JP2001235438A - 像観察方法および走査電子顕微鏡 - Google Patents
像観察方法および走査電子顕微鏡Info
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/261—Details
- H01J37/265—Controlling the tube; circuit arrangements adapted to a particular application not otherwise provided, e.g. bright-field-dark-field illumination
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 誰でもが試料の種類と観察目的に応じた最適
な条件で走査電子顕微鏡の像を観察することができる走
査電子顕微鏡における像観察方法および走査電子顕微鏡
を実現する。 【解決手段】 メモリー２１には、あらかじめ、試料の
種類に応じた加速電圧の範囲、スポットサイズの範囲、
倍率に応じたスポットサイズの範囲、分析の手段に応じ
た加速電圧の範囲、スポットサイズの範囲が記憶されて
いる。ここで、走査電子顕微鏡を用いて特定の観察を行
おうとする場合、まず最初にオペレータはポインティン
グデバイス２２を用いて観察目的の指示モードを選択す
る。そうすると、制御装置１３は表示制御回路１８を制
御して、ディスプレイ２０上に条件選択画面を表示す
る。オペレータは、条件選択画面を用いて必要な条件を
選択する。条件が選択されると、メモリー２１からその
条件に最適な観察条件が読み出され、制御装置１３はそ
の観察条件に基づいて電子光学系の制御を行う。
な条件で走査電子顕微鏡の像を観察することができる走
査電子顕微鏡における像観察方法および走査電子顕微鏡
を実現する。 【解決手段】 メモリー２１には、あらかじめ、試料の
種類に応じた加速電圧の範囲、スポットサイズの範囲、
倍率に応じたスポットサイズの範囲、分析の手段に応じ
た加速電圧の範囲、スポットサイズの範囲が記憶されて
いる。ここで、走査電子顕微鏡を用いて特定の観察を行
おうとする場合、まず最初にオペレータはポインティン
グデバイス２２を用いて観察目的の指示モードを選択す
る。そうすると、制御装置１３は表示制御回路１８を制
御して、ディスプレイ２０上に条件選択画面を表示す
る。オペレータは、条件選択画面を用いて必要な条件を
選択する。条件が選択されると、メモリー２１からその
条件に最適な観察条件が読み出され、制御装置１３はそ
の観察条件に基づいて電子光学系の制御を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、試料の種類や観察
目的に応じて最適な条件で像の観察を行うことができる
走査電子顕微鏡における像観察方法および走査電子顕微
鏡に関する。
目的に応じて最適な条件で像の観察を行うことができる
走査電子顕微鏡における像観察方法および走査電子顕微
鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】走査電子顕微鏡では、電子銃から発生し
加速された電子ビームをコンデンサレンズや対物レンズ
で試料上に細く集束すると共に、この電子ビームの走査
にともなって発生した２次電子や反射電子を検出し、こ
の検出信号を画像信号として電子ビームの走査と同期し
た陰極線管に供給するようにしている。この結果、残光
性のある陰極線管上には、試料の２次元像が表示される
ことになる。
加速された電子ビームをコンデンサレンズや対物レンズ
で試料上に細く集束すると共に、この電子ビームの走査
にともなって発生した２次電子や反射電子を検出し、こ
の検出信号を画像信号として電子ビームの走査と同期し
た陰極線管に供給するようにしている。この結果、残光
性のある陰極線管上には、試料の２次元像が表示される
ことになる。
【０００３】このような走査電子顕微鏡において試料像
を観察する場合、その試料に適した観察条件で観察を行
うことが望ましい。この観察条件とは、試料に照射する
電子ビームの加速電圧、試料上の電子ビームのスポット
サイズ等である。この場合、どのような観察条件に各種
の値を設定するかはオペレータの経験によるしかない。
を観察する場合、その試料に適した観察条件で観察を行
うことが望ましい。この観察条件とは、試料に照射する
電子ビームの加速電圧、試料上の電子ビームのスポット
サイズ等である。この場合、どのような観察条件に各種
の値を設定するかはオペレータの経験によるしかない。
【０００４】具体的には、試料が金属類であれば、電子
ビームの加速電圧を高くし、生物試料であれば、その加
速電圧を低くしている。また、試料表面に導電性材料を
コーティングしてあれば、高加速電圧を選択し、コーテ
ィングがされていない場合には低加速電圧を選択する。
ビームの加速電圧を高くし、生物試料であれば、その加
速電圧を低くしている。また、試料表面に導電性材料を
