JP2001226312A - 3−フェニルプロピルケトン類の製造法 - Google Patents
3−フェニルプロピルケトン類の製造法Info
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- JP2001226312A JP2001226312A JP2000085809A JP2000085809A JP2001226312A JP 2001226312 A JP2001226312 A JP 2001226312A JP 2000085809 A JP2000085809 A JP 2000085809A JP 2000085809 A JP2000085809 A JP 2000085809A JP 2001226312 A JP2001226312 A JP 2001226312A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/51—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition
- C07C45/511—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by pyrolysis, rearrangement or decomposition involving transformation of singly bound oxygen functional groups to >C = O groups
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、農薬,医薬等の合成中間体として
有用な3−フェニルプロピルケトン類(4−フェニルブ
タナール類を含む)を、工業的に有利な条件で合成する
新規な製造法を提供することである。 【解決手段】 本発明では、例えば、「4−エチルベン
ジル亜鉛クロライド」と「トリメチルシリルクロライド
とメチルビニルケトンから得られるシリルエノールエー
テルである4−クロロ−2−トリメチルシリルオキシ−
2−ブテン」とを、銅触媒及びリチウム塩の存在下で反
応させることによって、メチル 3−(4−エチルフェ
ニル)−プロピルケトンを高収率で得ることができる。
有用な3−フェニルプロピルケトン類(4−フェニルブ
タナール類を含む)を、工業的に有利な条件で合成する
新規な製造法を提供することである。 【解決手段】 本発明では、例えば、「4−エチルベン
ジル亜鉛クロライド」と「トリメチルシリルクロライド
とメチルビニルケトンから得られるシリルエノールエー
テルである4−クロロ−2−トリメチルシリルオキシ−
2−ブテン」とを、銅触媒及びリチウム塩の存在下で反
応させることによって、メチル 3−(4−エチルフェ
ニル)−プロピルケトンを高収率で得ることができる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、農薬,医薬等の合
成中間体として有用な3−フェニルプロピルケトン類
(4−フェニルブタナール類を含む)の新規な製造法に
関するものであり、例えば、3−フェニルプロピルケト
ン類(4−フェニルブタナール類を含む)は、特開平3
−68573号公報に記載されたアゾール系の農園芸用
殺菌剤の原料となるものである。
成中間体として有用な3−フェニルプロピルケトン類
(4−フェニルブタナール類を含む)の新規な製造法に
関するものであり、例えば、3−フェニルプロピルケト
ン類(4−フェニルブタナール類を含む)は、特開平3
−68573号公報に記載されたアゾール系の農園芸用
殺菌剤の原料となるものである。
【0002】
【従来の技術】従来、3−フェニルプロピルケトン類
(4−フェニルブタナール類を含む)の製造法として
は、例えば、次のような方法が知られている。 (1)Bull.Soc.Chim.Fr.,5,16
76(1973)に記載の方法 この製法は、原料の1−(4−クロロフェニル)−3−
ペンテン−1,2−ジオールの入手が困難なので、工業
的製法としては不利である。 (2)特開平5−345740公報に記載の方法 この製法は、ハロ置換フェニル基に限定するもので、し
かも4−クロロフェニルグリニヤール試剤の使用してい
るため、副生物ハロ置換ビフェニル誘導体が生成する可
能性があり、工業的製法としては問題がある。 (3)J.Org.Chem.,53,5789(19
