JP2001220385A - ジヒドロキシフェニルトリアジン化合物の製造方法 - Google Patents
ジヒドロキシフェニルトリアジン化合物の製造方法Info
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- JP2001220385A JP2001220385A JP2000029996A JP2000029996A JP2001220385A JP 2001220385 A JP2001220385 A JP 2001220385A JP 2000029996 A JP2000029996 A JP 2000029996A JP 2000029996 A JP2000029996 A JP 2000029996A JP 2001220385 A JP2001220385 A JP 2001220385A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 安全に合成でき、誘導体を合成する際に不純
物の副生や収率低下の少ないジヒドロキシフェニルトリ
アジン化合物の製造方法を提供する。 【解決手段】 一般式ＩＩＩのジヒドロキシフェニルト
リアジン化合物の製造方法であって、例えばレゾルシン
酸エステルオリゴマー、及びベンズアミジンを縮合環化
反応させ２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，
６−ジアリール−１，３，５−トリアジンを得る。 （R1とR2は独立に水素；Ｃ１〜１８のアルキル、アルケ
ニルまたはアルコキシ基；ハロゲン又はヒドロキシ基を
表す。R3〜R5は独立に水素；Ｃ１〜１８のアルキルもし
くはアルコキシ基；ハロゲン又はヒドロキシ基を表
す。）
物の副生や収率低下の少ないジヒドロキシフェニルトリ
アジン化合物の製造方法を提供する。 【解決手段】 一般式ＩＩＩのジヒドロキシフェニルト
リアジン化合物の製造方法であって、例えばレゾルシン
酸エステルオリゴマー、及びベンズアミジンを縮合環化
反応させ２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，
６−ジアリール−１，３，５−トリアジンを得る。 （R1とR2は独立に水素；Ｃ１〜１８のアルキル、アルケ
ニルまたはアルコキシ基；ハロゲン又はヒドロキシ基を
表す。R3〜R5は独立に水素；Ｃ１〜１８のアルキルもし
くはアルコキシ基；ハロゲン又はヒドロキシ基を表
す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、２−（２，４−ジ
ヒドロキシフェニル）−４，６−ジアリール−１，３，
５−トリアジン（本発明では、ジヒドロキシフェニルト
リアジンと略称する。）化合物の合成方法に関する。詳
細には、レゾルシン酸エステルオリゴマーとベンズアミ
ジンとの縮合環化反応によるジヒドロキシフェニルトリ
アジン化合物の合成方法に関する。
ヒドロキシフェニル）−４，６−ジアリール−１，３，
５−トリアジン（本発明では、ジヒドロキシフェニルト
リアジンと略称する。）化合物の合成方法に関する。詳
細には、レゾルシン酸エステルオリゴマーとベンズアミ
ジンとの縮合環化反応によるジヒドロキシフェニルトリ
アジン化合物の合成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ヒドロキシフェニルトリアジン化合物
は、ポリカーボネート樹脂やポリエステル樹脂などの合
成樹脂成形品、フィルム、繊維などの紫外線吸収剤とし
て有用であることが知られている。従来、ヒドロキシフ
ェニルトリアジン化合物の製造方法としては、トリアジ
ンクロライドから製造する方法が知られている。しか
し、トリアジンクロライドは安全性の観点から取り扱い
に注意が必要であり工業的製法としては好ましくない。
は、ポリカーボネート樹脂やポリエステル樹脂などの合
成樹脂成形品、フィルム、繊維などの紫外線吸収剤とし
て有用であることが知られている。従来、ヒドロキシフ
ェニルトリアジン化合物の製造方法としては、トリアジ
ンクロライドから製造する方法が知られている。しか
し、トリアジンクロライドは安全性の観点から取り扱い
に注意が必要であり工業的製法としては好ましくない。
【０００３】一方、特開平７−１８８１９０号公報に
は、ベンズアミジンとレゾルシン酸クロライドやレゾル
シン酸メチルエステルとから、ヒドロキシフェニルトリ
アジン化合物を縮合環化反応により一段で合成する方法
が提案されている。しかし、レゾルシン酸クロライドか
