JP2001210904A - 複数レーザビームの発生装置 - Google Patents
複数レーザビームの発生装置Info
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- H05K3/0017—Etching of the substrate by chemical or physical means
- H05K3/0026—Etching of the substrate by chemical or physical means by laser ablation
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 複数の波長範囲を有するレーザビーム発生装
置の提供 【解決手段】複数レーザビーム発生装置において、 −初期ビームＦをＰ波長で放出するレーザ源１０と、 −初期ビームをＮ中間ビームＦＩに分割する波長分割ス
プリッター１２とを含み、ここにＮ≦Ｐとし、また各中
間ビームＦＩは少なくとも１つの波長からなる波長グル
ープを含み、また前記レーザビーム発生装置は、 −各中間ビームＦＩをｎｉ区分ビームＦＤに分割するた
めためのＮ’エネルギー・スプリッター組立体１４，１
６，．．．を含み、ここにＮ’≦Ｎとし、またｎｉ区分
ビームのそれぞれが実質的に同一エネルギーを有し、こ
れにより、下記の式によって Ｋ区分ビーム（ＦＤ）が得られることを特徴とする複数
のレーザビーム発生装置
置の提供 【解決手段】複数レーザビーム発生装置において、 −初期ビームＦをＰ波長で放出するレーザ源１０と、 −初期ビームをＮ中間ビームＦＩに分割する波長分割ス
プリッター１２とを含み、ここにＮ≦Ｐとし、また各中
間ビームＦＩは少なくとも１つの波長からなる波長グル
ープを含み、また前記レーザビーム発生装置は、 −各中間ビームＦＩをｎｉ区分ビームＦＤに分割するた
めためのＮ’エネルギー・スプリッター組立体１４，１
６，．．．を含み、ここにＮ’≦Ｎとし、またｎｉ区分
ビームのそれぞれが実質的に同一エネルギーを有し、こ
れにより、下記の式によって Ｋ区分ビーム（ＦＤ）が得られることを特徴とする複数
のレーザビーム発生装置
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、特に、しかし非排
他的に、レーザビームの衝撃に対して感受性のある面に
対してレーザビーム処理を加える装置において使用する
に適した複数レーザビーム発生装置に関するものであ
る。
他的に、レーザビームの衝撃に対して感受性のある面に
対してレーザビーム処理を加える装置において使用する
に適した複数レーザビーム発生装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術と発明が解決しようとする課題】プリント
配線の製造に際して、１つの段階は印刷配線の導電性層
をレジスト物質層の中に被覆し、印刷配線上に得られる
べき導電体トラックの形状を確定するように前記レジス
ト物質層をアート ワークを通して露出するにある。レ
ジスト層が露出された後に、次に除去されるべき導電性
層の部分に対応する非露出区域が除去される。
配線の製造に際して、１つの段階は印刷配線の導電性層
をレジスト物質層の中に被覆し、印刷配線上に得られる
べき導電体トラックの形状を確定するように前記レジス
ト物質層をアート ワークを通して露出するにある。レ
ジスト層が露出された後に、次に除去されるべき導電性
層の部分に対応する非露出区域が除去される。
【０００３】レジスト層が局所的にレーザビームの衝撃
によって刻印されるようにした他の印刷配線技術が一般
的になりつつある。一般的にレーザビーム衝撃は走査装
置の制御下にあり、この走査装置は回転式多角形ミラー
を含み、このミラーがレーザビームの制御された中断の
ための通常は音響光学式モジュレータによって構成され
るシャッタ装置と組合わされる。
によって刻印されるようにした他の印刷配線技術が一般
的になりつつある。一般的にレーザビーム衝撃は走査装
置の制御下にあり、この走査装置は回転式多角形ミラー
を含み、このミラーがレーザビームの制御された中断の
ための通常は音響光学式モジュレータによって構成され
るシャッタ装置と組合わされる。
【０００４】大寸法の印刷配線盤を精密に製造するため
に必要なレーザビーム衝撃の数はもちろんそれ自体非常