88)に記載の方法 これには、本発明の類縁体の反応として、ベンジル亜鉛
ブロマイドとエノン類との反応が示されている。しか
し、この反応では、量論量のシアン化銅を使用してお
り、しかも、−70〜−20℃の低温を必要としている
ので、工業的製法としては問題がある。
(4−フェニルブタナール類を含む)の製造法として
は、例えば、次のような方法が知られている。 (1)Bull.Soc.Chim.Fr.,5,16
76(1973)に記載の方法 この製法は、原料の1−(4−クロロフェニル)−3−
ペンテン−1,2−ジオールの入手が困難なので、工業
的製法としては不利である。 (2)特開平5−345740公報に記載の方法 この製法は、ハロ置換フェニル基に限定するもので、し
かも4−クロロフェニルグリニヤール試剤の使用してい
るため、副生物ハロ置換ビフェニル誘導体が生成する可
能性があり、工業的製法としては問題がある。 (3)J.Org.Chem.,53,5789(19
88)に記載の方法 これには、本発明の類縁体の反応として、ベンジル亜鉛
ブロマイドとエノン類との反応が示されている。しか
し、この反応では、量論量のシアン化銅を使用してお
り、しかも、−70〜−20℃の低温を必要としている
ので、工業的製法としては問題がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、農
薬,医薬等の合成中間体として有用な3−フェニルプロ
ピルケトン類(4−フェニルブタナール類を含む)を、
工業的に有利な条件で合成する新規な製造法を提供する
ことである。
薬,医薬等の合成中間体として有用な3−フェニルプロ
ピルケトン類(4−フェニルブタナール類を含む)を、
工業的に有利な条件で合成する新規な製造法を提供する
ことである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、この製法
に関して鋭意検討した結果、3−フェニルプロピルケト
ン類(4−フェニルブタナール類を含む)とトリメリル
シリルハライドとの反応から得られるシリルエノールエ
ーテルを、銅触媒及びリチウム塩の存在下、有機亜鉛化
合物と反応させることにより、高収率で目的物を得るこ
とを見出した。即ち、本発明は、次式(1):
に関して鋭意検討した結果、3−フェニルプロピルケト
ン類(4−フェニルブタナール類を含む)とトリメリル
シリルハライドとの反応から得られるシリルエノールエ
ーテルを、銅触媒及びリチウム塩の存在下、有機亜鉛化
合物と反応させることにより、高収率で目的物を得るこ
とを見出した。即ち、本発明は、次式(1):
【0005】
【化6】
【0006】(式中、Rは、水素原子,アルキル基,ア
ルコキシ基,ハロゲン,ニトロ基,ニトリル基,フェニ
ル基を表わす。nは、1〜5の整数を表わす。Xは、塩
素原子,臭素原子を表わす。)で示される有機亜鉛化合
物と次式(2):
ルコキシ基,ハロゲン,ニトロ基,ニトリル基,フェニ
ル基を表わす。nは、1〜5の整数を表わす。Xは、塩
素原子,臭素原子を表わす。)で示される有機亜鉛化合
物と次式(2):
【0007】
【化7】
【0008】(式中、Yは、塩素原子,臭素原子,よう
素原子を表わす。)で示されるトリメチルシリルハライ
ドと次式(3):
素原子を表わす。)で示されるトリメチルシリルハライ
ドと次式(3):
【0009】
【化8】
【0010】(式中、R1〜R3は、水素原子,アルキル
基,アルコキシ基,フェニル基を表わす。R4は、水素
原子,アルキル基、アルコキシ基を表わす。)で示され
る共役エノン類から得られる次式(4):
基,アルコキシ基,フェニル基を表わす。R4は、水素
原子,アルキル基、アルコキシ基を表わす。)で示され
る共役エノン類から得られる次式(4):
【0011】
【化9】
【0012】(式中、Y,R1〜R4は、前記と同義であ
る。)で示されるシリルエノールエーテルを、銅触媒及
びリチウム塩の存在下で反応させることを特徴とする、
次式(5):
る。)で示されるシリルエノールエーテルを、銅触媒及
びリチウム塩の存在下で反応させることを特徴とする、
次式(5):
【0013】
【化10】
【0014】(式中、R1〜R4,R及びnは、前記と同
義である。)で示される3−フェニルプロピルケトン類
の製造法に関するものである。本発明の3−フェニルプ
ロピルケトン類(4−フェニルブタナール類を含む)
〔化合物(5)〕の合成法を、さらに詳細に述べる。本