コーティングしてあれば、高加速電圧を選択し、コーテ
ィングがされていない場合には低加速電圧を選択する。
【０００５】更に、高い倍率での観察時には、試料に照
射する電子ビームのスポットサイズを小さくし、低い倍
率での観察時には、そのスポットサイズを大きくする。
更にまた、それ以外の目的、例えば、試料の特定箇所の
元素分析をするかしないかなどで、観察条件を最適に設
定しなければならない。
射する電子ビームのスポットサイズを小さくし、低い倍
率での観察時には、そのスポットサイズを大きくする。
更にまた、それ以外の目的、例えば、試料の特定箇所の
元素分析をするかしないかなどで、観察条件を最適に設
定しなければならない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】走査電子顕微鏡で観察
する試料の種類は多く、また、試料の観察目的も多々あ
り、従来は試料と観察目的に応じオペレータが経験を頼
りに試行錯誤で観察条件を見付け、目的の観察を行うよ
うにしている。したがって、装置の使い勝手が必ずしも
良くないという結果となっていた。そして、誰でもが、
試料の種類とか観察目的に応じた最適な条件で走査電子
顕微鏡を使用することは困難であった。
する試料の種類は多く、また、試料の観察目的も多々あ
り、従来は試料と観察目的に応じオペレータが経験を頼
りに試行錯誤で観察条件を見付け、目的の観察を行うよ
うにしている。したがって、装置の使い勝手が必ずしも
良くないという結果となっていた。そして、誰でもが、
試料の種類とか観察目的に応じた最適な条件で走査電子
顕微鏡を使用することは困難であった。
【０００７】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、誰でもが試料の種類と観察目的に
応じた最適な条件で走査電子顕微鏡の像を観察すること
ができる走査電子顕微鏡における像観察方法および走査
電子顕微鏡を実現するにある。
もので、その目的は、誰でもが試料の種類と観察目的に
応じた最適な条件で走査電子顕微鏡の像を観察すること
ができる走査電子顕微鏡における像観察方法および走査
電子顕微鏡を実現するにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】第１の発明に基づく走査
電子顕微鏡における像観察方法は、電子ビームを発生し
加速する電子銃と、電子ビームを試料上に集束するため
の集束レンズと、試料上の電子ビームの照射位置を走査
するための走査手段と、試料への電子ビームの照射によ
って得られた信号を検出する検出器と、検出器の検出信
号に基づいて試料像を表示する表示手段とを備えた走査
電子顕微鏡において、少なくとも試料の種類、試料表面
の状態、観察倍率の組み合わせに応じた最適な電子ビー
ムの加速電圧、試料上のスポットサイズをメモリーに記
憶させ、入力手段により、観察すべき試料の種類、試料
表面の状態、観察倍率の組み合わせを入力することによ
り、メモリーからその組み合わせに対応した加速電圧と
スポットサイズを読みだし、読み出された加速電圧に応
じて電子銃を制御し、スポットサイズに応じて集束レン
ズを制御するようにしたことを特徴としている。
電子顕微鏡における像観察方法は、電子ビームを発生し
加速する電子銃と、電子ビームを試料上に集束するため
の集束レンズと、試料上の電子ビームの照射位置を走査
するための走査手段と、試料への電子ビームの照射によ
って得られた信号を検出する検出器と、検出器の検出信
号に基づいて試料像を表示する表示手段とを備えた走査
電子顕微鏡において、少なくとも試料の種類、試料表面
の状態、観察倍率の組み合わせに応じた最適な電子ビー
ムの加速電圧、試料上のスポットサイズをメモリーに記
憶させ、入力手段により、観察すべき試料の種類、試料
表面の状態、観察倍率の組み合わせを入力することによ
り、メモリーからその組み合わせに対応した加速電圧と
スポットサイズを読みだし、読み出された加速電圧に応
じて電子銃を制御し、スポットサイズに応じて集束レン
ズを制御するようにしたことを特徴としている。
【０００９】第１の発明では、少なくとも試料の種類、
試料表面の状態、観察倍率の組み合わせに応じた最適な
電子ビームの加速電圧、試料上のスポットサイズをメモ
リーに記憶させ、入力手段により、観察すべき試料の種
類、試料表面の状態、観察倍率の組み合わせを入力する
ことにより、メモリーからその組み合わせに対応した加
速電圧とスポットサイズを読みだし、読み出された加速
電圧に応じて電子銃を制御し、スポットサイズに応じて
集束レンズを制御し、誰でもが最適な観察条件で走査電
子顕微鏡の観察を行うことを可能とする。
試料表面の状態、観察倍率の組み合わせに応じた最適な
電子ビームの加速電圧、試料上のスポットサイズをメモ
リーに記憶させ、入力手段により、観察すべき試料の種
類、試料表面の状態、観察倍率の組み合わせを入力する
ことにより、メモリーからその組み合わせに対応した加
