Ｈ）、７．４２−６．２１（ｍ，９Ｈ）、
４．７１（ｍ，１Ｈ）、３．４９（ｓ，３Ｈ）、３．４
０（ｓ，３Ｈ）、１．７３（ｓ，９Ｈ）、１．３２
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、１．２７（ｓ，９Ｈ） ＦＤ−ＭＳ：６６３（Ｍ＋），６６１
ス型アミノアルコール（Ｈ）0.585g（1.16 mmol）をＴ
ＨＦ8.8 mlに溶解した。-78℃にてn-ブチルリチウム1.6
3 ml（1.50M ヘキサン溶液、2.44 mmol）を滴下した。
室温まで昇温し、2時間攪拌した。この溶液を-78℃に冷
却した塩化ジルコニウム（IV）0.335g（1.39mmol）のＴ
ＨＦ溶液(8.8ml)に滴下した。室温まで昇温した後、3時
間攪拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮して0.951g
の粗生成物を得た。得られた粗生成物をへキサン洗浄
し、0.761gの錯体（Ｈ−Ｉ）を得た。 （Ｈ−Ｉ）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．１８（ｍ，１Ｈ）、７．
７５（ｓ，１Ｈ）、７．４２−６．２１（ｍ，９Ｈ）、
４．７１（ｍ，１Ｈ）、３．４９（ｓ，３Ｈ）、３．４
０（ｓ，３Ｈ）、１．７３（ｓ，９Ｈ）、１．３２
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、１．２７（ｓ，９Ｈ） ＦＤ−ＭＳ：６６３（Ｍ＋），６６１
【００８２】（実施例１９）：（２−ヒドロキシ−３−
ｔ−ブチル−５−フルオロベンズアルデヒドの合成） アルゴン置換したフラスコ中、４−フルオロフェノール
５．００ｇ（４４．２mmol）を臭化ｔ−ブチル６．１７
ｇ（４４．２mmol）を加え、６０℃に加温し溶解した。
ｐ−トルエンスルホン酸・１水和物を加え、２０時間攪
拌した。反応の途中で３．６４ｇ（２６．６mmol）の臭
化ｔ−ブチルを滴下した。反応後、水２５ｍｌ加え、ヘ
キサン抽出した。硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮し、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エ
チル＝１５：１）にて精製し、４．２１ｇ（純度９３．
６％、収率５３．１％）の２−ｔ−ブチル−４−フルオ
ロフェノールを得た。1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ７．０５−７．０１（ｍ，１
Ｈ）、６．６２−６．５５（ｍ，１Ｈ）、５．７８−
５．７４（ｍ，１Ｈ）、３．７３（ｓ，１Ｈ）、１．３
３（ｓ，９Ｈ） ＥＩ−ＭＳ：１６８（Ｍ＋）、１５３、１２５ ついで、アルゴン置換したフラスコ中、２−ｔ−ブチル
−４−フルオロフェノール３．０ｇ（１６mmol）のＴＨ
Ｆ溶液（３０ｍｌ）をＭｅＭｇＢｒのＴＨＦ溶液（２０
mmol）に滴下した。２時間攪拌後、トルエン１７０ｍｌ
を加えＴＨＦを留去し、溶媒交換をおこなった。パラホ
ルムアルデヒド１．３２ｇ（４１．７mmol）、トリエチ
ルアミン２．５６ｇ（２５．０mmol）のトルエン溶液
（３０ｍｌ）を滴下し、100℃で90分攪拌した。０℃に
冷却し、塩酸中に滴下した。トルエン抽出後、飽和食塩
水で洗浄し、濃縮した。へキサンから再結晶し、１．０
８５ｇ（純度９６．０％、収率３１．８％）の２−ヒド
ロキシ−３−ｔ−ブチル−５−フルオロベンズアルデヒ
ドを得た。1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ１１．９５（ｓ，１Ｈ）、
８．９２（ｓ，１Ｈ）、７．０９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
３．１，１０．４Ｈｚ）、６．３０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
３．１，７．１Ｈｚ）、１．２９（ｓ，９Ｈ） ＥＩ−ＭＳ：１９６（Ｍ＋）、１８１、１５３ 次に、窒素置換したフラスコ中、２−ヒドロキシ−３−
ｔ−ブチル−５−フルオロベンズアルデヒド０．７０ｇ
（３．４mmol）をエタノール溶媒（１４ｍｌ）に溶解
し、（Ｒ）−２−アミノ−１，１ジ（ｏ−アニシル）プ
ロパノール１．１０ｇ（３．４mmol）加えた。１５時間
攪拌後、濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（へキサン：酢酸エチル＝２０：１）にて精製し、１．
３６ｇ（収率８５％）のシッフベース型アルコール
（Ｉ）を得た。1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ７．９１（ｓ，１Ｈ）、７．
８５−６．２７（ｍ，１０Ｈ）、５．３９（ｂｒ，１
Ｈ）、４．９７（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．９
２（ｓ，３Ｈ）、２．８７（ｓ，３Ｈ）、１．４５
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、１．４３（ｓ，９Ｈ）
ｔ−ブチル−５−フルオロベンズアルデヒドの合成） アルゴン置換したフラスコ中、４−フルオロフェノール
５．００ｇ（４４．２mmol）を臭化ｔ−ブチル６．１７
ｇ（４４．２mmol）を加え、６０℃に加温し溶解した。
ｐ−トルエンスルホン酸・１水和物を加え、２０時間攪
拌した。反応の途中で３．６４ｇ（２６．６mmol）の臭
化ｔ−ブチルを滴下した。反応後、水２５ｍｌ加え、ヘ