に大きいのであるから、印刷配線盤の表面を複数の区域
に分割し、各区域をそれぞれのレーザビームによって同
時的に走査して、パネル全体を露出するのに必要な時間
を著しく低減させうることが望ましい。
に必要なレーザビーム衝撃の数はもちろんそれ自体非常
に大きいのであるから、印刷配線盤の表面を複数の区域
に分割し、各区域をそれぞれのレーザビームによって同
時的に走査して、パネル全体を露出するのに必要な時間
を著しく低減させうることが望ましい。
【０００５】しかし、このような結果を達成できるに
は、各レーザビームのエネルギーがレジスト層を構成す
る物質の感度に対応する特定範囲内にあって、レーザ放
射線がすべての衝撃点においてレジスト状態を均一に変
更させうることが必要である。
は、各レーザビームのエネルギーがレジスト層を構成す
る物質の感度に対応する特定範囲内にあって、レーザ放
射線がすべての衝撃点においてレジスト状態を均一に変
更させうることが必要である。
【０００６】さらに音響光学モジュレータが広い波長範
囲を含む光ビームを制御する必要のある場合、これらの
モジュレータのコストが増大する。また音響光学モジュ
レータは一定のエネルギー範囲に対して適合させられ、
もしこのエネルギー範囲が超過されると、モジュレータ
の機能がより急速に老化する。
囲を含む光ビームを制御する必要のある場合、これらの
モジュレータのコストが増大する。また音響光学モジュ
レータは一定のエネルギー範囲に対して適合させられ、
もしこのエネルギー範囲が超過されると、モジュレータ
の機能がより急速に老化する。
【０００７】最後に波長範囲を狭めると共に変調効率が
増大する。
増大する。
【０００８】本発明の目的は、複数のレーザビームを発
生し、各レーザビームが制限された波長範囲を含みまた
各レーザビームが比較的制限された範囲内のエネルギー
を有するようにする装置を提供するにある。
生し、各レーザビームが制限された波長範囲を含みまた
各レーザビームが比較的制限された範囲内のエネルギー
を有するようにする装置を提供するにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明は複数レーザビーム発生装置において、 − 初期ビームをＰ波長で放出するレーザ源と、 − 初期ビームをＮ中間ビームに分割する波長分割スプ
リッターとを含み、ここにＮ≦Ｐとし、また各中間ビー
ム（ＦＩ）は少なくとも１つの波長からなる波長グルー
プを含み、また前記レーザビーム発生装置は、 − 各中間ビーム（ＦＩ）をｎｉ区分ビームに分割する
ためためのＮ’エネルギー・スプリッター組立体を含
み、ここにＮ’≦Ｎとし、またｎｉ区分ビームのそれぞ
れが実質的に同一エネルギーを有し、これにより、下記
の式によって
め、本発明は複数レーザビーム発生装置において、 − 初期ビームをＰ波長で放出するレーザ源と、 − 初期ビームをＮ中間ビームに分割する波長分割スプ
リッターとを含み、ここにＮ≦Ｐとし、また各中間ビー
ム（ＦＩ）は少なくとも１つの波長からなる波長グルー
プを含み、また前記レーザビーム発生装置は、 − 各中間ビーム（ＦＩ）をｎｉ区分ビームに分割する
ためためのＮ’エネルギー・スプリッター組立体を含
み、ここにＮ’≦Ｎとし、またｎｉ区分ビームのそれぞ
れが実質的に同一エネルギーを有し、これにより、下記
の式によって
【数１】 Ｋ区分ビーム（ＦＤ）が得られることを特徴とする複数
のレーザビーム発生装置を提供する。
のレーザビーム発生装置を提供する。
【００１０】ビーム源から放射されるレーザビームを複
数の中間ビームに分割する段階から始めることにより、
スプリッターの出力において非常によく確定されて重な
り合いのない複数の波長範囲を占めるビームの得られる
ことが理解されよう。また、中間ビームの少なくとも一
部のエネルギーを分割する第２段階において最終的に得
られる区分ビームは、よく確定された波長範囲を占めま
た容易に確定することのできるエネルギーを有すること
が理解されよう。
数の中間ビームに分割する段階から始めることにより、
スプリッターの出力において非常によく確定されて重な
り合いのない複数の波長範囲を占めるビームの得られる
ことが理解されよう。また、中間ビームの少なくとも一
部のエネルギーを分割する第２段階において最終的に得
られる区分ビームは、よく確定された波長範囲を占めま
た容易に確定することのできるエネルギーを有すること
が理解されよう。
