JP2001208998A - レーザ描画装置 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】複数の波長からなるレーザ光を複数の走査光学
系で走査することにより広い範囲に亘って描画できるレ
ーザ描画装置を、提供する。 【解決手段】レーザ描画装置１は、第１の波長３５１．
１ｎｍと第２の波長３６３．８ｎｍとからなる光束を射
出するアルゴンレーザ光源１００と，この光束を各波長
毎に分離するダイクロイックミラー１１０と，分離され
る光束に応じて設けられた第１，第２変調光学系１２
０，１７０と，変調された各光束を基板５００上の被描
画領域Ｓ１，Ｓ２に走査して結像させる回転多面鏡１４
１，１９１及びｆθレンズ１４２，１９２とを、主要構
成とする。２波長からなる光束をダイクロイックミラー
１１０で波長毎に分離して各光束毎に変調及び走査光学
系を夫々割り振ることにより、色収差を発生させること
がない。また、両走査光学系を主走査方向に沿って縦列
に並べているので、より広い範囲を一度に同時に露光で
きる。
系で走査することにより広い範囲に亘って描画できるレ
ーザ描画装置を、提供する。 【解決手段】レーザ描画装置１は、第１の波長３５１．
１ｎｍと第２の波長３６３．８ｎｍとからなる光束を射
出するアルゴンレーザ光源１００と，この光束を各波長
毎に分離するダイクロイックミラー１１０と，分離され
る光束に応じて設けられた第１，第２変調光学系１２
０，１７０と，変調された各光束を基板５００上の被描
画領域Ｓ１，Ｓ２に走査して結像させる回転多面鏡１４
１，１９１及びｆθレンズ１４２，１９２とを、主要構
成とする。２波長からなる光束をダイクロイックミラー
１１０で波長毎に分離して各光束毎に変調及び走査光学
系を夫々割り振ることにより、色収差を発生させること
がない。また、両走査光学系を主走査方向に沿って縦列
に並べているので、より広い範囲を一度に同時に露光で
きる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光源から発
せられる複数波長からなるレーザ光を偏向走査して被描
画体上に描画パターンを照射するレーザ描画装置に、関
する。
せられる複数波長からなるレーザ光を偏向走査して被描
画体上に描画パターンを照射するレーザ描画装置に、関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、プリント基板や半導体素子を
製造する際に、配線等の描画パターンを被描画体である
基板上に直接記録するために、例えばダイレクトイメー
ジャーやレーザフォトプロッタ等のレーザ描画装置が、
使用されている。これらのレーザ描画装置は、その光源
部から発せられるレーザ光を変調器で変調して回転多面
鏡で偏向走査することにより、感光材料が付着された基
板の描画面に、直接描画パターンを描く。また、このよ
うにレーザ光が描画面を直接露光するので、レーザ描画
装置には、高出力で連続発振する気体レーザ（例えば、
アルゴンレーザ）が、光源として用いられる。
製造する際に、配線等の描画パターンを被描画体である
基板上に直接記録するために、例えばダイレクトイメー
ジャーやレーザフォトプロッタ等のレーザ描画装置が、
使用されている。これらのレーザ描画装置は、その光源
部から発せられるレーザ光を変調器で変調して回転多面
鏡で偏向走査することにより、感光材料が付着された基
板の描画面に、直接描画パターンを描く。また、このよ
うにレーザ光が描画面を直接露光するので、レーザ描画
装置には、高出力で連続発振する気体レーザ（例えば、
アルゴンレーザ）が、光源として用いられる。
【０００３】さらに従来では、より多くの露光量を得る
目的で、複数の波長からなるレーザ光を射出するレーザ
光源をレーザ描画装置に採用する場合がある。但し、レ
ーザ描画装置の走査光学系が色収差を持っている場合、
このような光源を採用してしまうと、基板の描画面で形
成されるべきスポット光が、波長毎に異なる位置に露光
されてしまう。このため、このような光源を採用したレ
ーザ描画装置の走査光学系では、色収差を補正した光学
構成が、採用されていた。
目的で、複数の波長からなるレーザ光を射出するレーザ
光源をレーザ描画装置に採用する場合がある。但し、レ
ーザ描画装置の走査光学系が色収差を持っている場合、
このような光源を採用してしまうと、基板の描画面で形
成されるべきスポット光が、波長毎に異なる位置に露光
されてしまう。このため、このような光源を採用したレ
ーザ描画装置の走査光学系では、色収差を補正した光学
構成が、採用されていた。
【０００４】一方、最近では、基板上の広い範囲に亘っ
て一度に描画パターンを走査することにより、描画速度
