JP2001222175A - 誘導加熱を用いた定着装置 - Google Patents
誘導加熱を用いた定着装置Info
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- H05B6/02—Induction heating
- H05B6/10—Induction heating apparatus, other than furnaces, for specific applications
- H05B6/14—Tools, e.g. nozzles, rollers, calenders
- H05B6/145—Heated rollers
Abstract
(57)【要約】
【課題】 熱効率が高く消費電力の低減が可能であると
共に、電源投入から定着動作開始までのウォームアップ
タイムが短い誘導加熱定着装置を提供する。 【解決手段】 表面に金属層を被覆された中空のヒート
ローラ１と、このヒートローラ１の内部に配置され、ヒ
ートローラ１に磁束を発生させて誘導加熱する励磁コイ
ルと、ヒートローラ１に対して所定の圧力を印加された
状態で接触するプレスローラ２とを備えている。励磁コ
イルは、ヒートローラ１の周方向に対して極大発熱部４
２、４３を少なくとも２箇所有する。１つの極大発熱部
４２が、ヒートローラ１とプレスローラ２とが接触する
ニップ部４１の位置から、周方向に沿って±３０度の範
囲内に存在するように、励磁コイルが配置されている。
これにより、プレスローラ２２に熱が蓄積されて保温さ
せるので、ウォームアップタイムが短縮される。
共に、電源投入から定着動作開始までのウォームアップ
タイムが短い誘導加熱定着装置を提供する。 【解決手段】 表面に金属層を被覆された中空のヒート
ローラ１と、このヒートローラ１の内部に配置され、ヒ
ートローラ１に磁束を発生させて誘導加熱する励磁コイ
ルと、ヒートローラ１に対して所定の圧力を印加された
状態で接触するプレスローラ２とを備えている。励磁コ
イルは、ヒートローラ１の周方向に対して極大発熱部４
２、４３を少なくとも２箇所有する。１つの極大発熱部
４２が、ヒートローラ１とプレスローラ２とが接触する
ニップ部４１の位置から、周方向に沿って±３０度の範
囲内に存在するように、励磁コイルが配置されている。
これにより、プレスローラ２２に熱が蓄積されて保温さ
せるので、ウォームアップタイムが短縮される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、静電複写機やプリ
ンタ等の画像形成装置において、被定着材に画像を定着
する誘導加熱を用いた定着装置に関する。
ンタ等の画像形成装置において、被定着材に画像を定着
する誘導加熱を用いた定着装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】画像形成装置に用いられる定着装置は、
被定着材の表面上に形成されたトナー等の現像剤を加熱
して溶融させ、被定着材にトナーを固着するものであ
る。本発明と関連する定着装置では、加熱源としてハロ
ゲンランプ等を用いる。このランプを、ヒートローラの
内側に配置してヒートローラを加熱する。そして、被定
着材をヒートローラに加圧した状態で接触させるため
に、プレスローラをヒートローラに押し当てて回転さ
せ、二つのローラの間に紙を通過させる。
被定着材の表面上に形成されたトナー等の現像剤を加熱
して溶融させ、被定着材にトナーを固着するものであ
る。本発明と関連する定着装置では、加熱源としてハロ
ゲンランプ等を用いる。このランプを、ヒートローラの
内側に配置してヒートローラを加熱する。そして、被定
着材をヒートローラに加圧した状態で接触させるため
に、プレスローラをヒートローラに押し当てて回転さ
せ、二つのローラの間に紙を通過させる。
【０００３】図２６に、上記定着装置の全体の概略構成
を示す。薄肉の金属製のヒートローラ１０１の内側に、
ハロゲンランプ１０２が配置されている。ヒートローラ
１０１に被定着材を十分に加圧、接触させるために、プ
レスローラ１０３はその表面に弾性部材が配されてい
る。そして、ヒートローラ１０１とプレスローラ１０３
とは、図示されていない加圧機構によって所定の圧力を
印加された状態で支持されている。さらに、図示されて
いない駆動源によって、被定着材の搬送速度と同一とな
るように、ヒートローラ１０１及びプレスローラ１０３
がそれぞれ矢印の方向に回転する。
を示す。薄肉の金属製のヒートローラ１０１の内側に、
ハロゲンランプ１０２が配置されている。ヒートローラ
１０１に被定着材を十分に加圧、接触させるために、プ
レスローラ１０３はその表面に弾性部材が配されてい
る。そして、ヒートローラ１０１とプレスローラ１０３
とは、図示されていない加圧機構によって所定の圧力を
印加された状態で支持されている。さらに、図示されて
いない駆動源によって、被定着材の搬送速度と同一とな
るように、ヒートローラ１０１及びプレスローラ１０３
がそれぞれ矢印の方向に回転する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ハロゲンラン
プ１０２を用いた定着装置では、ハロゲンランプからの
光及び熱がヒートローラの全周方向に放射されて全体が
加熱される。よって、光が熱に変換される際に損出があ
り、またヒートローラ内の空気を暖めてヒートローラに
熱を伝達する際に損失がある。よって、全体の熱変換効
率は６０〜７０％と低く、消費電力が大きかった。ま
た、電源を投入してから定着動作に必要な温度までにヒ
ートローラ１０１が上昇するのに要するウォームアップ
タイムが長いという問題もあった。
プ１０２を用いた定着装置では、ハロゲンランプからの
光及び熱がヒートローラの全周方向に放射されて全体が
加熱される。よって、光が熱に変換される際に損出があ
り、またヒートローラ内の空気を暖めてヒートローラに
熱を伝達する際に損失がある。よって、全体の熱変換効
率は６０〜７０％と低く、消費電力が大きかった。ま
た、電源を投入してから定着動作に必要な温度までにヒ
ートローラ１０１が上昇するのに要するウォームアップ
タイムが長いという問題もあった。
【０００５】従って、本発明は熱効率が高く消費電力の
低減が可能であると共に、電源投入から定着動作開始ま
でのウォームアップタイムが短い誘導加熱定着装置を提
供することを目的とする。
