JP2001231838A - 足温浴器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 水量が変化しても適切な水温の制御を可能に
する。 【解決手段】 足温浴用の水Ｗを貯めるための上方に開
口する箱状の足温浴槽１１と、この足温浴槽１１の側部
外壁の上下方向に配置された複数のセンサ１２ａ〜１２
ｅにより成り足温浴槽１１内の水量の検出を行うための
検出部１２と、足温浴槽１１の底部外壁から加熱を行う
加熱部１３ａにより成り足温浴槽１１に貯めた水を加熱
して温める温水部１３とを備え、検出部１２の検出結果
を用いて温水部１３の加熱量を調整するもので、検出部
１２の検出結果から得られる水量のレベルが高いほど温
水部１３による加熱量を上げる処理などを行う温度制御
回路１４を備えた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、足を温水で温める
足温浴器に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の足温浴器は種々提案され
また市販されており、例えば、特開平７−１００１８０
号公報には、電気絶縁材料で成形され、上面が開口した
内容器の外側底面に、内容器の耐熱温度以下の温度で飽
和する防水性の発熱体を設けるとともに、これらの内容
器および発熱体を電気絶縁材料で成形され、外郭を構成
する外容器と内容器の上面開口を塞ぐ外蓋で覆い、さら
に発熱体の発熱量を制御する制御体と発熱体の発熱量を
設定する設定手段を備え、発熱体を制御することで水温
を所望の温度に保つ足温浴器が開示されている。

【０００３】なお、特開平１０−２８６２９８号公報に
は、循環ポンプを設け、この循環ポンプの吸水管路と吐
水管路を内容器に接続して湯を循環させると共に、吸水
管路または吐水管路に発熱体を設けた脚温浴器が開示さ
れている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記のような従来の足
温浴器では、水量は推奨量であるという前提で温度制御
が行われるが、実使用時において、推奨量でないことが
あり、また誤使用による加熱もあり得る。

【０００５】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、水量が変化しても適切な水温の制御が可能な足
温浴器を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の請求項１記載の発明の足温浴器は、足温浴用の水を貯
めるための貯水手段と、前記貯水手段に貯めた水量の検
出を行うための検出手段と、前記貯水手段に貯めた水を
加熱して温める温水手段と、前記検出手段の検出結果を
用いて前記温水手段の加熱量を調整する制御手段とを備
えるのである。

【０００７】請求項２記載の発明は、請求項１記載の足
温浴器において、前記貯水手段は上方に開口する箱状の
足温浴槽であり、前記検出手段は、複数の温度センサに
より成り、前記足温浴槽の上下方向の各部温度または前
記足温浴槽内の上下方向の各水温を検出することを特徴
とする。

【０００８】請求項３記載の発明は、請求項２記載の足
温浴器において、前記貯水手段に貯めた水を攪拌する攪
拌手段を備え、前記制御手段は、前記複数の温度センサ
から検出値を得て演算を行い、この演算結果から攪拌の
要否を判定し、攪拌要の場合には前記攪拌手段を通じて
前記貯水手段に貯めた水を攪拌することを特徴とする。

【０００９】請求項４記載の発明は、請求項２記載の足
温浴器において、前記温水手段は複数の加熱手段を有
し、前記制御手段は、前記複数の加熱手段と前記複数の
温度センサとを個々に対応させ、前記各温度センサの検
出結果に応じて個別に当該温度センサに対応する加熱手
段の制御を行うことを特徴とする。

【００１０】請求項５記載の発明は、請求項４記載の足
温浴器において、前記制御手段は、加熱量を小にして制
御中の加熱手段を、所定の設定時間間隔で一定時間加熱
量を大にして制御し、この後、当該加熱手段に対応する
温度センサの温度変化を判定した結果で、当該加熱手段
を制御することを特徴とする。