【００１１】好ましくは波長スプリッター組立体は、 − 前記初期ビームをそれぞれ１つの波長に対応するＰ
単位ビーム（ＦＵ）に分割する装置と、 − 前記Ｐ単位ビームの一部を与えられた波長グループ
に集合させるＮ手段とを含み、ここに１つのグループの
波長が他のグループの波長と相互に切離され、このよう
にしてＮ中間ビーム（ＦＩ）が得られる。
単位ビーム（ＦＵ）に分割する装置と、 − 前記Ｐ単位ビームの一部を与えられた波長グループ
に集合させるＮ手段とを含み、ここに１つのグループの
波長が他のグループの波長と相互に切離され、このよう
にしてＮ中間ビーム（ＦＩ）が得られる。
【００１２】単色レーザビームを部分的に再組合わせす
るこの段階により、同一グループに属する単色ビームが
再共線形化される。これを例えば音響光学モジュレータ
によって、または一般的に単色ビームと実質的に同一精
度を有する光学システムによって処理することができ
る。
るこの段階により、同一グループに属する単色ビームが
再共線形化される。これを例えば音響光学モジュレータ
によって、または一般的に単色ビームと実質的に同一精
度を有する光学システムによって処理することができ
る。
【００１３】本発明の他の目的は、特に印刷配線の導電
性軌道を得るためまたは直接に金属層を処理するため、
印刷配線の金属層上に形成されたレジスト層の処理に使
用されるレーザビーム感性面処理プラントを提供するに
ある。
性軌道を得るためまたは直接に金属層を処理するため、
印刷配線の金属層上に形成されたレジスト層の処理に使
用されるレーザビーム感性面処理プラントを提供するに
ある。
【００１４】この処理プラントは、 − 前記の型のＫ区分レーザビーム発生装置と、 − それぞれ区分ビームを受け、その受ける区分ビーム
の波長グループに適合させられまたそのエネルギーに適
合させられるＫ音響光学モジュレータと、 − 各変調されたレーザビームが前記面の一部を走査す
るように各変調レーザビームを片寄らせるデフレクター
手段とを含む。
の波長グループに適合させられまたそのエネルギーに適
合させられるＫ音響光学モジュレータと、 − 各変調されたレーザビームが前記面の一部を走査す
るように各変調レーザビームを片寄らせるデフレクター
手段とを含む。
【００１５】以下、本発明を図面に示す実施例について
詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限
定されるものではない。
詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限
定されるものではない。
【００１６】
【発明の実施の形態】まず最初に図１についてレーザビ
ーム発生器全体を説明する。この装置はビームＦを発生
するレーザ源１０を含む。このビームＦは波長ごとにレ
ーザビームを分割するスプリッター１２に入る。スプリ
ッター１２はその出力において中間レーザビームＦＩ
１、ＦＩ２、およびＦＩ３を出力する。もちろん初期レ
ーザビームＦの性質に対応して、前記以外の数の中間レ
ーザビームが存在することができる。中間ビームの一
部、例えば図示の実施例においてはビームＦＩ１および
ＦＩ２がそれぞれビームスプリッター１４，１６の導入
口に加えられてエネルギーを分割する。図示の実施例に
おいて、スプリッター１４は３区分ビームＦＤ１，１、
ＦＤ１，２およびＦＤ１，３を発生する。これらの各区
分ビームは中間ビームＦＩ１の中に含まれれたエネルギ
ーのそれぞれ１／３を有する。ビームスプリッター１６
はその出力において２つの区分ビームＦＤ２，１とＦＤ
２，２とを生じ、これらの各区分ビームがビームＦＩ２
の中に含まれた出力の半分を含む。ビームＦＩ３は分割
されることなく、直接にに区分ビームＦＤ３を成す。
ーム発生器全体を説明する。この装置はビームＦを発生
するレーザ源１０を含む。このビームＦは波長ごとにレ
ーザビームを分割するスプリッター１２に入る。スプリ
ッター１２はその出力において中間レーザビームＦＩ
１、ＦＩ２、およびＦＩ３を出力する。もちろん初期レ
ーザビームＦの性質に対応して、前記以外の数の中間レ
ーザビームが存在することができる。中間ビームの一
部、例えば図示の実施例においてはビームＦＩ１および
ＦＩ２がそれぞれビームスプリッター１４，１６の導入
口に加えられてエネルギーを分割する。図示の実施例に
おいて、スプリッター１４は３区分ビームＦＤ１，１、
ＦＤ１，２およびＦＤ１，３を発生する。これらの各区