キサン抽出した。硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮し、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（へキサン：酢酸エ
チル＝１５：１）にて精製し、４．２１ｇ（純度９３．
６％、収率５３．１％）の２−ｔ−ブチル−４−フルオ
ロフェノールを得た。1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ７．０５−７．０１（ｍ，１
Ｈ）、６．６２−６．５５（ｍ，１Ｈ）、５．７８−
５．７４（ｍ，１Ｈ）、３．７３（ｓ，１Ｈ）、１．３
３（ｓ，９Ｈ） ＥＩ−ＭＳ：１６８（Ｍ＋）、１５３、１２５ ついで、アルゴン置換したフラスコ中、２−ｔ−ブチル
−４−フルオロフェノール３．０ｇ（１６mmol）のＴＨ
Ｆ溶液（３０ｍｌ）をＭｅＭｇＢｒのＴＨＦ溶液（２０
mmol）に滴下した。２時間攪拌後、トルエン１７０ｍｌ
を加えＴＨＦを留去し、溶媒交換をおこなった。パラホ
ルムアルデヒド１．３２ｇ（４１．７mmol）、トリエチ
ルアミン２．５６ｇ（２５．０mmol）のトルエン溶液
（３０ｍｌ）を滴下し、100℃で90分攪拌した。０℃に
冷却し、塩酸中に滴下した。トルエン抽出後、飽和食塩
水で洗浄し、濃縮した。へキサンから再結晶し、１．０
８５ｇ（純度９６．０％、収率３１．８％）の２−ヒド
ロキシ−３−ｔ−ブチル−５−フルオロベンズアルデヒ
ドを得た。1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ１１．９５（ｓ，１Ｈ）、
８．９２（ｓ，１Ｈ）、７．０９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
３．１，１０．４Ｈｚ）、６．３０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝
３．１，７．１Ｈｚ）、１．２９（ｓ，９Ｈ） ＥＩ−ＭＳ：１９６（Ｍ＋）、１８１、１５３ 次に、窒素置換したフラスコ中、２−ヒドロキシ−３−
ｔ−ブチル−５−フルオロベンズアルデヒド０．７０ｇ
（３．４mmol）をエタノール溶媒（１４ｍｌ）に溶解
し、（Ｒ）−２−アミノ−１，１ジ（ｏ−アニシル）プ
ロパノール１．１０ｇ（３．４mmol）加えた。１５時間
攪拌後、濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（へキサン：酢酸エチル＝２０：１）にて精製し、１．
３６ｇ（収率８５％）のシッフベース型アルコール
（Ｉ）を得た。1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ７．９１（ｓ，１Ｈ）、７．
８５−６．２７（ｍ，１０Ｈ）、５．３９（ｂｒ，１
Ｈ）、４．９７（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、２．９
２（ｓ，３Ｈ）、２．８７（ｓ，３Ｈ）、１．４５
（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、１．４３（ｓ，９Ｈ）
【００８３】（実施例２０） （Ｉ） アルゴン置換したシュレンク管中に（Ｒ）−シッフベー
ス型アミノアルコール（Ｉ）0.310g（0.67 mmol）をＴ
ＨＦ4.7 mlに溶解した。-78℃にてn-ブチルリチウム0.8
7 ml（1.60M ヘキサン溶液、1.40 mmol）を滴下した。
室温まで昇温し、2時間攪拌した。この溶液を-78℃に冷
却した塩化ジルコニウム（IV）0.192g（0.80 mmol）の
ＴＨＦ溶液(4.7 ml)に滴下した。室温まで昇温した後、
3時間攪拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮して0.5
25gの粗生成物を得た。得られた粗生成物をＴＨＦ／へ
キサンから再結晶し、0.402gの錯体（Ｉ−Ｉ）を得た。 （Ｉ−Ｉ）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．１０（ｍ，１Ｈ）、７．
４２−６．２９（ｍ，１０Ｈ）、４．６７（ｍ，１
Ｈ）、３．４９（ｓ，３Ｈ）、３．３６（ｓ，３Ｈ）、
１．５６（ｓ，９Ｈ）、１．２９（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．
４Ｈｚ） ＦＤ−ＭＳ：６２５（Ｍ＋）、６２３、３９０
ス型アミノアルコール（Ｉ）0.310g（0.67 mmol）をＴ
ＨＦ4.7 mlに溶解した。-78℃にてn-ブチルリチウム0.8
7 ml（1.60M ヘキサン溶液、1.40 mmol）を滴下した。
室温まで昇温し、2時間攪拌した。この溶液を-78℃に冷
却した塩化ジルコニウム（IV）0.192g（0.80 mmol）の
ＴＨＦ溶液(4.7 ml)に滴下した。室温まで昇温した後、
3時間攪拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮して0.5
25gの粗生成物を得た。得られた粗生成物をＴＨＦ／へ
キサンから再結晶し、0.402gの錯体（Ｉ−Ｉ）を得た。 （Ｉ−Ｉ）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．１０（ｍ，１Ｈ）、７．
４２−６．２９（ｍ，１０Ｈ）、４．６７（ｍ，１
Ｈ）、３．４９（ｓ，３Ｈ）、３．３６（ｓ，３Ｈ）、
１．５６（ｓ，９Ｈ）、１．２９（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．