【００１１】

【発明の実施の形態】図１は本発明に係る第１実施形態
の足温浴器の構成図で、この図を用いて以下に第１実施
形態の説明を行う。

【００１２】第１実施形態の足温浴器は、足温浴用の水
（温水）Ｗを貯めるための例えば上方に開口する箱状の
足温浴槽１１と、この足温浴槽１１の側部周囲の外壁や
内壁の上下方向（図１の例では側部外壁の上下方向に等
間隔）に配置された複数のセンサ１２ａ〜１２ｅにより
成り足温浴槽１１内の水量の検出を行うための検出部１
２と、足温浴槽１１の底部や側部の内壁ないし外壁（図
１の例では底部外壁）から加熱を行う加熱部１３ａによ
り成り足温浴槽１１に貯めた水を加熱して温める温水部
１３とを備えているとともに、温度制御回路１４を備え
ている。

【００１３】この温度制御回路１４は、検出部１２の検
出結果を用いて温水部１３の加熱量を調整するもので、
例えば、検出部１２の検出結果から得られる水量のレベ
ルが高いほど温水部１３による加熱量を増す、換言する
と、検出部１２の検出結果から得られる水量のレベルが
低いほど温水部１３による加熱量を減らす処理などを行
う。

【００１４】なお、図１の例では、足温浴槽１１は、外
郭を有し、この外殻との間に上記検出部１２、温水部１
３および温度制御回路１４を収納する構造になってい
る。

【００１５】次に、上記構成の足温浴器の一動作例を説
明する。検出部１２のセンサ１２ａ〜１２ｅの各々は、
自身が足温浴槽１１内の水面より高い位置にあるかそれ
とも低い位置にあるかの検出を行い、この検出結果を温
度制御回路１４に出力する。

【００１６】このとき、例えば、センサ１２ａ，１２ｂ
が水面より低い検出結果を、センサ１２ｃ〜１２ｅが水
面より高い検出結果を出力したとすると、足温浴槽１１
内の水量が少ない（足温浴槽１１内の水量がセンサ１２
ｂ，１２ｃ間ないしセンサ１２ｂのレベルにある）と判
定し、温水部１３による加熱（発熱）量を小さくする
（判定した水量のレベルに応じた加熱量に調整する）制
御が温度制御回路１４により実行される。

【００１７】この後、足温浴槽１１内に水を継ぎ足し、
図１に示すような水位になったとすると、水面より低い
検出結果がセンサ１２ａ〜１２ｄから、水面より高い検
出結果がセンサ１２ｅから出力される。この場合、足温
浴槽１１内の水量が多い（足温浴槽１１内の水量がセン
サ１２ｄ，１２ｅ間ないしセンサ１２ｄのレベルにあ
る）と判定し、温水部１３による加熱量を大きくする
（判定した水量のレベルに応じた加熱量に増大する）制
御が温度制御回路１４により実行される。

【００１８】このように、足温浴槽１１内の水量を検出
し、その水量に応じて加熱量を調整する構成にすれば、
水量が変化しても適切な水温の制御が可能になり、水温
が異常に早くあるいは遅く上昇する不具合を防止するこ
とができる。

【００１９】なお、第１実施形態では、足温浴槽１１内
の水量に応じて温水部１３による加熱量が調整される構
成になっているが、これに限らず、足温浴槽１１内の水
温の検出を行う温度センサを設け、この温度センサによ
り検出された水温が所定ないし所望の温度になるよう
に、検出部１２の検出結果を用いて温水部１３の加熱量
を調整する制御が温度制御回路により実行される構成で
もよい。

【００２０】図２は本発明に係る第２実施形態の足温浴
器の構成図、図３は図２に示す足温浴器の回路構成図、
図４は図２に示す足温浴器の一動作例の説明図で、これ
らの図を用いて以下に第２実施形態の説明を行う。

【００２１】図２に示す足温浴器は、外郭のある足温浴
槽１１を第１実施形態と同様に備えているほか、足温浴
槽１１の例えば側部外壁の上下方向に等間隔に配置され
た複数のＰＴＣサーミスタ２２ａ〜２２ｅにより成り足
温浴槽１１内の水量の検出を行うための検出部２２と、
足温浴槽１１の例えば底部外壁から加熱を行うヒータ
（面ヒータ）２３ａにより成り足温浴槽１１に貯めた水
を加熱して温める温水部２３とを備えているとともに、
温度制御回路２４を備えている。