発明の反応は、次に示すような反応式に従って行われ
る。即ち、不活性ガス雰囲気下、THFなどの溶媒中、
置換ベンジルハライドと活性化した亜鉛を反応させて得
られた「有機亜鉛化合物〔化合物(1)〕」と「トリメ
チルシリルハライド〔化合物(2)〕と共役エノン〔化
合物(3)〕から得られるシリルエノールエーテル〔化
合物(4)〕」とを、銅触媒及び適当なリチウム塩の存
在下で反応させて、目的化合物である3−フェニルプロ
ピルケトン類(4−フェニルブタナール類を含む)〔化
合物(5)〕を高収率で合成する反応である。
義である。)で示される3−フェニルプロピルケトン類
の製造法に関するものである。本発明の3−フェニルプ
ロピルケトン類(4−フェニルブタナール類を含む)
〔化合物(5)〕の合成法を、さらに詳細に述べる。本
発明の反応は、次に示すような反応式に従って行われ
る。即ち、不活性ガス雰囲気下、THFなどの溶媒中、
置換ベンジルハライドと活性化した亜鉛を反応させて得
られた「有機亜鉛化合物〔化合物(1)〕」と「トリメ
チルシリルハライド〔化合物(2)〕と共役エノン〔化
合物(3)〕から得られるシリルエノールエーテル〔化
合物(4)〕」とを、銅触媒及び適当なリチウム塩の存
在下で反応させて、目的化合物である3−フェニルプロ
ピルケトン類(4−フェニルブタナール類を含む)〔化
合物(5)〕を高収率で合成する反応である。
【0015】
【化11】
【0016】(式中、R1〜R4,R,n,X及びYは、
前記と同義である。) 化合物(1)は、市販品のベンジルハライドと亜鉛粉末
から、J.Org.Chem.,53、5791(19
88)に記載された方法に準じて調製できる。活性亜鉛
粉末は、市販品の亜鉛粉末を使用して、“Reagen
t fororganic synthesis”,V
ol.1,John Wlley& Sons,New
York,1967,p1276に記載された方法に
準じて、希塩酸で洗浄した後、水,エタノール,エーテ
ルで乾燥させ、さらに、これをJ.Org.Che
m.,52,4796(1987)に記載された方法に
準じて、触媒量のトリメチルシリルクロライドで活性化
することによって得られたものを使用することができ
る。化合物(3)としては、例えば、(CH3)3SiC
l,(CH3)3SiBr,(CH3)3SiIを挙げるこ
とができるが;好ましくは、(CH3)3SiClであ
る。
前記と同義である。) 化合物(1)は、市販品のベンジルハライドと亜鉛粉末
から、J.Org.Chem.,53、5791(19
88)に記載された方法に準じて調製できる。活性亜鉛
粉末は、市販品の亜鉛粉末を使用して、“Reagen
t fororganic synthesis”,V
ol.1,John Wlley& Sons,New
York,1967,p1276に記載された方法に
準じて、希塩酸で洗浄した後、水,エタノール,エーテ
ルで乾燥させ、さらに、これをJ.Org.Che
m.,52,4796(1987)に記載された方法に
準じて、触媒量のトリメチルシリルクロライドで活性化
することによって得られたものを使用することができ
る。化合物(3)としては、例えば、(CH3)3SiC
l,(CH3)3SiBr,(CH3)3SiIを挙げるこ
とができるが;好ましくは、(CH3)3SiClであ
る。
【0017】化合物(5)は、市販品の共役エノンとト
リメチルシリルハライドからTetrahedron
Letter,2305(1979)に記載された方法
に準じて調製することができる。銅触媒は、市販品を使
用することができる。銅触媒としては、例えば、CuC
N,CuI,CuBr,CuClを挙げることができる
が;好ましくは、CuClである。リチウム塩は、市販
品を使用することができる。例えば、LiCl,LiB
r,LiIを挙げることができるが;好ましくは、Li
Clである。
リメチルシリルハライドからTetrahedron
Letter,2305(1979)に記載された方法
に準じて調製することができる。銅触媒は、市販品を使
用することができる。銅触媒としては、例えば、CuC
N,CuI,CuBr,CuClを挙げることができる
が;好ましくは、CuClである。リチウム塩は、市販
品を使用することができる。例えば、LiCl,LiB
r,LiIを挙げることができるが;好ましくは、Li
Clである。
【0018】本発明で使用する溶媒の種類としては、本
