JP2001240353A - エスカレータ装置 - Google Patents

エスカレータ装置

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JP2001240353A
JP2001240353A JP2000051953A JP2000051953A JP2001240353A JP 2001240353 A JP2001240353 A JP 2001240353A JP 2000051953 A JP2000051953 A JP 2000051953A JP 2000051953 A JP2000051953 A JP 2000051953A JP 2001240353 A JP2001240353 A JP 2001240353A
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plates
escalator device
plate
escalator
mounting surface
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Yutaka Ogawa
豊 小川
Mitsuhiro Eto
光広 江藤
Masaki Yoshida
雅喜 吉田
Kazumasa Iwata
一政 岩田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 エスカレータの薄型化、小型化を図る。 【解決手段】 エスカレータ装置1の踏み段4は、ステ
ッププレート5とスペーサプレート6とを交互に積層し
て形成される。スペーサプレート6は、踏み段4の前方
に突出し、ステッププレート5は踏み段4の後方に突出
している。前後に連なる踏み段4のうち、後方の踏み段
4のスペーサプレート6の前端部は、踏み段4の後部の
ステッププレート5に噛み合って連なる。踏み段4は、
乗載面8をほぼ水平に維持し、上方に臨んだ状態で循環
駆動する。ステップステッププレート5およびスペーサ
プレート6は、合成樹脂から成る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、エスカレータ装置
に関し、特に階段に設置する薄型のエスカレータ装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】エスカレータを既設の階段に設置する場
合には、従来はコンクリート製の階段を削るなど、大掛
かりな工事を必要とするため、コストが高くなり、また
工事期間が長くなるといった問題を有していた。このよ
うな問題に鑑み、階段を削ることなく、階段に載置して
設置するエスカレータ装置が提案されている。このよう
なエスカレータ装置は、薄く小型であることが望まし
い。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】エスカレータ装置は、
踏み段を循環駆動させるが、上循環領域から下循環領域
に移行させるとき、前後に隣接する踏み段が互いに干渉
しないように、踏み段の間隔を充分にあけて移行させる
必要があり、これによって、エスカレータ装置を小型化
させることが困難であった。
【0004】また、建物にエスカレータを設置する場合
には、天井まで規定の高さを確保する必要があり、この
ことからもエスカレータの薄型化が望まれている。
【0005】本発明の目的は、薄型化、小型化可能なエ
スカレータ装置を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の本発明
は、複数の踏み段を、上方位置と下方位置との間で循環
駆動させるエスカレータ装置において、前記踏み段は、
複数枚のプレートが、その厚み方向に間隔をあけて配置
された形状を有し、前後に連なる踏み段は、前方の踏み
段の後部と、後方の踏み段の前部とが噛み合って連なる
ことを特徴とするエスカレータ装置である。
【0007】本発明に従えば、踏み段は互いに間隔をあ
ける複数のプレートから構成され、隣接する踏み段は、
互いにプレートが噛み合って連結される。上循環領域か
ら下循環領域に移行するとき、踏み段は互いに離反せ
ず、相互に噛み合って移行するので、エスカレータ装置
の小型化、薄型化が図られる。また、互いに噛み合って
連なるので、各踏み段はぐらつくことなく安定して走行