【００２２】この温度制御回路２４は、検出部２２の検
出結果から足温浴槽１１内の水量を得て、この水量を用
いて温水部２３の加熱量を調整する制御を行うもので、
図３に示すように、ＰＴＣサーミスタ２２ａ〜２２ｅか
ら得られる温度（足温浴槽１１の壁面温度で水面以下に
あるのものは水温を反映）がそれぞれ基準温度（例えば
３０℃）より高いか否かの比較を行う比較回路２４１ａ
〜２４１ｅと、ＡＣ１００Ｖの交流電源からヒータ２３
ａへの電力供給のオン／オフを行うリレー２４２と、こ
のリレー２４２のオン／オフ用の駆動回路２４３と、比
較回路２４１ａ〜２４１ｅの比較結果に応じてリレー２
４２のオン／オフを、駆動回路２４３を通じて行うマイ
コン２４０とにより構成されている。

【００２３】そして、図３の例では、比較回路２４１ａ
〜２４１ｅの各々は、オペアンプＯＰ１、抵抗およびコ
ンデンサなどで構成され、基準電圧（上記基準温度に相
当）が反転入力端子に印加しているオペアンプＯＰ１の
非反転入力端子に、対応するＰＴＣサーミスタからの電
圧が印加するので、そのＰＴＣサーミスタから得られる
電圧が基準電圧を超えると出力レベルがＨｉｇｈにな
る。

【００２４】次に、上記構成の足温浴器の一動作例を説
明する。今、室温が２０℃で、ＰＴＣサーミスタ２２ａ
〜２２ｃが足温浴槽１１内の水面より低い位置にあり、
ＰＴＣサーミスタ２２ｄ，２２ｅが高い位置にあるとす
ると、図４に示すように、ＰＴＣサーミスタ２２ａ〜２
２ｃから足温浴槽１１内の水温（湯温）を反映する約４
０℃の検出結果が、ＰＴＣサーミスタ２２ｄ，２２ｅか
ら室温を反映する約２０℃の検出結果が出力される。こ
の場合、ＰＴＣサーミスタ２２ａ〜２２ｃにそれぞれ対
応する比較回路２４１ａ〜２４１ｃの各出力レベルがＨ
ｉｇｈになり、ＰＴＣサーミスタ２２ｄ，２２ｅにそれ
ぞれ対応する比較回路２４１ｄ，２４１ｅの各出力レベ
ルがＬｏｗになる。これら比較回路２４１ａ〜２４１ｅ
の各出力はマイコン２４０に取り込まれ、足温浴槽１１
内の水面がＰＴＣサーミスタ２２ｃ，２２ｄ間にあると
判断し、そのレベルの水量を用いて温水部２３の加熱量
を調整する制御がマイコン２４０により行われる。例え
ば、ヒータ２３ａを３分間オンにし２分間オフにする制
御が繰り返される。

【００２５】この後、足温浴槽１１内に水を継ぎ足し、
図２に示すような水位になったとすると、ＰＴＣサーミ
スタ２２ａ〜２２ｄが足温浴槽１１内の水面より低い位
置になり、ＰＴＣサーミスタ２２ｅが高い位置になる。
これにより、図４に示すように、ＰＴＣサーミスタ２２
ｄの検出温度が室温を反映する約２０℃から足温浴槽１
１内の水温を反映する約４０℃に上昇するため、ＰＴＣ
サーミスタ２２ｄに対応する比較回路２４１ｄの出力レ
ベルがＬｏｗからＨｉｇｈに切り替わる。そして、比較
回路２４１ａ〜２４１ｅの各出力はマイコン２４０に取
り込まれ、足温浴槽１１内の水面がＰＴＣサーミスタ２
２ｄ，２２ｅ間に上昇したと判断し、そのレベルの水量
を用いて温水部２３の加熱量を調整する制御がマイコン
２４０により行われる。例えば、ヒータ２３ａを４分間
オンにし１分間オフにする制御が繰り返される。