速電圧とスポットサイズを読みだし、読み出された加速
電圧に応じて電子銃を制御し、スポットサイズに応じて
集束レンズを制御し、誰でもが最適な観察条件で走査電
子顕微鏡の観察を行うことを可能とする。
【００１０】第２の発明に基づく走査電子顕微鏡は、電
子ビームを発生し加速する電子銃と、電子ビームを試料
上に集束するための集束レンズと、試料上の電子ビーム
の照射位置を走査するための走査手段と、試料への電子
ビームの照射によって得られた信号を検出する検出器
と、検出器の検出信号に基づいて試料像を表示する表示
手段とを備えた走査電子顕微鏡において、少なくとも試
料の種類、試料表面の状態、観察倍率の組み合わせに応
じた最適な電子ビームの加速電圧、試料上のスポットサ
イズが記憶されたメモリーと、観察すべき試料の種類、
試料表面の状態、観察倍率の組み合わせを選択する選択
手段と、選択手段よって選択された組み合わせに基づ
き、メモリーからその組み合わせに対応した加速電圧と
スポットサイズを読みだし、読み出された加速電圧とス
ポットサイズに応じて電子銃と各集束レンズを制御する
制御手段とを有したことを特徴としている。
子ビームを発生し加速する電子銃と、電子ビームを試料
上に集束するための集束レンズと、試料上の電子ビーム
の照射位置を走査するための走査手段と、試料への電子
ビームの照射によって得られた信号を検出する検出器
と、検出器の検出信号に基づいて試料像を表示する表示
手段とを備えた走査電子顕微鏡において、少なくとも試
料の種類、試料表面の状態、観察倍率の組み合わせに応
じた最適な電子ビームの加速電圧、試料上のスポットサ
イズが記憶されたメモリーと、観察すべき試料の種類、
試料表面の状態、観察倍率の組み合わせを選択する選択
手段と、選択手段よって選択された組み合わせに基づ
き、メモリーからその組み合わせに対応した加速電圧と
スポットサイズを読みだし、読み出された加速電圧とス
ポットサイズに応じて電子銃と各集束レンズを制御する
制御手段とを有したことを特徴としている。
【００１１】第２の発明では、少なくとも試料の種類、
試料表面の状態、観察倍率の組み合わせに応じた最適な
電子ビームの加速電圧、試料上のスポットサイズをメモ
リーに記憶させ、入力手段により、観察すべき試料の種
類、試料表面の状態、観察倍率の組み合わせを入力する
ことにより、メモリーからその組み合わせに対応した加
速電圧とスポットサイズを読みだし、読み出された加速
電圧に応じて電子銃を制御し、スポットサイズに応じて
集束レンズを制御し、誰でもが最適な観察条件で走査電
子顕微鏡の観察を行うことを可能とする。
試料表面の状態、観察倍率の組み合わせに応じた最適な
電子ビームの加速電圧、試料上のスポットサイズをメモ
リーに記憶させ、入力手段により、観察すべき試料の種
類、試料表面の状態、観察倍率の組み合わせを入力する
ことにより、メモリーからその組み合わせに対応した加
速電圧とスポットサイズを読みだし、読み出された加速
電圧に応じて電子銃を制御し、スポットサイズに応じて
集束レンズを制御し、誰でもが最適な観察条件で走査電
子顕微鏡の観察を行うことを可能とする。
【００１２】第３の発明では、第２の発明において、選
択手段は、ディスプレイ画面上に観察すべき試料の種
類、試料表面の状態、観察倍率が表示され、それら表示
された各項目のうち、該当するものを選択するように構
成されており、簡単に観察対象の選択を行うことができ
る。
択手段は、ディスプレイ画面上に観察すべき試料の種
類、試料表面の状態、観察倍率が表示され、それら表示
された各項目のうち、該当するものを選択するように構
成されており、簡単に観察対象の選択を行うことができ
る。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図１は本発明に基づく走査
電子顕微鏡の一例を示しており、図中１は電子銃であ
る。電子銃１から発生した電子ビームＥＢは、コンデン
サレンズ２と対物レンズ３によって試料４上に細く集束
される。また、電子ビームＥＢは、走査コイルや静電偏
向器のごとき偏向器５によって偏向され、試料４上の電
子ビームの照射位置は走査される。
施の形態を詳細に説明する。図１は本発明に基づく走査
電子顕微鏡の一例を示しており、図中１は電子銃であ
る。電子銃１から発生した電子ビームＥＢは、コンデン
サレンズ２と対物レンズ３によって試料４上に細く集束
される。また、電子ビームＥＢは、走査コイルや静電偏
向器のごとき偏向器５によって偏向され、試料４上の電
子ビームの照射位置は走査される。
【００１４】なお、コンデンサレンズ２の下部には対物
レンズ絞り６が配置されている。コンデンサレンズ２に
は電源７から励磁電流が供給されるが、電源７からの励
磁電流強度は、制御回路８によって制御される。対物レ
ンズ３には電源９から励磁電流が供給されるが、電源９
からの励磁電流強度は、制御回路１０によって制御され
る。
レンズ絞り６が配置されている。コンデンサレンズ２に
は電源７から励磁電流が供給されるが、電源７からの励