をより高速にしたいという要望がある。例えば、本願出
願人が先に出願した特開平１０−１４２５３８号の「マ
ルチヘッド走査光学系を持つレーザ描画装置」がある。
このレーザ描画装置では、２つの走査光学系を備えると
ともにそれら各走査光学系を主走査方向に沿って縦列に
並べ、レーザ光源から発した単波長のレーザ光を変調器
で変調し、この変調光を２つの走査光学系に連続的に交
互に振り分けて偏向することによって、より広い範囲の
描画領域に描画パターンを露光している。
て一度に描画パターンを走査することにより、描画速度
をより高速にしたいという要望がある。例えば、本願出
願人が先に出願した特開平１０−１４２５３８号の「マ
ルチヘッド走査光学系を持つレーザ描画装置」がある。
このレーザ描画装置では、２つの走査光学系を備えると
ともにそれら各走査光学系を主走査方向に沿って縦列に
並べ、レーザ光源から発した単波長のレーザ光を変調器
で変調し、この変調光を２つの走査光学系に連続的に交
互に振り分けて偏向することによって、より広い範囲の
描画領域に描画パターンを露光している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような２つの走査光学系を備えて広範囲に走査できるよ
うに構成したレーザ描画装置に、複数の波長からなるレ
ーザ光を発振する光源を採用すると、各走査光学系毎に
色収差の補正をしなければならないために、走査光学系
の構成が全体的にかなり複雑になり、高額なものとなっ
てしまう。
ような２つの走査光学系を備えて広範囲に走査できるよ
うに構成したレーザ描画装置に、複数の波長からなるレ
ーザ光を発振する光源を採用すると、各走査光学系毎に
色収差の補正をしなければならないために、走査光学系
の構成が全体的にかなり複雑になり、高額なものとなっ
てしまう。
【０００６】そこで、本発明の課題は、複数の波長から
なるレーザ光を発振するレーザ光源を採用し、且つ主走
査方向に沿って縦列に並べられた複数の走査光学系を備
えた構成としながらも、光学系が複雑にならないレーザ
描画装置を、提供することにある。
なるレーザ光を発振するレーザ光源を採用し、且つ主走
査方向に沿って縦列に並べられた複数の走査光学系を備
えた構成としながらも、光学系が複雑にならないレーザ
描画装置を、提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の課題を達成するた
めに構成された本発明は、複数の発振波長からなる光束
を発するレーザ光源と、前記レーザ光源から発された前
記光束を前記発振波長に応じて波長毎に分離する波長分
離光学系と、前記波長分離光学系により波長毎に分離さ
れた夫々の光束に対応して設けられ、前記各光束を夫々
変調する変調器を備える複数の変調光学系と、前記各変
調光学系により変調された前記各光束を、被描画体の描
画面における異なる領域に走査する複数の走査光学系と
を備えたことを、特徴とする。
めに構成された本発明は、複数の発振波長からなる光束
を発するレーザ光源と、前記レーザ光源から発された前
記光束を前記発振波長に応じて波長毎に分離する波長分
離光学系と、前記波長分離光学系により波長毎に分離さ
れた夫々の光束に対応して設けられ、前記各光束を夫々
変調する変調器を備える複数の変調光学系と、前記各変
調光学系により変調された前記各光束を、被描画体の描
画面における異なる領域に走査する複数の走査光学系と
を備えたことを、特徴とする。
【０００８】このように構成されると、波長分離光学系
で波長毎に分離された各光束が、各波長毎に設けられる
一組の変調光学系及び走査光学系によって単波長の光束
として変調されて偏向走査される。
で波長毎に分離された各光束が、各波長毎に設けられる
一組の変調光学系及び走査光学系によって単波長の光束
として変調されて偏向走査される。
【０００９】従って、複数の波長からなる光束を一組の
変調光学系及び走査光学系に入射させる場合に比べる
と、本発明による変調光学系及び走査光学系は、色収差
を補正した光学構成を採用しなくても良くなる。また、
複数の走査光学系を備えることができるので、より広い
描画領域を走査することができる。さらに、複数の走査
光学系で同時に走査することができるので、回転多面鏡
の回転速度を上げることなく描画速度をより高速にする
ことができる。
変調光学系及び走査光学系に入射させる場合に比べる
と、本発明による変調光学系及び走査光学系は、色収差
を補正した光学構成を採用しなくても良くなる。また、
複数の走査光学系を備えることができるので、より広い
描画領域を走査することができる。さらに、複数の走査
光学系で同時に走査することができるので、回転多面鏡
の回転速度を上げることなく描画速度をより高速にする