４Ｈｚ） ＦＤ−ＭＳ：６２５（Ｍ＋）、６２３、３９０
【００８４】（実施例２１）（シッフベース型アルコー
ルＪの合成） 窒素置換したフラスコ中、トルエン溶媒（５０ｍｌ）
中、ｐ−クレゾール５．４０ｇ（４９．４mmol）、ｐ−
トルエンスルホン酸・１水和物１．４２ｇ（７．４２mm
ol）を加え、１００℃に加熱した。２−フェニルプロペ
ンのトルエン溶液（１．０Ｍ、４９．４mmol）を２時間
かけて滴下し滴下後さらに２時間攪拌した。冷却後、水
１００ｍｌ加え、トルエンで分液抽出した。硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、濃縮し、１３．５０ｇ（純度６３．８
％、収率７７％）の２−（１−メチル−１−フェニルエ
チル）−４−メチルフェノールの粗生成物を得た。1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ７．２５−６．４７（ｍ，８
Ｈ）、２．２４（ｓ，３Ｈ）、１．５４（ｓ，６Ｈ） ＥＩ−ＭＳ：２２６（Ｍ＋）、２２１、１３３ ついで、アルゴン置換したフラスコ中、２−（１−メチ
ル−１−フェニルエチル）−４−メチルフェノールの粗
生成物３．５５ｇ（１０mmol）のＴＨＦ溶液（２０ｍ
ｌ）をＭｅＭｇＢｒのＴＨＦ溶液（１２mmol）に滴下し
た。１時間攪拌後、トルエン１００ｍｌを加えＴＨＦを
留去し、溶媒交換をおこなった。パラホルムアルデヒド
０．７９ｇ（２５mmol）、トリエチルアミン１．５３ｇ
（１５mmol）のトルエン溶液（５ｍｌ）を滴下し、100
℃で２時間攪拌した。０℃に冷却し、塩酸中に滴下し
た。トルエン抽出後、飽和食塩水で洗浄し、濃縮後、２
−ヒドロキシ−３−（１−メチル−１−フェニルエチ
ル）−５−メチルベンズアルデヒドの粗生成物４．０２
ｇを得た。1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ１１．６９（ｓ，１Ｈ）、
９．１７（ｓ，１Ｈ）、７．３３−６．４９（ｍ、７
H）、２．０２（ｓ，３Ｈ）、１．６９（ｓ，６Ｈ）Ｅ
Ｉ−ＭＳ：２５４（Ｍ＋）、２３９、１６１ さらに、窒素置換したフラスコ中、２−ヒドロキシ−３
−（１−メチル−１−フェニルエチル）−５−メチルベ
ンズアルデヒドの粗生成物０．５００ｇをエタノール／
トルエン混合溶媒（１０ｍｌ）に溶解し、（Ｒ）−２−
アミノ−１，１ジ（ｏ−アニシル）プロパノール０．６
３ｇ加えた。６時間攪拌後、濃縮した。トルエンから再
結晶し、０．３６ｇ（３工程収率２１％）のシッフベー
ス型アルコール（Ｊ）を得た。1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．０７（ｓ，１Ｈ）、７．
８２−６．２４（ｍ，１５Ｈ）、５．３３（ｓ，１
Ｈ）、４．８５（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）、２．８
９（ｓ，３Ｈ）、２．８２（ｓ，３Ｈ）、２．１５
（ｓ，３Ｈ）、１．８３（ｓ，３Ｈ）、１．７６（ｓ，
３Ｈ）、１．４０（ｄ、３Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）
ルＪの合成） 窒素置換したフラスコ中、トルエン溶媒（５０ｍｌ）
中、ｐ−クレゾール５．４０ｇ（４９．４mmol）、ｐ−
トルエンスルホン酸・１水和物１．４２ｇ（７．４２mm
ol）を加え、１００℃に加熱した。２−フェニルプロペ
ンのトルエン溶液（１．０Ｍ、４９．４mmol）を２時間
かけて滴下し滴下後さらに２時間攪拌した。冷却後、水
１００ｍｌ加え、トルエンで分液抽出した。硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、濃縮し、１３．５０ｇ（純度６３．８
％、収率７７％）の２−（１−メチル−１−フェニルエ
チル）−４−メチルフェノールの粗生成物を得た。1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ７．２５−６．４７（ｍ，８
Ｈ）、２．２４（ｓ，３Ｈ）、１．５４（ｓ，６Ｈ） ＥＩ−ＭＳ：２２６（Ｍ＋）、２２１、１３３ ついで、アルゴン置換したフラスコ中、２−（１−メチ
ル−１−フェニルエチル）−４−メチルフェノールの粗
生成物３．５５ｇ（１０mmol）のＴＨＦ溶液（２０ｍ
ｌ）をＭｅＭｇＢｒのＴＨＦ溶液（１２mmol）に滴下し
た。１時間攪拌後、トルエン１００ｍｌを加えＴＨＦを
留去し、溶媒交換をおこなった。パラホルムアルデヒド
０．７９ｇ（２５mmol）、トリエチルアミン１．５３ｇ
（１５mmol）のトルエン溶液（５ｍｌ）を滴下し、100
℃で２時間攪拌した。０℃に冷却し、塩酸中に滴下し
た。トルエン抽出後、飽和食塩水で洗浄し、濃縮後、２
−ヒドロキシ−３−（１−メチル−１−フェニルエチ
ル）−５−メチルベンズアルデヒドの粗生成物４．０２
ｇを得た。1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ１１．６９（ｓ，１Ｈ）、
９．１７（ｓ，１Ｈ）、７．３３−６．４９（ｍ、７
H）、２．０２（ｓ，３Ｈ）、１．６９（ｓ，６Ｈ）Ｅ
Ｉ−ＭＳ：２５４（Ｍ＋）、２３９、１６１ さらに、窒素置換したフラスコ中、２−ヒドロキシ−３
−（１−メチル−１−フェニルエチル）−５−メチルベ
ンズアルデヒドの粗生成物０．５００ｇをエタノール／
トルエン混合溶媒（１０ｍｌ）に溶解し、（Ｒ）−２−
アミノ−１，１ジ（ｏ−アニシル）プロパノール０．６
３ｇ加えた。６時間攪拌後、濃縮した。トルエンから再
結晶し、０．３６ｇ（３工程収率２１％）のシッフベー