磁電流強度は、制御回路８によって制御される。対物レ
ンズ３には電源９から励磁電流が供給されるが、電源９
からの励磁電流強度は、制御回路１０によって制御され
る。
【００１５】偏向器５には走査信号発生回路１１から２
次元的な走査信号が、走査駆動回路１２を介して供給さ
れる。電源７の制御回路８、電源９の制御回路１０、走
査信号発生回路１１は、コンピュータのごとき制御装置
１３によって制御される。
次元的な走査信号が、走査駆動回路１２を介して供給さ
れる。電源７の制御回路８、電源９の制御回路１０、走
査信号発生回路１１は、コンピュータのごとき制御装置
１３によって制御される。
【００１６】試料４への電子ビームＥＢの照射によって
発生した２次電子は、２次電子検出器１４によって検出
される。検出器１４の検出信号は、増幅器１５によって
増幅され、ＡＤ変換器１６によってディジタル信号に変
換される。ＡＤ変換器１６によって変換された信号は、
フレームメモリー１７に供給され、走査信号に応じて記
憶される。
発生した２次電子は、２次電子検出器１４によって検出
される。検出器１４の検出信号は、増幅器１５によって
増幅され、ＡＤ変換器１６によってディジタル信号に変
換される。ＡＤ変換器１６によって変換された信号は、
フレームメモリー１７に供給され、走査信号に応じて記
憶される。
【００１７】フレームメモリー１７に記憶された映像信
号は読み出されて、表示制御回路１８を経由し、ＤＡ変
換器１９によってアナログ信号に変換された後、陰極線
管のごときディスプレイ装置２０に供給される。制御装
置１３には、メモリー２１とマウスのようなポインティ
ングデバイス２２が接続されている。このような構成の
動作を次に説明する。
号は読み出されて、表示制御回路１８を経由し、ＤＡ変
換器１９によってアナログ信号に変換された後、陰極線
管のごときディスプレイ装置２０に供給される。制御装
置１３には、メモリー２１とマウスのようなポインティ
ングデバイス２２が接続されている。このような構成の
動作を次に説明する。
【００１８】２次電子像を観察する場合、電子銃１から
の電子ビームは、コンデンサレンズ２と対物レンズ３に
よって試料４上に細く集束されると共に、電子ビーム
は、偏向器５によって試料上の所定領域で２次元的に走
査される。試料４への電子ビームＥＢの照射に基づいて
発生した２次電子は、検出器１４によって検出される。
検出信号は増幅器１５によって増幅され、ＡＤ変換器１
６を介してフレームメモリー１７に供給されて記憶され
る。
の電子ビームは、コンデンサレンズ２と対物レンズ３に
よって試料４上に細く集束されると共に、電子ビーム
は、偏向器５によって試料上の所定領域で２次元的に走
査される。試料４への電子ビームＥＢの照射に基づいて
発生した２次電子は、検出器１４によって検出される。
検出信号は増幅器１５によって増幅され、ＡＤ変換器１
６を介してフレームメモリー１７に供給されて記憶され
る。
【００１９】フレームメモリー１７に記憶された信号は
読み出され、表示制御回路１８、ＤＡ変換器１９を介し
てディスプレイ２０に供給されることから、ディスプレ
イ２０には試料の２次電子像が表示されることになる。
読み出され、表示制御回路１８、ＤＡ変換器１９を介し
てディスプレイ２０に供給されることから、ディスプレ
イ２０には試料の２次電子像が表示されることになる。
【００２０】さて、試料４に照射される電子ビームＥＢ
の加速電圧と試料上の電子ビームのスポットサイズは、
試料の種類、試料表面の状態（コーティングされている
かいないか）、倍率、観察目的（分析するかしないか、
分析の手段）によって最適な範囲が存在する。
の加速電圧と試料上の電子ビームのスポットサイズは、
試料の種類、試料表面の状態（コーティングされている
かいないか）、倍率、観察目的（分析するかしないか、
分析の手段）によって最適な範囲が存在する。
【００２１】メモリー２１には、あらかじめ、試料の種
類に応じた加速電圧との範囲、スポットサイズの範囲、
倍率に応じたスポットサイズの範囲、分析の手段（ＥＤ
Ｓ分析を行うか、ＷＤＳ分析を行うか）に応じた加速電
圧の範囲、スポットサイズの範囲が記憶されている。
類に応じた加速電圧との範囲、スポットサイズの範囲、
倍率に応じたスポットサイズの範囲、分析の手段（ＥＤ
Ｓ分析を行うか、ＷＤＳ分析を行うか）に応じた加速電
圧の範囲、スポットサイズの範囲が記憶されている。
【００２２】ここで、走査電子顕微鏡を用いて特定の観
察を行おうとする場合、まず最初にオペレータはポイン
ティングデバイス２２を用いて観察目的の指示モードを
選択する。そうすると、制御装置１３は表示制御回路１
８を制御して、ディスプレイ２０上に条件選択画面を表
示する。
察を行おうとする場合、まず最初にオペレータはポイン
ティングデバイス２２を用いて観察目的の指示モードを
選択する。そうすると、制御装置１３は表示制御回路１
８を制御して、ディスプレイ２０上に条件選択画面を表
示する。