ら合成した場合、発生する塩酸を中和処理するためにト
リエチルアミンなどのアミン化合物を多量に用いるため
生成するアミン化合物の塩酸塩の処理が必要であり工程
が煩雑であった。また、レゾルシン酸エステルからの縮
合環化反応は、反応の進行に伴いフェノールやアルコー
ルが副生するので、得られたヒドロキシフェニルトリア
ジン化合物から種々の誘導体を合成する場合、それらの
副生物による副反応により不純物が生成し、純度や収率
に悪影響する問題があった。
は、ベンズアミジンとレゾルシン酸クロライドやレゾル
シン酸メチルエステルとから、ヒドロキシフェニルトリ
アジン化合物を縮合環化反応により一段で合成する方法
が提案されている。しかし、レゾルシン酸クロライドか
ら合成した場合、発生する塩酸を中和処理するためにト
リエチルアミンなどのアミン化合物を多量に用いるため
生成するアミン化合物の塩酸塩の処理が必要であり工程
が煩雑であった。また、レゾルシン酸エステルからの縮
合環化反応は、反応の進行に伴いフェノールやアルコー
ルが副生するので、得られたヒドロキシフェニルトリア
ジン化合物から種々の誘導体を合成する場合、それらの
副生物による副反応により不純物が生成し、純度や収率
に悪影響する問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ジヒ
ドロキシフェニルトリアジン化合物が安全に合成でき
て、且つ、得られたジヒドロキシフェニルトリアジン化
合物から誘導体を合成する際に、不純物が副生したり収
率低下の少ないジヒドロキシフェニルトリアジン化合物
の製造方法を提供することである。
ドロキシフェニルトリアジン化合物が安全に合成でき
て、且つ、得られたジヒドロキシフェニルトリアジン化
合物から誘導体を合成する際に、不純物が副生したり収
率低下の少ないジヒドロキシフェニルトリアジン化合物
の製造方法を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の現状
に鑑み鋭意検討を重ねた結果、ベンズアミジンもしくは
そのハロゲン化水素塩と、レゾルシン酸エステルオリゴ
マーとを縮合環化反応させることにより、安全に合成で
きて、且つ、生成物を用いて誘導体を合成する場合に副
反応による純度低下や収率低下がないジヒドロキシフェ
ニルトリアジン化合物を合成できることを見出し本発明
に到達した。
に鑑み鋭意検討を重ねた結果、ベンズアミジンもしくは
そのハロゲン化水素塩と、レゾルシン酸エステルオリゴ
マーとを縮合環化反応させることにより、安全に合成で
きて、且つ、生成物を用いて誘導体を合成する場合に副
反応による純度低下や収率低下がないジヒドロキシフェ
ニルトリアジン化合物を合成できることを見出し本発明
に到達した。
【０００６】すなわち本発明の第１は、（Ａ）下記一般
式（Ｉ）で表されるレゾルシン酸エステルオリゴマー、
及び（Ｂ）下記一般式（II）で表されるベンズアミジン
もしくは置換基を有するベンズアミジン又はそれらのハ
ロゲン化水素との塩、を縮合環化反応させることによる
下記一般式（III）で表されるジヒドロキシフェニルト
リアジン化合物の製造方法を提供する。
式（Ｉ）で表されるレゾルシン酸エステルオリゴマー、
及び（Ｂ）下記一般式（II）で表されるベンズアミジン
もしくは置換基を有するベンズアミジン又はそれらのハ
ロゲン化水素との塩、を縮合環化反応させることによる
下記一般式（III）で表されるジヒドロキシフェニルト
リアジン化合物の製造方法を提供する。
【０００７】
【化４】
【０００８】（式中、Ｒ1およびＲ2は、各々独立に、水
素原子；炭素原子数１〜１８のアルキル基、アルケニル
基もしくはアルコキシ基；ハロゲン原子；又はヒドロキ
シ基を表す。Ｘは塩素原子、ヒドロキシ基、フェノキシ
基、又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表す。ｎは
２〜１，０００の整数を表す。）
素原子；炭素原子数１〜１８のアルキル基、アルケニル
基もしくはアルコキシ基；ハロゲン原子；又はヒドロキ
シ基を表す。Ｘは塩素原子、ヒドロキシ基、フェノキシ
基、又は炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表す。ｎは
２〜１，０００の整数を表す。）
【０００９】
【化５】
【００１０】(式中、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、各々独立
に、水素原子；炭素原子数１〜１８のアルキル基もしく