低減が可能であると共に、電源投入から定着動作開始ま
でのウォームアップタイムが短い誘導加熱定着装置を提
供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の誘導加熱を用い
た定着装置は、表面に金属層を被覆された中空のヒート
ローラと、前記ヒートローラの内部に配置され、前記ヒ
ートローラに磁束を発生させて誘導加熱する誘導加熱手
段と、前記ヒートローラに対して所定の圧力を印加され
た状態で接触するプレスローラとを備え、前記誘導加熱
手段は、前記ヒートローラの周方向に対して極大発熱部
を少なくとも２箇所有し、前記極大発熱部の少なくとも
１つが、前記ヒートローラと前記プレスローラとが接触
するニップ部の位置から、前記周方向に沿って±３０度
の範囲内に存在するように、前記誘導加熱手段が配置さ
れている誘導加熱定着装置が提供される。
た定着装置は、表面に金属層を被覆された中空のヒート
ローラと、前記ヒートローラの内部に配置され、前記ヒ
ートローラに磁束を発生させて誘導加熱する誘導加熱手
段と、前記ヒートローラに対して所定の圧力を印加され
た状態で接触するプレスローラとを備え、前記誘導加熱
手段は、前記ヒートローラの周方向に対して極大発熱部
を少なくとも２箇所有し、前記極大発熱部の少なくとも
１つが、前記ヒートローラと前記プレスローラとが接触
するニップ部の位置から、前記周方向に沿って±３０度
の範囲内に存在するように、前記誘導加熱手段が配置さ
れている誘導加熱定着装置が提供される。
【０００７】前記ヒートローラの温度を検知する温度セ
ンサをさらに備え、前記温度センサは、前記極大発熱部
の少なくとも１つが存在する位置から、前記周方向に沿
って±３０度の範囲内に存在するように配置されていて
もよい。
ンサをさらに備え、前記温度センサは、前記極大発熱部
の少なくとも１つが存在する位置から、前記周方向に沿
って±３０度の範囲内に存在するように配置されていて
もよい。
【０００８】前記ヒートローラの外周面に離型剤を塗布
する離型剤塗布ローラをさらに備え、前記誘導加熱手段
は、前記ヒートローラの周方向に対して極小発熱部を少
なくとも１箇所有し、前記離型剤塗布ローラは、前記極
小発熱部が存在する位置から、前記周方向に沿って±３
０度の範囲内に存在するように配置されていてもよい。
する離型剤塗布ローラをさらに備え、前記誘導加熱手段
は、前記ヒートローラの周方向に対して極小発熱部を少
なくとも１箇所有し、前記離型剤塗布ローラは、前記極
小発熱部が存在する位置から、前記周方向に沿って±３
０度の範囲内に存在するように配置されていてもよい。
【０００９】前記ヒートローラは前記金属層として、少
なくとも、第１の熱伝導率を有する第１の金属層と、第
１の熱伝導率より高い第２の熱伝導率を有する第２の金
属層とを含み、前記第１の金属層の肉厚は、前記ヒート
ローラの端部において中央部よりも厚くともよい。
なくとも、第１の熱伝導率を有する第１の金属層と、第
１の熱伝導率より高い第２の熱伝導率を有する第２の金
属層とを含み、前記第１の金属層の肉厚は、前記ヒート
ローラの端部において中央部よりも厚くともよい。
【００１０】また、前記第２の金属層の肉厚は、前記ヒ
ートローラの両端部から中央部に渡って一定であっても
よい。
ートローラの両端部から中央部に渡って一定であっても
よい。
【００１１】前記第２の金属層の肉厚は、前記ヒートロ
ーラの長手方向端部において長手方向中央部よりも薄い
ように構成してもよい。
ーラの長手方向端部において長手方向中央部よりも薄い
ように構成してもよい。
【００１２】また、第１及び第２の金属層の肉厚の合計
値が、前記ヒートローラの長手方向全体に渡って一定で
あるように構成してもよい。
値が、前記ヒートローラの長手方向全体に渡って一定で
あるように構成してもよい。
【００１３】前記ヒートローラを回転させる駆動機構を
さらに備え、前記駆動機構は、前記ヒートローラが停止
する毎に、前記誘導加熱手段の前記極大発熱部に対する
停止位置が異なるように、前記ヒートローラを駆動する
こともできる。
さらに備え、前記駆動機構は、前記ヒートローラが停止
する毎に、前記誘導加熱手段の前記極大発熱部に対する
停止位置が異なるように、前記ヒートローラを駆動する
こともできる。
【００１４】本発明の誘導加熱定着装置は、表面に金属
層を被覆された中空のローラと、前記ヒートローラの内
部に配置され、励磁コイルを有し、この励磁コイルに電
流を流すことにより前記ヒートローラに磁束を発生させ
て誘導加熱する誘導加熱手段と、前記ヒートローラに対
して所定の圧力を印加させた状態で接触するプレスロー
ラとを備え、前記ヒートローラの内面と前記励磁コイル
との間に絶縁用シートを有し、前記絶縁用シートは前記
励磁コイルが発生する磁束を前記ヒートローラの長手方
向両端部領域に対して遮蔽する磁束遮蔽部を有すること
を特徴とする。
層を被覆された中空のローラと、前記ヒートローラの内
部に配置され、励磁コイルを有し、この励磁コイルに電
流を流すことにより前記ヒートローラに磁束を発生させ
て誘導加熱する誘導加熱手段と、前記ヒートローラに対
して所定の圧力を印加させた状態で接触するプレスロー
ラとを備え、前記ヒートローラの内面と前記励磁コイル
との間に絶縁用シートを有し、前記絶縁用シートは前記
励磁コイルが発生する磁束を前記ヒートローラの長手方
向両端部領域に対して遮蔽する磁束遮蔽部を有すること
を特徴とする。
【００１５】前記励磁コイルを、前記絶縁用シートに対
して相対的に回転させる回転機構をさらに備え、第１の
幅を有する被定着材に対して定着処理を行う時は、前記
励磁コイルの発生する磁束の密度が第１の値である箇所
に前記磁束遮蔽部が近接し、前記第１の幅より狭い第２
の幅を有する被定着材に対して定着処理を行う時は、前
記励磁コイルの発生する磁束の密度が前記第１の値より
高い第２の値である箇所に前記磁束遮蔽部が近接するよ
うに、前記回転機構が前記励磁コイルを回転させること
もできる。
して相対的に回転させる回転機構をさらに備え、第１の
幅を有する被定着材に対して定着処理を行う時は、前記
励磁コイルの発生する磁束の密度が第１の値である箇所
に前記磁束遮蔽部が近接し、前記第１の幅より狭い第２
の幅を有する被定着材に対して定着処理を行う時は、前
記励磁コイルの発生する磁束の密度が前記第１の値より
高い第２の値である箇所に前記磁束遮蔽部が近接するよ