【００２６】このように、足温浴槽１１内の水量を検出
し、その水量に応じて加熱量、つまりヒータ２３ａの発
熱量を調整（水量に比例させて発熱）する構成にすれ
ば、水量が変化しても適切な水温の制御が可能になり、
水温が異常に早くあるいは遅く上昇する不具合を防止す
ることができる。温度センサであるサーミスタを水量検
出の手段に使用し、水温を制御することができる。

【００２７】なお、第２実施形態では、足温浴槽１１内
の水量に応じて温水部２３による加熱量が調整される構
成になっているが、これに限らず、複数の温度センサに
より成り足温浴槽内の水量および水温の検出を行うため
の検出部を設け、検出部の検出結果から得られる水温が
所定ないし所望の温度になるように、検出部の検出結果
から得られる水量を用いて温水部の加熱量を調整する制
御が温度制御回路により実行される構成でもよい。この
場合、図３の例で説明すると、足温浴槽１１の底部近傍
のＰＴＣサーミスタ２２ａの出力が別途Ａ／Ｄ変換器を
通じてマイコン２４０に取り込まれるようにすれば、検
出部の検出結果から水温を検出することができる。

【００２８】図５は本発明に係る第３実施形態の足温浴
器の構成図、図６は図５に示す足温浴器の回路構成図、
図７は図５に示す足温浴器の一動作例の説明図で、これ
らの図を用いて以下に第３実施形態の説明を行う。

【００２９】図５に示す足温浴器は、検出部２２と、温
水部２３とを第２実施形態と同様に備えているほか、第
２実施形態との相違点として、足温浴用の水Ｗを貯める
ための例えば上方に開口する箱状の足温浴槽部３１ａ、
および屈曲した管状に形成され両端が足温浴槽部３１ａ
の側部外壁からその内部に連通する流通部３１ｂにより
成る足温浴槽３１と、この足温浴槽３１の流通部３１ｂ
内に設けられるスクリュー３５ａおよびこのスクリュー
３５ａ回転用のモータ３５ｂにより成る攪拌部３５とを
備えているとともに、温度制御回路３４を備えている。

【００３０】この温度制御回路３４は、第２実施形態と
同様に、検出部２２の検出結果から足温浴槽１１内の水
量を得て、この水量を用いて温水部２３の加熱量を調整
する制御を行うほか、第３実施形態の特徴として、検出
部２２の検出結果から足温浴槽１１内の温度むらの有無
を検出し、温度むらがあれば攪拌部３５を通じて足温浴
槽３１に貯めた水を攪拌する制御を行うものである。

【００３１】この具体回路を説明すると、図６に示すよ
うに、温度制御回路３４は、第２実施形態と同様の比較
回路２４１ａ〜２４１ｅ、リレー２４２および駆動回路
２４３と、ＡＣ１００Ｖの交流電源からモータ３５ｂへ
の電力供給のオン／オフを行うリレー３４２と、このリ
レー３４２のオン／オフ用の駆動回路３４３と、比較回
路２４１ａ〜２４１ｅの比較結果に応じてリレー２４
２，３４２のオン／オフを、それぞれ駆動回路２４３，
３４３を通じて行うマイコン３４０とにより構成されて
いる。

【００３２】ただし、足温浴槽３１中の湯の加熱温度む
らを検出するため、比較回路２４１ａ〜２４１ｅの基準
温度（基準電圧）はそれぞれ異なったレベルに設定され
る。すなわち、２４１ｅの基準温度＞２４１ｄの基準温
度＞２４１ｃの基準温度＞２４１ｂの基準温度＞２４１
ａの基準温度の関係になるように設定される。

【００３３】次に、第３実施形態の特徴となる足温浴器
の一動作例を説明する。今、図５に示すように、ＰＴＣ
サーミスタ２２ａ〜２２ｄが足温浴槽１１内の水面より
低い位置にあり、ＰＴＣサーミスタ２２ｅが高い位置に
あるとする。