することができる。
【0008】請求項2記載の本発明はの前記踏み段は、
使用者を乗載する乗載面を上方に臨ませた状態で循環駆
動することを特徴とする。
【0009】本発明に従えば、上循環領域から下循環領
域に踏み段が移行するとき、乗載面を上方に臨ませて移
行する。つまり、乗載面をほぼ水平に保った状態で踏み
段が下降する。このとき、下降する踏み段の後部に、後
方に連なる踏み段の前部が噛み合った状態で踏み段が下
降する。このようにして、踏み段が裏返らずに移行下循
環領域に移行することによって、エスカレータ装置を薄
型化することができる。
【0010】請求項3記載の本発明の前記踏み段は、使
用者を乗載する乗載面およびライザを有するステッププ
レートと、ステッププレート間に介在され、ステッププ
レート間に間隔を形成するためのスペーサプレートとを
交互に積層させて形成されることを特徴とする。
【0011】本発明に従えば、踏み段はステッププレー
トとスペーサプレートとを積層して形成されるので、た
とえば、設置する階段の幅に合わせてエスカレータの幅
を変更する場合であっても、ステッププレートとスペー
サプレートの枚数を変更するだけで、踏み段の幅を容易
に変更することができる。
【0012】請求項4記載の本発明の前記踏み段は、合
成樹脂からなることを特徴とする。本発明に従えば、踏
み段を合成樹脂で形成することによって、軽量で安価に
製造することができる。
【0013】請求項5記載の本発明は、踏み段のほぼ前
後方向の長さを有し、踏み段のプレート間と同じ間隔の
櫛歯を有するコムプレートを備え、コムプレートの櫛歯
間からプレートが露出して踏み段がせり上がってくるこ
とを特徴とする。
【0014】本発明に従えば、コムプレートの櫛歯から
踏み段がせり上がってくるように構成することにより、
使用者は櫛歯上に立っているだけで、自然と踏み段に乗
ることになり、踏み段の動きに合わせてエスカレータに
乗り込む必要がなくなる。これによって、お年寄りであ
ってもスムーズにエスカレータに乗り込むことが可能で
ある。
【0015】請求項6記載の本発明の前記踏み段は、使
用者を乗載する乗載面が、水平面に対して、下方位置側
が下方となるように傾斜していることを特徴とする。
【0016】本発明に従えば、踏み段の乗載面は、下方
位置側が下方となるように傾斜している。乗載面が水平
であり、階段に沿って天井が傾斜しているとき、乗載面
から天井までの高さは乗載面の下方位置側端部、つまり
ライザ側端部が最も低くなる。本発明では、下方位置側
が低くなるように乗載面を傾斜するので、エスカレータ
装置をさらに薄型化し、天井までの高さを高くすること
ができる。
【0017】請求項7記載の本発明の前記踏み段は、使
用者を乗載する乗載面からライザにわたって、円弧状に
連なることを特徴とする。
【0018】本発明によれば、踏み段の乗載面とライザ
とが円弧状に連なる。前述したように、乗載面とライザ
との連なる部分が、最も天井に近くなるので、この部分
を円弧状に形成することによって、エスカレータをさら
に薄型化し、天井までの高さを高くすることができる。
【0019】
【発明の実施の形態】図1は、本発明の実施の一形態で
あるエスカレータ装置1の構造を示す図である。本実施
形態のエスカレータ装置1は建物内に設置され、上方位
置である上層フロア2から下方位置である下層フロア3
にわたって設けられる階段7に載置して設置する薄型の
エスカレータ装置であり、上りエスカレータとして用い
る。
【0020】エスカレータ装置1は、複数の踏み段4が
チェーン14によって無端環状に連なり、モータ18に
よって循環駆動される。上層フロア2には、上スプロケ
ットホイール16が配置され、下層フロア3には下スプ
ロケットホイール17が配置され、これらの間にわたっ
て前記チェーン14が巻掛けられ、モータ18によって
チェーン14を循環させることによって、上循環領域S
1にある踏み段4が下層フロア3から上層フロア2に上
昇する。この上循環領域S1では使用者を踏み段4上に
乗載して搬送する。
【0021】上循環領域S1から下循環領域S2に移行
する下方移行領域S3では、踏み段4は裏返ることな
く、使用者を乗載する乗載面8を上方に臨んだ状態で移
行する。下循環領域S2でも、乗載面8を上方に臨んだ
状態で下降し、踏み段4が下層フロア3に達すると、下