ことができる。
【００１０】また、本発明によるレーザ描画装置では、
各波長の光束の光量をより多く得るために、同じ波長成
分からなる光束を発するレーザ光源を２基以上備えても
良い。この場合、増設されるレーザ光源と同じ数だけの
波長分離光学系を備えて各レーザ光源から発せられる光
束を波長毎に分離するとともに、各レーザ光源から発せ
られる同じ波長の光束同士を合成光学系にて合成して一
つの走査光学系にて偏向走査する。
各波長の光束の光量をより多く得るために、同じ波長成
分からなる光束を発するレーザ光源を２基以上備えても
良い。この場合、増設されるレーザ光源と同じ数だけの
波長分離光学系を備えて各レーザ光源から発せられる光
束を波長毎に分離するとともに、各レーザ光源から発せ
られる同じ波長の光束同士を合成光学系にて合成して一
つの走査光学系にて偏向走査する。
【００１１】変調器としては、結晶中を伝搬する超音波
をオン／オフすることにより回折を利用して光の方向を
切り替え、回折光を変調光として取り出す音響光学変調
器を、用いることができる。また、変調光学系には、レ
ーザ光源より発せられる光束を複数本に分岐して射出す
る分岐素子を、用いることができる。この場合、変調器
は、マルチチャンネル音響光学変調器であることを要す
るが、上記の音響光学変調器を複数備えて利用しても良
いし、その他の変調器であっても良い。
をオン／オフすることにより回折を利用して光の方向を
切り替え、回折光を変調光として取り出す音響光学変調
器を、用いることができる。また、変調光学系には、レ
ーザ光源より発せられる光束を複数本に分岐して射出す
る分岐素子を、用いることができる。この場合、変調器
は、マルチチャンネル音響光学変調器であることを要す
るが、上記の音響光学変調器を複数備えて利用しても良
いし、その他の変調器であっても良い。
【００１２】各変調光学系の分岐素子で分岐された各光
束は、合成光学系において交互に配列するように合成さ
れることが望ましい。また、分岐素子としては、光束を
回折することにより複数本に分岐して夫々異なる角度で
射出する回折分岐素子を用いても良い。
束は、合成光学系において交互に配列するように合成さ
れることが望ましい。また、分岐素子としては、光束を
回折することにより複数本に分岐して夫々異なる角度で
射出する回折分岐素子を用いても良い。
【００１３】合成光学系では、偏光を用いることにより
２つの単波長の光束を合成することができる。即ち、合
成光学系に偏光ビームコンバイナを設け、一方の変調光
学系からの光束をＳ偏光、他方の変調光学系からの光束
をＰ偏光として入射させることにより、偏光を利用した
光束の合成が可能となる。
２つの単波長の光束を合成することができる。即ち、合
成光学系に偏光ビームコンバイナを設け、一方の変調光
学系からの光束をＳ偏光、他方の変調光学系からの光束
をＰ偏光として入射させることにより、偏光を利用した
光束の合成が可能となる。
【００１４】波長分離光学系は、光源からのレーザ光を
２つの波長成分に分離することができる。例えば、波長
分離光学系は、一方の波長成分の光束を反射させるとと
もに他方の波長成分の光束を透過させるダイクロイック
ミラーでも良いし、入射光を色分散させて各波長成分の
光束に分離する回折素子でも良いし、プリズムでも良
い。
２つの波長成分に分離することができる。例えば、波長
分離光学系は、一方の波長成分の光束を反射させるとと
もに他方の波長成分の光束を透過させるダイクロイック
ミラーでも良いし、入射光を色分散させて各波長成分の
光束に分離する回折素子でも良いし、プリズムでも良
い。
【００１５】レーザ光源は、アルゴンレーザであっても
良いし、その他のレーザ光源でも良い。これらレーザ光
源が発する複数の発振波長の中から、互いに近い波長に
あるとともに同程度の出力を有する複数の発振波長の光
束を利用することが望ましい。各波長成分からなる光束
が互いに近い波長にあると、ほぼ同じ構成の光学系を使
用することができ、互いに同程度の出力を有している
と、被描画体の描画面に同程度の光量で露光することが
できる。
良いし、その他のレーザ光源でも良い。これらレーザ光
源が発する複数の発振波長の中から、互いに近い波長に
あるとともに同程度の出力を有する複数の発振波長の光
束を利用することが望ましい。各波長成分からなる光束
が互いに近い波長にあると、ほぼ同じ構成の光学系を使
用することができ、互いに同程度の出力を有している
と、被描画体の描画面に同程度の光量で露光することが
できる。
【００１６】アルゴンレーザをレーザ光源とした場合、
レーザ光源において使用する複数の発振波長は、３５
１．１ｎｍと３６３．８ｎｍでも良いし、或いは、例え
ば４８８．０ｎｍと５１４．５ｎｍとの組み合わせであ