反応に直接関与しないものであれば特に限定されず、例
えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチルナフタリ
ン、石油エーテル、リグロイン、ヘキサン、クロルベン
ゼン、ジクロルベンゼン、クロロホルム、ジクロルエタ
ン、トリクロルエチレンのような塩素化された又はされ
ていない芳香族、脂肪族、脂環式の炭化水素類;テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジメト
キシエタン、ジエトキシエタンなどのようなエーテル
類、アセトン、メチルエチルケトンなどのようなケトン
類;N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルフォ
キシド、スルフォラン、N,N−ジメチルイミダゾリジ
ノン、N−メチルピロリドンなどのような非プロトン性
極性溶媒;及び前記溶媒の混合物などを挙げることがで
きる。
反応に直接関与しないものであれば特に限定されず、例
えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチルナフタリ
ン、石油エーテル、リグロイン、ヘキサン、クロルベン
ゼン、ジクロルベンゼン、クロロホルム、ジクロルエタ
ン、トリクロルエチレンのような塩素化された又はされ
ていない芳香族、脂肪族、脂環式の炭化水素類;テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジメト
キシエタン、ジエトキシエタンなどのようなエーテル
類、アセトン、メチルエチルケトンなどのようなケトン
類;N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルフォ
キシド、スルフォラン、N,N−ジメチルイミダゾリジ
ノン、N−メチルピロリドンなどのような非プロトン性
極性溶媒;及び前記溶媒の混合物などを挙げることがで
きる。
【0019】溶媒の使用量は、化合物(2)が5〜80
重量%になるようにして使用することができるが;10
〜60重量%が好ましい。反応温度は、特に限定されな
いが、−20℃から使用する溶媒の沸点以下の温度範囲
内であり;−10〜60℃が好ましい。反応時間は、前
記の濃度、温度によって変化するが;通常0.5〜5時
間である。原料化合物の使用量は、化合物(2)に対し
て化合物(4)が、0.7〜1.5倍モルであるが;
0.8〜1.0倍モルが好ましい。このようにして得ら
れた3−フェニルプロピルケトン類(4−フェニルブタ
ナール類を含む)は、例えば、特開平3−68573号
公報に記載されたアゾール系の農園芸用殺菌剤の原料と
なる。
重量%になるようにして使用することができるが;10
〜60重量%が好ましい。反応温度は、特に限定されな
いが、−20℃から使用する溶媒の沸点以下の温度範囲
内であり;−10〜60℃が好ましい。反応時間は、前
記の濃度、温度によって変化するが;通常0.5〜5時
間である。原料化合物の使用量は、化合物(2)に対し
て化合物(4)が、0.7〜1.5倍モルであるが;
0.8〜1.0倍モルが好ましい。このようにして得ら
れた3−フェニルプロピルケトン類(4−フェニルブタ
ナール類を含む)は、例えば、特開平3−68573号
公報に記載されたアゾール系の農園芸用殺菌剤の原料と
なる。
【0020】
【実施例】以下、本発明を参考例及び実施例によって具
体的に説明する。なお、これらは、本発明の範囲を限定
するものではない。 実施例1〔化合物(1)の合成〕 亜鉛粉末(Aldrich製)30gを0.2N−塩酸
水溶液で室温攪拌し、上澄みを除き、水、エタノール、
エーテルで順次洗浄した後減圧乾燥した。この亜鉛粉末
20gのTHF(50ml)溶液に、アルゴン雰囲気
下、クロロトリメチルシラン0.6gを室温で攪拌しな
がら加えた。この溶液を40℃に加熱して、これに4−
クロロベンジルクロライド32.2gのTHF(50m
l)溶液を滴下し、40〜60℃で3時間攪拌した。反
応終了後、反応液から上澄み液を集め、4−クロロベン
ジル亜鉛クロライドのTHF溶液を得た。この溶液は、
1H−NMR,13C−NMR,ガスクロマトグラフィー
から、1.54mol/l(収率95%)であった。
体的に説明する。なお、これらは、本発明の範囲を限定
するものではない。 実施例1〔化合物(1)の合成〕 亜鉛粉末(Aldrich製)30gを0.2N−塩酸
