JP2001219024A - 窒素発生装置 - Google Patents
窒素発生装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 質量分析装置であるＧＣ／ＭＳやＬＣ／ＭＳ
に使用するもので、その用途によって必要とする発生窒
素ガスの濃度や流量が大幅に異なる被分析資料のキャリ
ヤーガスを発生させるためのＰＳＡ方式による小型の窒
素発生装置において、１台の装置でこれら両方の使用条
件を満足させる。 【解決手段】 吸着剤を充填した２本の吸着筒１，２又
は同３，４を１組として窒素発生装置を構成し、取出す
窒素ガスが高濃度で小流量を必要とするときは該吸着筒
を直列接続となるようにし、又、取出す窒素ガスが低濃
度で大流量を必要とするときには該吸着筒を並列接続と
なるように制御部１６で三方弁１０，１１や弁６〜９及
び２５，２６で切換え制御を行う。
に使用するもので、その用途によって必要とする発生窒
素ガスの濃度や流量が大幅に異なる被分析資料のキャリ
ヤーガスを発生させるためのＰＳＡ方式による小型の窒
素発生装置において、１台の装置でこれら両方の使用条
件を満足させる。 【解決手段】 吸着剤を充填した２本の吸着筒１，２又
は同３，４を１組として窒素発生装置を構成し、取出す
窒素ガスが高濃度で小流量を必要とするときは該吸着筒
を直列接続となるようにし、又、取出す窒素ガスが低濃
度で大流量を必要とするときには該吸着筒を並列接続と
なるように制御部１６で三方弁１０，１１や弁６〜９及
び２５，２６で切換え制御を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】 本発明はＰＳＡ方式による
窒素発生装置に関する。
窒素発生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】 特定ガスを吸着する吸着剤を吸着筒に
充填し、これに特定ガスを含む混合ガスを吸着筒の一方
の口より圧力を加えながら流入させると、吸着筒内の吸
着剤に特定ガスが吸着されて除かれ、吸着筒の他端より
特定ガスを含まないガスが分離して取出される。これを
吸着工程という。吸着筒内の吸着剤に吸着された特定ガ
スは、吸着筒入口より減圧して吸着筒内圧を下げると、
吸着剤に吸着した特定ガスが離脱して排出される。この
ことにより吸着剤の吸着能力が回復して、再生するので
再生工程という。このように吸着筒に加える圧力をスイ
ングしてガスを分離する技術を（Ｐｒｅｓｓｕｒｅ Ｓ
ｗｉｎｇ Ａｄｓｏｒｐｔｉｏｎ）ＰＳＡ方式によるガ
ス分離という。
充填し、これに特定ガスを含む混合ガスを吸着筒の一方
の口より圧力を加えながら流入させると、吸着筒内の吸
着剤に特定ガスが吸着されて除かれ、吸着筒の他端より
特定ガスを含まないガスが分離して取出される。これを
吸着工程という。吸着筒内の吸着剤に吸着された特定ガ
スは、吸着筒入口より減圧して吸着筒内圧を下げると、
吸着剤に吸着した特定ガスが離脱して排出される。この
ことにより吸着剤の吸着能力が回復して、再生するので
再生工程という。このように吸着筒に加える圧力をスイ
ングしてガスを分離する技術を（Ｐｒｅｓｓｕｒｅ Ｓ
ｗｉｎｇ Ａｄｓｏｒｐｔｉｏｎ）ＰＳＡ方式によるガ
ス分離という。
【０００３】 空気を原料として窒素ガスを取出す窒素
発生装置の吸着剤として、活性炭の細孔を特殊処理して
窒素ガス分子に対して酸素ガス分子の吸着速度が極めて
早い特性をもたせた分子篩炭を用いる。通常のガス分離
装置を用いる使用例においては、当該使用の目的にかな
う濃度のガス発生装置が用いられる。そして、更に他の
使用例においては、濃度のうすいガスが必要な場合があ
り、当該発生ガスを他のガスと混合器により混合して当
該目的に使用している。
発生装置の吸着剤として、活性炭の細孔を特殊処理して
窒素ガス分子に対して酸素ガス分子の吸着速度が極めて
早い特性をもたせた分子篩炭を用いる。通常のガス分離
装置を用いる使用例においては、当該使用の目的にかな
う濃度のガス発生装置が用いられる。そして、更に他の