【００２３】図２はこの条件選択画面の一例を示してい
る。オペレータは、この条件選択画面上で、ポインティ
ングデバイス２２を使用して観察しようとする条件の選
択を行う。例えば、試料の種類では「金属」を選択し、
コーティングでは「なし」を選択する。更に、倍率では
「１０００倍以下」を選択し、分析では「ＥＤＳ」を選
択する。
る。オペレータは、この条件選択画面上で、ポインティ
ングデバイス２２を使用して観察しようとする条件の選
択を行う。例えば、試料の種類では「金属」を選択し、
コーティングでは「なし」を選択する。更に、倍率では
「１０００倍以下」を選択し、分析では「ＥＤＳ」を選
択する。
【００２４】このような条件の選択を行うと、制御装置
１３はメモリー２１から選択された条件における電子ビ
ームの加速電圧の範囲、スポットサイズの範囲を読みだ
し、その内容を表示制御回路１８を介してディスプレイ
２０上に表示させる。図３はその表示されたディスプレ
イ画面の一例を示している。
１３はメモリー２１から選択された条件における電子ビ
ームの加速電圧の範囲、スポットサイズの範囲を読みだ
し、その内容を表示制御回路１８を介してディスプレイ
２０上に表示させる。図３はその表示されたディスプレ
イ画面の一例を示している。
【００２５】図３において、入力条件の試料の種類は金
属であるので、加速電圧は最適な値が２０ｋＶで許容範
囲が１５〜３０ｋＶの範囲であること、スポットサイズ
は１０〜４０が最適であることが表示される。なお、こ
のスポットサイズの数値は、０の時が最少スポット径、
９９の時が最大スポット径と設定した一例である。ま
た、試料が金属であり、その表面にコーティングなしの
条件であるために、加速電圧とスポットサイズには特別
の範囲指定がないことが示されている。
属であるので、加速電圧は最適な値が２０ｋＶで許容範
囲が１５〜３０ｋＶの範囲であること、スポットサイズ
は１０〜４０が最適であることが表示される。なお、こ
のスポットサイズの数値は、０の時が最少スポット径、
９９の時が最大スポット径と設定した一例である。ま
た、試料が金属であり、その表面にコーティングなしの
条件であるために、加速電圧とスポットサイズには特別
の範囲指定がないことが示されている。
【００２６】更に、倍率の選択が１０００倍以下である
ので、スポットサイズの最適範囲が１０〜４０であるこ
とが表示され、分析はＥＤＳ分析を選択したので、加速
電圧の許容範囲が１５〜２５ｋＶで最適値が２０ｋＶで
あることが表示される。制御装置１３は、メモリー２１
から読み出した上記各値から、入力した観察条件下での
結論としての最適値を演算し、その内容（加速電圧２０
ｋＶ、スポットサイズ４０）を表示する。
ので、スポットサイズの最適範囲が１０〜４０であるこ
とが表示され、分析はＥＤＳ分析を選択したので、加速
電圧の許容範囲が１５〜２５ｋＶで最適値が２０ｋＶで
あることが表示される。制御装置１３は、メモリー２１
から読み出した上記各値から、入力した観察条件下での
結論としての最適値を演算し、その内容（加速電圧２０
ｋＶ、スポットサイズ４０）を表示する。
【００２７】図３に示した表示の後、図４に示す最終設
定画面がディスプレイ２０上に表示される。オペレータ
は、ポインティングデバイス２２を用いて「ＯＫ」部分
をクリックすると、制御装置１３は、設定した条件で走
査電子顕微鏡の各構成要素の制御を行う。
定画面がディスプレイ２０上に表示される。オペレータ
は、ポインティングデバイス２２を用いて「ＯＫ」部分
をクリックすると、制御装置１３は、設定した条件で走
査電子顕微鏡の各構成要素の制御を行う。
【００２８】制御装置１３は、加速電圧が２０ｋＶに設
定されたので、それに応じて電子銃１の加速電源２３を
制御する制御回路２４を制御し、電子銃１から発生し、
試料４に照射される電子ビームＥＢの加速電圧を２０ｋ
Ｖとする。
定されたので、それに応じて電子銃１の加速電源２３を
制御する制御回路２４を制御し、電子銃１から発生し、
試料４に照射される電子ビームＥＢの加速電圧を２０ｋ
Ｖとする。
【００２９】制御装置１３は、更に制御回路８と制御回
路１０を制御し、コンデンサレンズ２の励磁電流と対物
レンズ３の励磁電流を調整し、試料４に照射される電子
ビームＥＢの試料上のスポットサイズが４０に設定され
る。
路１０を制御し、コンデンサレンズ２の励磁電流と対物
レンズ３の励磁電流を調整し、試料４に照射される電子
ビームＥＢの試料上のスポットサイズが４０に設定され
る。
【００３０】このような電子光学系の調整が終了した
後、前記した２次電子像の観察や図示していないＥＤＳ
検出器を用いた試料のＥＤＳ分析が実行される。
後、前記した２次電子像の観察や図示していないＥＤＳ
検出器を用いた試料のＥＤＳ分析が実行される。
【００３１】なお、観察条件として、上記した例では電
子ビームの加速電圧、電子ビームの試料上のスポットサ
イズを取り上げたが、それら以外に、試料の傾斜角度、
作動距離、検出器の種類（反射電子検出器、２次電子検