水溶液で室温攪拌し、上澄みを除き、水、エタノール、
エーテルで順次洗浄した後減圧乾燥した。この亜鉛粉末
20gのTHF(50ml)溶液に、アルゴン雰囲気
下、クロロトリメチルシラン0.6gを室温で攪拌しな
がら加えた。この溶液を40℃に加熱して、これに4−
クロロベンジルクロライド32.2gのTHF(50m
l)溶液を滴下し、40〜60℃で3時間攪拌した。反
応終了後、反応液から上澄み液を集め、4−クロロベン
ジル亜鉛クロライドのTHF溶液を得た。この溶液は、
1H−NMR,13C−NMR,ガスクロマトグラフィー
から、1.54mol/l(収率95%)であった。
【0021】実施例2〔4−(4−クロロフェニル)−
ブタナールの合成〕 窒素雰囲気、氷冷下、塩化銅31mg、塩化リチウム
0.63g、トリメチルシリルクロライド2.34gの
THF5ml溶液に、アクロレイン1.31gのTHF
5ml、溶液を滴下した。さらに20分間攪拌し、溶液
の一部をとり、水と酢酸エチルを加え、有機層をガスク
ロマトグラフィーにかけ、3−クロロプロパナールとし
て、3−クロロ−1−トリメチルシリルオキシ−2−プ
ロペンの生成を確認した。反応液を室温攪拌下に、実施
例1で得られた4−クロロベンジル亜鉛クロライドTH
F溶液10.0mlを1.5時間かけて滴下した後、さ
らに、1時間攪拌した。反応終了後、2規定塩酸10m
lを加え、トルエン20mlで抽出した。2N苛性ソー
ダ水、水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸ナトリウ
ムで乾燥、減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにて精製することにより、目的物
1.8g(収率66%)を得た。1 H−NMR(CDCl3、δppm) 1.93(2H,m),2.45(2H,m),2.6
3(2H,t),7.10(2H,d),7.25(2
H,d),9.76(1H,t)
ブタナールの合成〕 窒素雰囲気、氷冷下、塩化銅31mg、塩化リチウム
0.63g、トリメチルシリルクロライド2.34gの
THF5ml溶液に、アクロレイン1.31gのTHF
5ml、溶液を滴下した。さらに20分間攪拌し、溶液
の一部をとり、水と酢酸エチルを加え、有機層をガスク
ロマトグラフィーにかけ、3−クロロプロパナールとし
て、3−クロロ−1−トリメチルシリルオキシ−2−プ
ロペンの生成を確認した。反応液を室温攪拌下に、実施
例1で得られた4−クロロベンジル亜鉛クロライドTH
F溶液10.0mlを1.5時間かけて滴下した後、さ
らに、1時間攪拌した。反応終了後、2規定塩酸10m
lを加え、トルエン20mlで抽出した。2N苛性ソー
ダ水、水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸ナトリウ
ムで乾燥、減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにて精製することにより、目的物
1.8g(収率66%)を得た。1 H−NMR(CDCl3、δppm) 1.93(2H,m),2.45(2H,m),2.6
3(2H,t),7.10(2H,d),7.25(2
H,d),9.76(1H,t)
【0022】実施例3〔5−(3−メトキシフェニル)
−2−ペンタノン〕 実施例1で示した有機亜鉛化合物(1)を用い、実施例
2と同様に反応して目的物を得た。 収率58%1 H−NMR(CDCl3、δppm) 1.92(2H,m),2.06(3H,s),2.4
3(2H,t),2.60(2H,t),3.79(3
H,s),6.74(3H,m),7.19(1H,
t)
−2−ペンタノン〕 実施例1で示した有機亜鉛化合物(1)を用い、実施例
2と同様に反応して目的物を得た。 収率58%1 H−NMR(CDCl3、δppm) 1.92(2H,m),2.06(3H,s),2.4
3(2H,t),2.60(2H,t),3.79(3
H,s),6.74(3H,m),7.19(1H,
t)
【0023】実施例4〔5−(4−エチルフェニル)−
2−ペンタノン〕 実施例1の亜鉛試剤を用い、実施例2と同様に反応して
目的物を得た。 収率64%1 H−NMR(CDCl3、δppm) 1.92(2H,m),2.06(3H,s),2.4
3(2H,t),2.60(2H,t),3.79(3
H,s),6.74(3H,m),7.19(1H,
t)