っても良い。また、被描画体の描画面には、これらの波
長の光束で感光する感光材料を設けることが必要であ
る。前者の波長の組み合わせからなる光束の場合は、紫
外域の光束で感光する感光材料を使用し、後者の組み合
わせからなる光束の場合は、可視域の光束で感光する感
光材料を使用することを要す。被描画体である基板等に
設ける感光材料としては、例えば、基板等に貼り付けて
使用するフォトマスク用の感光フィルムや基板等の表面
に形成されるフォトレジスト層などが考えられる。
レーザ光源において使用する複数の発振波長は、３５
１．１ｎｍと３６３．８ｎｍでも良いし、或いは、例え
ば４８８．０ｎｍと５１４．５ｎｍとの組み合わせであ
っても良い。また、被描画体の描画面には、これらの波
長の光束で感光する感光材料を設けることが必要であ
る。前者の波長の組み合わせからなる光束の場合は、紫
外域の光束で感光する感光材料を使用し、後者の組み合
わせからなる光束の場合は、可視域の光束で感光する感
光材料を使用することを要す。被描画体である基板等に
設ける感光材料としては、例えば、基板等に貼り付けて
使用するフォトマスク用の感光フィルムや基板等の表面
に形成されるフォトレジスト層などが考えられる。
【００１７】さらに、アルゴンレーザにおける３５１．
１ｎｍの発振波長の近傍には、３５１．３ｎｍの発振波
長が存在するので、両者を含む波長域からなる光束と、
３６３．８ｎｍの発振波長からなる光束とをレーザ光源
から射出しても良い。
１ｎｍの発振波長の近傍には、３５１．３ｎｍの発振波
長が存在するので、両者を含む波長域からなる光束と、
３６３．８ｎｍの発振波長からなる光束とをレーザ光源
から射出しても良い。
【００１８】勿論、２つの発振波長だけでなく、３つ以
上の発振波長を使用しても良い。この場合、波長の数に
応じて走査光学系を備える必要があり、成分波長の数に
レーザ光源の基数を乗じた数だけ変調光学系を備える必
要がある。
上の発振波長を使用しても良い。この場合、波長の数に
応じて走査光学系を備える必要があり、成分波長の数に
レーザ光源の基数を乗じた数だけ変調光学系を備える必
要がある。
【００１９】走査光学系は、合成光学系により合成され
た複数の光束を偏向させる偏向器と、偏向器により偏向
された光束を描画面上に結像させる結像光学系とを備え
ることができる。偏向器は、回転多面鏡を使用すること
ができ、この回転多面鏡による面倒れの補正をしても良
い。面倒れ補正には、ピエゾ素子により傾きが調整可能
なミラーを用いることができるが、その他の方法を用い
ても良い。
た複数の光束を偏向させる偏向器と、偏向器により偏向
された光束を描画面上に結像させる結像光学系とを備え
ることができる。偏向器は、回転多面鏡を使用すること
ができ、この回転多面鏡による面倒れの補正をしても良
い。面倒れ補正には、ピエゾ素子により傾きが調整可能
なミラーを用いることができるが、その他の方法を用い
ても良い。
【００２０】また、走査光学系を主走査方向に沿って縦
列に並べることにより被描画体の描画面における被描画
領域を分割しても良いし、走査光学系を副走査方向に沿
って並列に並べることにより、副走査方向において一度
に形成できる走査線の本数を増やすことも可能である。
列に並べることにより被描画体の描画面における被描画
領域を分割しても良いし、走査光学系を副走査方向に沿
って並列に並べることにより、副走査方向において一度
に形成できる走査線の本数を増やすことも可能である。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係るレーザ描画装
置の実施形態について図面を参照しながら説明する。
置の実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００２２】
【実施形態１】図１は、本発明の実施形態によるレーザ
描画装置１の概略光学構成を示す斜視図である。
描画装置１の概略光学構成を示す斜視図である。
【００２３】本実施形態のレーザ描画装置１は、複数の
波長からなる光束を発振するアルゴンレーザ光源（以
下、Ａｒレーザ光源という）１００と，このＡｒレーザ
光源１００からの光束を波長に応じて反射又は透過する
ダイクロイックミラー１１０と，このダイクロイックミ
ラー１１０で分離される光束に応じて設けられた第１，
第２変調光学系１２０，１７０と，各変調光学系１２
０，１７０によって変調された各光束を偏向する回転多
面鏡１４１，１９１と，各回転多面鏡１４１，１９１に
より偏向された光束を基板５００上の描画面の被描画領
域Ｓ１，Ｓ２に結像させるｆθレンズ１４２，１９２と
を、主要な構成としている。
波長からなる光束を発振するアルゴンレーザ光源（以
下、Ａｒレーザ光源という）１００と，このＡｒレーザ