うに、前記回転機構が前記励磁コイルを回転させること
もできる。
【００１６】ここで、温度センサを備える場合は、前記
極大発熱部の一つが存在する位置から、前記周方向に沿
って位相角αの位置にあり、前記励磁コイルの最大回転
角をβとした場合、前記αが前記βの１／２に略等しい
関係が成立することが望ましい。
極大発熱部の一つが存在する位置から、前記周方向に沿
って位相角αの位置にあり、前記励磁コイルの最大回転
角をβとした場合、前記αが前記βの１／２に略等しい
関係が成立することが望ましい。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
て図面を参照して説明する。
【００１８】先ず、本発明と関連する比較例としての電
子写真装置における定着装置として、誘導加熱手段を有
する定着装置２０１の概略構成を図２７に示す。この定
着装置２０１は、ヒートローラ２０２とプレスローラ２
０３とを有する。ヒートローラ２０２は、図示されてい
ない駆動モータにより、矢印方向に駆動される。プレス
ローラ２０３は、ヒートローラの回転に従って矢印方向
に回転する。ヒートローラ２０２とプレスローラ２０３
との間に、図示されていないトナーから成る画像が表面
上に形成された被定着材Ｐが通過する。
子写真装置における定着装置として、誘導加熱手段を有
する定着装置２０１の概略構成を図２７に示す。この定
着装置２０１は、ヒートローラ２０２とプレスローラ２
０３とを有する。ヒートローラ２０２は、図示されてい
ない駆動モータにより、矢印方向に駆動される。プレス
ローラ２０３は、ヒートローラの回転に従って矢印方向
に回転する。ヒートローラ２０２とプレスローラ２０３
との間に、図示されていないトナーから成る画像が表面
上に形成された被定着材Ｐが通過する。
【００１９】ヒートローラ２０２は、例えば肉厚が１mm
という薄肉の金属層を有する円筒であり、その表面には
テフロン（登録商標）等の離型層が形成されている。プ
レスローラ２０３は、芯２０３ａの周囲に、シリコンゴ
ムやフッ素ゴム等の弾性体が被覆されていおる。プレス
ローラ２０３は、図示されていない加圧機構により、ヒ
ートローラ２０２に対して所定圧力を加えられて接触し
ている。この圧力により、ヒートローラ２０２とプレス
ローラ２０３とが接触する位置において、プレスローラ
２０３は所定幅だけ外周面が弾性変形し、ニップ部２０
４を提供する。
という薄肉の金属層を有する円筒であり、その表面には
テフロン（登録商標）等の離型層が形成されている。プ
レスローラ２０３は、芯２０３ａの周囲に、シリコンゴ
ムやフッ素ゴム等の弾性体が被覆されていおる。プレス
ローラ２０３は、図示されていない加圧機構により、ヒ
ートローラ２０２に対して所定圧力を加えられて接触し
ている。この圧力により、ヒートローラ２０２とプレス
ローラ２０３とが接触する位置において、プレスローラ
２０３は所定幅だけ外周面が弾性変形し、ニップ部２０
４を提供する。
【００２０】このニップ部２０３の間を被定着材Ｐが通
過することにより、被定着材Ｐ上のトナーが溶融し、加
圧されて定着する。
過することにより、被定着材Ｐ上のトナーが溶融し、加
圧されて定着する。
【００２１】ヒートローラ２０２の内部には、例えば直
径０．５mmの相互に絶縁された導線が複数本束ねられた
リッツ線から成り、磁場発生手段を構成する励磁コイル
２１１が設けられている。
径０．５mmの相互に絶縁された導線が複数本束ねられた
リッツ線から成り、磁場発生手段を構成する励磁コイル
２１１が設けられている。
【００２２】励磁コイル２１１は、図示しないインバー
タ回路、即ち励磁回路から高周波電流を供給されて磁束
を発生する。この磁束によって、磁界の変化を妨げるよ
うに、ヒートローラ２０２に磁束と渦電流が発生する。
この渦電流と、ヒートローラ２２の固有の抵抗によって
ジュール熱が発生して、ヒートローラ２０２が加熱され
る。
タ回路、即ち励磁回路から高周波電流を供給されて磁束
を発生する。この磁束によって、磁界の変化を妨げるよ
うに、ヒートローラ２０２に磁束と渦電流が発生する。
この渦電流と、ヒートローラ２２の固有の抵抗によって
ジュール熱が発生して、ヒートローラ２０２が加熱され
る。
【００２３】ここで、励磁コイル２１１が発生する磁束
の密度は、その励磁コイル２１１の特性により、ヒート
ローラ２１１の円周方向において均一ではない。ヒート
ローラ２１１の加熱温度は、励磁コイル２１１の磁束密
度に依存する。よって、ヒートローラ２１１の発熱分布
は均一ではない。
の密度は、その励磁コイル２１１の特性により、ヒート
ローラ２１１の円周方向において均一ではない。ヒート
ローラ２１１の加熱温度は、励磁コイル２１１の磁束密
度に依存する。よって、ヒートローラ２１１の発熱分布
は均一ではない。
【００２４】そこで本実施の形態では、誘導加熱手段を
用いたヒートローラでは、発熱分布が不均一であること
に鑑み、ヒートローラの極大発熱部の位置が複数箇所存
在するようにし、かつその位置をプレスローラとの位置
で限定している。
用いたヒートローラでは、発熱分布が不均一であること
に鑑み、ヒートローラの極大発熱部の位置が複数箇所存
在するようにし、かつその位置をプレスローラとの位置
で限定している。
【００２５】図１に、本発明の第１の実施の形態による
誘導加熱定着装置の構成として、ヒートローラとプレス
ローラの縦断面を示す。ヒートローラ１は、上述したよ
うに薄肉の金属層を有する円筒であり、プレスローラ２
は、外周に弾性体が被覆されている。ヒートローラ１と
プレスローラ２とが接触する位置には、プレスローラ２
が所定幅だけ外周面が弾性変形して、ニップ部４１が形
成されている。
誘導加熱定着装置の構成として、ヒートローラとプレス
ローラの縦断面を示す。ヒートローラ１は、上述したよ
うに薄肉の金属層を有する円筒であり、プレスローラ２
は、外周に弾性体が被覆されている。ヒートローラ１と
プレスローラ２とが接触する位置には、プレスローラ２
が所定幅だけ外周面が弾性変形して、ニップ部４１が形
成されている。
【００２６】ヒートローラ１の内部には、リッツ線３ａ
及び３ｂ、４ａ及び４ｂが巻かれた励磁コイルが設けら
れている。リッツ線は縦断面図として図示されたよう
に、ヒートローラ１の円周方向に対して均一に巻かれて
おらず、リッツ線が存在しない箇所、及びリッツ線４ａ