循環領域S2から上循環領域S1に移行する。この上方
移行領域S4においても、乗載面8を上方に臨んだ状態
で移行する。このように本発明のエスカレータ装置1で
は、常に乗載面8を上方に臨んだ状態で循環駆動するこ
とにより、エスカレータ装置1の薄型化が図られる。
【0022】図2は踏み段4の側面図であり、図3は踏
み段4の平面図である。本発明の踏み段4は、複数枚の
プレートが等間隔に隙間をあけて配置された形状を有す
る。詳しく説明すると、略直角三角形状のステッププレ
ート5と、ステッププレート5の間の隙間を形成する板
状のスペーサプレート6とを交互に積層して形成され
る。ステッププレート5は略直角三角形状であり、斜辺
を下にして配置され、上辺が乗載面8を構成し、垂直な
辺がライザ9を構成する。そして斜辺に沿って長板状の
スペーサプレート6が配置される。
【0023】さらに詳しく説明すると、ステッププレー
ト5の前後方向の長さL1は、本実施形態では360m
mであり、高さHは、本実施形態では194mmであ
る。また、乗載面8は、ライザ9側になるにつれて水平
面に対して角度αだけ下方に傾斜している。この角度α
は、たとえば1〜10°の範囲に選ばれ、本実施形態で
は5°である。また、乗載面8からライザ9にわたって
円弧状に形成されており、この円弧半径Rは、たとえば
前後方向の長さL1の5〜20%であり、本実施形態で
はたとえば40mmである。
【0024】このように乗載面8が傾斜し、角部が円弧
状に形成されるのは、エスカレータ装置1を薄型化し、
天井空間を高く確保するためである。また、ステッププ
レート5の乗載面8は、粗面状に形成され、たとえば鋸
歯状に凹凸が形成される。これによって、使用者の足元
が滑るといったことが確実に防がれる。このようなステ
ッププレート5およびスペーサプレート6は、硬質の合
成樹脂によって形成される。厚みはステッププレート5
とスペーサプレートとは同じであり、本実施形態では1
0mmとする。
【0025】踏み段4を形成するには、スペーサプレー
ト6とステッププレート5とを交互に積層し、ボルトナ
ットによって固定して踏み段4が製造される。これによ
って厚み方向に間隔をあけた複数枚のプレート5から成
る踏み段4が形成される。スペーサプレート6は長板状
の平行四辺形状であり、ステッププレート5の下辺に沿
って配置されるが、このとき前端部6aがステッププレ
ート5の前方に突出して配置される。この突出量L2
は、踏み段4の前後方向に沿う長さL1の5〜10%程
度とし、本実施形態では25mm程度とする。また、ス
ペーサプレート6の後端部6bよりも後方にステッププ
レート5の後部が突出して配置され、この突出量L3
は、前記前方の突出量L2よりも大きく、前後方向長さ
L1の10〜15%程度とし、本実施形態では40mm
とする。また、スペーサプレート6の幅W1は、後方の
突出長さL3とほぼ同じとし、約40mmとする。この
ようにしてステッププレート5とスペーサプレート6と
が交互に重ね合わされて踏み段4が形成されることによ
り、踏み段4の前端部ではスペーサプレート6の前端部
6aが等間隔に間隔をあけて突出し、逆に踏み段4のラ
イザ9側後端部では、ステッププレート5の後端部が、
後方に突出し、厚み方向に間隔をあけて配置されること
になる。また、スペーサプレート6は、ステッププレー
ト5の斜辺に沿って配置されるだけであるので、踏み段
4のほとんどの部分に隙間が形成されることになる。
【0026】図3に示されるように、踏み段4の左右両
端部には、ステッププレート5と同じ形状で、厚みがス
テッププレート5よりも厚いステッププレート5aが設
けられる。このステッププレート5aの厚みは、たとえ
ば25mmである。これによって、踏み段4の強度を大
きくすることができる。
【0027】上述したように、踏み段4は複数枚のステ
ッププレート5およびスペーサプレート6を積層して形
成されるので、たとえば設置する階段3の幅に合わせて
エスカレータ装置1の幅を変更する場合にも、ステップ
プレート5およびスペーサプレート6の枚数を変更し
て、踏み段4の幅を容易に変更することが可能である。
【0028】図4は、前後に連なる踏み段4aと4bと
の噛み合い状態を示す部分平面図である。後方側の踏み
段4bのスペーサプレート6の前端部6aは、前方側の
踏み段4aの後方に突出するステッププレート5間に挟