【００３４】この状態から、図７に示すように、リレー
２４２をオン／オフすると（２４３の入力波形参照）、
ヒータ２３ａの加熱で足温浴槽１１内の水温が上昇し、
このとき、上層部の水温ほど高温になる温度むらが生じ
て、ＰＴＣサーミスタ２２ｄ側の温度がＰＴＣサーミス
タ２２ａ側の温度より高くなる。しかし、加熱後１０分
程度が経過するまでは、ＰＴＣサーミスタ２２ｄの温度
がその基準温度（２４１ｄの基準温度）より低く（２２
ｄ＜２４１ｄ）、ＰＴＣサーミスタ２２ａの温度がその
基準温度（２４１ａの基準温度）より低く（２２ａ＜２
４１ａ）なる。第３実施形態では、このように不等号の
向きが一致する場合、温度むらは発生していないとマイ
コン３４０により判定される。

【００３５】この後、１２分を経過する頃、ＰＴＣサー
ミスタ２２ｄの温度がその基準温度より高く（２２ｄ＞
２４１ｄ）なる一方で、その他の例えばＰＴＣサーミス
タ２２ａの温度がその基準温度より低い（２２ａ＜２４
１ａ）ままであると、不等号の向きが一致しなくなる。
第３実施形態では、このような場合に温度むらが発生し
たと判定し、駆動回路３４３への出力レベルをＨｉｇｈ
からＬｏｗに変更し、モータ３５ｂを通じてスクリュー
３５ａを回転させ、足温浴槽３１内の湯を約１０分間撹
拝する制御がマイコン３４０により実行される。

【００３６】このように、攪拌部３５を設けることで、
足温浴槽３１内の水温（湯温）の温度むらを改善し、足
温浴槽３１内全体の水温を均一にすることができる。ま
た、上記制御により、足温浴槽３１内の攪拌を好適なタ
イミングで実行させることが可能になる。

【００３７】図８は本発明に係る第４実施形態の足温浴
器の構成図、図９は図８に示す足温浴器の回路構成図、
図１０は図８に示す足温浴器の一動作例の説明図で、こ
れらの図を用いて以下に第４実施形態の説明を行う。

【００３８】図８に示す足温浴器は、足温浴槽１１と、
検出部２２とを第２実施形態と同様に備えているほか、
第２実施形態との相違点として、足温浴槽１１の底部外
壁に配置されたヒータ２３ａ、および足温浴槽１１の側
部周囲の外壁や内壁の上下方向に配置（図８の例では側
部外壁の上下方向に等間隔に配列されたＰＴＣサーミス
タ２２ａ〜２２ｅの上側近傍にそれぞれ周設）された複
数のヒータ４３ａ〜４３ｅにより成り足温浴槽１１に貯
めた水を加熱して温める温水部４３を備えているととも
に、温度制御回路４４を備えている。ここで、ＰＴＣサ
ーミスタ２２ａ〜２２ｅは、それぞれ上記配置によりヒ
ータ４３ａ〜４３ｅの温度変化の影響を検出し易くな
る。

【００３９】温度制御回路４４は、検出部２２のＰＴＣ
サーミスタ２２ａ〜２２ｅの検出結果を用いて、温水部
４３のヒータ２３ａ，４３ａ〜４３ｅの加熱量を調整す
るもので、例えば、ヒータ２３ａ，４３ａ〜４３ｅのう
ちヒータ４３ａ〜４３ｅと、複数のＰＴＣサーミスタ２
２ａ〜２２ｅとを個々に対応させ、各ＰＴＣサーミスタ
の各検出結果に応じて個別に当該ＰＴＣサーミスタに対
応するヒータの制御を行う。

【００４０】この具体回路を説明すると、図９に示すよ
うに、温度制御回路４４は、第２実施形態と同様の比較
回路２４１ａ〜２４１ｅ、リレー２４２および駆動回路
２４３と、ＡＣ１００Ｖの交流電源からヒータ４３ａ〜
４３ｅそれぞれへの電力供給のオン／オフを行うリレー
４４２ａ〜４４２ｅと、これらリレー４４２ａ〜４４２
ｅそれぞれのオン／オフ用の駆動回路４４３ａ〜４４３
ｅと、比較回路２４１ａ〜２４１ｅの比較結果に応じて
リレー２４２，４４２ａ〜４４２ｅのオン／オフを、そ
れぞれ駆動回路２４３，４４３ａ〜４４３ｅを通じて行
うマイコン４４０とにより構成されている。