出器）、真空モード（高真空か低真空か）等の条件設定
も行えるようにすることが好ましい。
子ビームの加速電圧、電子ビームの試料上のスポットサ
イズを取り上げたが、それら以外に、試料の傾斜角度、
作動距離、検出器の種類（反射電子検出器、２次電子検
出器）、真空モード（高真空か低真空か）等の条件設定
も行えるようにすることが好ましい。
【００３２】以上本発明の実施の形態を詳述したが、本
発明はこの形態に限定されない。例えば、図２に示すよ
うなチェックシート形式の画面を表示し、その画面内の
該当項目を選択するようにして観察対象や観察目的の入
力を行ったが、そのような方式に限られず、キーボード
等により、直接試料の種類、コーティングの有無、倍
率、観察目的等を入力するようにしても良い。
発明はこの形態に限定されない。例えば、図２に示すよ
うなチェックシート形式の画面を表示し、その画面内の
該当項目を選択するようにして観察対象や観察目的の入
力を行ったが、そのような方式に限られず、キーボード
等により、直接試料の種類、コーティングの有無、倍
率、観察目的等を入力するようにしても良い。
【００３３】
【発明の効果】以上説明したように、第１および第２の
発明では、少なくとも試料の種類、試料表面の状態、観
察倍率の組み合わせに応じた最適な電子ビームの加速電
圧、試料上のスポットサイズをメモリーに記憶させ、入
力手段により、観察すべき試料の種類、試料表面の状
態、観察倍率の組み合わせを入力することにより、メモ
リーからその組み合わせに対応した加速電圧とスポット
サイズを読みだし、読み出された加速電圧に応じて電子
銃を制御し、スポットサイズに応じて集束レンズを制御
するようにしたので、誰でもが最適な観察条件で走査電
子顕微鏡の観察を行うことを可能とする。
発明では、少なくとも試料の種類、試料表面の状態、観
察倍率の組み合わせに応じた最適な電子ビームの加速電
圧、試料上のスポットサイズをメモリーに記憶させ、入
力手段により、観察すべき試料の種類、試料表面の状
態、観察倍率の組み合わせを入力することにより、メモ
リーからその組み合わせに対応した加速電圧とスポット
サイズを読みだし、読み出された加速電圧に応じて電子
銃を制御し、スポットサイズに応じて集束レンズを制御
するようにしたので、誰でもが最適な観察条件で走査電
子顕微鏡の観察を行うことを可能とする。
【００３４】第３の発明では、第２の発明において、選
択手段は、ディスプレイ画面上に観察すべき試料の種
類、試料表面の状態、観察倍率が表示され、それら表示
された各項目のうち、該当するものを選択するように構
成されており、簡単に観察対象の選択を行うことができ
る。
択手段は、ディスプレイ画面上に観察すべき試料の種
類、試料表面の状態、観察倍率が表示され、それら表示
された各項目のうち、該当するものを選択するように構
成されており、簡単に観察対象の選択を行うことができ
る。
【図１】本発明に基づく走査電子顕微鏡の一例を示す図
である。
である。
【図２】ディスプレイ画面の一例を示す図である。
【図３】ディスプレイ画面の一例を示す図である。
【図４】ディスプレイ画面の一例を示す図である。
１ 電子銃 ２ コンデンサレンズ ３ 対物レンズ ４ 試料 ５ 偏向器 ６ 対物レンズ絞り ７，９，２３ 電源 ８，１０，２４ 制御回路 １１ 走査信号発生回路 １２ 走査駆動回路 １３ 制御装置 １４ ２次電子検出器 １５ 増幅器 １６ ＡＤ変換器 １７ フレームメモリー １８ 走査制御回路 １９ ＤＡ変換器 ２０ ディスプレイ装置 ２１ メモリー ２２ ポインティングデバイス
フロントページの続き Ｆターム(参考） 2G001 AA03 BA05 BA08 BA15 CA03 DA06 EA01 EA03 FA06 GA05 GA06 GA09 GA13 GA19 JA02 JA05 JA06 JA07 JA20 KA01 NA17 PA07 5C030 AA01 AA04 AA10 AB02 5C033 MM03
Claims (3)
- 【請求項１】 電子ビームを発生し加速する電子銃と、
電子ビームを試料上に集束するための集束レンズと、試
料上の電子ビームの照射位置を走査するための走査手段
と、試料への電子ビームの照射によって得られた信号を
検出する検出器と、検出器の検出信号に基づいて試料像
を表示する表示手段とを備えた走査電子顕微鏡におい
て、少なくとも試料の種類、試料表面の状態、観察倍率
の組み合わせに応じた最適な電子ビームの加速電圧、試
料上のスポットサイズをメモリーに記憶させ、入力手段
により、観察すべき試料の種類、試料表面の状態、観察
倍率の組み合わせを入力することにより、メモリーから
その組み合わせに対応した加速電圧とスポットサイズを
読みだし、読み出された加速電圧に応じて電子銃を制御
し、スポットサイズに応じて集束レンズを制御するよう
にした走査電子顕微鏡における像観察方法。 - 【請求項２】 電子ビームを発生し加速する電子銃と、
電子ビームを試料上に集束するための集束レンズと、試