はアルコキシ基；ハロゲン原子；又はヒドロキシ基を表
す。)
に、水素原子；炭素原子数１〜１８のアルキル基もしく
はアルコキシ基；ハロゲン原子；又はヒドロキシ基を表
す。)
【００１１】
【化６】
【００１２】（式中、Ｒ1およびＲ2は、各々独立に、水
素原子；炭素原子数１〜１８のアルキル基、アルケニル
基またはアルコキシ基；ハロゲン原子；又はヒドロキシ
基を表す。Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、各々独立に、水素原
子；炭素原子数１〜１８のアルキル基もしくはアルコキ
シ基；ハロゲン原子；又はヒドロキシ基を表す。） 本発明の第２は、Ｘがヒドロキシ基である本発明の第１
記載のジヒドロキシフェニルトリアジン化合物の製造方
法を提供する。本発明の第３は、Ｘが塩素原子である本
発明の第１記載のジヒドロキシフェニルトリアジン化合
物の製造方法を提供する。本発明の第４は、Ｘがフェノ
キシ基または炭素原子数１〜８のアルコキシ基である本
発明の第１記載のジヒドロキシフェニルトリアジン化合
物の製造方法を提供する。
素原子；炭素原子数１〜１８のアルキル基、アルケニル
基またはアルコキシ基；ハロゲン原子；又はヒドロキシ
基を表す。Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、各々独立に、水素原
子；炭素原子数１〜１８のアルキル基もしくはアルコキ
シ基；ハロゲン原子；又はヒドロキシ基を表す。） 本発明の第２は、Ｘがヒドロキシ基である本発明の第１
記載のジヒドロキシフェニルトリアジン化合物の製造方
法を提供する。本発明の第３は、Ｘが塩素原子である本
発明の第１記載のジヒドロキシフェニルトリアジン化合
物の製造方法を提供する。本発明の第４は、Ｘがフェノ
キシ基または炭素原子数１〜８のアルコキシ基である本
発明の第１記載のジヒドロキシフェニルトリアジン化合
物の製造方法を提供する。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明は、上記一般式（Ｉ）で表されるレゾルシン酸エ
ステルオリゴマー（Ａ）と、上記一般式（II）で表され
るベンズアミジンもしくは置換基を有するベンズアミジ
ン又はそれらのハロゲン化水素塩（Ｂ）とを用いた縮合
環化反応による上記一般式（III）で表されるジヒドロ
キシフェニルトリアジン化合物、即ち２−（２，４−ジ
ヒドロキシフェニル）−４，６−ジアリール−１，３，
５−トリアジン化合物の製造方法に関する。２−（２，
４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ジアリール−
１，３，５−トリアジン化合物は、２−（２，４−ジヒ
ドロキシフェニル）−４，６−ジアリール−ｓ−トリア
ジン化合物とも言われる。
本発明は、上記一般式（Ｉ）で表されるレゾルシン酸エ
ステルオリゴマー（Ａ）と、上記一般式（II）で表され
るベンズアミジンもしくは置換基を有するベンズアミジ
ン又はそれらのハロゲン化水素塩（Ｂ）とを用いた縮合
環化反応による上記一般式（III）で表されるジヒドロ
キシフェニルトリアジン化合物、即ち２−（２，４−ジ
ヒドロキシフェニル）−４，６−ジアリール−１，３，
５−トリアジン化合物の製造方法に関する。２−（２，
４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ジアリール−
１，３，５−トリアジン化合物は、２−（２，４−ジヒ
ドロキシフェニル）−４，６−ジアリール−ｓ−トリア
ジン化合物とも言われる。
【００１４】一般式（Ｉ）において、Ｒ1およびＲ2は、
各々独立に、水素原子、炭素原子数１〜１８のアルキル
基、アルケニル基、アルコキシ基、ハロゲン原子または
ヒドロキシ基を表す。炭素原子数１〜１８のアルキル基
としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、第二ブチル、第三ブチル、ペンチ
ル、第三ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、第
三オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、イソノニ
ル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、トリ
デシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、