まれる。このようにして、前後に連なる踏み段4は、前
端部と後端部とが交互に噛み合った状態で連結される。
このとき、図4からも分かるように、前後に連なる踏み
段4は、前後移動量が許容されるように前後に隙間をあ
ける。
【0029】図3に示されるように、踏み段4の前端部
には第1および第2案内ローラ11,12が設けられ、
踏み段4の後端部には支持ローラ13が設けられる。第
1および第2案内ローラ11,12は、固定軸10を介
して踏み段4に取付けられる。固定軸10は、踏み段4
の走行方向に垂直で水平な踏み段4の幅方向(図3の左
右方向)に貫通して踏み段4に固定される。つまり、踏
み段4に対して固定軸10はその軸線まわりの回転が阻
止されて連結される。
【0030】この固定軸10の左右両端部にコ字状のロ
ーラ支持部30が設けられて固定軸は前後に分岐し、こ
のローラ支持部30に第1および第2案内ローラ11,
12が取付けられる。第1案内ローラ11と第2案内ロ
ーラ12とは踏み段4の走行方向(前後方向)に間隔を
あけ、踏み段の幅方向に平行な回転軸線まわりに回転自
在にローラ支持部30に取付けられる。
【0031】踏み段4の後端部に設けられる支持軸15
は、踏み段4を幅方向に貫通して取付けられる。そして
この支持軸15の左右両端部に支持ローラ13が、支持
軸15の軸線まわりに回転自在に取付けられる。
【0032】また図3からも判るように、これらの第1
案内ローラ11、第2案内ローラ12および支持軸15
はそれぞれ踏み段4の幅方向に(固定軸10に平行な方
向)にずれた位置に配置される。また、ローラ支持部3
0は、支持ローラ13よりも外方に配置される。そし
て、踏み段4を走行駆動するためのチェーン14は、支
持ローラ13とローラ支持部30との間に配置され、固
定軸10に連結される。
【0033】図5は、エスカレータ装置1の部分平面図
である。前記第1案内ローラ11および第2案内ローラ
12は、エスカレータ装置1のフレーム40に固定され
る第1案内レール20および第2案内レール21にそれ
ぞれ案内される。第1案内レール20および第2案内レ
ール21は、断面形状が略コ字状であり、踏み段4の循
環経路に沿って無端環状に連なり、図1に示されるよう
に階段7に沿って延びて配置される。また、支持ローラ
13を案内する支持レール22は、上循環領域S1に沿
ってのびる1本のレールである。
【0034】案内レール20,21に沿って各ローラ1
1〜13が案内され、支持レール22に沿って支持ロー
ラ13が案内され、固定軸10をチェーン14によって
引張ることによって、踏み段4が階段に沿って循環する
ことができる。前述したように、各ローラ11〜13お
よびチェーン14は踏み段4の幅方向にずれて配置され
るので、これらの経路が干渉し合うことはない。
【0035】踏み段4の前端部に設けられる第1案内ロ
ーラ11および第2案内ローラ12はそれぞれ前後方向
に間隔をあけて配置され、固定軸10を介して踏み段4
に連結される。第1案内ローラ11は、ローラ支持部3
0を介して固定軸10よりも前方に配置され、第2案内
ローラ12は、ローラ支持部30を介して固定軸10よ
りも後方に配置される。そして、固定軸10は踏み段4
の前端部に固定的に取付けられる。つまり固定軸10は
踏み段4の重心よりも前方側に固定されるので、固定軸
に10によって踏み段4をほぼ水平に保持しようとする
と、固定軸10には、固定軸10を中心として後方か下
方に変位するような回転トルクが作用する。固定軸10
には前後に間隔をあけて第1および第2案内ローラ1
1,12が取付けられているので、このようなトルクに
よって、前方の第1案内ローラ11の上部が第1案内レ
ール20に当接支持され、後方の第2案内ローラ12の
下部が第2案内レール21に当接支持される。このよう
にしてレール20,21に当接支持されて第1案内ロー
ラ11と第2案内ローラ12の位置が決定されることに
よって、踏み段4の姿勢、つまり固定軸10まわりの踏
み段4の角度位置が決定される。
【0036】このように本発明のエスカレータ装置1で
は、第1および第2案内ローラ11,12のみによって
踏み段4の姿勢が一意に決定される。従って、第1およ
び第2案内ローラ11,12の走行経路を決定する第1
および第2案内レール20,21によって、踏み段4の
走行時の姿勢を高精度に制御することができる。従っ