ス型アルコール（Ｊ）を得た。1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．０７（ｓ，１Ｈ）、７．
８２−６．２４（ｍ，１５Ｈ）、５．３３（ｓ，１
Ｈ）、４．８５（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）、２．８
９（ｓ，３Ｈ）、２．８２（ｓ，３Ｈ）、２．１５
（ｓ，３Ｈ）、１．８３（ｓ，３Ｈ）、１．７６（ｓ，
３Ｈ）、１．４０（ｄ、３Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）
【００８５】（実施例２２） （Ｊ） アルゴン置換したシュレンク管中に（Ｒ）−シッフベー
ス型アミノアルコール（Ｊ）0.295g（0.56 mmol）をＴ
ＨＦ4.4 mlに溶解した。-78℃にてn-ブチルリチウム0.7
9 ml（1.50M ヘキサン溶液、1.18 mmol）を滴下した。
室温まで昇温し、2時間攪拌した。この溶液を-78℃に冷
却した塩化ジルコニウム（IV）0.162g（0.68 mmol）の
ＴＨＦ溶液(4.4 ml)に滴下した。室温まで昇温した後、
3時間攪拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮して0.4
97gの粗生成物を得た。得られた粗生成物をトルエンか
ら再結晶し、0.211gの錯体（Ｊ−Ｉ）を得た。 （Ｊ−Ｉ）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．１４−６．１８（ｍ，１
７Ｈ）、４．６７（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、３．
３４（ｓ，３Ｈ）、２．７７（ｓ，３Ｈ）、２．１５
（ｓ，６Ｈ）、１．５５（ｓ，３Ｈ）、１．３４（ｄ，
３Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ） ＦＤ−ＭＳ：６８３（Ｍ＋），６８１
ス型アミノアルコール（Ｊ）0.295g（0.56 mmol）をＴ
ＨＦ4.4 mlに溶解した。-78℃にてn-ブチルリチウム0.7
9 ml（1.50M ヘキサン溶液、1.18 mmol）を滴下した。
室温まで昇温し、2時間攪拌した。この溶液を-78℃に冷
却した塩化ジルコニウム（IV）0.162g（0.68 mmol）の
ＴＨＦ溶液(4.4 ml)に滴下した。室温まで昇温した後、
3時間攪拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮して0.4
97gの粗生成物を得た。得られた粗生成物をトルエンか
ら再結晶し、0.211gの錯体（Ｊ−Ｉ）を得た。 （Ｊ−Ｉ）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．１４−６．１８（ｍ，１
７Ｈ）、４．６７（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、３．
３４（ｓ，３Ｈ）、２．７７（ｓ，３Ｈ）、２．１５
（ｓ，６Ｈ）、１．５５（ｓ，３Ｈ）、１．３４（ｄ，
３Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ） ＦＤ−ＭＳ：６８３（Ｍ＋），６８１
【００８６】（実施例２３） （Ｋ） アルゴン置換したシュレンク管中に（Ｒ）−シッフベー
ス型アミノアルコール（Ｋ）0.286g（0.53 mmol）をＴ
ＨＦ4.3 mlに溶解した。-78℃にてn-ブチルリチウム0.7
4 ml（1.50M ヘキサン溶液、1.11 mmol）を滴下した。
室温まで昇温し、2時間攪拌した。この溶液を-78℃に冷
却した塩化ジルコニウム（IV）0.152g（0.63 mmol）の
ＴＨＦ溶液(4.3 ml)に滴下した。室温まで昇温した後、
3時間攪拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮して0.4
32gの粗生成物を得た。得られた粗生成物をトルエンか
ら再結晶し、0.049gの錯体（Ｋ−Ｉ）を得た。 （Ｋ−Ｉ）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．２５−６．３０（ｍ，１
０Ｈ）、４．７２（ｍ，１Ｈ）、３．６５（ｓ，３
Ｈ）、３．４０（ｓ，３Ｈ）、２．８２−２．６５
（ｍ，４Ｈ）、１．９１（ｓ，３Ｈ）、１．８０（ｓ，
３Ｈ）、１．４０−１．３０（ｍ，７Ｈ）、１．１３
（ｓ，３Ｈ）、１．１０（ｓ，３Ｈ） ＦＤ−ＭＳ：７０３（Ｍ＋）、７０１、６２４
ス型アミノアルコール（Ｋ）0.286g（0.53 mmol）をＴ
ＨＦ4.3 mlに溶解した。-78℃にてn-ブチルリチウム0.7
4 ml（1.50M ヘキサン溶液、1.11 mmol）を滴下した。
室温まで昇温し、2時間攪拌した。この溶液を-78℃に冷
却した塩化ジルコニウム（IV）0.152g（0.63 mmol）の
ＴＨＦ溶液(4.3 ml)に滴下した。室温まで昇温した後、
3時間攪拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮して0.4
32gの粗生成物を得た。得られた粗生成物をトルエンか
ら再結晶し、0.049gの錯体（Ｋ−Ｉ）を得た。 （Ｋ−Ｉ）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．２５−６．３０（ｍ，１
０Ｈ）、４．７２（ｍ，１Ｈ）、３．６５（ｓ，３
Ｈ）、３．４０（ｓ，３Ｈ）、２．８２−２．６５
（ｍ，４Ｈ）、１．９１（ｓ，３Ｈ）、１．８０（ｓ，