ヘプタデシル、オクタデシルなどが挙げられる。上記の
内で、炭素原子数１〜８のアルキル基が好ましく、特に
炭素原子数１〜４のアルキル基が好ましい。炭素原子数
１〜１８のアルケニル基としては、上記アルキル基に対
応するアルケニル基が挙げられる。上記の内で、炭素原
子数１〜８の例えば、ビニル、プロペニル、ブテニル、
ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニルなど
が好ましい。特に炭素原子数１〜４のアルケニル基が好
ましい。炭素原子数１〜１８のアルコキシ基としては、
上記アルキル基に対応する基が挙げられる。上記の内
で、炭素原子数１〜８のアルコキシ基が好ましく、特に
炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましい。
各々独立に、水素原子、炭素原子数１〜１８のアルキル
基、アルケニル基、アルコキシ基、ハロゲン原子または
ヒドロキシ基を表す。炭素原子数１〜１８のアルキル基
としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、第二ブチル、第三ブチル、ペンチ
ル、第三ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、第
三オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、イソノニ
ル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、トリ
デシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、
ヘプタデシル、オクタデシルなどが挙げられる。上記の
内で、炭素原子数１〜８のアルキル基が好ましく、特に
炭素原子数１〜４のアルキル基が好ましい。炭素原子数
１〜１８のアルケニル基としては、上記アルキル基に対
応するアルケニル基が挙げられる。上記の内で、炭素原
子数１〜８の例えば、ビニル、プロペニル、ブテニル、
ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニルなど
が好ましい。特に炭素原子数１〜４のアルケニル基が好
ましい。炭素原子数１〜１８のアルコキシ基としては、
上記アルキル基に対応する基が挙げられる。上記の内
で、炭素原子数１〜８のアルコキシ基が好ましく、特に
炭素原子数１〜４のアルコキシ基が好ましい。
【００１５】一般式（Ｉ）において、Ｘはハロゲン原
子、特に塩素原子、ヒドロキシ基、フェノキシ基または
炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表す。炭素原子数１
〜８のアルコキシ基としては、前記Ｒ1およびＲ2におけ
る炭素原子数１〜８のアルキル基と同じものが例示され
るが、Ｒ1およびＲ2とは独立である。本発明において、
Ｘがハロゲン原子、フェノキシ基または炭素原子数１〜
８のアルコキシ基である場合には、発生する塩酸を中和
処理したり、反応の進行に伴いフェノールやアルコール
が副生するが、使用原料がレゾルシン酸オリゴマー化合
物であるので、それらの副生量が少なく、中和処理がよ
り容易又は経済的になり、また、得られたジヒドロキシ
フェニルトリアジン化合物から種々の誘導体を合成する
場合、フェノールやアルコール等の副生物に帰因する不
純物の生成量が少なくなる特徴がある。
子、特に塩素原子、ヒドロキシ基、フェノキシ基または
炭素原子数１〜８のアルコキシ基を表す。炭素原子数１
〜８のアルコキシ基としては、前記Ｒ1およびＲ2におけ
る炭素原子数１〜８のアルキル基と同じものが例示され
るが、Ｒ1およびＲ2とは独立である。本発明において、
Ｘがハロゲン原子、フェノキシ基または炭素原子数１〜
８のアルコキシ基である場合には、発生する塩酸を中和
処理したり、反応の進行に伴いフェノールやアルコール
が副生するが、使用原料がレゾルシン酸オリゴマー化合
物であるので、それらの副生量が少なく、中和処理がよ
り容易又は経済的になり、また、得られたジヒドロキシ
フェニルトリアジン化合物から種々の誘導体を合成する
場合、フェノールやアルコール等の副生物に帰因する不
純物の生成量が少なくなる特徴がある。
【００１６】一般式（Ｉ）において、ｎは２〜１，００
０の整数である。本発明では、レゾルシン酸エステルオ
リゴマーを使用することにより、ジヒドロキシフェニル
トリアジン化合物の合成収率が向上し、且つ、誘導体合
成工程における不純物の副生が少ない。ｎが２より小さ