及び４ｂが存在して二重のリッツ線が存在する箇所とが
ある。
及び３ｂ、４ａ及び４ｂが巻かれた励磁コイルが設けら
れている。リッツ線は縦断面図として図示されたよう
に、ヒートローラ１の円周方向に対して均一に巻かれて
おらず、リッツ線が存在しない箇所、及びリッツ線４ａ
及び４ｂが存在して二重のリッツ線が存在する箇所とが
ある。
【００２７】励磁コイルは、上述したように励磁回路か
ら高周波電流を供給されて磁束を発生する。リッツ線４
ａ及び４ｂが存在する箇所は、他の箇所よりも磁束密度
が高いので、極大発熱部４２及び４３を構成する。図２
に、ヒートローラ１の周囲に形成される温度分布５を示
すと、極大発熱部４２及び４３が存在する箇所が矢印４
４、４５で示されたように最も高い温度となる。
ら高周波電流を供給されて磁束を発生する。リッツ線４
ａ及び４ｂが存在する箇所は、他の箇所よりも磁束密度
が高いので、極大発熱部４２及び４３を構成する。図２
に、ヒートローラ１の周囲に形成される温度分布５を示
すと、極大発熱部４２及び４３が存在する箇所が矢印４
４、４５で示されたように最も高い温度となる。
【００２８】この二つの極大発熱部４２、４３のうちの
一つ４３が、本実施の形態では、ヒートローラ１とプレ
スローラ２とが接触するニップ部４１に対向する位置に
配置されている点に特徴がある。先ず、極大発熱箇所４
２、４３が二箇所存在するため、１箇所しか存在しない
場合よりもヒートローラ１の温度を均一化させる効果が
大きい。さらに、プレスローラ２と極大発熱部４３とが
近接することにより、プレスローラ２に熱が蓄積されや
すく保温効果が高まり、ウォームアップ時間が短縮され
る。
一つ４３が、本実施の形態では、ヒートローラ１とプレ
スローラ２とが接触するニップ部４１に対向する位置に
配置されている点に特徴がある。先ず、極大発熱箇所４
２、４３が二箇所存在するため、１箇所しか存在しない
場合よりもヒートローラ１の温度を均一化させる効果が
大きい。さらに、プレスローラ２と極大発熱部４３とが
近接することにより、プレスローラ２に熱が蓄積されや
すく保温効果が高まり、ウォームアップ時間が短縮され
る。
【００２９】図５に、極大発熱部４２、４３のニップ部
４１に対する位相角度と、ウォームアップ時間との関係
を示す。図２に示された本実施の形態では、位相角は０
度である。図３及び図４に示された配置例では、極大発
熱部４２、４３がニップ部４１に対して９０度の位相を
有する。
４１に対する位相角度と、ウォームアップ時間との関係
を示す。図２に示された本実施の形態では、位相角は０
度である。図３及び図４に示された配置例では、極大発
熱部４２、４３がニップ部４１に対して９０度の位相を
有する。
【００３０】図５から明らかなように、位相角は０度の
場合が最もウォームアップ時間が短く、９０度に近づく
につれてウォームアップ時間が長くなっていく。このグ
ラフより、極大発熱部４２又は４３とニップ部４１との
位相角は、±３０度、好ましくは±１５度の範囲に収ま
る必要がある。
場合が最もウォームアップ時間が短く、９０度に近づく
につれてウォームアップ時間が長くなっていく。このグ
ラフより、極大発熱部４２又は４３とニップ部４１との
位相角は、±３０度、好ましくは±１５度の範囲に収ま
る必要がある。
【００３１】本発明の第２の実施の形態による定着装置
は、上記第１の実施例の構成に加えて、ヒートローラの
温度を検知する温度センサの配置を限定している。
は、上記第１の実施例の構成に加えて、ヒートローラの
温度を検知する温度センサの配置を限定している。
【００３２】図６に示されたように、極大発熱部４２、
４３の少なくとも１つの近傍に、温度センサ５１が配置
されている。これにより、図７に示されたように、温度
分布５において、極大発熱部４２における、矢印４４で
示された最も高い温度を検知することができる。従っ
て、過大なオーバシュートを防止し、過熱がもたらす各
種の異常動作を回避することができる。
４３の少なくとも１つの近傍に、温度センサ５１が配置
されている。これにより、図７に示されたように、温度
分布５において、極大発熱部４２における、矢印４４で
示された最も高い温度を検知することができる。従っ
て、過大なオーバシュートを防止し、過熱がもたらす各
種の異常動作を回避することができる。
【００３３】図１０に、極大発熱部からの温度センサ５
１の位相角度と、温度センサ５１が検出したオーバシュ
ート時の温度から極大発熱部４２、４３のオーバシュー
ト時の温度から差し引いた温度差との関係を示す。ここ
で、温度センサ５１の極大発熱部４２、４３からの位相
角度は、図６に示された位置に温度センサ５１がある場
合は０度、図８、図９に示された位置に温度センサ５１
が配置された場合は９０度とする。
１の位相角度と、温度センサ５１が検出したオーバシュ
ート時の温度から極大発熱部４２、４３のオーバシュー
ト時の温度から差し引いた温度差との関係を示す。ここ
で、温度センサ５１の極大発熱部４２、４３からの位相
角度は、図６に示された位置に温度センサ５１がある場
合は０度、図８、図９に示された位置に温度センサ５１
が配置された場合は９０度とする。
【００３４】図１０に示されたように、位相角度が大き
くなるにつれて温度差が大きくなる。即ち、位相角度が
大きいほど、温度センサ５１が検出したオーバシュート
時の温度と、極大発熱部４２、４３におけるオーバシュ
ート時の温度との差が大きくなる。このため、過大なオ
ーバシュートを防止することができず、過熱により様々
な機構において動作不良や故障を招くこととなる。
くなるにつれて温度差が大きくなる。即ち、位相角度が
大きいほど、温度センサ５１が検出したオーバシュート
時の温度と、極大発熱部４２、４３におけるオーバシュ
ート時の温度との差が大きくなる。このため、過大なオ
ーバシュートを防止することができず、過熱により様々
な機構において動作不良や故障を招くこととなる。
【００３５】この温度差は、温度制御を的確に行うため
に、摂氏１０度以内、好ましくは摂氏３度以内にする必
要がある。温度差を摂氏１０度以内にするためには、図
１０より±３０度以内である必要があり、温度差を３度
以内にするためには±１５度以内である必要がある。
に、摂氏１０度以内、好ましくは摂氏３度以内にする必
要がある。温度差を摂氏１０度以内にするためには、図
１０より±３０度以内である必要があり、温度差を３度