料上の電子ビームの照射位置を走査するための走査手段
と、試料への電子ビームの照射によって得られた信号を
検出する検出器と、検出器の検出信号に基づいて試料像
を表示する表示手段とを備えた走査電子顕微鏡におい
て、少なくとも試料の種類、試料表面の状態、観察倍率
の組み合わせに応じた最適な電子ビームの加速電圧、試
料上のスポットサイズが記憶されたメモリーと、観察す
べき試料の種類、試料表面の状態、観察倍率の組み合わ
せを選択する選択手段と、選択手段よって選択された組
み合わせに基づき、メモリーからその組み合わせに対応
した加速電圧とスポットサイズを読みだし、読み出され
た加速電圧とスポットサイズに応じて電子銃と各集束レ
ンズを制御する制御手段とを有した走査電子顕微鏡。 - 【請求項３】 選択手段は、ディスプレイ画面上に観察
すべき試料の種類、試料表面の状態、観察倍率が表示さ
れ、それら表示された各項目のうち、該当するものを選
択するように構成されている請求項２記載の走査電子顕
微鏡。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000047001A JP2001235438A (ja) | 2000-02-24 | 2000-02-24 | 像観察方法および走査電子顕微鏡 |
| EP01301386A EP1128413A1 (en) | 2000-02-24 | 2001-02-16 | Method of observing image and scanning electron microscope |
| US09/792,640 US20010030287A1 (en) | 2000-02-24 | 2001-02-23 | Method of observing image and scanning electron microscope |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000047001A JP2001235438A (ja) | 2000-02-24 | 2000-02-24 | 像観察方法および走査電子顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001235438A true JP2001235438A (ja) | 2001-08-31 |
Family
ID=18569325
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000047001A Pending JP2001235438A (ja) | 2000-02-24 | 2000-02-24 | 像観察方法および走査電子顕微鏡 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP1128413A1 (ja) |
| JP (1) | JP2001235438A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003098129A (ja) * | 2001-09-20 | 2003-04-03 | Horiba Ltd | エネルギー分散型マイクロアナライザ |
| US6768114B2 (en) | 2002-04-11 | 2004-07-27 | Keyence Corporation | Electron microscope, method for operating the same, and computer-readable medium |
| US6774364B2 (en) | 2002-04-11 | 2004-08-10 | Keyence Corporation | Electron microscope, method for operating the same, and computer-readable medium |
| JP2005326206A (ja) * | 2004-05-13 | 2005-11-24 | Jeol Ltd | 分析条件シート及び分析条件記録媒体並びに試料分析装置 |
| JP2008117679A (ja) * | 2006-11-07 | 2008-05-22 | Jeol Ltd | 電子線損傷を低減する透過型電子顕微鏡 |
| JP2010107334A (ja) * | 2008-10-30 | 2010-05-13 | Jeol Ltd | 電子線を用いるｘ線分析装置 |
Families Citing this family (6)
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|---|---|---|---|---|
| JP2002352762A (ja) * | 2001-05-25 | 2002-12-06 | Hitachi Ltd | 電子顕微鏡 |