分ビームは中間ビームＦＩ１の中に含まれれたエネルギ
ーのそれぞれ１／３を有する。ビームスプリッター１６
はその出力において２つの区分ビームＦＤ２，１とＦＤ
２，２とを生じ、これらの各区分ビームがビームＦＩ２
の中に含まれた出力の半分を含む。ビームＦＩ３は分割
されることなく、直接にに区分ビームＦＤ３を成す。
【００１７】共通の初期レーザビームから分割されたレ
ーザビームを発生するためのこの装置を使用する際に、
それぞれの波長グループを適当に選択し、また初期ビー
ムの各波長の中に含まれるエネルギーの関数として中間
ビームをエネルギー分割することによって、波長スプリ
ッター１２により確定される比較的狭い波長範囲の波長
を含みまたそれぞれ比較的狭いエネルギー範囲内のエネ
ルギーを有する出力区分ビームの得られることが理解さ
れよう。
ーザビームを発生するためのこの装置を使用する際に、
それぞれの波長グループを適当に選択し、また初期ビー
ムの各波長の中に含まれるエネルギーの関数として中間
ビームをエネルギー分割することによって、波長スプリ
ッター１２により確定される比較的狭い波長範囲の波長
を含みまたそれぞれ比較的狭いエネルギー範囲内のエネ
ルギーを有する出力区分ビームの得られることが理解さ
れよう。
【００１８】本発明の好ましい実施態様において、レー
ザ源１０はイオン化アルゴン型レーザであって、この場
合、このレーザは３３３．６ナノメートル（ｎｍ）乃至
３６３．８ｎｍの波長で作動し、前記波長において連続
的に７ワットのエネルギーを放出する。
ザ源１０はイオン化アルゴン型レーザであって、この場
合、このレーザは３３３．６ナノメートル（ｎｍ）乃至
３６３．８ｎｍの波長で作動し、前記波長において連続
的に７ワットのエネルギーを放出する。
【００１９】区分ビームの波長とエネルギーはレジスト
層を成す物質に対応する。
層を成す物質に対応する。
【００２０】さらに詳しくは、放射される波長とそのそ
れぞれのエネルギーは下記の表に示される。
れぞれのエネルギーは下記の表に示される。
【００２１】
【表１】 図２はビームの波長分割用スプリッターの好ましい実施
態様を示す。このスプリッター１２はビームスプリッタ
ー２０そのものによって構成され、このビームスプリッ
ター２０は例えば２つのプリズムからなり、このスプリ
ッター２０は初期ビームＦの含む波長と同数の単位ビー
ムＦＵをその出力から発生する。これらの単位ビームＦ
Ｕは２２，２４などの結合装置によってグループを成し
て結合され、これらの結合装置の出力において中間ビー
ムＦＩを得る。前記のレーザに対応する特定の実施例に
おいて、波長３３３．６ｎｍ、３３４．４ｎｍおよび３
３５．８ｎｍにそれぞれ対応する最初の３周波数が結合
装置２２の中で相互に結合される。波長３５１．１ｎｍ
および３５１．４ｎｍが結合装置１４の中で結合され
る。
態様を示す。このスプリッター１２はビームスプリッタ
ー２０そのものによって構成され、このビームスプリッ
ター２０は例えば２つのプリズムからなり、このスプリ
ッター２０は初期ビームＦの含む波長と同数の単位ビー
ムＦＵをその出力から発生する。これらの単位ビームＦ
Ｕは２２，２４などの結合装置によってグループを成し
て結合され、これらの結合装置の出力において中間ビー
ムＦＩを得る。前記のレーザに対応する特定の実施例に
おいて、波長３３３．６ｎｍ、３３４．４ｎｍおよび３
３５．８ｎｍにそれぞれ対応する最初の３周波数が結合
装置２２の中で相互に結合される。波長３５１．１ｎｍ
および３５１．４ｎｍが結合装置１４の中で結合され
る。
【００２２】この実施例において、中間ビームＦＩ１は
３ワットのエネルギーをを有し、ビームＦＩ２は２．１
ワットのエネルギーを有し、またビームＦＩ３は１．８
８ワットのエネルギーを有する。この実施例において最
終区分ビームＦＤ１．１乃至ＦＤ３は１．１ワット乃至
１．８８ワットの範囲内のエネルギーを有する。このエ
ネルギー範囲は所期の用途について十分に狭い。
３ワットのエネルギーをを有し、ビームＦＩ２は２．１
ワットのエネルギーを有し、またビームＦＩ３は１．８
８ワットのエネルギーを有する。この実施例において最
終区分ビームＦＤ１．１乃至ＦＤ３は１．１ワット乃至
１．８８ワットの範囲内のエネルギーを有する。このエ
ネルギー範囲は所期の用途について十分に狭い。
【００２３】図４はエネルギー・スプリッター１４の実