光源１００からの光束を波長に応じて反射又は透過する
ダイクロイックミラー１１０と，このダイクロイックミ
ラー１１０で分離される光束に応じて設けられた第１，
第２変調光学系１２０，１７０と，各変調光学系１２
０，１７０によって変調された各光束を偏向する回転多
面鏡１４１，１９１と，各回転多面鏡１４１，１９１に
より偏向された光束を基板５００上の描画面の被描画領
域Ｓ１，Ｓ２に結像させるｆθレンズ１４２，１９２と
を、主要な構成としている。
【００２４】ここで、各ｆθレンズ１４２，１９２は、
各レンズ１４２，１９２の光軸が両回転多面鏡１４１，
１９１の回転軸に直交する平面（図示せず）内に含まれ
るように、配置されており、本例では、以下、この図示
せぬ平面内において両ｆθレンズ１４２，１９２の光軸
と直交する方向を「主走査方向」とし、この図示せぬ平
面に垂直な方向を「副走査方向」とする。但し、各ｆθ
レンズ１４２，１９２の光軸は、ミラー１４３，１９３
により基板５００上の描画面へ向けてほぼ直角に折り曲
げられているので、基板５００上の描画面では、描画面
内において主走査方向と直交する方向を、副走査方向と
する。
各レンズ１４２，１９２の光軸が両回転多面鏡１４１，
１９１の回転軸に直交する平面（図示せず）内に含まれ
るように、配置されており、本例では、以下、この図示
せぬ平面内において両ｆθレンズ１４２，１９２の光軸
と直交する方向を「主走査方向」とし、この図示せぬ平
面に垂直な方向を「副走査方向」とする。但し、各ｆθ
レンズ１４２，１９２の光軸は、ミラー１４３，１９３
により基板５００上の描画面へ向けてほぼ直角に折り曲
げられているので、基板５００上の描画面では、描画面
内において主走査方向と直交する方向を、副走査方向と
する。
【００２５】Ａｒレーザ光源１００は、プリズム等の波
長分散素子を備えることにより、複数ある発振波長（発
振線）の中から任意に選択した発振線の光を共振増幅す
ることができる。本例のＡｒレーザ光源１００では、紫
外域にあって互いに近い波長にあるとともに同程度の出
力を有する２つの発振線、即ち、第１の波長３５１．１
ｎｍ及び第２の波長３６３．８ｎｍからなるレーザ光の
光束を、射出する。
長分散素子を備えることにより、複数ある発振波長（発
振線）の中から任意に選択した発振線の光を共振増幅す
ることができる。本例のＡｒレーザ光源１００では、紫
外域にあって互いに近い波長にあるとともに同程度の出
力を有する２つの発振線、即ち、第１の波長３５１．１
ｎｍ及び第２の波長３６３．８ｎｍからなるレーザ光の
光束を、射出する。
【００２６】但し、発振線３５１．１ｎｍの極近傍に
は、３５１．３ｎｍの発振線が存在するので、本例にお
いては、この３５１．３ｎｍの波長と３５１．１ｎｍの
波長とを合わせた波長域を、第１の波長としている。こ
れら第１，第２の波長のように互いに近い波長を利用す
るのは、互いに同程度の描画特性を得るためである。
は、３５１．３ｎｍの発振線が存在するので、本例にお
いては、この３５１．３ｎｍの波長と３５１．１ｎｍの
波長とを合わせた波長域を、第１の波長としている。こ
れら第１，第２の波長のように互いに近い波長を利用す
るのは、互いに同程度の描画特性を得るためである。
【００２７】Ａｒレーザ光源１００から発したレーザ光
は、波長分離光学系であるダイクロイックミラー１１０
において第１の波長の光束と第２の波長の光束とに分離
される。第１の波長の光束は、ダイクロイックミラー１
１０で反射して第１変調光学系１２０に入射し、第２の
波長の光束は、ダイクロイックミラー１１０を透過した
のちビームベンダー１６０で反射して第２変調光学系１
７０に入射する。
は、波長分離光学系であるダイクロイックミラー１１０
において第１の波長の光束と第２の波長の光束とに分離
される。第１の波長の光束は、ダイクロイックミラー１
１０で反射して第１変調光学系１２０に入射し、第２の
波長の光束は、ダイクロイックミラー１１０を透過した
のちビームベンダー１６０で反射して第２変調光学系１
７０に入射する。
【００２８】第１変調光学系１２０は、入射側から順
に、一対の正レンズから構成されるリレー光学系１２
１，回転多面鏡１４１の面倒れによる誤差を補正するた
めのピエゾミラー１２２，回折分岐素子１２３，集光レ
ンズ１２４，マルチチャンネル音響光学変調器（マルチ
チャンネルＡＯＭ）１２５，及び、コリメートレンズ１
２６を、備えている。
に、一対の正レンズから構成されるリレー光学系１２
１，回転多面鏡１４１の面倒れによる誤差を補正するた
めのピエゾミラー１２２，回折分岐素子１２３，集光レ
ンズ１２４，マルチチャンネル音響光学変調器（マルチ
チャンネルＡＯＭ）１２５，及び、コリメートレンズ１