３Ｈ）、１．４０−１．３０（ｍ，７Ｈ）、１．１３
（ｓ，３Ｈ）、１．１０（ｓ，３Ｈ） ＦＤ−ＭＳ：７０３（Ｍ＋）、７０１、６２４
【００８７】（実施例２４） （Ｌ） アルゴン置換したシュレンク管中に（Ｓ）−シッフベー
ス型アミノアルコール（Ｌ）0.163g（0.34 mmol）をＴ
ＨＦ2.4 mlに溶解した。-78℃にてn-ブチルリチウム0.4
8 ml（1.50M ヘキサン溶液、0.72 mmol）を滴下した。
室温まで昇温し、2時間攪拌した。この溶液を-78℃に冷
却した塩化ジルコニウム（IV）0.099g（0.41 mmol）の
ＴＨＦ溶液(2.4 ml)に滴下した。室温まで昇温した後、
3時間攪拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮して0.2
54gの錯体（Ｌ−Ｉ）を得た。 （Ｌ−Ｉ）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．２３−６．３９（ｍ，１
２Ｈ）、４．３３（ｂｒ，１Ｈ）、３．４５（ｓ，３
Ｈ）、３．３１（ｂｒ，３Ｈ）、１．７０（ｓ，９
Ｈ）、０．９３（ｄ、３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、０．４
７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） ＦＤ−ＭＳ：６３５，６３３
ス型アミノアルコール（Ｌ）0.163g（0.34 mmol）をＴ
ＨＦ2.4 mlに溶解した。-78℃にてn-ブチルリチウム0.4
8 ml（1.50M ヘキサン溶液、0.72 mmol）を滴下した。
室温まで昇温し、2時間攪拌した。この溶液を-78℃に冷
却した塩化ジルコニウム（IV）0.099g（0.41 mmol）の
ＴＨＦ溶液(2.4 ml)に滴下した。室温まで昇温した後、
3時間攪拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮して0.2
54gの錯体（Ｌ−Ｉ）を得た。 （Ｌ−Ｉ）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ８．２３−６．３９（ｍ，１
２Ｈ）、４．３３（ｂｒ，１Ｈ）、３．４５（ｓ，３
Ｈ）、３．３１（ｂｒ，３Ｈ）、１．７０（ｓ，９
Ｈ）、０．９３（ｄ、３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、０．４
７（ｄ，３Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ） ＦＤ−ＭＳ：６３５，６３３
【００８８】（実施例２５） （Ｍ） アルゴン置換したシュレンク管中に（Ｓ）−シッフベー
ス型アミノアルコール（Ｍ）0.190g（0.38 mmol）をＴ
ＨＦ2.9 mlに溶解した。-78℃にてn-ブチルリチウム0.5
4 ml（1.50M ヘキサン溶液、0.81 mmol）を滴下した。
室温まで昇温し、2時間攪拌した。この溶液を-78℃に冷
却した塩化ジルコニウム（IV）0.111g（0.46 mmol）の
ＴＨＦ溶液(2.9 ml)に滴下した。室温まで昇温した後、
3時間攪拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮して0.3
08gの錯体（Ｍ−Ｉ）を得た。 （Ｍ−Ｉ）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ７．７２−６．５８（ｍ，１
９Ｈ）、４．７７（ｍ，１Ｈ）、４．５２（ｂｒ，１
Ｈ）、４．４０（ｂｒ、１Ｈ）、４．１９（ｂｒ，１
Ｈ）、３．７４（ｂｒ，１Ｈ）、１．６４（ｓ，９Ｈ） ＦＤ−ＭＳ：６５３，６５１
ス型アミノアルコール（Ｍ）0.190g（0.38 mmol）をＴ
ＨＦ2.9 mlに溶解した。-78℃にてn-ブチルリチウム0.5
4 ml（1.50M ヘキサン溶液、0.81 mmol）を滴下した。
室温まで昇温し、2時間攪拌した。この溶液を-78℃に冷
却した塩化ジルコニウム（IV）0.111g（0.46 mmol）の
ＴＨＦ溶液(2.9 ml)に滴下した。室温まで昇温した後、
3時間攪拌し、濃縮した。トルエン可溶部を濃縮して0.3
08gの錯体（Ｍ−Ｉ）を得た。 （Ｍ−Ｉ）1 ＨＮＭＲ（ Ｃ6Ｄ6）：δ７．７２−６．５８（ｍ，１
９Ｈ）、４．７７（ｍ，１Ｈ）、４．５２（ｂｒ，１
Ｈ）、４．４０（ｂｒ、１Ｈ）、４．１９（ｂｒ，１
Ｈ）、３．７４（ｂｒ，１Ｈ）、１．６４（ｓ，９Ｈ） ＦＤ−ＭＳ：６５３，６５１
【００８９】（重合） （実施例２６〜５０）以下に示す手順で重合をおこなっ
た。重合結果は表１に示す。ジャケット付きセパラブル
フラスコ中に窒素下で、トルエン１００ｍｌを仕込み、
２５℃で安定させた後、エチレンを常圧下、バブリング
させた。ここに、ＭＭＡＯのヘキサン溶液（2mmol）、
および錯体2μmolを加え、重合を開始した。攪拌後、エ
チレンを止め、５％塩酸水溶液を加え重合を停止した。
得られた混合物にメタノールを加え、不溶物をろ過し、
減圧下で乾燥し、ポリマーを得た。
た。重合結果は表１に示す。ジャケット付きセパラブル
フラスコ中に窒素下で、トルエン１００ｍｌを仕込み、
２５℃で安定させた後、エチレンを常圧下、バブリング
させた。ここに、ＭＭＡＯのヘキサン溶液（2mmol）、
および錯体2μmolを加え、重合を開始した。攪拌後、エ
チレンを止め、５％塩酸水溶液を加え重合を停止した。
得られた混合物にメタノールを加え、不溶物をろ過し、
減圧下で乾燥し、ポリマーを得た。
【表１】
【００９０】（実施例５１−８０）ジャケット付きセパ