いとオリゴマーではなくなるので、収率向上効果が小さ
くなり、１，０００より大きいと使用するオリゴマーが
高粘度となり、合成時の取扱い性が悪く、また、反応性
が低下する。ｎは大きいほど末端の未反応レゾルシン酸
や副生アルコール、フェノールおよび塩酸が少なくなり
好ましいが、高分子量化すると反応液の粘度が高くなる
のでｎは平均で２〜１，０００が好ましく、５〜１００
がより好ましい。
０の整数である。本発明では、レゾルシン酸エステルオ
リゴマーを使用することにより、ジヒドロキシフェニル
トリアジン化合物の合成収率が向上し、且つ、誘導体合
成工程における不純物の副生が少ない。ｎが２より小さ
いとオリゴマーではなくなるので、収率向上効果が小さ
くなり、１，０００より大きいと使用するオリゴマーが
高粘度となり、合成時の取扱い性が悪く、また、反応性
が低下する。ｎは大きいほど末端の未反応レゾルシン酸
や副生アルコール、フェノールおよび塩酸が少なくなり
好ましいが、高分子量化すると反応液の粘度が高くなる
のでｎは平均で２〜１，０００が好ましく、５〜１００
がより好ましい。
【００１７】一般式（II）におけるＲ3、Ｒ4およびＲ5
で表されるそれぞれ炭素原子数１〜１８のアルキル基及
びアルコキシ基としては、前記一般式（Ｉ）におけるＲ
1およびＲ2で表されるそれぞれ炭素原子数１〜１８のア
ルキル基、及びアルコキシ基が、例示される。
で表されるそれぞれ炭素原子数１〜１８のアルキル基及
びアルコキシ基としては、前記一般式（Ｉ）におけるＲ
1およびＲ2で表されるそれぞれ炭素原子数１〜１８のア
ルキル基、及びアルコキシ基が、例示される。
【００１８】一般式（III）における、Ｒ1およびＲ2、
並びに、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5で表される、それぞれ炭素
原子数１〜１８のアルキル基、アルケニル基またはアル
コキシ基としては、原料を示す前記一般式（Ｉ）及び一
般式（II）におけるＲ1およびＲ2、並びに、Ｒ3、Ｒ4お
よびＲ5が挙げられる。
並びに、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5で表される、それぞれ炭素
原子数１〜１８のアルキル基、アルケニル基またはアル
コキシ基としては、原料を示す前記一般式（Ｉ）及び一
般式（II）におけるＲ1およびＲ2、並びに、Ｒ3、Ｒ4お
よびＲ5が挙げられる。
【００１９】本発明に用いられる一般式（Ｉ）で表され
る化合物としては、以下の化合物Ｉ−１〜Ｉ−４が例示
される。ｎは式（Ｉ）と同じである。
る化合物としては、以下の化合物Ｉ−１〜Ｉ−４が例示
される。ｎは式（Ｉ）と同じである。
【００２０】
【化７】
【００２１】
【化８】
【００２２】
【化９】
【００２３】
【化１０】
【００２４】一般式（Ｉ）で表される上記化合物は、レ
ゾルシン酸をオキシ塩化リンや酸無水物の共存下に、縮
合させて得られる。オキシ塩化リンを用いた場合には、
一般式（Ｉ）においてＸが塩素原子であるものが得ら
れ、この化合物は反応活性が高く、ベンズアミジンとの
環化反応で高い収率が得られるので好ましい。また、酸
無水物を用いた場合には、一般式（Ｉ）においてＸがヒ
ドロキシ基やフェノキシ基、アルコキシ基であるものが
得られ、この化合物は腐食性が小さいので製造設備を制
約しない点で好ましい。酸無水物としては無水酢酸など
が挙げられる。
ゾルシン酸をオキシ塩化リンや酸無水物の共存下に、縮
合させて得られる。オキシ塩化リンを用いた場合には、
一般式（Ｉ）においてＸが塩素原子であるものが得ら
れ、この化合物は反応活性が高く、ベンズアミジンとの
環化反応で高い収率が得られるので好ましい。また、酸
無水物を用いた場合には、一般式（Ｉ）においてＸがヒ
ドロキシ基やフェノキシ基、アルコキシ基であるものが
得られ、この化合物は腐食性が小さいので製造設備を制
約しない点で好ましい。酸無水物としては無水酢酸など
が挙げられる。
【００２５】本発明に用いられる一般式（II）で表され
るベンズアミジン化合物としては、以下の化合物II−１
〜II−４が挙げられる。
るベンズアミジン化合物としては、以下の化合物II−１
〜II−４が挙げられる。
【００２６】
【化１１】
【００２７】
【化１２】
【００２８】
【化１３】
【００２９】
【化１４】
【００３０】上記レゾルシン酸エステルオリゴマーとベ
ンズアミジンの縮合環化反応は、容易に進行する。
ンズアミジンの縮合環化反応は、容易に進行する。
【００３１】本発明の製造方法により得られるジヒドロ