２６を、備えている。
【００２９】ダイクロイックミラー１１０で反射した第
１の波長のレーザ光は、リレー光学系１２１によってそ
の光束径が調整され、ピエゾミラー１２２を透過した
後、回折分岐素子１２３に入射する。回折分岐素子１２
３は、透明基板の何れか一方の表面に多数の微細な帯状
の基準位相パターンを有する回折格子を形成することに
よって構成され、入射光束を回折することにより複数本
に分岐して夫々異なる角度で射出する。本例では、この
回折分岐素子１２３にて１６本の光束に分割しており
（但し、図１では見易くするために４本の光束のみが示
されている）、これら回折した各光束を、一列に並べた
状態で射出している。
１の波長のレーザ光は、リレー光学系１２１によってそ
の光束径が調整され、ピエゾミラー１２２を透過した
後、回折分岐素子１２３に入射する。回折分岐素子１２
３は、透明基板の何れか一方の表面に多数の微細な帯状
の基準位相パターンを有する回折格子を形成することに
よって構成され、入射光束を回折することにより複数本
に分岐して夫々異なる角度で射出する。本例では、この
回折分岐素子１２３にて１６本の光束に分割しており
（但し、図１では見易くするために４本の光束のみが示
されている）、これら回折した各光束を、一列に並べた
状態で射出している。
【００３０】ここで、図１中では、これら１６本の光束
は、回折分岐素子により副走査方向に並ぶビーム列とな
っているが、これら一列に射出される各光束を主走査方
向に対してやや傾いた方向に並べることにより、各光束
同士の副走査方向における間隔を狭めることができるの
で、描画面においては、より密に並んだ状態の走査線を
形成するようにできる。
は、回折分岐素子により副走査方向に並ぶビーム列とな
っているが、これら一列に射出される各光束を主走査方
向に対してやや傾いた方向に並べることにより、各光束
同士の副走査方向における間隔を狭めることができるの
で、描画面においては、より密に並んだ状態の走査線を
形成するようにできる。
【００３１】回折分岐素子１２３にて分岐された１６本
の各光束は、集光レンズ１２４に入射する。この集光レ
ンズ１２４は、分岐された各光束をマルチチャンネルＡ
ＯＭ１２５の各チャンネルへ指向させる正レンズであ
る。
の各光束は、集光レンズ１２４に入射する。この集光レ
ンズ１２４は、分岐された各光束をマルチチャンネルＡ
ＯＭ１２５の各チャンネルへ指向させる正レンズであ
る。
【００３２】集光レンズ１２４により収束光となった各
光束は、集光レンズ１２４の後側焦点の位置に配置され
たマルチチャンネルＡＯＭ１２５に、入射する。音響光
学変調器（ＡＯＭ）は、音響光学効果を有する結晶に超
音波をオン／オフ印加することにより、この結晶を透過
した光束をオン／オフ変調するスイッチング素子であ
る。このＡＯＭでは、超音波が印加された上記結晶の屈
折率が周期的に変化することにより入射光が回折される
ので、その回折光又は非回折光の一方を変調光として取
り出している。マルチチャンネルＡＯＭ１２５は、回折
分岐素子１２３にて分岐された各光束が夫々入射する複
数のチャンネルを有し、各チャンネルを独立して制御す
ることにより各光束を個別に変調する。
光束は、集光レンズ１２４の後側焦点の位置に配置され
たマルチチャンネルＡＯＭ１２５に、入射する。音響光
学変調器（ＡＯＭ）は、音響光学効果を有する結晶に超
音波をオン／オフ印加することにより、この結晶を透過
した光束をオン／オフ変調するスイッチング素子であ
る。このＡＯＭでは、超音波が印加された上記結晶の屈
折率が周期的に変化することにより入射光が回折される
ので、その回折光又は非回折光の一方を変調光として取
り出している。マルチチャンネルＡＯＭ１２５は、回折
分岐素子１２３にて分岐された各光束が夫々入射する複
数のチャンネルを有し、各チャンネルを独立して制御す
ることにより各光束を個別に変調する。
【００３３】変調された各光束は、コリメートレンズ１
２６により再び平行光とされ、ビームベンダー１３０で
反射された後、偏向器である回転多面鏡１４１に入射す
る。走査光学系を構成する回転多面鏡１４１にて同時に
偏向された１６本の光束は、走査光学系を構成するｆθ
レンズ１４２及びミラー１４３を介して第１の被描画領
域Ｓ１に達するとともに、結像光学系であるｆθレンズ
１４２によって第１の被描画領域Ｓ１上を走査する１６
個のスポットとして収束される。
２６により再び平行光とされ、ビームベンダー１３０で
反射された後、偏向器である回転多面鏡１４１に入射す
る。走査光学系を構成する回転多面鏡１４１にて同時に
偏向された１６本の光束は、走査光学系を構成するｆθ
レンズ１４２及びミラー１４３を介して第１の被描画領
域Ｓ１に達するとともに、結像光学系であるｆθレンズ