ラブルフラスコ中に窒素下で、トルエン１００ｍｌを仕
込み、２５℃で安定させた後、エチレンを常圧下、バブ
リングさせた。ここに、トリイソブチルアルミニウム
（ＴＩＢＡ）のヘキサン溶液（２mmo）、錯体５μmol、
および１５μmolのＣ成分（トリフェニルカルベニウム
テトラキスペンタフルオロフェニルボレート（ＴＢ）ま
たはジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフ
ェニルボレート（ＡＢ））を加え、重合を開始した。攪
拌後、エチレンを止め、５％塩酸水溶液を加え重合を停
止した。得られた混合物にメタノールを加え、不溶物を
ろ過し、減圧下で乾燥し、ポリマーが得られた。結果を
表２にまとめた。
ラブルフラスコ中に窒素下で、トルエン１００ｍｌを仕
込み、２５℃で安定させた後、エチレンを常圧下、バブ
リングさせた。ここに、トリイソブチルアルミニウム
（ＴＩＢＡ）のヘキサン溶液（２mmo）、錯体５μmol、
および１５μmolのＣ成分（トリフェニルカルベニウム
テトラキスペンタフルオロフェニルボレート（ＴＢ）ま
たはジメチルアニリニウムテトラキスペンタフルオロフ
ェニルボレート（ＡＢ））を加え、重合を開始した。攪
拌後、エチレンを止め、５％塩酸水溶液を加え重合を停
止した。得られた混合物にメタノールを加え、不溶物を
ろ過し、減圧下で乾燥し、ポリマーが得られた。結果を
表２にまとめた。
【表２】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｆ 15/00 Ｃ０７Ｆ 15/00 Ｃ 15/02 15/02 15/04 15/04
Claims (17)
- 【請求項１】下記一般式（１）で示される遷移金属錯体
（１）を含むオレフィン重合用触媒。 一般式（１） （式中、Ｒ1〜Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7はそれぞれ独立に水素原
子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１
〜２０の炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素
置換シロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、スルホン、アシルオキ
シ基、アルコキシカルボニル基、スルホンアミド基、炭
化水素置換アミノ基、イミノ基、ニトロ基、シアノ基、
ホスフィノ基、ホスフィンオキシド基、ホスファイト
基、ホスフェート基、チオホスフェート基またはホスフ
ォリックアミド基を示し、Ｒ5は、水素原子または置換
基を有していてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を示
し、これらは結合して環を形成していてもよい。Ｘはハ
ロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０
の炭化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシ
ルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、スルホン、アシルオキシ基、アル
コキシカルボニル基、スルホンアミド基、炭化水素置換
アミノ基を示し、これらは結合して環を形成してもよ
い。Ｌは０価の配位性基を示す。Ｍは４〜１０族遷移金
属原子を示し、ｐは１〜６までの整数、ｑは１以上の整
数、ｒおよびｓはＭの価数を満たす０以上の整数を示
す。） - 【請求項２】前記一般式（１）で示される遷移金属錯体
（１）が、一般式（２） （式中、Ｒ1〜Ｒ5、Ｘ、Ｌ、Ｍ、ｑ、ｒおよびｓはそれ
ぞれ前記と同じ意味を表わす。Ｒ8〜Ｒ11はそれぞれ独
立に水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していても良
い炭素数１〜２０の炭化水素基、炭化水素置換シリル
基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキシ基、アリール
オキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカル
ボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ン、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、スルホ
ンアミノ基、炭化水素置換アミノ基、イミノ基、ニトロ
基、シアノ基、ホスフィノ基、ホスフィンオキシド基、
ホスファイト基、ホスフェート基、チオホスフェート基
またはホスフォリックアミド基を示し、これらは結合し
て環を形成していてもよい。）で示される化合物である
請求項1に記載のオレフィン重合用触媒。 - 【請求項３】一般式（２）で示される化合物が、一般式
（３） （式中、Ｒ1〜Ｒ5、Ｒ8、Ｒ9、Ｌ、Ｍ、Ｘ、ｑ、ｒおよ
びｓはそれぞれ前記と同じ意味を表わす。Ｒ12〜Ｒ
21は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、置換基
を有していても良い炭素数１〜２０の炭化水素基、炭化
水素置換シリル基、炭化水素置換シロキシ基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、
アルコキシカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基、スルホン、アシルオキシ基、アルコキシカルボニ