【００４１】ただし、比較回路２４１ａ〜２４１ｅは、
高中低の３水準の温度判定を可能にするように基準温度
が設定される。例えば、高温判定温度として比較回路２
４１ｅの基準温度が設定され、中温判定温度として比較
回路２４１ｄ，２４１ｃの基準温度が設定され、そして
低温判定温度として比較回路２４１ｂ，２４１ａの基準
温度が設定される（２４１ｅ＞［２４１ｄ，２４１ｃ］
＞［２４１ｂ，２４１ａ］）。そして、ヒータ４３ａ〜
４３ｅに対しては、起動後、比較回路の出力レベルがＬ
ｏｗからＨｉｇｈに替わると、その比較回路のＰＴＣサ
ーミスタに対応するヒータのオン固定制御を、その比較
回路の水準に応じて、ｍ分オンでｎ分オフの繰り返し制
御にあるいはオフ固定制御に切り替える処理がマイコン
４４０により行われる。

【００４２】次に、第４実施形態の特徴となる足温浴器
の一動作例を説明する。今、図８に示すように、ＰＴＣ
サーミスタ２２ａ〜２２ｄが足温浴槽１１内の水面より
低い位置にあり、ＰＴＣサーミスタ２２ｅが高い位置に
あるとする。

【００４３】この状態から、ヒータ２３ａ，４３ａ〜４
３ｅにより足温浴槽１内の水が加熱されると、足温浴槽
１１内の水温が上昇する。このとき、図１０に示すよう
に、ＰＴＣサーミスタ２２ｅの温度＜高温判定温度、Ｐ
ＴＣサーミスタ２２ｄの温度＜中温判定温度、ＰＴＣサ
ーミスタ２２ｃの温度＜中温判定温度、ＰＴＣサーミス
タ２２ｂの温度＜低温判定温度、そしてＰＴＣサーミス
タ２２ａの温度＜低温判定温度の関係にあるので、マイ
コン４４０への比較回路２４１ａ〜２４１ｅの出力レベ
ルが全てＬｏｗになる。この場合、マイコン４４０は、
駆動回路４４３ａ〜４４３ｅへの出力レベルをＬｏｗ
（ヒータ加熱状態）に保持する。

【００４４】この後、ヒータ４３ｅは足温浴槽１１内の
水面より高い位置にあるため水を加熱することができ
ず、やがて、足温浴槽１１の壁面温度がヒータ４３ｅの
周囲だけ上昇することとなり、ＰＴＣサーミスタ２２ｅ
の温度＞高温判定温度となる。これにより、マイコン４
４０への比較回路２４１ａ〜２４１ｅの出力レベルのう
ち、比較回路２４１ｅの出力レベルがＨｉｇｈになる。
このように、高温判定温度に係るＰＴＣサーミスタ２２
ｅ用の比較回路２４１ｅの出力レベルが、一旦Ｈｉｇｈ
になると、マイコン４４０は、リセットされない限り、
図１０に示すように、その後たとえ比較回路２４１ｅの
出力レベルがＬｏｗになったとしても、ＰＴＣサーミス
タ２２ｅに対応するヒータ４３ｅをオフに固定する（駆
動回路４４３ｅへの出力レベルをＨｉｇｈに固定にす
る）。

【００４５】このオフ固定に対し、それ以降、マイコン
４４０は、ＰＴＣサーミスタ２２ａの温度＞低温判定温
度、ＰＴＣサーミスタ２２ｂの温度＞低温判定温度にな
ったとき、低温判定温度に係るＰＴＣサーミスタ２２
ａ，２２ｂに対応するヒータ４３ａ，４３ｂを４分間オ
ン、１分間オフの加熱量大で制御する一方、ＰＴＣサー
ミスタ２２ｃの温度＞中温判定温度、ＰＴＣサーミスタ
２２ｄの温度＞中温判定温度になったとき、中温判定温
度に係るＰＴＣサーミスタ２２ｃ，２２ｄに対応するヒ
ータ４３ｃ，４３ｄを２分間オン、３分間オフの加熱量
中で制御する。なお、図１０の例では、ＰＴＣサーミス
タ２２ａの温度が低温判定温度を越えることがないの
で、ヒータ４３ａは連続加熱を継続する。