１４２によって第１の被描画領域Ｓ１上を走査する１６
個のスポットとして収束される。
【００３４】また、第２変調光学系１７０は、第１変調
光学系１２０と同様に、入射側から順に、一対の正レン
ズから構成されるリレー光学系１７１，ピエゾミラー１
７２，回折分岐素子１７３，集光レンズ１７４，マルチ
チャンネルＡＯＭ１７５，及び、コリメートレンズ１７
６を、備えている。
光学系１２０と同様に、入射側から順に、一対の正レン
ズから構成されるリレー光学系１７１，ピエゾミラー１
７２，回折分岐素子１７３，集光レンズ１７４，マルチ
チャンネルＡＯＭ１７５，及び、コリメートレンズ１７
６を、備えている。
【００３５】ダイクロイックミラー１１０を透過したあ
とビームベンダー１６０で反射した第２の波長のレーザ
光は、リレー光学系１７１によってその光束径が調整さ
れ、ピエゾミラー１７２を透過した後、回折分岐素子１
７３に入射する。回折分岐素子１７３にて１６本の光束
に分岐された各光束は、集光レンズ１７４により収束光
となり、集光レンズ１７４の後側焦点の位置に配置され
たマルチチャンネルＡＯＭ１７５に入射して夫々変調さ
れる。
とビームベンダー１６０で反射した第２の波長のレーザ
光は、リレー光学系１７１によってその光束径が調整さ
れ、ピエゾミラー１７２を透過した後、回折分岐素子１
７３に入射する。回折分岐素子１７３にて１６本の光束
に分岐された各光束は、集光レンズ１７４により収束光
となり、集光レンズ１７４の後側焦点の位置に配置され
たマルチチャンネルＡＯＭ１７５に入射して夫々変調さ
れる。
【００３６】変調された各光束は、コリメートレンズ１
７６により再び平行光とされ、ビームベンダー１８０で
反射された後、回転多面鏡１９１に入射する。回転多面
鏡１９１にて偏向された１６本の光束は、ｆθレンズ１
９２及びミラー１９３を介して第２の被描画領域Ｓ２に
達するとともに、ｆθレンズ１９２によって第２の被描
画領域Ｓ２上を走査する１６個のスポットとして収束さ
れる。
７６により再び平行光とされ、ビームベンダー１８０で
反射された後、回転多面鏡１９１に入射する。回転多面
鏡１９１にて偏向された１６本の光束は、ｆθレンズ１
９２及びミラー１９３を介して第２の被描画領域Ｓ２に
達するとともに、ｆθレンズ１９２によって第２の被描
画領域Ｓ２上を走査する１６個のスポットとして収束さ
れる。
【００３７】このように各回転多面鏡１４１，１９１に
よって走査されることにより被描画領域Ｓ１，Ｓ２に夫
々形成される１６本の走査線は、共に同じ間隔に平行に
並んで形成されるとともに、夫々が主走査方向と平行な
同一ライン上に形成されるように、調整されている。
よって走査されることにより被描画領域Ｓ１，Ｓ２に夫
々形成される１６本の走査線は、共に同じ間隔に平行に
並んで形成されるとともに、夫々が主走査方向と平行な
同一ライン上に形成されるように、調整されている。
【００３８】また、これら各走査線を形成する各スポッ
ト光は、これらスポット光を形成する各光束が各変調光
学系１２０，１７０にて出力調整されているために、均
一な光量を有する。具体的には、第１，第２変調光学系
１２０，１７０では、各マルチチャンネルＡＯＭ１２
５，１７５が各チャンネルにおいて独立に出力を絞る機
能を有しており、これら両マルチチャンネルＡＯＭ１２
５，１７５は、夫々の各チャンネルへ入射する合計３２
本の光束のうち、最も光量の少ない光束の光量に合わせ
て残りの光束の光量を減らすように、相対的に調整され
ている。
ト光は、これらスポット光を形成する各光束が各変調光
学系１２０，１７０にて出力調整されているために、均
一な光量を有する。具体的には、第１，第２変調光学系
１２０，１７０では、各マルチチャンネルＡＯＭ１２
５，１７５が各チャンネルにおいて独立に出力を絞る機
能を有しており、これら両マルチチャンネルＡＯＭ１２
５，１７５は、夫々の各チャンネルへ入射する合計３２
本の光束のうち、最も光量の少ない光束の光量に合わせ
て残りの光束の光量を減らすように、相対的に調整され
ている。
【００３９】これら均一な光量を有する各スポット光
は、基板５００上の描画面の被描画領域Ｓ１，Ｓ２を露
光する。この基板５００の表面上には、上記第１，第２
の波長のレーザ光を含む紫外域の光に感光する紫外線用
フォトレジスト層が、形成されている。
は、基板５００上の描画面の被描画領域Ｓ１，Ｓ２を露
光する。この基板５００の表面上には、上記第１，第２
の波長のレーザ光を含む紫外域の光に感光する紫外線用
フォトレジスト層が、形成されている。
【００４０】上記の基板５００は、レーザ描画装置１の
図示せぬテーブルに、ズレないように固定されている。
この図示せぬテーブルは、図示せぬテーブル台に備えら