ル基、スルホンアミノ基、炭化水素置換アミノ基、イミ
ノ基、ニトロ基、シアノ基、ホスフィノ基、ホスフィン
オキシド基、ホスファイト基、ホスフェート基、チオホ
スフェート基またはホスフォリックアミド基を示し、こ
れらは結合して環を形成していてもよい。）で示される
化合物である請求項２に記載のオレフィン重合用触媒。 - 【請求項４】一般式（３）で示される化合物において、
Ｒ1がアリール基、３級アルキル基、３級アラルキル基
または炭化水素置換シリル基である請求項３に記載のオ
レフィン重合用触媒。 - 【請求項５】一般式（３）で示される化合物において、
Ｒ8、Ｒ9、Ｒ12〜Ｒ21の少なくとも１つが、Ｎ、Ｏ、Ｐ
またはＳ原子を含むことを特徴とする請求項3または4に
記載のオレフィン重合用触媒。 - 【請求項６】一般式（３）で示される化合物において、
Ｒ12、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ21のうち少なくとも１つがアルコ
キシ基である請求項３または４に記載のオレフィン重合
用触媒。 - 【請求項７】一般式（１）、（２）または（３）で示さ
れる化合物において、ｑ＝1である請求項１〜６のいず
れかに記載のオレフィン重合用触媒。 - 【請求項８】化合物（１）、（２）または（３）で示さ
れる化合物において、Ｍが４、８または10族の遷移金属
原子である請求項１〜７のいずれかに記載のオレフィン
重合用触媒。 - 【請求項９】請求項１〜８のいずれかに記載の触媒と下
記化合物（Ｂ）を用いることを特徴とするオレフィン重
合用触媒。化合物（Ｂ）は、下記化合物（Ｂ１）〜（Ｂ
３）のいずれか、あるいはそれらの混合物。 （Ｂ１）：一般式 （Ｅ１）aＡｌＺ(3-a)で示される
有機アルミニウム化合物； （Ｂ２）：一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ２）−Ｏ−｝bで示
される環状のアルミノキサン； （Ｂ３）：一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ３）−Ｏ−｝cＡｌ
（Ｅ３）2で示される線状のアルミノキサン （式中、Ｅ１〜Ｅ３は同一または相異なり、炭素原子数
１〜８の炭化水素基を示し、Ｚは同一または相異なり、
水素原子またはハロゲン原子を示し、ａは０＜ａ≦３の
整数、ｂは２以上の整数、ｃは１以上の整数を示す。） - 【請求項１０】請求項１〜８のいずれかに記載の触媒、
化合物（Ｂ）および化合物（Ｃ）を用いることを特徴と
するオレフィン重合用触媒。化合物（Ｂ）は前記と同
じ。化合物（Ｃ）は下記化合物（Ｃ１）〜（Ｃ３）のい
ずれか、あるいはそれらの混合物。 （Ｃ１）：一般式 Ｂ（Ｑ１）（Ｑ２）（Ｑ３）で示
されるホウ素化合物； （Ｃ２）：一般式 Ｚ+｛Ｂ（Ｑ１）（Ｑ２）（Ｑ
３）（Ｑ４）-｝で示されるホウ素化合物； （Ｃ３）：一般式 （Ｌ−Ｈ）+｛Ｂ（Ｑ１）（Ｑ
２）（Ｑ３）（Ｑ４）-｝で示されるホウ素化合物 （式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ
１〜Ｑ４は同一または相異なり、ハロゲン原子、炭素原
子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロ
ゲン化炭化水素基、炭素原子数１〜２０の炭化水素置換
シリル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基または炭
素原子数２〜２０の炭化水素２置換アミノ基を示す。） - 【請求項１１】請求項１〜10のいずれかに記載のオレフ
ィン重合用触媒の存在下に、オレフィンを重合または共
重合することを特徴とするオレフィン系重合体の製造方
法。 - 【請求項１２】一般式（４） （式中、Ｒ1はアリール基、３級アルキル基、３級アラ
ルキル基または炭化水素置換シリル基を示す。Ｒ2〜
Ｒ4、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ12〜Ｒ21は、それぞれ独立に水素原
子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１
〜２０の炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素
置換シロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、スルホン、アシルオキ
シ基、アルコキシカルボニル基、スルホンアミノ基、炭
化水素置換アミノ基、イミノ基、ニトロ基、シアノ基、
ホスフィノ基、ホスフィンオキシド基、ホスファイト
基、ホスフェート基、チオホスフェート基またはホスフ
ォリックアミド基を示し、Ｒ5は水素原子または置換基
を有していてもよい炭素数１〜２０の炭化水素基を示
し、これらは結合して環を形成していてもよい。Ｒ8、
Ｒ9、Ｒ12〜Ｒ21の少なくとも１つはＮ、Ｏ、Ｐまたは
Ｓ原子を含む。Ｘはハロゲン原子、炭素数１〜２０の
（置換）炭化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキ
ルチオ基、アリールチオ基、スルホン、アシルオキシ
基、アルコキシカルボニル基、スルホンアミド基、炭化
水素置換アミノ基を示す。Ｌは０価の配位性基を示す。
Ｍは４〜１０族遷移金属原子を示す。ｑは１以上の整
数、ｒおよびｓはそれぞれＭの価数を満たす０以上の整
数を示す。）で示される遷移金属錯体。 - 【請求項１３】一般式（４）で示される遷移金属化合物
において、Ｒ12、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ21のうち少なくとも１