【００４６】このように、複数のヒータと複数のＰＴＣ
サーミスタとを個々に対応させ、各ＰＴＣサーミスタの
検出結果に応じて個別に当該ＰＴＣサーミスタに対応す
るヒータの制御を行えば、足温浴槽１１内の水温をきめ
細かく制御することが可能になる。

【００４７】図１１は本発明に係る第５実施形態の足温
浴器の一動作例を示す図で、この図を用いて以下に第５
実施形態の説明を行う。

【００４８】第５実施形態の足温浴器は、第４実施形態
と同様に構成され、高温判定温度に係るＰＴＣサーミス
タ２２ｅ用の比較回路２４１ｅの出力レベルが、Ｈｉｇ
ｈになった後にＬｏｗになると、マイコン４４０はその
Ｈｉｇｈ時点から所定時間が経過すれば比較回路２４１
ｅの出力レベルに応じたヒータ４３ｅに対する制御を復
帰する点で第４実施形態と相違する。

【００４９】次に、第５実施形態の特徴となる足温浴器
の一動作例を説明する。ＰＴＣサーミスタ２２ｅの温度
＞高温判定温度になると、図１１に示すように、比較回
路２４１ｅの出力レベルがＨｉｇｈになり、マイコン４
４０は、ＰＴＣサーミスタ２２ｅに対応するヒータ４３
ｅをオフにする。これにより、ＰＴＣサーミスタ２２ｅ
の温度が高温判定温度以下に下がる。そして、比較回路
２４１ｅの出力レベルがＨｉｇｈになった時点から所定
時間（例えば１０分）が経過すると、マイコン４４０
は、ヒータ４３ｅに対する制御を復帰し、比較回路２４
１ｅの出力レベルに応じた制御を行う。このとき、比較
回路２４１ｅの出力レベルがＬｏｗであるので、ヒータ
４３ｅをオンにする制御が行われる。つまり、高温判定
温度を超えたヒータ４３ｅは高温判定温度を越えてから
約１０分後に、ヒータ４３ｅに係るマイコン入力信号が
Ｌｏｗで、マイコン出力信号がＨｉｇｈとなっていると
き、マイコン出力信号をＬｏｗに復帰させ、再び、ＰＴ
Ｃサーミスタ４３ｅの温度と高温判定温度との大小関係
を判定する。この後、ＰＴＣサーミスタ４３ｅの温度＞
高温判定温度となれば、マイコン出力信号をＨｉｇｈに
して、一連の復帰確認動作を繰り返す。ＰＴＣサーミス
タ４３ｅの温度＜高温判定温度になれば、マイコン出力
信号をＬｏｗとし、ＰＴＣサーミスタ４３ｅの温度と高
温判定温度との判定を継続し、温度制御を行う。

【００５０】このような構成によれば、足温浴槽１１内
の水面より高いと判定してオフにしたヒータに対して、
継続して水面より高いか否かを判定することで、足温浴
槽１１内の水量が増し、水面より低くなった場合、その
ヒータを足温浴槽１１内の水温上昇に使用することがで
きるので、より迅速な水温制御が可能になる。

【００５１】

【発明の効果】以上のことから明らかなように、請求項
１記載の発明によれば、足温浴用の水を貯めるための貯
水手段と、前記貯水手段に貯めた水量の検出を行うため
の検出手段と、前記貯水手段に貯めた水を加熱して温め
る温水手段と、前記検出手段の検出結果を用いて前記温
水手段の加熱量を調整する制御手段とを備えるので、水
量が変化しても適切な水温の制御が可能になり、水温が
異常に早くあるいは遅く上昇する不具合を防止すること
ができる。

【００５２】請求項２記載の発明によれば、請求項１記
載の足温浴器において、前記貯水手段は上方に開口する
箱状の足温浴槽であり、前記検出手段は、複数の温度セ
ンサにより成り、前記足温浴槽の上下方向の各部温度ま
たは前記足温浴槽内の上下方向の各水温を検出するの
で、水量が変化しても適切な水温の制御が可能になり、
水温が異常に早くあるいは遅く上昇する不具合を防止す
ることができる。