以内にするためには±１５度以内である必要がある。
【００３６】そこで、本実施の形態では、極大発熱部４
２、４３の少なくとも一方の位置から、±３０度以内、
好ましくは±１５度以内の範囲に温度センサ５１を配置
している。
２、４３の少なくとも一方の位置から、±３０度以内、
好ましくは±１５度以内の範囲に温度センサ５１を配置
している。
【００３７】本発明の第３の実施の形態は、上記第１の
実施の形態の構成に加えて、さらに離型剤塗布ローラの
位置を、極大発熱部との関係で限定した構成を備えてい
る。図１１に、第３の実施の形態の構成を示す。離型剤
塗布ローラ７は、ヒートローラ１の外周面にトナーが付
着することを防止するために、シリコンオイル等の離型
剤をヒートローラ１の表面に塗布するものである。離型
剤塗布ローラ７は、シリコンオイル等を含むことができ
るように、その表面には例えばフェルトが用いられてい
る。
実施の形態の構成に加えて、さらに離型剤塗布ローラの
位置を、極大発熱部との関係で限定した構成を備えてい
る。図１１に、第３の実施の形態の構成を示す。離型剤
塗布ローラ７は、ヒートローラ１の外周面にトナーが付
着することを防止するために、シリコンオイル等の離型
剤をヒートローラ１の表面に塗布するものである。離型
剤塗布ローラ７は、シリコンオイル等を含むことができ
るように、その表面には例えばフェルトが用いられてい
る。
【００３８】離型剤塗布ローラ７の温度が高くなり過ぎ
ると、ローラに含浸された離型剤の流出量が多くなり過
ぎる。この結果、離型剤塗布ローラ７の寿命が短くなる
と共に、離型剤が被定着材に付着して画像に悪影響を与
えるおそれがある。
ると、ローラに含浸された離型剤の流出量が多くなり過
ぎる。この結果、離型剤塗布ローラ７の寿命が短くなる
と共に、離型剤が被定着材に付着して画像に悪影響を与
えるおそれがある。
【００３９】本実施の形態では、このような事態を回避
するために、離型剤塗布ローラ７を二つの極小発熱部５
１、５２のうちの一つ５１の近傍に配置している。極小
発熱部５１、５２は、励磁コイルが発生する磁束の密度
が最も低い部分である。極小発熱部５１は、温度分布を
示した図１２において矢印５３、５４で示されたよう
に、最も温度が低い箇所である。このような箇所に離型
剤塗布ローラ７を配置することで、過度な温度上昇を防
ぐことにより、離型剤塗布ローラ７の寿命の短縮を防止
し、さらに離型剤が被定着材上の画像に悪影響を与える
ことを防止している。
するために、離型剤塗布ローラ７を二つの極小発熱部５
１、５２のうちの一つ５１の近傍に配置している。極小
発熱部５１、５２は、励磁コイルが発生する磁束の密度
が最も低い部分である。極小発熱部５１は、温度分布を
示した図１２において矢印５３、５４で示されたよう
に、最も温度が低い箇所である。このような箇所に離型
剤塗布ローラ７を配置することで、過度な温度上昇を防
ぐことにより、離型剤塗布ローラ７の寿命の短縮を防止
し、さらに離型剤が被定着材上の画像に悪影響を与える
ことを防止している。
【００４０】図１５に、離型剤塗布ローラ７の極小発熱
部５１からの位相角度と、離型剤としてシリコンオイル
を用いた場合の流出量との関係を示す。ここで、図１
１、図１２に示されたように、極小発熱部５１と離型剤
塗布ローラ７との位置が最も近接している場合の位相角
度が０度であるとする。
部５１からの位相角度と、離型剤としてシリコンオイル
を用いた場合の流出量との関係を示す。ここで、図１
１、図１２に示されたように、極小発熱部５１と離型剤
塗布ローラ７との位置が最も近接している場合の位相角
度が０度であるとする。
【００４１】図１３、図１４に示された配置例では、極
小発熱部５１と離型剤塗布ローラ７との位相角度は９０
度となる。また、オイル流出量は、例えば１０００００
０枚の被定着材に定着処理を行った場合に、流出したシ
リコンオイルの合計量である。
小発熱部５１と離型剤塗布ローラ７との位相角度は９０
度となる。また、オイル流出量は、例えば１０００００
０枚の被定着材に定着処理を行った場合に、流出したシ
リコンオイルの合計量である。
【００４２】オイル流出量を、例えば０．３ｇ以下に抑
える必要があるものとする。この場合には、図１５に示
されたように、位相角度は３０度以下である必要があ
る。従って、離型剤塗布ローラ７は、極小発熱部５１の
近傍、即ち極小発熱部５１から位相角度が３０度以内の
位置に配置する必要がある。
える必要があるものとする。この場合には、図１５に示
されたように、位相角度は３０度以下である必要があ
る。従って、離型剤塗布ローラ７は、極小発熱部５１の
近傍、即ち極小発熱部５１から位相角度が３０度以内の
位置に配置する必要がある。
【００４３】本発明の第４の実施の形態では、上記第１
の実施の形態の構成に加えて、幅が狭い被定着材を連続
的に定着した場合に、ヒートローラ１の端部の温度の上
昇を防止する構成を備えており、図１６、図１８及び図
２０にその構成を示す。
の実施の形態の構成に加えて、幅が狭い被定着材を連続
的に定着した場合に、ヒートローラ１の端部の温度の上
昇を防止する構成を備えており、図１６、図１８及び図
２０にその構成を示す。
【００４４】ヒートローラ１の内周と、リッツ線３ａ及
び３ｂ、４ａ及び４ｂから成る励磁コイルの外周との間
には、絶縁シート２１が配設されている。本実施の形態
における絶縁シート２１には、図２０に示されたよう
に、その両端部に例えばアルミニウムが蒸着された磁束
遮蔽部２２が設けられている。
び３ｂ、４ａ及び４ｂから成る励磁コイルの外周との間
には、絶縁シート２１が配設されている。本実施の形態
における絶縁シート２１には、図２０に示されたよう
に、その両端部に例えばアルミニウムが蒸着された磁束
遮蔽部２２が設けられている。
【００４５】通常の幅を有する被定着材に定着処理を行
うときは、ヒートローラ１の両端部付近まで存在する被
定着材の全面に加熱処理を行う必要がある。そこで、図
１６に示されたように、磁束遮蔽部２２は、極小発熱部
５１、５２の近傍に配置される。これにより、ヒートロ
ーラ１の両端部においても磁束が遮断されずに発熱し、
定着が可能である。この場合の磁束密度の分布は、図１
７に示されるようであり、極小温度部５１、５２におい
て磁束が存在しない。
うときは、ヒートローラ１の両端部付近まで存在する被
定着材の全面に加熱処理を行う必要がある。そこで、図
１６に示されたように、磁束遮蔽部２２は、極小発熱部