キシフェニルトリアジン化合物としては、具体的には以
下の化合物が例示される。
キシフェニルトリアジン化合物としては、具体的には以
下の化合物が例示される。
【００３２】
【化１５】
【００３３】
【化１６】
【００３４】
【化１７】
【００３５】
【化１８】
【００３６】
【化１９】
【００３７】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 [実施例１]レゾルシン酸１５．４ｇ（０．１モル）、ト
ルエン３０．８ｇ、ジメチルホルムアミド０．３７ｇ
（０．００５モル）、オキシ塩化リン１０．７ｇ（０．
０７モル）を窒素雰囲気下、１００℃で８時間撹拌し
た。その後、０℃に冷却し、析出した結晶をろ過した。
得られた結晶を十分に水洗した後、加熱減圧乾燥して、
淡褐色固体１２．８ｇ（収率：９４％）を得た。得られ
た固体をゲルパーミエーションクロマトグラフにより分
子量を測定した結果、平均重合度は３７であり、未反応
レゾルシン酸は実質的に含まれていなかった。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 [実施例１]レゾルシン酸１５．４ｇ（０．１モル）、ト
ルエン３０．８ｇ、ジメチルホルムアミド０．３７ｇ
（０．００５モル）、オキシ塩化リン１０．７ｇ（０．
０７モル）を窒素雰囲気下、１００℃で８時間撹拌し
た。その後、０℃に冷却し、析出した結晶をろ過した。
得られた結晶を十分に水洗した後、加熱減圧乾燥して、
淡褐色固体１２．８ｇ（収率：９４％）を得た。得られ
た固体をゲルパーミエーションクロマトグラフにより分
子量を測定した結果、平均重合度は３７であり、未反応
レゾルシン酸は実質的に含まれていなかった。
【００３８】得られたレゾルシン酸エステルオリゴマー
８．８４ｇ（レゾルシン酸換算で０．０６５モル）、ベ
ンズアミジン塩酸塩２０．５ｇ（０．１３モル）、アセ
トニトリル４４．３ｇ、トリエチルアミン１３．２ｇ
（０．１３モル）を加え、７５℃、２０時間撹拌して縮
合環化反応を行った。反応終了後、０℃に冷却し、析出
した結晶をろ過して水洗後、加熱・減圧乾燥して、２−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ジフェニ
ル−１，３，５−トリアジンの淡黄色固体２０．２ｇ
（収率：９１％）を得た。得られた固体の融点は２７２
〜２７３℃であった。
８．８４ｇ（レゾルシン酸換算で０．０６５モル）、ベ
ンズアミジン塩酸塩２０．５ｇ（０．１３モル）、アセ
トニトリル４４．３ｇ、トリエチルアミン１３．２ｇ
（０．１３モル）を加え、７５℃、２０時間撹拌して縮
合環化反応を行った。反応終了後、０℃に冷却し、析出
した結晶をろ過して水洗後、加熱・減圧乾燥して、２−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ジフェニ
ル−１，３，５−トリアジンの淡黄色固体２０．２ｇ
（収率：９１％）を得た。得られた固体の融点は２７２
〜２７３℃であった。
【００３９】[実施例２]レゾルシン酸１５．４ｇ（０．
１モル）、トルエン３０．８ｇ、ジメチルホルムアミド
０．３７ｇ（０．００５モル）、無水酢酸７．１５ｇ
（０．０７モル）を窒素雰囲気下、１００℃で８時間撹
拌した。その後、同温度で冷却脱溶媒し、淡褐色粘調物
質１２．８ｇ（収率：９５％）を得た。得られた粘調物
をゲルパーミエーションクロマトグラフにより分子量を
測定し、平均重合度は２２であり、未反応レゾルシン酸
は実質的に含まれていなかった。
１モル）、トルエン３０．８ｇ、ジメチルホルムアミド
０．３７ｇ（０．００５モル）、無水酢酸７．１５ｇ
（０．０７モル）を窒素雰囲気下、１００℃で８時間撹
拌した。その後、同温度で冷却脱溶媒し、淡褐色粘調物
質１２．８ｇ（収率：９５％）を得た。得られた粘調物
をゲルパーミエーションクロマトグラフにより分子量を
測定し、平均重合度は２２であり、未反応レゾルシン酸
は実質的に含まれていなかった。
【００４０】得られたレゾルシン酸エステルオリゴマー
８．８４ｇ（レゾルシン酸換算で０．０６５モル）、ベ
ンズアミジン塩酸塩２０．５ｇ（０．１３モル）、アセ
トニトリル４４．３ｇ、トリエチルアミン１３．２ｇ
（０．１３モル）を、７５℃、２０時間撹拌した。終了
後、０℃に冷却し、析出した結晶をろ過して水洗後、加
熱減圧乾燥して、２−（２，４−ジヒドロキシフェニ
ル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジンの
淡黄色固体１９．３ｇ（収率：８７％）を得た。
８．８４ｇ（レゾルシン酸換算で０．０６５モル）、ベ
ンズアミジン塩酸塩２０．５ｇ（０．１３モル）、アセ
トニトリル４４．３ｇ、トリエチルアミン１３．２ｇ
（０．１３モル）を、７５℃、２０時間撹拌した。終了
後、０℃に冷却し、析出した結晶をろ過して水洗後、加
熱減圧乾燥して、２−（２，４−ジヒドロキシフェニ
ル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジンの
淡黄色固体１９．３ｇ（収率：８７％）を得た。
【００４１】[比較例１]レゾルシン酸クロライド１７．
３ｇ（０．１モル）、ベンズアミジン塩酸塩３１．３ｇ
（０．２モル）、アセトニトリル４４．３ｇ、トリエチ
ルアミン３０．３ｇ（０．３モル）を７５℃、２０時間
撹拌した。終了後、０℃に冷却し、析出した結晶をろ過
して水洗後、加熱減圧乾燥して２−（２，４−ジヒドロ
キシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−ト
リアジンの淡黄色固体２６ｇ（収率７６％）を得た。
３ｇ（０．１モル）、ベンズアミジン塩酸塩３１．３ｇ
（０．２モル）、アセトニトリル４４．３ｇ、トリエチ
ルアミン３０．３ｇ（０．３モル）を７５℃、２０時間
撹拌した。終了後、０℃に冷却し、析出した結晶をろ過
して水洗後、加熱減圧乾燥して２−（２，４−ジヒドロ
キシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−ト
リアジンの淡黄色固体２６ｇ（収率７６％）を得た。
【００４２】[比較例２]レゾルシン酸メチル１６．８ｇ
（０．１モル）、ベンズアミンジン塩酸塩３１．３ｇ
（０．２モル）、アセトニトリル４４．３ｇ、トリエチ
ルアミン２０．２ｇ（０．２モル）を７５℃、２０時間
撹拌した。終了後、０℃に冷却し、析出した結晶をろ過
して水洗後、加熱・減圧乾燥して２−（２，４−ジヒド
ロキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−
トリアジンの淡黄色固体２５．３ｇ（収率７４％）を得
た。
（０．１モル）、ベンズアミンジン塩酸塩３１．３ｇ
（０．２モル）、アセトニトリル４４．３ｇ、トリエチ
ルアミン２０．２ｇ（０．２モル）を７５℃、２０時間
撹拌した。終了後、０℃に冷却し、析出した結晶をろ過
して水洗後、加熱・減圧乾燥して２−（２，４−ジヒド
ロキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−
トリアジンの淡黄色固体２５．３ｇ（収率７４％）を得
た。
【００４３】
【発明の効果】本発明により、２−（２，４−ジヒドロ
キシフェニル）−４，６−ジアリール−１，３，５−ト
リアジン化合物を収率良く、且つ安全に製造することが
できる。
キシフェニル）−４，６−ジアリール−１，３，５−ト
リアジン化合物を収率良く、且つ安全に製造することが
できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石川 慎一 東京都荒川区東尾久７丁目２番35号 旭電 化工業株式会社内 (72)発明者 河原木 佐依子 東京都荒川区東尾久７丁目２番35号 旭電 化工業株式会社内 Ｆターム(参考） 4J029 AA02 AB02 AC01 AC04 AD01 AE18 EB03 EB04A HA01 HB06
Claims (4)
- 【請求項１】 （Ａ）下記一般式（Ｉ）で表されるレゾ
ルシン酸エステルオリゴマー、及び（Ｂ）下記一般式
（II）で表されるベンズアミジンもしくは置換基を有す
るベンズアミジン又はそれらのハロゲン化水素との塩、
を縮合環化反応させることによる下記一般式（III）で
表されるジヒドロキシフェニルトリアジン化合物の製造
方法。 【化１】 （式中、Ｒ1およびＲ2は、各々独立に、水素原子；炭素
原子数１〜１８のアルキル基、アルケニル基もしくはア
ルコキシ基；ハロゲン原子；又はヒドロキシ基を表す。
Ｘは塩素原子、ヒドロキシ基、フェノキシ基、又は炭素
原子数１〜８のアルコキシ基を表す。ｎは２〜１，００
０の整数を表す。） 【化２】 (式中、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、各々独立に、水素原子；
炭素原子数１〜１８のアルキル基もしくはアルコキシ
基；ハロゲン原子；又はヒドロキシ基を表す。) 【化３】 （式中、Ｒ1およびＲ2は、各々独立に、水素原子；炭素