【００５３】請求項３記載の発明によれば、請求項２記
載の足温浴器において、前記貯水手段に貯めた水を攪拌
する攪拌手段を備え、前記制御手段は、前記複数の温度
センサから検出値を得て演算を行い、この演算結果から
攪拌の要否を判定し、攪拌要の場合には前記攪拌手段を
通じて前記貯水手段に貯めた水を攪拌するので、足温浴
槽内の水温の温度むらを改善し、足温浴槽内全体の水温
を均一にすることができる。

【００５４】請求項４記載の発明によれば、請求項２記
載の足温浴器において、前記温水手段は複数の加熱手段
を有し、前記制御手段は、前記複数の加熱手段と前記複
数の温度センサとを個々に対応させ、前記各温度センサ
の検出結果に応じて個別に当該温度センサに対応する加
熱手段の制御を行うので、足温浴槽内の水温をきめ細か
く制御することが可能になる。

【００５５】請求項５記載の発明によれば、請求項４記
載の足温浴器において、前記制御手段は、加熱量を小に
して制御中の加熱手段を、所定の設定時間間隔で一定時
間加熱量を大にして制御し、この後、当該加熱手段に対
応する温度センサの温度変化を判定した結果で、当該加
熱手段を制御するので、より迅速な水温制御が可能にな
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る第１実施形態の足温浴器の構成図
である。

【図２】本発明に係る第２実施形態の足温浴器の構成図
である。

【図３】図２に示す足温浴器の回路構成図である。

【図４】図２に示す足温浴器の一動作例の説明図であ
る。

【図５】本発明に係る第３実施形態の足温浴器の構成図
である。

【図６】図５に示す足温浴器の回路構成図である。

【図７】図５に示す足温浴器の一動作例の説明図であ
る。

【図８】本発明に係る第４実施形態の足温浴器の構成図
である。

【図９】図８に示す足温浴器の回路構成図である。

【図１０】図８に示す足温浴器の一動作例の説明図であ
る。

【図１１】本発明に係る第５実施形態の足温浴器の一動
作例を示す図である。

【符号の説明】

１１，３１ 足温浴槽 １２，２２ 検出部 １３，２３，４３ 温水部 １４，２４，３４，４４ 温度制御回路 ３５ 攪拌部

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 足温浴用の水を貯めるための貯水手段
   と、 前記貯水手段に貯めた水量の検出を行うための検出手段
   と、 前記貯水手段に貯めた水を加熱して温める温水手段と、 前記検出手段の検出結果を用いて前記温水手段の加熱量
   を調整する制御手段とを備える足温浴器。
2. 【請求項２】 前記貯水手段は上方に開口する箱状の足
   温浴槽であり、 前記検出手段は、複数の温度センサにより成り、前記足
   温浴槽の上下方向の各部温度または前記足温浴槽内の上
   下方向の各水温を検出する請求項１記載の足温浴器。
3. 【請求項３】 前記貯水手段に貯めた水を攪拌する攪拌
   手段を備え、 前記制御手段は、前記複数の温度センサから検出値を得
   て演算を行い、この演算結果から攪拌の要否を判定し、
   攪拌要の場合には前記攪拌手段を通じて前記貯水手段に
   貯めた水を攪拌する請求項２記載の足温浴器。
4. 【請求項４】 前記温水手段は複数の加熱手段を有し、 前記制御手段は、前記複数の加熱手段と前記複数の温度
   センサとを個々に対応させ、前記各温度センサの検出結
   果に応じて個別に当該温度センサに対応する加熱手段の
   制御を行う請求項２記載の足温浴器。
5. 【請求項５】 前記制御手段は、加熱量を小にして制御
   中の加熱手段を、所定の設定時間間隔で一定時間加熱量
   を大にして制御し、この後、当該加熱手段に対応する温
   度センサの温度変化を判定した結果で、当該加熱手段を
   制御する請求項４記載の足温浴器。