2−ペンタノン〕 実施例1の亜鉛試剤を用い、実施例2と同様に反応して
目的物を得た。 収率64%1 H−NMR(CDCl3、δppm) 1.92(2H,m),2.06(3H,s),2.4
3(2H,t),2.60(2H,t),3.79(3
H,s),6.74(3H,m),7.19(1H,
t)
【0024】実施例5〔化合物(1)の合成〕 亜鉛粉末(Aldrich製)30gを0.2N−塩酸
水溶液で室温攪拌し、上澄みを除き、水、アセトンで順
次洗浄した後減圧乾燥した。この亜鉛粉末23gのジメ
トキシエタン(25ml)溶液に、アルゴン雰囲気下、
クロロトリメチルシラン0.6gを室温で攪拌しながら
加えた。この溶液を40℃に加熱して、これにクロロベ
ンジルクロライド32.2gのトルエン(50ml)溶
液を滴下し、40〜60℃で3時間攪拌した。反応終了
後、反応液から上澄み液を集め、4−クロロベンジル亜
鉛クロライドの溶液を得た。この溶液は、ガスクロマト
グラフィーから、1.78mol/l(収率90%)で
あった。
水溶液で室温攪拌し、上澄みを除き、水、アセトンで順
次洗浄した後減圧乾燥した。この亜鉛粉末23gのジメ
トキシエタン(25ml)溶液に、アルゴン雰囲気下、
クロロトリメチルシラン0.6gを室温で攪拌しながら
加えた。この溶液を40℃に加熱して、これにクロロベ
ンジルクロライド32.2gのトルエン(50ml)溶
液を滴下し、40〜60℃で3時間攪拌した。反応終了
後、反応液から上澄み液を集め、4−クロロベンジル亜
鉛クロライドの溶液を得た。この溶液は、ガスクロマト
グラフィーから、1.78mol/l(収率90%)で
あった。
【0025】実施例6〔5−(4−クロロフェニル)−
3−メチル−2−ペンタノンの合成〕 窒素雰囲気、氷冷下、塩化銅40mg、塩化リチウム
0.75g、3−メチル−3−ブテン−2−オン1.3
5gのアセトン5ml溶液に、トリメチルシリルクロラ
イド1.64gのアセトン2ml、溶液を滴下した。さ
らに20分間攪拌し、溶液の一部をとり、水と酢酸エチ
ルを加え、有機層をガスクロマトグラフィーにかけ、4
−クロロ−3−メチル−2−ブタノンとして、4−クロ
ロ−3−メチル−2−トリメチルシリルオキシ−2−ブ
テンの生成を確認した。反応液を室温攪拌下に、実施例
3で得られた4−クロロベンジル亜鉛クロライド溶液1
0.0mlを1.5時間かけて滴下した後、さらに、3
時間攪拌した。反応終了後、2規定塩酸10mlを加
え、トルエン20mlで抽出した。2N苛性ソーダ水、
水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾
燥、減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにて精製することにより、目的物2.0
g(収率60%)を得た。1 H−NMR(CDCl3、δppm) 1.13(3H,d),1.61(1H,m),1.9
9(1H,m),2.13(3H,s),2.45−
2.58(3H,m),7.10(2H,dd),7.
25(2H,dd)
3−メチル−2−ペンタノンの合成〕 窒素雰囲気、氷冷下、塩化銅40mg、塩化リチウム
0.75g、3−メチル−3−ブテン−2−オン1.3
5gのアセトン5ml溶液に、トリメチルシリルクロラ
イド1.64gのアセトン2ml、溶液を滴下した。さ
らに20分間攪拌し、溶液の一部をとり、水と酢酸エチ
ルを加え、有機層をガスクロマトグラフィーにかけ、4
−クロロ−3−メチル−2−ブタノンとして、4−クロ
ロ−3−メチル−2−トリメチルシリルオキシ−2−ブ
テンの生成を確認した。反応液を室温攪拌下に、実施例
3で得られた4−クロロベンジル亜鉛クロライド溶液1
0.0mlを1.5時間かけて滴下した後、さらに、3
時間攪拌した。反応終了後、2規定塩酸10mlを加
え、トルエン20mlで抽出した。2N苛性ソーダ水、
水、飽和食塩水で順次洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾
燥、減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにて精製することにより、目的物2.0
g(収率60%)を得た。1 H−NMR(CDCl3、δppm) 1.13(3H,d),1.61(1H,m),1.9
9(1H,m),2.13(3H,s),2.45−
2.58(3H,m),7.10(2H,dd),7.