つがアルコキシ基である請求項12に記載の遷移金属錯
体。 - 【請求項１４】一般式（４）で示される遷移金属化合物
において、Ｍが４族遷移金属である請求項12または13に
記載の遷移金属錯体。 - 【請求項１５】一般式（４）で示される遷移金属化合物
において、Ｍが８族遷移金属である請求項12または13に
記載の遷移金属錯体。 - 【請求項１６】一般式（４）で示される遷移金属化合物
において、Ｍが１０族遷移金属である請求項12または13
に記載の遷移金属錯体。 - 【請求項１７】一般式（５） （式中、Ｒ1はアリール基、３級アルキル基、３級アラ
ルキル基または炭化水素置換シリル基を示す。Ｒ2〜
Ｒ4、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ12〜Ｒ21は、それぞれ独立に水素原
子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数１
〜２０の炭化水素基、炭化水素置換シリル基、炭化水素
置換シロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
シル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、スルホン、アシルオキ
シ基、アルコキシカルボニル基、スルホンアミノ基、炭
化水素置換アミノ基、イミノ基、ニトロ基、シアノ基、
ホスフィノ基、ホスフィンオキシド基、ホスファイト
基、ホスフェート基、チオホスフェート基またはホスフ
ォリックアミド基を示し、これらは結合して環を形成し
ていてもよい。Ｒ8、Ｒ9、Ｒ12〜Ｒ21の少なくとも１つ
はＮ、Ｏ、ＰまたはＳ原子を含む。Ｒ5は水素原子また
は置換基を有していても良い炭素数１〜２０の炭化水素
基を示す。）で示されるシッフベース型アルコールと一
般式（６） ＭＸ(r+2)ＬS （式中、Ｍは４〜１０族遷移金属原子、Ｘはハロゲン原
子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の炭化水
素基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ
基、アルコキシカルボニル基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、スルホン、アシルオキシ基、アルコキシカル
ボニル基、スルホンアミド基、炭化水素置換アミノ基を
示し、ｒおよびｓはそれぞれＭの価数を満たす０以上の
整数を示す。）で示される遷移金属化合物とを塩基の存
在下に反応させることを特徴とする一般式（４）で示さ
れる遷移金属化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2000390704A JP4604346B2 (ja) | 1999-12-24 | 2000-12-22 | 遷移金属錯体およびこれを含む重合触媒 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36699099 | 1999-12-24 | ||
| JP11-366990 | 1999-12-24 | ||
| JP2000390704A JP4604346B2 (ja) | 1999-12-24 | 2000-12-22 | 遷移金属錯体およびこれを含む重合触媒 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001240611A true JP2001240611A (ja) | 2001-09-04 |
| JP4604346B2 JP4604346B2 (ja) | 2011-01-05 |
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|---|---|---|---|
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| WO2004081020A1 (en) * | 2003-03-14 | 2004-09-23 | Ic Innovations Ltd | Transition metal complexes, especially iron complexes, used as a catalyst component in the polymerisation of olefins |
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-
2000
- 2000-12-22 JP JP2000390704A patent/JP4604346B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| WO1999054364A1 (en) * | 1998-04-16 | 1999-10-28 | Mitsui Chemicals, Inc. | Catalyst for olefin polymerization and method of polymerizing olefin |
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| JP2015182992A (ja) * | 2014-03-26 | 2015-10-22 | 三井化学株式会社 | 遷移金属化合物、オレフィン重合用触媒、および、オレフィン系重合体の製造方法 |
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