５１、５２の近傍に配置される。これにより、ヒートロ
ーラ１の両端部においても磁束が遮断されずに発熱し、
定着が可能である。この場合の磁束密度の分布は、図１
７に示されるようであり、極小温度部５１、５２におい
て磁束が存在しない。
【００４６】ところが、幅が狭い、例えばＡ４の幅の被
定着材に対して連続的に定着処理する場合は、ヒートロ
ーラ１の両端部に被定着材が存在せず、熱が奪われな
い。このため、ヒートローラ１の両端部において熱が蓄
積していき、両端部の温度が中央部よりも上昇する。こ
のようなヒートローラ１の長手方向沿って温度勾配が存
在する状態で、幅が広い、例えばＡ３の幅の被定着材に
定着処理を行うと、均一な加熱処理ができずにオフセッ
ト等が存在する不具合画像が発生する。
定着材に対して連続的に定着処理する場合は、ヒートロ
ーラ１の両端部に被定着材が存在せず、熱が奪われな
い。このため、ヒートローラ１の両端部において熱が蓄
積していき、両端部の温度が中央部よりも上昇する。こ
のようなヒートローラ１の長手方向沿って温度勾配が存
在する状態で、幅が広い、例えばＡ３の幅の被定着材に
定着処理を行うと、均一な加熱処理ができずにオフセッ
ト等が存在する不具合画像が発生する。
【００４７】そこで、幅が狭い被定着材を連続的に処理
する場合は、図１８に示すように矢印方向に励磁コイル
を回転させ、磁束が発生する箇所の磁束を遮蔽してヒー
トローラ１が加熱されないように、磁束遮蔽部２２と励
磁コイルとの相対的な位置関係を変更する。この場合の
磁束密度の分布は、図１９に示されるようである。これ
により、ヒートローラ１の両端部の温度が中央部よりも
上昇し過ぎて熱が蓄積することを防止することができ
る。この結果、幅の広い被定着材に定着処理を行う場合
に、画像に不具合が発生することが防止される。
する場合は、図１８に示すように矢印方向に励磁コイル
を回転させ、磁束が発生する箇所の磁束を遮蔽してヒー
トローラ１が加熱されないように、磁束遮蔽部２２と励
磁コイルとの相対的な位置関係を変更する。この場合の
磁束密度の分布は、図１９に示されるようである。これ
により、ヒートローラ１の両端部の温度が中央部よりも
上昇し過ぎて熱が蓄積することを防止することができ
る。この結果、幅の広い被定着材に定着処理を行う場合
に、画像に不具合が発生することが防止される。
【００４８】また、ヒートローラ１の温度を検知する温
度センサ１１は、図１６に示されたように、極大発熱部
４２からの位相角をα、図１６から図１８に励磁コイル
を矢印方向に回転させたときの回転角をβとした場合、
αが１／・βに略等しい位置関係に温度センサ１１を配
置することが望ましい。これにより、励磁コイルの位置
にあまり影響されることなく、ヒートローラ１の温度を
検知して正常に制御することが可能である。
度センサ１１は、図１６に示されたように、極大発熱部
４２からの位相角をα、図１６から図１８に励磁コイル
を矢印方向に回転させたときの回転角をβとした場合、
αが１／・βに略等しい位置関係に温度センサ１１を配
置することが望ましい。これにより、励磁コイルの位置
にあまり影響されることなく、ヒートローラ１の温度を
検知して正常に制御することが可能である。
【００４９】本発明の第５の実施の形態は、上記第１の
実施の形態の構成に加えて、ヒートローラ１の両端部の
温度上昇を防止するために、その鉄層の肉厚に関して限
定した構成を備えている。
実施の形態の構成に加えて、ヒートローラ１の両端部の
温度上昇を防止するために、その鉄層の肉厚に関して限
定した構成を備えている。
【００５０】ヒートローラは、一般に鉄層とアルミニウ
ム層との２層構造を有している。本実施例では、ヒート
ローラ１の長手方向に沿った断面を示す図２１に示され
たように、アルミニウム層３１ａは一定の肉厚を有す
る。そして、鉄層３２ａが中央部４３では一定の肉厚を
有し、両端部４１では中央部４３よりも厚い肉厚を有
し、中央部４３と両端部４１との間の領域４２では、中
央から両端へ向かうに従って徐々に厚くなっている。
ム層との２層構造を有している。本実施例では、ヒート
ローラ１の長手方向に沿った断面を示す図２１に示され
たように、アルミニウム層３１ａは一定の肉厚を有す
る。そして、鉄層３２ａが中央部４３では一定の肉厚を
有し、両端部４１では中央部４３よりも厚い肉厚を有
し、中央部４３と両端部４１との間の領域４２では、中
央から両端へ向かうに従って徐々に厚くなっている。
【００５１】鉄はアルミニウムよりも熱伝導率が低い。
よって、図２３に示されたように、鉄層の肉厚が厚くな
るほど、単位時間当たりの温度上昇は小さくなる。よっ
て、鉄層の肉厚が厚い両端部４１は、中央部４３よりも
温度上昇が小さくなるので、両端部４１における温度上
昇を抑制することができる。
よって、図２３に示されたように、鉄層の肉厚が厚くな
るほど、単位時間当たりの温度上昇は小さくなる。よっ
て、鉄層の肉厚が厚い両端部４１は、中央部４３よりも
温度上昇が小さくなるので、両端部４１における温度上
昇を抑制することができる。
【００５２】図２１に示された構成では、アルミニウム
層３１ａの肉厚は一定で、鉄層３２ａの肉厚が変化して
いる。これに対し、図２２に示された構成では、鉄層３
１ｂ及びアルミニウム層３２ｂの全体の肉厚が、中央部
４３、両端部４１、その間の領域４２において、全て均
一である。そして、アルミニウム層３１ｂの肉厚が、中
央部４３において厚く、両端部４１において薄く、領域
４２においては中央から両端へ向かうにつれて薄く変化
している。
層３１ａの肉厚は一定で、鉄層３２ａの肉厚が変化して
いる。これに対し、図２２に示された構成では、鉄層３
１ｂ及びアルミニウム層３２ｂの全体の肉厚が、中央部
４３、両端部４１、その間の領域４２において、全て均
一である。そして、アルミニウム層３１ｂの肉厚が、中
央部４３において厚く、両端部４１において薄く、領域
４２においては中央から両端へ向かうにつれて薄く変化
している。
【００５３】これにより、相対的に、鉄層３２ｂの肉厚
が、中央部４３において最も薄く、両端部４１において
厚く、領域４２においては中央から両端へ向かうにつれ
て厚く変化している。このように構成しても、図２１の
構成と同様に、両端部の温度上昇を抑制することができ
る。
が、中央部４３において最も薄く、両端部４１において
厚く、領域４２においては中央から両端へ向かうにつれ