て、下方移行領域S2、下循環領域S2、および上方移
行領域S4において、踏み段4の後端部を支持すること
なく、乗載面8をほぼ水平に保つことができる。ただ
し、使用者を乗載する上循環領域S1では、踏み段4の
支持強度をあげるために、踏み段4の後端部に設けられ
る支持ローラ13を支持レール22で支持し、踏み段4
を前後両端部で支持する。
【0037】再び図1を参照して、モータ18による上
スプロケットホイール16の駆動方法について説明す
る。踏み段4の固定軸10の左右両端部にはそれぞれチ
ェーン14が取付けられ、これら一対のチェーン14は
一対の上スプロケットホイール16に巻掛けられる。図
1からも判るように、踏み段4は一対の上スプロケット
ホイール16間を通過して上循環領域S1から下循環領
域S2へ移行するので、一対の上スプロケットホイール
16間には回転軸が設けられない。このように構成する
ために、モータ18とスプロケットホイール16間に中
間軸17を配置し、この中間軸17を介して一対のスプ
ロケットホイール16を駆動させる。
【0038】さらに詳しく説明すると、中間軸17は幅
方向(図1の紙面に垂直な方向)に延び、両端部に中間
スプロケットホイール24が固定され、回転自在に軸支
される。左右両端部の中間スプロケットホイール24
は、一対の上スプロケットホイール16の小スプロケッ
トホイール41にわたってチェーン19が巻掛けられて
いる。したがって、モータ18で、チェーン23を介し
て中間軸17を回転駆動すると、中間軸17の両端部の
中間スプロケットホイール24、チェーン19、小スプ
ロケットホイール41を介して一対の上スプロケットホ
イール16が回転駆動される。このようにして、一対の
スプロケットホイール16を個別に回転駆動することに
よって、上スプロケットホイール16間に踏み段4を通
過させて循環駆動させることができる。
【0039】図6は、上循環領域S1から下循環領域S
2へ踏み段4が移行する過程を示す図である。図6
(1)に示す状態のときの上スプロケットホイール16
の回転角度を0°とする。このとき、前方の踏み段4a
のライザ9の下端部に、後方の踏み段4bの先端部が噛
み合っている。この状態で上スプロケットホイール16
が45°回転すると、(2)に示すように、前方の踏み
段4aが降下し、噛み合い位置が上にずれる。
【0040】回転角度が60°になると、(3)に示す
ように、さらに前方の踏み段4aが下降して噛み合い位
置が上がり、回転角度が90°になると、(4)に示す
ように、噛み合い位置はライザ9の上端部に達する。さ
らに回転して(5)に示すように回転角度が105°に
なると、前方の踏み段4aと後方の踏み段4bとの噛み
合いが外れ、前方の踏み段4aは後方の踏み段4bの下
にまわり込む。前述したように、乗載面8とライザ9と
は円弧状に連なっているので、前方の踏み段4aと後方
の踏み段4bとが干渉することが防がれる。さらに回転
し、回転角度が165°になると、(6)に示すよう
に、前方の踏み段4aが完全に後方の踏み段4bの下に
まわり込む。
【0041】このように、本実施形態では下方移行領域
S3で、踏み段4aは踏み段4bと噛み合った状態を維
持しつつ降下するので、可能な限りエスカレータ装置1
を薄型化することができる。このように互いに噛み合っ
た状態で踏み段4を移行させるには、移行時の踏み段4
の姿勢を高精度に制御して位置決めする必要があるが、
前述したように、本発明では前後に間隔をあける一対の
ローラ11,12とこれらを案内支持するレール20,
21によって高精度に踏み段4の姿勢を制御することが
できる。
【0042】また、この下方移行領域S3において、前
方の踏み段4aと後方の踏み段4bとの噛み合い量が僅
かであるが変化する。本発明では、前述したように、前
後への噛み合い量の変化が許容されるように構成されて
いるので、互いに干渉せず、スムーズに移行することが
できる。
【0043】図7は、下循環領域S2から上循環領域S
1へ移行する上方移行領域S4での踏み段4の移行過程
を示す図である。下層フロア2側には、櫛歯46を有す
るコムプレート45がほぼ水平に配置される。櫛歯46
は、踏み段4の前後長さL1程度の長さの櫛歯であり、
ステッププレート5と同じ間隔を有し、踏み段4が通過
可能となっている。すなわち、図7(1)に示すよう
に、コムプレート45の下に配置された踏み段4が下ス