使用例においては、濃度のうすいガスが必要な場合があ
り、当該発生ガスを他のガスと混合器により混合して当
該目的に使用している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】 窒素発生装置のガ
ス応用例において、ガスクロマトグラフ質量分析装置Ｇ
Ｃ／ＭＳ，（Gas Chromatograph mass Spectrometer Sy
stem) や液体クロマトグラフ質量分析装置ＬＣ／ＭＳ，
（Liquid Chromatograph mass Spectrometer System)に
おける被分析資料をイオン化して質量分析部と結合する
部分のイオン化を促進させる為のキャリヤーガスとして
窒素ガスが用いられる。この用途にＰＳＡ方式の窒素発
生装置を使用する。
ス応用例において、ガスクロマトグラフ質量分析装置Ｇ
Ｃ／ＭＳ，（Gas Chromatograph mass Spectrometer Sy
stem) や液体クロマトグラフ質量分析装置ＬＣ／ＭＳ，
（Liquid Chromatograph mass Spectrometer System)に
おける被分析資料をイオン化して質量分析部と結合する
部分のイオン化を促進させる為のキャリヤーガスとして
窒素ガスが用いられる。この用途にＰＳＡ方式の窒素発
生装置を使用する。
【０００５】 多くの実験室にＧＣ／ＭＳやＬＣ／ＭＳ
が共存している場合が多い。この場合、装置や分析資料
により窒素ガスに対する要求条件が異なる場合が多い。
例えばＧＣ／ＭＳの場合には純度９９％で、流量１０Ｌ
／分を必要とする。又、ＬＣ／ＭＳの場合は純度９９．
９９％で、そのときの流量が２Ｌ／分が要求される場合
がある。これを１台の窒素発生装置で出したいという要
求がある。
が共存している場合が多い。この場合、装置や分析資料
により窒素ガスに対する要求条件が異なる場合が多い。
例えばＧＣ／ＭＳの場合には純度９９％で、流量１０Ｌ
／分を必要とする。又、ＬＣ／ＭＳの場合は純度９９．
９９％で、そのときの流量が２Ｌ／分が要求される場合
がある。これを１台の窒素発生装置で出したいという要
求がある。
【０００６】 ＰＳＡ方式による大型の窒素発生装置の
場合には、取出しガスの流量を減ずるとその流量が０．
５〜０．７倍で１桁の濃度向上がある。しかし、小型の
窒素発生装置の場合には、取出しガスの濃度が飽和して
いて、取出しガスの流量を減じてもすでに飽和している
ので濃度の向上が容易に得られないという問題がある。
場合には、取出しガスの流量を減ずるとその流量が０．
５〜０．７倍で１桁の濃度向上がある。しかし、小型の
窒素発生装置の場合には、取出しガスの濃度が飽和して
いて、取出しガスの流量を減じてもすでに飽和している
ので濃度の向上が容易に得られないという問題がある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】 吸着筒内の吸着剤層が
大きくなる中型以上のＰＳＡ方式による窒素発生装置の
場合、発生ガスの取出し流量を減ずると、その値の０．
５〜０．７倍で１桁の濃度向上があることが研究の結果
明らかとなった。しかし、吸着筒の長さが６００mm以下
の小型の窒素発生装置の場合、取出し流量を減じても濃
度の向上が前述のように得られなくなる。
大きくなる中型以上のＰＳＡ方式による窒素発生装置の
場合、発生ガスの取出し流量を減ずると、その値の０．
５〜０．７倍で１桁の濃度向上があることが研究の結果
明らかとなった。しかし、吸着筒の長さが６００mm以下
の小型の窒素発生装置の場合、取出し流量を減じても濃
度の向上が前述のように得られなくなる。
【０００８】 かかる小型の窒素発生装置を用いて１台
の装置で濃度の異なる用途に応じられるようにするため
次のようにすることにより解決を図ることができた。 （その１）吸着筒２本を１組とし、発生ガスの用途によ
り高濃度ガスを発生させる必要があるときは該吸着筒を
直列接続とし、低濃度ガスを発生させる必要があるとき
には該吸着筒を並列接続とするよう該発生ガスの用途に
合わせて切換え操作をしてＰＳＡ動作を行なわせるよう