原子数１〜１８のアルキル基、アルケニル基またはアル
コキシ基；ハロゲン原子；又はヒドロキシ基を表す。Ｒ
3、Ｒ4およびＲ5は、各々独立に、水素原子；炭素原子
数１〜１８のアルキル基もしくはアルコキシ基；ハロゲ
ン原子；又はヒドロキシ基を表す。） - 【請求項２】 Ｘがヒドロキシ基である請求項１記載の
ジヒドロキシフェニルトリアジン化合物の製造方法。 - 【請求項３】 Ｘが塩素原子である請求項１記載のジヒ
ドロキシフェニルトリアジン化合物の製造方法。 - 【請求項４】 Ｘがフェノキシ基または炭素原子数１〜
８のアルコキシ基である請求項１記載のジヒドロキシフ
ェニルトリアジン化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000029996A JP4521794B2 (ja) | 2000-02-08 | 2000-02-08 | ジヒドロキシフェニルトリアジン化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001220385A true JP2001220385A (ja) | 2001-08-14 |
| JP4521794B2 JP4521794B2 (ja) | 2010-08-11 |
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ID=18555072
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000029996A Expired - Lifetime JP4521794B2 (ja) | 2000-02-08 | 2000-02-08 | ジヒドロキシフェニルトリアジン化合物の製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4521794B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2261279A1 (en) | 2009-06-09 | 2010-12-15 | Fujifilm Corporation | Triazine derivative, ultraviolet absorber composition and resin composition stabilized with the absorber composition |
| EP2267067A1 (en) | 2009-06-23 | 2010-12-29 | Fujifilm Corporation | Ultraviolet absorber composition and resin composition stabilized with the absorber composition |
| WO2011013723A1 (ja) | 2009-07-29 | 2011-02-03 | 富士フイルム株式会社 | 新規なトリアジン誘導体、紫外線吸収剤及び樹脂組成物 |
| EP2301995A1 (en) | 2009-09-28 | 2011-03-30 | Fujifilm Corporation | Polycarbonate resin composition containing triazine compound and molded article using the same |
| WO2011089969A1 (ja) | 2010-01-19 | 2011-07-28 | 富士フイルム株式会社 | ポリエステル樹脂組成物 |
| EP2423202A1 (en) | 2010-08-31 | 2012-02-29 | Fujifilm Corporation | Triazine-based compound and ultraviolet absorber |
-
2000
- 2000-02-08 JP JP2000029996A patent/JP4521794B2/ja not_active Expired - Lifetime
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|---|---|---|---|---|
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|---|---|
| JP4521794B2 (ja) | 2010-08-11 |
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