て厚く変化している。このように構成しても、図２１の
構成と同様に、両端部の温度上昇を抑制することができ
る。
【００５４】本発明の第６の実施の形態は、上記第１の
実施の形態に加えて、ヒートローラ１の停止位置を変化
させて、ヒートローラ１の熱疲労を防止する機構を備え
ている。
実施の形態に加えて、ヒートローラ１の停止位置を変化
させて、ヒートローラ１の熱疲労を防止する機構を備え
ている。
【００５５】励磁コイルには、上述したように極大発熱
部と極小発熱部とが複数箇所それぞれ存在する。このた
め、ヒートローラ１は均一に加熱されない。この結果、
ヒートローラ１が停止しているときには図２５に示され
たように、温度差は最大で例えば摂氏８０度になり、不
均一な熱膨張が原因でヒートローラ１の断面が楕円形に
なる。
部と極小発熱部とが複数箇所それぞれ存在する。このた
め、ヒートローラ１は均一に加熱されない。この結果、
ヒートローラ１が停止しているときには図２５に示され
たように、温度差は最大で例えば摂氏８０度になり、不
均一な熱膨張が原因でヒートローラ１の断面が楕円形に
なる。
【００５６】さらに、ヒートローラ１の端部に配置され
るベアリング内輪への応力が不均一となり、ベアリング
が消耗する。
るベアリング内輪への応力が不均一となり、ベアリング
が消耗する。
【００５７】一方で、図２５に示されたように、ヒート
ローラ１が回転しているときには、温度分布はほぼ均一
となる。
ローラ１が回転しているときには、温度分布はほぼ均一
となる。
【００５８】そこで、ヒートローラ１が停止していると
きの発熱分布が均一化されるように、ヒートローラ１が
停止する毎に、励磁コイルに対する相対的な停止位置が
変化するようにして、極大発熱部により最も加熱される
箇所が停止のたびに変化するようにする。これにより、
ヒートローラ１が停止しているときに、長時間に渡って
特定の部分に加熱が集中することを防ぐことができる。
きの発熱分布が均一化されるように、ヒートローラ１が
停止する毎に、励磁コイルに対する相対的な停止位置が
変化するようにして、極大発熱部により最も加熱される
箇所が停止のたびに変化するようにする。これにより、
ヒートローラ１が停止しているときに、長時間に渡って
特定の部分に加熱が集中することを防ぐことができる。
【００５９】具体的な機構としては、例えば、図２４に
示されたように、ヒートローラ１の端部に、回転機構と
して配設されたギヤ６１の一部に凸状の検知用部材６２
を設ける。この検知用部材６２の存在をセンサ６３が検
知することで、ヒートローラ１の停止位置を、停止の度
に変化させるよう制御する。
示されたように、ヒートローラ１の端部に、回転機構と
して配設されたギヤ６１の一部に凸状の検知用部材６２
を設ける。この検知用部材６２の存在をセンサ６３が検
知することで、ヒートローラ１の停止位置を、停止の度
に変化させるよう制御する。
【００６０】上述した実施の形態はいずれも一例であ
り、本発明を限定するものではない。例えば、上記実施
の形態では、ヒートローラの円周方向において極大発熱
部が２箇所存在する。しかし、３箇所以上極大発熱部が
存在してもよい。極大発熱部が３箇所以上存在すると、
ヒートローラの温度を均一化させる効果がより大きく得
られる。この場合は、この極大発熱部のいずれか一つ
が、プレスローラと対向するニップ位置から±３０度、
好ましくは±１５度の範囲に位置すればよい。
り、本発明を限定するものではない。例えば、上記実施
の形態では、ヒートローラの円周方向において極大発熱
部が２箇所存在する。しかし、３箇所以上極大発熱部が
存在してもよい。極大発熱部が３箇所以上存在すると、
ヒートローラの温度を均一化させる効果がより大きく得
られる。この場合は、この極大発熱部のいずれか一つ
が、プレスローラと対向するニップ位置から±３０度、
好ましくは±１５度の範囲に位置すればよい。
【００６１】また、上記第２の実施の形態における温度
センサは、サーミスタ、温度ヒューズ、サーモスタット
等、いずれのセンサであってもよい。
センサは、サーミスタ、温度ヒューズ、サーモスタット
等、いずれのセンサであってもよい。
【００６２】さらに、上記第５の実施の形態における鉄
層及びアルミニウム層は、熱伝導率が低い第１の金属層
と、相対的に熱伝導率が高い第２の金属層であればよ
く、他の金属を用いて構成してもよい。
層及びアルミニウム層は、熱伝導率が低い第１の金属層
と、相対的に熱伝導率が高い第２の金属層であればよ
く、他の金属を用いて構成してもよい。
【００６３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の誘導加熱
を用いた定着装置は、ヒートローラの周方向に対して極
大発熱部を少なくとも２箇所有し、極大発熱部の少なく
とも１つが、ヒートローラとプレスローラとが接触する
ニップ部の位置から周方向に沿って±３０度の範囲内に
存在するように誘導加熱手段が配置されているため、熱
効率が高く電源投入から定着動作開始までの立ち上がり
に要する時間を短縮することができる。
を用いた定着装置は、ヒートローラの周方向に対して極
大発熱部を少なくとも２箇所有し、極大発熱部の少なく
とも１つが、ヒートローラとプレスローラとが接触する
ニップ部の位置から周方向に沿って±３０度の範囲内に
存在するように誘導加熱手段が配置されているため、熱
効率が高く電源投入から定着動作開始までの立ち上がり
に要する時間を短縮することができる。
【図１】本発明の第１の実施の形態による誘導加熱定着
装置の構成を示した縦断面図。
装置の構成を示した縦断面図。
【図２】同誘導加熱定着装置におけるヒートローラの温
度分布を示した説明図。
度分布を示した説明図。
【図３】励磁コイルの位相が極大発熱部に対して９０度
であるときの構成を示した縦断面図。
であるときの構成を示した縦断面図。
【図４】図３に示された構成におけるヒートローラの温
度分布を示した説明図。
度分布を示した説明図。
【図５】励磁コイルの極大発熱部に対する位相角度と、
ウォームアップ時間との関係を示したグラフ。
ウォームアップ時間との関係を示したグラフ。
【図６】本発明の第２の実施の形態による誘導加熱定着
装置の構成を示した縦断面図。
装置の構成を示した縦断面図。
【図７】同誘導加熱定着装置におけるヒートローラの温
度分布を示した説明図。
度分布を示した説明図。