に構成した窒素濃縮装置を構成する。
の装置で濃度の異なる用途に応じられるようにするため
次のようにすることにより解決を図ることができた。 （その１）吸着筒２本を１組とし、発生ガスの用途によ
り高濃度ガスを発生させる必要があるときは該吸着筒を
直列接続とし、低濃度ガスを発生させる必要があるとき
には該吸着筒を並列接続とするよう該発生ガスの用途に
合わせて切換え操作をしてＰＳＡ動作を行なわせるよう
に構成した窒素濃縮装置を構成する。
【０００９】 すなわち、高濃度のガスを得るために
は、被吸着ガスが吸着剤に吸着されて除かれるためには
吸着層の層厚（ガスの通過時間）が必要であるため上記
の方式を構成したものであり、このためには更に吸着筒
の形状、特に吸着筒の直径又はその断面の対辺の長さに
対する該吸着筒の長さの比が重要であることがわかっ
た。 （その２）吸着筒の直径又はその断面の対辺の長さに対
する該吸着筒の長さの比が４以上の吸着筒を使用した前
記（その１）の窒素濃縮装置を構成する。
は、被吸着ガスが吸着剤に吸着されて除かれるためには
吸着層の層厚（ガスの通過時間）が必要であるため上記
の方式を構成したものであり、このためには更に吸着筒
の形状、特に吸着筒の直径又はその断面の対辺の長さに
対する該吸着筒の長さの比が重要であることがわかっ
た。 （その２）吸着筒の直径又はその断面の対辺の長さに対
する該吸着筒の長さの比が４以上の吸着筒を使用した前
記（その１）の窒素濃縮装置を構成する。
【００１０】 更に１台の装置を用いて低濃度と高濃度
の両方の用途に供する場合、その窒素発生装置から取り
出す発生ガス量が重要であり、濃度と取出す発生ガス量
との間には密接な関係があり濃度に関係づけられた装置
の容量や吸着筒形状や吸着剤により定まる独自の取出し
流量がある。 （その３）吸着筒の直径又はその断面の対辺の長さに対
する該吸着筒の長さの比が４以上の吸着筒２本を１組と
し、発生ガスの用途により高濃度ガスを発生させる必要
があるときは該吸着筒を直列接続とし、低濃度ガスを発
生させる必要があるときには該吸着筒を並列接続とし、
かつ、発生ガスを取出し流量を当該発生ガスの濃度に関
連づけた流量により該吸着筒の接続を変更するようにし
た窒素ガス発生装置を構成する。
の両方の用途に供する場合、その窒素発生装置から取り
出す発生ガス量が重要であり、濃度と取出す発生ガス量
との間には密接な関係があり濃度に関係づけられた装置
の容量や吸着筒形状や吸着剤により定まる独自の取出し
流量がある。 （その３）吸着筒の直径又はその断面の対辺の長さに対
する該吸着筒の長さの比が４以上の吸着筒２本を１組と
し、発生ガスの用途により高濃度ガスを発生させる必要
があるときは該吸着筒を直列接続とし、低濃度ガスを発
生させる必要があるときには該吸着筒を並列接続とし、
かつ、発生ガスを取出し流量を当該発生ガスの濃度に関
連づけた流量により該吸着筒の接続を変更するようにし
た窒素ガス発生装置を構成する。
【００１１】 また、 （その４）吸着筒２本を１組とし、該吸着筒を直列接続
又は並列接続とし得る構成の吸着筒を有するＰＳＡ方式
の窒素発生部と該窒素発生部からのガスを取出す流量検
出調節部と制御部と濃度設定部とで構成される窒素発生
装置において、該濃度設定部で設定した濃度信号により
該制御部は、該濃度設定部で設定した設定値が吸着筒を
直列接続にすべきか、並列接続にすべきかを判断して接
続指示をするとともに該流量検出調節部を制御して、該
濃度設定部で設定した濃度に対応する流量になるよう制
御するようにした窒素発生装置を構成する。
又は並列接続とし得る構成の吸着筒を有するＰＳＡ方式
の窒素発生部と該窒素発生部からのガスを取出す流量検
出調節部と制御部と濃度設定部とで構成される窒素発生
装置において、該濃度設定部で設定した濃度信号により
該制御部は、該濃度設定部で設定した設定値が吸着筒を
直列接続にすべきか、並列接続にすべきかを判断して接
続指示をするとともに該流量検出調節部を制御して、該
濃度設定部で設定した濃度に対応する流量になるよう制
御するようにした窒素発生装置を構成する。