プロケットホイール17の回転に従って上方へ移行し、
(2)に示すように、コムプレート45の真下に配置さ
れると、櫛歯46と踏み段4の各ステッププレート5と
が噛み合い始める。さらに下スプロケットホイール17
が回転し、踏み段4が上昇すると、コムプレート45の
櫛歯46間から踏み段4の各ステッププレート5が露出
し、櫛歯46の間から踏み段4の乗載面8がせり上が
る。さらに、下スプロケットホイール17が回転する
と、踏み段4は斜め前方に上昇し、コムプレート45か
らさらに露出する。さらに回転し、(5)の状態を経て
(6)の状態になると、踏み段4は完全に櫛歯46から
露出する。このように、踏み段4はコムプレート45の
櫛歯46の間からせり上がってくるので、使用者は従来
のエスカレータのようにコムプレートから踏み出して踏
み段に乗りこむ必要がなく、コムプレート45の櫛歯4
6上に立っているだけで、せり上がってくる踏み段4に
自然と乗ることができる。これによって、年寄りなど、
タイミングよくエスカレータに乗り込むことが困難な者
であっても、安心してエスカレータに乗り込むことがで
きる。
【0044】また、コムプレート45の櫛歯46は水平
に限らず、傾斜するように構成してもよい。
【0045】このようなコムプレート45は、上層フロ
ア2側にも設けられる。図1に示すように、上層フロア
2側のコムプレート47は、櫛歯48を斜め下方に向け
て配置される。したがって、踏み段4が上昇してくる
と、櫛歯48の前端部が踏み段4の前方から斜めに差し
込まれる。そして、上端位置に達した踏み段4が水平移
動する。乗載者は、このときコムプレート47に乗り移
る。
【0046】上述した実施形態では、踏み段4は合成樹
脂から成るステッププレート5とスペーサプレート6と
を積層して形成したが、本発明はこのような形態に限ら
ず、たとえばステッププレート5とスペーサプレート6
とを一体成形した合成樹脂を複数枚積層して形成しても
よく、また、踏み段4全体を型成形によって一体に形成
してもよい。さらに、複数枚のステッププレート5とス
ペーサプレート6とが一体に形成されたブロックを適宜
組合せて踏み段4を形成するように構成してもよい。
【0047】また、合成樹脂に限らず、軽量な金属、た
とえばアルミニウム合金によってステッププレート5お
よびスペーサプレート6を形成し、これらを交互に積層
して踏み段4を形成するように構成してもよい。
【0048】また、上述した実施形態では、上層フロア
2側で踏み段4が水平移行するのに対し、下層フロア3
側では水平移行せず、すぐに上循環領域S1に折り返さ
れる構成にしたが、本発明はこのような形態に限らず、
下層フロア3側でも水平移行してから上循環領域S1に
移行するように構成してもよい。
【0049】図8は、本発明の他の実施の形態のエスカ
レータ装置の踏み段50を示す側面図である。この踏み
段50は、上述した実施形態の踏み段4と異なり、乗載
面8とライザ9とが垂直に連なるステッププレート51
から形成され、上循環領域S1で乗載面8が水平となる
ように配置される。また、ステッププレート51の上部
には、滑り止め部材52が着脱可能に取付けられる。こ
れによって、滑り止めが摩り減った場合、すべり止め部
材52を交換することができる。
【0050】上述した各実施形態ではエスカレータ装置
1は上りエスカレータトしたけれども、本発明を下りエ
スカレータに適用することも可能である。
【0051】また上述した各実施形態では、踏み段4
に、前後に間隔をあける一対の案内ローラ11,12を
設ける構成としたが、本発明はこのような構成に限るも
のでない。
【0052】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、踏み段
は、複数枚のプレートがその厚み方向に間隔をあけて配
置される形状を有し、前後に連なる踏み段は、互いに噛
み合って連結するので、これによってエスカレータ装置
の薄型化、小型化が図られる。
【0053】また本発明によれば、乗載面を常に上方に
臨んだ状態で踏み段が循環駆動することによってもエス
カレータの薄型化が図られる。
【0054】また本発明によれば、ステッププレートと
スペーサプレートとを交互に積層させて踏み段を形成す
ることにより、踏み段の大きさを容易に変更することが
可能である。
【0055】また本発明によれば、踏み段を合成樹脂か