| GB2393571B (en) | 2002-09-26 | 2007-03-21 | Leo Electron Microscopy Ltd | Improvements in and relating to the control of instruments |
| DE10305117A1 (de) * | 2003-02-07 | 2004-08-19 | Leica Microsystems Wetzlar Gmbh | Einrichtung und Software zum Steuern von Funktionen eines Mikroskopsystems |
| CN102692424B (zh) * | 2012-06-11 | 2014-03-12 | 西安工程大学 | 一种基于扫描电镜测试浆液在纱线中浸透效果的测试方法 |
| CN103207196B (zh) * | 2013-03-21 | 2016-05-18 | 中国农业大学 | 一种观测农药雾滴在靶标表面沉积状态的方法 |
| DE102021102900B4 (de) | 2021-02-08 | 2022-11-17 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Verfahren zum Betrieb eines Teilchenstrahlgeräts, Computerprogrammprodukt und Teilchenstrahlgerät zur Durchführung des Verfahrens |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05343019A (ja) * | 1992-06-03 | 1993-12-24 | Hitachi Ltd | 荷電粒子線装置およびその観察方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63231856A (ja) * | 1987-03-19 | 1988-09-27 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡等の制御方法 |
| EP0330763A1 (en) * | 1988-03-03 | 1989-09-06 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Charged particle apparatus with automatic beam set-up |
-
2000
- 2000-02-24 JP JP2000047001A patent/JP2001235438A/ja active Pending
-
2001
- 2001-02-16 EP EP01301386A patent/EP1128413A1/en not_active Withdrawn
- 2001-02-23 US US09/792,640 patent/US20010030287A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2003098129A (ja) * | 2001-09-20 | 2003-04-03 | Horiba Ltd | エネルギー分散型マイクロアナライザ |
| US6768114B2 (en) | 2002-04-11 | 2004-07-27 | Keyence Corporation | Electron microscope, method for operating the same, and computer-readable medium |
| US6774364B2 (en) | 2002-04-11 | 2004-08-10 | Keyence Corporation | Electron microscope, method for operating the same, and computer-readable medium |
| JP2005326206A (ja) * | 2004-05-13 | 2005-11-24 | Jeol Ltd | 分析条件シート及び分析条件記録媒体並びに試料分析装置 |
| JP2008117679A (ja) * | 2006-11-07 | 2008-05-22 | Jeol Ltd | 電子線損傷を低減する透過型電子顕微鏡 |
| JP2010107334A (ja) * | 2008-10-30 | 2010-05-13 | Jeol Ltd | 電子線を用いるｘ線分析装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1128413A1 (en) | 2001-08-29 |
| US20010030287A1 (en) | 2001-10-18 |
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