【００１２】 また、（その５）ＰＳＡ方式による窒素
発生部と該窒素発生部からのガスを取出す流量検出調節
部とガスの濃度計測部と制御部と濃度設定部とで構成さ
れる窒素発生装置において、該濃度設定部で設定した濃
度信号により、該制御部は、該流量検出調節部を制御し
て該濃度設定部で設定した濃度に対応する流量になるよ
う制御し、更にこのガスの濃度計測部にて前記のガスの
濃度を計測し、該流量検出調節部を調整して該濃度設定
部で設定した設定濃度と一致させるように制御するよう
にした窒素発生装置を構成する。
発生部と該窒素発生部からのガスを取出す流量検出調節
部とガスの濃度計測部と制御部と濃度設定部とで構成さ
れる窒素発生装置において、該濃度設定部で設定した濃
度信号により、該制御部は、該流量検出調節部を制御し
て該濃度設定部で設定した濃度に対応する流量になるよ
う制御し、更にこのガスの濃度計測部にて前記のガスの
濃度を計測し、該流量検出調節部を調整して該濃度設定
部で設定した設定濃度と一致させるように制御するよう
にした窒素発生装置を構成する。
【００１３】 更に、（その６）ＰＳＡ方式による窒素
発生部と該窒素発生部からのガスを取出す流量検出調節
部とガスの濃度計測部と廃棄ガス流量調節部と制御部と
濃度設定部とで構成される窒素発生装置において、該濃
度調節部で設定した濃度信号により該制御部は、該流量
検出調節部を制御して該濃度設定部で設定した濃度に対
応する流量になるよう制御し、更に該濃度計測部にて該
ガスの濃度を計測し、該流量検出調節部を調整するとと
もに、取出口から取出すガスの流量と廃棄ガス流量調節
部より廃棄されるガスの流量との和が該流量調節部の流
量と一致するように該廃棄ガス流量調節部を制御するよ
うにした窒素発生装置を構成する。
発生部と該窒素発生部からのガスを取出す流量検出調節
部とガスの濃度計測部と廃棄ガス流量調節部と制御部と
濃度設定部とで構成される窒素発生装置において、該濃
度調節部で設定した濃度信号により該制御部は、該流量
検出調節部を制御して該濃度設定部で設定した濃度に対
応する流量になるよう制御し、更に該濃度計測部にて該
ガスの濃度を計測し、該流量検出調節部を調整するとと
もに、取出口から取出すガスの流量と廃棄ガス流量調節
部より廃棄されるガスの流量との和が該流量調節部の流
量と一致するように該廃棄ガス流量調節部を制御するよ
うにした窒素発生装置を構成する。
【００１４】
【実施例】 図１に本発明の実施例を示す。分子篩炭を
吸着剤として吸着筒１，２，３，４に充填し、吸着筒１
と２の間に、三方弁１０を介して吸着筒１の出口と吸着
筒２の入口とを接続し、三方弁１０の他の口を吸着筒２
の出口と接続し、吸着筒２の入口と、弁２５を介して吸
着筒１の入口とを接続する。吸着筒３と４の間に、三方
弁１１を介して吸着筒３の出口と吸着筒４の入口とを同
じく接続し、その三方弁１１の他の口を吸着筒４の出口
と接続する。吸着筒４の入口と、弁２６を介して吸着筒
３の入口とを接続する。
吸着剤として吸着筒１，２，３，４に充填し、吸着筒１
と２の間に、三方弁１０を介して吸着筒１の出口と吸着
筒２の入口とを接続し、三方弁１０の他の口を吸着筒２
の出口と接続し、吸着筒２の入口と、弁２５を介して吸
着筒１の入口とを接続する。吸着筒３と４の間に、三方
弁１１を介して吸着筒３の出口と吸着筒４の入口とを同
じく接続し、その三方弁１１の他の口を吸着筒４の出口
と接続する。吸着筒４の入口と、弁２６を介して吸着筒
３の入口とを接続する。
【００１５】 吸着筒１の入口は弁６，７，２５と接続
し、吸着筒３の入口は弁８，９，２６と接続し、コンプ
レッサーよりの圧縮空気を空気入口２２より取り込み弁
６，８より吸着筒１，３へそれぞれ取り込む。弁７，９
はサイレンサー２４と接続し、排気ガスを放出させる。
吸着筒２，４の出口は弁１２，１３を介してバッファタ
ンク５へ接続し、濃縮された窒素ガスをこのバッファー
タンクに貯える。この窒素ガスは減圧弁１４により調圧
されて取り出され流量検出調節部１５を介して絞り弁２
３を経て取出口２１より消費先へ取り出される。