ら形成することにより、エスカレータ装置を安価で軽量
に製造することができる。
【0056】また本発明によれば、コムプレートの櫛歯
から踏み段がせり上がってくるように構成することによ
り、使用者は櫛歯上に立っているだけで、自然と踏み段
に運ばれ、踏み段の動きに合わせてエスカレータに乗り
込む必要がなくなる。これによって、年寄りであっても
スムーズにエスカレータに乗り込むことが可能である。
【0057】また本発明によれば、踏み段の乗載面が傾
斜することにより、エスカレータ装置の厚みをさらに薄
くすることができる。
【0058】また本発明によれば、踏み段の乗載面から
ライザにわたって円弧状に連ねることにより、さらにエ
スカレータを薄型化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の一形態であるエスカレータ装置
1の構造を示す図である。
【図2】踏み段4を示す側面図である。
【図3】踏み段4の平面図である。
【図4】前後に連なる踏み段の噛み合い状態を部分的に
示す平面図である。
【図5】エスカレータ装置1の部分平面図である。
【図6】下方移行領域S3での移行過程を示す図であ
る。
【図7】上方移行領域S4での移行過程を示す図であ
る。
【図8】本発明の他の実施形態のエスカレータ装置の踏
み段45を示す側面図である。
【符号の説明】
1 エスカレータ装置 2 上層フロア 3 下層フロア 4,50 踏み段 5 ステッププレート 6 スペーサプレート 7 階段 8 乗載面 9 ライザ 10 固定軸 11 第1案内ローラ 12 第2案内ローラ 13 支持ローラ 14 チェーン 20 第1案内レール 21 第2案内レール 22 支持レール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩田 一政 大阪府大東市緑が丘2丁目1番1号 日本 フィレスタ株式会社内 Fターム(参考) 3F321 AA05 CB01 CB06 CB11 CB15 CB21 CC06 GA30

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の踏み段を、上方位置と下方位置と
    の間で循環駆動させるエスカレータ装置において、 前記踏み段は、複数枚のプレートが、その厚み方向に間
    隔をあけて配置された形状を有し、前後に連なる踏み段
    は、前方の踏み段の後部と、後方の踏み段の前部とが噛
    み合って連なることを特徴とするエスカレータ装置。
  2. 【請求項2】 前記踏み段は、使用者を乗載する乗載面
    を上方に臨ませた状態で循環駆動することを特徴とする
    請求項1記載のエスカレータ装置。
  3. 【請求項3】 前記踏み段は、使用者を乗載する乗載面
    およびライザを有するステッププレートと、ステッププ
    レート間に介在され、ステッププレート間に間隔を形成
    するためのスペーサプレートとを交互に積層させて形成
    されることを特徴とする請求項1または2記載のエスカ
    レータ装置。
  4. 【請求項4】 前記踏み段は、合成樹脂からなることを
    特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載のエスカ
    レータ装置。
  5. 【請求項5】 踏み段のほぼ前後方向の長さを有し、踏
    み段のプレート間と同じ間隔の櫛歯を有するコムプレー
    トを備え、コムプレートの櫛歯間からプレートが露出し
    て踏み段がせり上がってくることを特徴とする請求項1
    〜4のいずれか1つに記載のエスカレータ装置。
  6. 【請求項6】 前記踏み段は、使用者を乗載する乗載面
    が、水平面に対して、下方位置側が下方となるように傾
    斜していることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1
    つに記載のエスカレータ装置。
  7. 【請求項7】 前記踏み段は、使用者を乗載する乗載面
    からライザにわたって、円弧状に連なることを特徴とす
    る請求項1〜6のいずれか1つに記載のエスカレータ装
    置。
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