25(2H,dd)
【0026】実施例7〔5−(4−クロロフェニル)−
4,4−ジメチル−2−ペンタノン〕 実施例5で示した有機亜鉛化合物(1)を用い、実施例
6と同様に反応した。 収率 40%1 H−NMR(CDCl3、δppm) 0.98(6H,s),2.11(3H,s),2.2
6(2H,s),2.65(2H,s),7.05(2
H,dt),7.23(2H,dt)
4,4−ジメチル−2−ペンタノン〕 実施例5で示した有機亜鉛化合物(1)を用い、実施例
6と同様に反応した。 収率 40%1 H−NMR(CDCl3、δppm) 0.98(6H,s),2.11(3H,s),2.2
6(2H,s),2.65(2H,s),7.05(2
H,dt),7.23(2H,dt)
【0027】
【発明の効果】本発明の新規な製法によれば、農薬,医
薬等の合成中間体として有用な3−フェニルプロピルケ
トン類(4−フェニルブタナール類を含む)を高収率で
合成することができる。
薬等の合成中間体として有用な3−フェニルプロピルケ
トン類(4−フェニルブタナール類を含む)を高収率で
合成することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07C 49/233 C07C 49/233 49/255 49/255 B // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300
Claims (1)
- 【請求項1】 次式(1): 【化1】 (式中、Rは、水素原子,アルキル基,アルコキシ基,
ハロゲン,ニトロ基,ニトリル基,フェニル基を表わ
す。nは、1〜5の整数を表わす。Xは、塩素原子,臭
素原子を表わす。)で示される有機亜鉛化合物と 次式(2): 【化2】 (式中、Yは、塩素原子,臭素原子,よう素原子を表わ
す。)で示されるトリメチルシリルハライドと 次式(3): 【化3】 (式中、R1〜R3は、水素原子,アルキル基,アルコキ
シ基,フェニル基を表わす。R4は、水素原子,アルキ
ル基,アルコキシ基を表わす。)で示される共役エノン
類から得られる 次式(4): 【化4】 (式中、Yは、塩素原子,臭素原子,よう素原子を表わ
す。R1〜R4は、前記と同義である。)で示されるシリ
ルエノールエーテルを、銅触媒及びリチウム塩の存在下
で反応させることを特徴とする、 次式(5): 【化5】 (式中、R1〜R4,R及びnは、前記と同義である。)
で示される3−フェニルプロピルケトン類の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000085809A JP2001226312A (ja) | 1999-12-09 | 2000-03-27 | 3−フェニルプロピルケトン類の製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11-350071 | 1999-12-09 | ||
JP35007199 | 1999-12-09 | ||
JP2000085809A JP2001226312A (ja) | 1999-12-09 | 2000-03-27 | 3−フェニルプロピルケトン類の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001226312A true JP2001226312A (ja) | 2001-08-21 |
Family
ID=26579109
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000085809A Abandoned JP2001226312A (ja) | 1999-12-09 | 2000-03-27 | 3−フェニルプロピルケトン類の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001226312A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106854125A (zh) * | 2015-12-08 | 2017-06-16 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种制备含有两个手性中心α-氟-β-乙炔基酮化合物的方法 |
-
2000
- 2000-03-27 JP JP2000085809A patent/JP2001226312A/ja not_active Abandoned
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106854125A (zh) * | 2015-12-08 | 2017-06-16 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种制备含有两个手性中心α-氟-β-乙炔基酮化合物的方法 |
CN106854125B (zh) * | 2015-12-08 | 2020-03-10 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种制备含有两个手性中心α-氟-β-乙炔基酮化合物的方法 |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050812 |
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A762 | Written abandonment of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 Effective date: 20070919 |