し、吸着筒３の入口は弁８，９，２６と接続し、コンプ
レッサーよりの圧縮空気を空気入口２２より取り込み弁
６，８より吸着筒１，３へそれぞれ取り込む。弁７，９
はサイレンサー２４と接続し、排気ガスを放出させる。
吸着筒２，４の出口は弁１２，１３を介してバッファタ
ンク５へ接続し、濃縮された窒素ガスをこのバッファー
タンクに貯える。この窒素ガスは減圧弁１４により調圧
されて取り出され流量検出調節部１５を介して絞り弁２
３を経て取出口２１より消費先へ取り出される。
【００１６】 流量検出調節部１５の下流は廃棄ガス流
量調節部１９を介して放出口２０に接続され、取出口２
１より取り出される窒素ガスの量と、濃度の調節のため
に流量検出調節部１５で流す窒素ガスの量との差を制御
部１６からの信号で廃棄ガス流量調節部１９で調節して
放出口２０より流すように制御する。濃度設定部１７は
消費先で使用するガスの濃度の設定を行なう。この信号
を制御部１６に取り込み、この濃度にするために必要な
取出し流量を該流量検出調節部１５に信号を伝えて制御
する。この濃度設定値により吸着筒を直列接続と並列接
続にする境界の値があり、ある値の濃度、例えば９９．
９％以上の９９．９９％の場合は該吸着筒を直列接続と
し、９９．９％未満の場合には該吸着筒を並列接続とす
るよう制御部１６で判断させて次のように制御する。な
お、本実施例における濃度設定部１７は、発生ガスの用
途により濃度値を変えられるものであればいずれの称呼
であってもよく、例えば用途指定部、あるいは濃度指示
部、その他適宜な称呼に読み替えてもよい。
量調節部１９を介して放出口２０に接続され、取出口２
１より取り出される窒素ガスの量と、濃度の調節のため
に流量検出調節部１５で流す窒素ガスの量との差を制御
部１６からの信号で廃棄ガス流量調節部１９で調節して
放出口２０より流すように制御する。濃度設定部１７は
消費先で使用するガスの濃度の設定を行なう。この信号
を制御部１６に取り込み、この濃度にするために必要な
取出し流量を該流量検出調節部１５に信号を伝えて制御
する。この濃度設定値により吸着筒を直列接続と並列接
続にする境界の値があり、ある値の濃度、例えば９９．
９％以上の９９．９９％の場合は該吸着筒を直列接続と
し、９９．９％未満の場合には該吸着筒を並列接続とす
るよう制御部１６で判断させて次のように制御する。な
お、本実施例における濃度設定部１７は、発生ガスの用
途により濃度値を変えられるものであればいずれの称呼
であってもよく、例えば用途指定部、あるいは濃度指示
部、その他適宜な称呼に読み替えてもよい。
【００１７】 直列接続の場合は、吸着筒１，２におい
ては弁２５を閉とし、三方弁１０を吸着筒１の出口を吸
着筒２の入口の方に切替えて直列使用とする。吸着筒
３，４においては弁２６を閉とし、三方弁１１を同じく
吸着筒３の出口と吸着筒４の入口の方に切替える。
ては弁２５を閉とし、三方弁１０を吸着筒１の出口を吸
着筒２の入口の方に切替えて直列使用とする。吸着筒
３，４においては弁２６を閉とし、三方弁１１を同じく
吸着筒３の出口と吸着筒４の入口の方に切替える。
【００１８】 並列使用の場合は、吸着筒１，２の場合
においては弁２５を開とし、三方弁１０で吸着筒１の出
口を吸着筒２の出口の方と接続するように切替えて吸着
筒１，２を並列接続とする。同じく吸着筒３，４の場合
は、弁２６を開とし、三方弁１１で吸着筒３の出口と吸
着筒４の出口の方と接続するように切替えて吸着筒３，
４を並列接続とする。
においては弁２５を開とし、三方弁１０で吸着筒１の出
口を吸着筒２の出口の方と接続するように切替えて吸着
筒１，２を並列接続とする。同じく吸着筒３，４の場合
は、弁２６を開とし、三方弁１１で吸着筒３の出口と吸
着筒４の出口の方と接続するように切替えて吸着筒３，
４を並列接続とする。
【００１９】 例えば並列接続の場合は、空気入口２２
より入った圧縮空気は弁６より吸着筒１の入口と、更に
弁２５が開いているため吸着筒２の入口に入り吸着筒
１，２で濃縮された窒素ガスは吸着筒１の出口と吸着筒
２の出口は三方弁１０を介して接続されており、弁１２