【図８】温度センサの位相が極大発熱部に対して９０度
であるときの構成を示した縦断面図。
であるときの構成を示した縦断面図。
【図９】図８に示された構成におけるヒートローラの温
度分布を示した説明図。
度分布を示した説明図。
【図１０】温度センサの極大発熱部からの位相角度と、
温度センサが検知したオーバシュート時の温度を、極大
発熱部のオーバシュート時の温度から差し引いた温度差
との関係を示したグラフ。
温度センサが検知したオーバシュート時の温度を、極大
発熱部のオーバシュート時の温度から差し引いた温度差
との関係を示したグラフ。
【図１１】本発明の第３の実施の形態による誘導加熱定
着装置の構成を示した縦断面図。
着装置の構成を示した縦断面図。
【図１２】図１１に示された構成におけるヒートローラ
の温度分布を示した説明図。
の温度分布を示した説明図。
【図１３】離型剤塗布ローラが極大発熱部近傍に配置さ
れた場合の構成を示した縦断面図。
れた場合の構成を示した縦断面図。
【図１４】図１３に示された構成におけるヒートローラ
の温度分布を示した説明図。
の温度分布を示した説明図。
【図１５】離型剤塗布ローラの極小発熱部からの位相角
度と、シリコンオイルの流出量との関係を示したグラ
フ。
度と、シリコンオイルの流出量との関係を示したグラ
フ。
【図１６】本発明の第４の実施の形態による誘導加熱定
着装置の構成を示した縦断面図。
着装置の構成を示した縦断面図。
【図１７】図１６に示された構成における磁束密度の分
布を示した説明図。
布を示した説明図。
【図１８】同第４の実施の形態において、励磁コイルが
絶縁シートに対して回転したときの構成を示した縦断面
図。
絶縁シートに対して回転したときの構成を示した縦断面
図。
【図１９】図１８に示された構成における磁束密度の分
布を示した説明図。
布を示した説明図。
【図２０】同第４の実施の形態における絶縁シートの構
成を示した斜視図。
成を示した斜視図。
【図２１】本発明の第５の実施の形態による誘導加熱定
着装置におけるヒートローラの長手方向の断面を示した
縦断面図。
着装置におけるヒートローラの長手方向の断面を示した
縦断面図。
【図２２】同第５の実施の形態による誘導加熱定着装置
における他のヒートローラの長手方向の断面を示した縦
断面図。
における他のヒートローラの長手方向の断面を示した縦
断面図。
【図２３】鉄層の肉厚と、単位時間当たりの温度変化を
示したグラフ。
示したグラフ。
【図２４】本発明の第６の実施の形態による誘導加熱定
着装置の構成を示した縦断面図。
着装置の構成を示した縦断面図。
【図２５】本発明と関連する電子写真装置の概略構成を
示した縦断面図。
示した縦断面図。
【図２６】本発明と関連する電子写真装置における定着
装置が有するヒートローラ及びプレスローラの概略形状
を示す斜視図。
装置が有するヒートローラ及びプレスローラの概略形状
を示す斜視図。
【図２７】本発明と関連する画像形成装置における定着
装置が有するヒートローラ及びプレスローラの概略形状
を示す斜視図。
装置が有するヒートローラ及びプレスローラの概略形状
を示す斜視図。
【符号の説明】 １ ヒートローラ ２ プレスローラ ３ａ、３ｂ リッツ線 ４ａ、４ｂ 励磁コイル ７ 離型剤塗布ローラ ２１ 絶縁シート ２２ 磁束遮蔽部 ３１ａ、３１ｂ アルミニウム層 ３２ａ、３２ｂ 鉄層 ４１ ニップ部 ４２、４３ 極大発熱部 ５１、５２ 極小発熱部 ６１ ギヤ ６２ 検知用部材 ６３ センサ ２０１ 定着装置 ２０２ ヒートローラ ２０３ プレスローラ ２０３ａ 芯 ２１１ 励磁コイル ２０１ 定着装置 ２０１、２０２ ヒートローラ ２０３ プレスローラ ２０３ａ 芯 ２０４ ニップ部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高 野 健 二 神奈川県川崎市幸区柳町70番地 東芝テッ ク株式会社柳町事業所内 (72)発明者 江 端 保 宏 神奈川県川崎市幸区柳町70番地 東芝テッ ク株式会社柳町事業所内 Ｆターム(参考） 2H033 AA30 AA32 BB12 BB21 BE06 3K059 AA08 AD02 AD16 CD44 CD53 CD76 CD77
Claims (3)
- 【請求項１】画像形成装置の誘導定着装置において、 表面に金属層を被覆された中空のヒートローラと、 前記ヒートローラの内部に配置され、前記ヒートローラ
に磁束を発生させて誘導加熱する誘導加熱手段と、 前記ヒートローラに対して所定の圧力を印加された状態
で接触するプレスローラと、 を備え、 前記誘導加熱手段は、前記ヒートローラの周方向に対し
て極大発熱部を少なくとも２箇所有し、 前記極大発熱部の少なくとも１つが、前記ヒートローラ
と前記プレスローラとが接触するニップ部の位置から、
前記周方向に沿って±３０度の範囲内に存在するよう
に、前記誘導加熱手段が配置されていることを特徴とす
る誘導加熱定着装置。 - 【請求項２】画像形成装置の誘導加熱定着装置におい
て、 表面に金属層を被覆された中空のローラと、 前記ヒートローラの内部に配置され、前記ヒートローラ
に磁束を発生させて誘導加熱する誘導加熱手段と、 前記ヒートローラに対して所定の圧力を印加された状態
で溶融するプレスローラと、 を備え、 前記ヒートローラは前記金属層として、少なくとも第１
の熱伝導率を有する第１の金属層と、前記第１の熱伝導
率より高い第２の熱伝導率を有する第２の金属層とを含
み、 前記第１の金属層の前記ヒートローラの直径方向の肉厚
は、前記ヒートローラの長手方向の端部において長手方
向中央部よりも薄いことを特徴とする誘導加熱定着装
置。 - 【請求項３】画像形成装置の誘導加熱定着装置におい
て、 表面に金属層を被覆された中空のローラと、 前記ヒートローラの内部に配置され、励磁コイルを有
し、この励磁コイルに電流を流すことにより前記ヒート
ローラに磁束を発生させて誘導加熱する誘導加熱手段
と、 前記ヒートローラに対して所定の圧力を印加された状態
で接触するプレスローラと、 を備え、 前記ヒートローラの内面と前記励磁コイルとの間に絶縁
用シートを有し、前記絶縁用シートは前記励磁コイルが
発生する磁束を前記ヒートローラの長手方向両端部領域
に対して遮蔽する磁束遮蔽部を有することを特徴とする
誘導加熱定着装置。
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