施態様を示す。先行技術のように、このエネルギー・ス
プリッター１４は半反射板３０を含み、この半反射板は
ビームＦＩ１を受けて、この中間ビームのエネルギーの
１／３を含む区分ビームＦＤ１．１を出力し、またこの
半反射板３０はエネルギーの６６％を含む補足的ビーム
ＦＣを透過させる。第２半反射板３２がビームＦＣを第
２区分ビームＦＤ１，２と第３区分ビームＦＤ１，３と
に分割し、これらの両方の区分ビームは同一のエネルギ
ーを有する。この第３区分ビームはミラー３４によって
前記の２区分ビームに対して平行に反射される。
施態様を示す。先行技術のように、このエネルギー・ス
プリッター１４は半反射板３０を含み、この半反射板は
ビームＦＩ１を受けて、この中間ビームのエネルギーの
１／３を含む区分ビームＦＤ１．１を出力し、またこの
半反射板３０はエネルギーの６６％を含む補足的ビーム
ＦＣを透過させる。第２半反射板３２がビームＦＣを第
２区分ビームＦＤ１，２と第３区分ビームＦＤ１，３と
に分割し、これらの両方の区分ビームは同一のエネルギ
ーを有する。この第３区分ビームはミラー３４によって
前記の２区分ビームに対して平行に反射される。
【００２４】図３において、印刷配線の１製造段階を実
行するために使用されるレーザビーム発生器の一例を簡
単に図示する。この図において、区分ビームＦＤ１，１
乃至ＦＤ３を発生する図１のスプリッター回路が４０で
示されている。またこの図において、印刷配線４４の絶
縁バッキング４２を簡略に図示する。同様に簡単に、レ
ジスト層４８によって被覆された導電性物質層４６、例
えば銅層が図示され、このレジスト４８の状態がレーザ
ビームの衝撃によって変更される。この実施例において
印刷配線処理プラントは６音響光学モジュレータ５０を
有し、各音響光学モジュレータ５０がそれぞれ１つの区
分ビームＦＤを受ける。これらの音響光学モジュレータ
５０はメモリ５４と組合わされた制御ユニット５２によ
って透過状態または非透過状態をとるように制御され
る。モジュレータ５０から出た被変調ビームＦＭは回転
式多角形ミラー５６に向けて送られ、これらのミラー５
６は図３の面に対して垂直な方向に、すなわち付図にお
いてＸ方向に、１つのレーザビームに関連する区域に対
応する長さにわたって、レジスト層４８を走査させる。
ミラー５６によって屈折された光ビームが収束システム
５８を通り、またこの収束システム５８は光ビームが印
刷配線に対して垂直方向に伝搬するように光ビームを整
流する。またこの図３は印刷配線板をＹ方向に移動させ
るための手段６０を示す。
行するために使用されるレーザビーム発生器の一例を簡
単に図示する。この図において、区分ビームＦＤ１，１
乃至ＦＤ３を発生する図１のスプリッター回路が４０で
示されている。またこの図において、印刷配線４４の絶
縁バッキング４２を簡略に図示する。同様に簡単に、レ
ジスト層４８によって被覆された導電性物質層４６、例
えば銅層が図示され、このレジスト４８の状態がレーザ
ビームの衝撃によって変更される。この実施例において
印刷配線処理プラントは６音響光学モジュレータ５０を
有し、各音響光学モジュレータ５０がそれぞれ１つの区
分ビームＦＤを受ける。これらの音響光学モジュレータ
５０はメモリ５４と組合わされた制御ユニット５２によ
って透過状態または非透過状態をとるように制御され
る。モジュレータ５０から出た被変調ビームＦＭは回転
式多角形ミラー５６に向けて送られ、これらのミラー５
６は図３の面に対して垂直な方向に、すなわち付図にお
いてＸ方向に、１つのレーザビームに関連する区域に対
応する長さにわたって、レジスト層４８を走査させる。
ミラー５６によって屈折された光ビームが収束システム
５８を通り、またこの収束システム５８は光ビームが印
刷配線に対して垂直方向に伝搬するように光ビームを整
流する。またこの図３は印刷配線板をＹ方向に移動させ
るための手段６０を示す。
【００２５】もちろんこのレーザビーム・スプリッター
は、レジスト層の直接的穴あけにレーザ・ビームが使用
される印刷配線板の製造用プラントにおいて使用するこ
とができよう。実際上のこの印刷配線板製造プラントは
レジスト層が存在せずレーザビームが直接に導電性層、
例えば銅層に穴あけするために使用される型とすること
ができよう。
は、レジスト層の直接的穴あけにレーザ・ビームが使用
される印刷配線板の製造用プラントにおいて使用するこ
とができよう。実際上のこの印刷配線板製造プラントは