を介してバッファタンク１５の方へ取出される。吸着筒
３，４においては同じく弁８より吸着筒３の入口に入
り、更に弁２６が開いているため吸着筒４の入口に入り
吸着筒３と４に入った空気中の酸素ガスが吸着除去され
て、両吸着筒で濃縮された窒素ガスは両方の吸着筒の出
口が三方弁１１を介して接続されているので弁１３を介
してバッファタンク５の方へ取出される。
より入った圧縮空気は弁６より吸着筒１の入口と、更に
弁２５が開いているため吸着筒２の入口に入り吸着筒
１，２で濃縮された窒素ガスは吸着筒１の出口と吸着筒
２の出口は三方弁１０を介して接続されており、弁１２
を介してバッファタンク１５の方へ取出される。吸着筒
３，４においては同じく弁８より吸着筒３の入口に入
り、更に弁２６が開いているため吸着筒４の入口に入り
吸着筒３と４に入った空気中の酸素ガスが吸着除去され
て、両吸着筒で濃縮された窒素ガスは両方の吸着筒の出
口が三方弁１１を介して接続されているので弁１３を介
してバッファタンク５の方へ取出される。
【００２０】 再生時は、吸着筒１，２においては、弁
６，１２を閉として弁７を開とするので弁２５が開であ
るため、弁７が開であれば両方の吸着筒の脱着廃棄にお
いてガスがサイレンサー２４より放出される。同じく吸
着筒３，４においては、弁８，１３を閉とし、弁９を開
とするので弁２６が開であるため弁９が開となれば、両
方の吸着筒の脱着廃棄ガスがサイレンサー２４より放出
される。
６，１２を閉として弁７を開とするので弁２５が開であ
るため、弁７が開であれば両方の吸着筒の脱着廃棄にお
いてガスがサイレンサー２４より放出される。同じく吸
着筒３，４においては、弁８，１３を閉とし、弁９を開
とするので弁２６が開であるため弁９が開となれば、両
方の吸着筒の脱着廃棄ガスがサイレンサー２４より放出
される。
【００２１】 その他、ＰＳＡ方式による窒素発生装置
であるから、均圧工程（上部，下部）の手段を用いても
基本的には変わらない。更に発生ガスの用途に合った濃
度の設定により、高濃度の場合は吸着筒を直列に接続
し、低濃度の場合は並列に接続して、同一の窒素発生装
置の濃度の可変範囲を９９．９９％から９９％以下まで
大幅な変更を可能にすることができる。なお、図１にお
いては図面が煩雑になるので三方弁や他の弁類の制御線
の図示は省略した。
であるから、均圧工程（上部，下部）の手段を用いても
基本的には変わらない。更に発生ガスの用途に合った濃
度の設定により、高濃度の場合は吸着筒を直列に接続
し、低濃度の場合は並列に接続して、同一の窒素発生装
置の濃度の可変範囲を９９．９９％から９９％以下まで
大幅な変更を可能にすることができる。なお、図１にお
いては図面が煩雑になるので三方弁や他の弁類の制御線
の図示は省略した。
【００２２】
【発明の効果】 同一の窒素発生装置の発生ガス濃度や
取出し流量を大幅に変更することができるので、１台の
ＰＳＡ方式の窒素発生装置を複数の使用目的に合わせて
利用することが可能となる。
取出し流量を大幅に変更することができるので、１台の
ＰＳＡ方式の窒素発生装置を複数の使用目的に合わせて
利用することが可能となる。
【図１】 本発明の好適な実施態様のフロー図である。
１，２，３，４ 吸着筒 ５ バッファータンク ６，７，８，９，１２，１３，２５，２６ 弁 １０，１１ 三方弁 １４ 減圧弁 １５ 流量検出調節部 １６ 制御部 １７ 濃度設定部 １８ 濃度計測部 １９ 廃棄ガス流量調節部 ２０ 放出部 ２１ 取出口 ２２ 空気入口 ２３ 絞り弁 ２４ サイレンサー
Claims (6)
- 【請求項１】 吸着筒２本を１組とし、発生ガスの用途
により高濃度ガスを発生させる必要があるときは該吸着
筒を直列接続とし、低濃度ガスを発生させる必要がある
ときには該吸着筒を並列接続とするよう該発生ガスの用
途に合わせて切換え操作をしてＰＳＡ動作を行なわせる
ように構成したことを特徴とする窒素発生装置。 - 【請求項２】 吸着筒の直径又はその断面の対辺の長さ
に対する該吸着筒の長さの比が４以上の吸着筒であるこ
とを特徴とする請求項１記載の窒素発生装置。 - 【請求項３】 吸着筒の直径又はその断面の対辺の長さ
に対する該吸着筒の長さの比が４以上の吸着筒２本を１
組とし、発生ガスの用途により高濃度ガスを発生させる
必要があるときは該吸着筒を直列接続とし、低濃度ガス
を発生させる必要があるときには該吸着筒を並列接続と
し、かつ、発生ガスの取出し流量を当該発生ガスの濃度
に関連づけた流量により該吸着筒の接続を変更するよう
に構成したことを特徴とする窒素発生装置。 - 【請求項４】 吸着筒２本を１組とし、該吸着筒を直列
接続又は並列接続とし得る構成の吸着筒を有するＰＳＡ
方式の窒素発生部と該窒素発生部からのガスを取出す流
量検出調節部と制御部と濃度設定部とで構成される窒素
発生装置において、該濃度設定部で設定した濃度信号に
より該制御部は、該濃度設定部で設定した設定値が吸着
筒を直列接続にすべきか、並列接続にすべきかを判断し
て接続指示をするとともに該流量検出調節部を制御し
て、該濃度設定部で設定した濃度に対応する流量になる
よう制御するように構成したことを特徴とする窒素発生
装置。 - 【請求項５】 ＰＳＡ方式による窒素発生部と該窒素発
生部からのガスを取出す流量検出調節部とガスの濃度計
測部と制御部と濃度設定部とで構成される窒素発生装置
において、該濃度設定部で設定した濃度信号により、該
制御部は、該流量検出調節部を制御して該濃度設定部で
設定した濃度に対応する流量になるよう制御し、更にこ
のガスの濃度計測部にて前記のガスの濃度を計測し、該
流量検出調節部を調整して該濃度設定部で設定した設定
濃度と一致させるように制御することを特徴とする窒素
発生装置。 - 【請求項６】 ＰＳＡ方式による窒素発生部と該窒素発
生部からのガスを取出す流量検出調節部とガスの濃度計
測部と廃棄ガス流量調節部と制御部と濃度設定部とで構
成される窒素発生装置において、該濃度調節部で設定し
た濃度信号により該制御部は、該流量検出調節部を制御
して該濃度設定部で設定した濃度に対応する流量になる
よう制御し、更に該濃度計測部にて該ガスの濃度を計測
し、該流量検出調節部を調整するとともに、取出口から
取出すガスの流量と廃棄ガス流量調節部より廃棄される
ガスの流量との和が該流量調節部の流量と一致するよう
に該廃棄ガス流量調節部を制御するようにしたことを特
徴とする窒素発生装置。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2000031671A JP2001219024A (ja) | 2000-02-09 | 2000-02-09 | 窒素発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2000031671A JP2001219024A (ja) | 2000-02-09 | 2000-02-09 | 窒素発生装置 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001219024A true JP2001219024A (ja) | 2001-08-14 |
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ID=18556401
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000031671A Pending JP2001219024A (ja) | 2000-02-09 | 2000-02-09 | 窒素発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JP2001219024A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2000
- 2000-02-09 JP JP2000031671A patent/JP2001219024A/ja active Pending
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