レジスト層が存在せずレーザビームが直接に導電性層、
例えば銅層に穴あけするために使用される型とすること
ができよう。
【図１】レーザビーム発生装置の全体概略図
【図２】本発明の改良実施態様による図１の装置の一部
を示す概略図
を示す概略図
【図３】印刷配線の製造のために本発明のレーザビーム
発生装置を適用するプラントの概念図
発生装置を適用するプラントの概念図
【図４】ビームをエネルギー分割するためのスプリッタ
ーの実施態様を示す概念図
ーの実施態様を示す概念図
１０ レーザ源 １２ 波長スプリッター １４，１６ エネルギー・スプリッター ２０ 波長スプリッター ２２，２４ 単位ビームＦＵの結合装置 ３０、３２，３４ 半透過ミラー ４０ 図１のスプリッター回路 ４２ 絶縁バッキング ４４ 印刷配線 ４６ 銅層 ４８ レジスト ５０ モジュレータ ５２ 制御装置 ５４ メモリ ５６ ミラー ５８ 収束装置 ６０ 印刷配線板をＹ方向に移動させる手段 Ｆ ビーム ＦＩ 中間ビーム ＦＵ 単位ビーム ＦＤ 区分ビーム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０４Ｎ 1/113 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４Ｚ
Claims (7)
- 【請求項１】複数レーザビーム発生装置において、 − 初期ビームをＰ波長で放出するレーザ源と、 − 初期ビームをＮ中間ビームに分割する波長分割スプ
リッターとを含み、ここにＮ≦Ｐとし、また各中間ビー
ム（ＦＩ）は少なくとも１つの波長からなる波長グルー
プを含み、また前記レーザビーム発生装置は、 − 各中間ビーム（ＦＩ）をｎｉ区分ビームに分割する
ためためのＮ’エネルギー・スプリッター組立体を含
み、ここにＮ’≦Ｎとし、またｎｉ区分ビームのそれぞ
れが実質的に同一エネルギーを有し、これにより、下記
の式によって 【数１】 Ｋ区分ビーム（ＦＤ）が得られることを特徴とする複数
のレーザビーム発生装置。 - 【請求項２】前記波長スプリッター組立体は、 − 前記初期ビームをそれぞれ１つの波長に対応するＰ
単位ビーム（ＦＵ）に分割する装置と、 − 前記Ｐ単位ビームの一部を与えられた波長グループ
に集合させるＮ手段とを含み、ここに１つのグループの
波長が他のグループの波長と相互に切離され、このよう
にしてＮ中間ビーム（ＦＩ）が得られることを特徴とす
る請求項１に記載の装置。 - 【請求項３】前記レーザ源は、３３３．６ｎｍ乃至３６
３．８ｎｍの波長で放射し７ワットのエネルギーを出す
イオン化アルゴン型であることを特徴とする請求項１ま
たは２のいずれかに記載の装置。 - 【請求項４】Ｐは６に等しく、Ｎは３に等しく、また
Ｎ’は２に等しいことを特徴とする請求項３に記載の装
置。 - 【請求項５】ｎ１は３に等しく、またｎ２は２に等しい
ことを特徴とする請求項４に記載の装置。 - 【請求項６】− 第１波長範囲が３３３ｎｍ乃至３３５
ｎｍであり、 − 第２波長範囲が３５３．１ｎｍと３５１．４ｎｍの
波長を含み、 − 第３波長範囲が３６３．８ｎｍの波長を含むことを
特徴とする請求項５に記載の装置。 - 【請求項７】レーザビームに対して感性を有する面の処
理プラントを製造するため請求項１乃至６のいずれかに
記載の複数レーザビーム発生装置を適用する際に、前記
プラントは、 − 請求項１乃至請求項６のいずれかに記載のＫ区分レ
ーザビーム発生装置と、 − それぞれ区分ビームを受け、その受ける区分ビーム
の波長グループに適合させられまたそのエネルギーに適
合させられるＫ音響光学モジュレータと、 − 各変調されたレーザビームが前記面の一部を走査す
るように各変調レーザビームを片寄らせるデフレクター
手段とを含むことを特徴とするプラント。
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| FR9913656 | 1999-11-02 |
Publications (1)
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|---|---|
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ID=9551591
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