れた図示せぬ一対のレール上に載せられており、やはり
図示せぬ駆動源によってレールに沿って副走査方向（図
１の矢印が示す方向）へ平行移動できるように取り付け
られている。そして、この基板５００を固定している図
示せぬテーブルは、回転多面鏡１４１，１９１の一走査
毎に、副走査方向に順次スライドしていく。このとき、
図示せぬテーブルは、１６本目の走査線と次の走査にお
ける１本目の走査線との間隔が、同時になされる走査に
おける１６本の走査線の相互間隔（ピッチ）と同じ大き
さになるように、図示せぬレール上を移動する。
図示せぬテーブルに、ズレないように固定されている。
この図示せぬテーブルは、図示せぬテーブル台に備えら
れた図示せぬ一対のレール上に載せられており、やはり
図示せぬ駆動源によってレールに沿って副走査方向（図
１の矢印が示す方向）へ平行移動できるように取り付け
られている。そして、この基板５００を固定している図
示せぬテーブルは、回転多面鏡１４１，１９１の一走査
毎に、副走査方向に順次スライドしていく。このとき、
図示せぬテーブルは、１６本目の走査線と次の走査にお
ける１本目の走査線との間隔が、同時になされる走査に
おける１６本の走査線の相互間隔（ピッチ）と同じ大き
さになるように、図示せぬレール上を移動する。
【００４１】以上のように、２つの波長からなるレーザ
光を波長毎に分離して各光束に一組の変調光学系及び走
査光学系を夫々割り振る構成とすると、２つの波長から
なるレーザ光を一つの光学系に同時に入射しないので、
色収差を補正する必要が無い。また、両走査光学系を主
走査方向に沿って縦列に並べれば広い範囲を露光するこ
とができるとともに、２つの走査光学系で同時に走査す
ることができるので、描画速度をより高速にすることが
できる。
光を波長毎に分離して各光束に一組の変調光学系及び走
査光学系を夫々割り振る構成とすると、２つの波長から
なるレーザ光を一つの光学系に同時に入射しないので、
色収差を補正する必要が無い。また、両走査光学系を主
走査方向に沿って縦列に並べれば広い範囲を露光するこ
とができるとともに、２つの走査光学系で同時に走査す
ることができるので、描画速度をより高速にすることが
できる。
【００４２】
【実施形態２】図２は、本発明の実施形態によるレーザ
描画装置２の概略光学構成を示す斜視図である。図３
は、レーザ描画装置２の概要を示す説明図である。
描画装置２の概略光学構成を示す斜視図である。図３
は、レーザ描画装置２の概要を示す説明図である。
【００４３】本例のレーザ描画装置２は、実施形態１で
示したレーザ描画装置１と同一の構成である。但し、紫
外域の発振線の出力は可視域にある発振線の出力よりも
低い傾向にあるので、より多くの光量を得るために、同
一の波長成分からなる光束を射出する光源を更にもう１
基備えるとともに、追加した光源に合わせて変調光学系
を更に一対備える構成としたものである。以下に、その
実施形態を示す。
示したレーザ描画装置１と同一の構成である。但し、紫
外域の発振線の出力は可視域にある発振線の出力よりも
低い傾向にあるので、より多くの光量を得るために、同
一の波長成分からなる光束を射出する光源を更にもう１
基備えるとともに、追加した光源に合わせて変調光学系
を更に一対備える構成としたものである。以下に、その
実施形態を示す。
【００４４】本例のレーザ描画装置２は、第１の波長３
６３．８ｎｍと第２の波長３５１．１ｎｍの２波長から
なる光束を射出するＡｒレーザ光源１００，２００と，
これらＡｒレーザ光源１００，２００からの光束を波長
に応じて反射又は透過するダイクロイックミラー１１
０，２１０と，このダイクロイックミラー１１０，２１
０で夫々分離される光束に応じて設けられた第１乃至第
４変調光学系１２０，１７０，２２０，２７０と，第
１，第３変調光学系１２０，２２０で夫々変調された各
光束を合成する偏光ビームコンバイナ３００と，第２，
第４変調光学系１７０，２７０で夫々変調された各光束
を合成する偏光ビームコンバイナ４００と，各偏光ビー
ムコンバイナ３００，４００で合成された各光束を走査
する結像光学系１４０，１９０とを、主要な構成として
いる。
６３．８ｎｍと第２の波長３５１．１ｎｍの２波長から
なる光束を射出するＡｒレーザ光源１００，２００と，
これらＡｒレーザ光源１００，２００からの光束を波長
に応じて反射又は透過するダイクロイックミラー１１
０，２１０と，このダイクロイックミラー１１０，２１
０で夫々分離される光束に応じて設けられた第１乃至第
４変調光学系１２０，１７０，２２０，２７０と，第
１，第３変調光学系１２０，２２０で夫々変調された各
光束を合成する偏光ビームコンバイナ３００と，第２，
第４変調光学系１７０，２７０で夫々変調された各光束
を合成する偏光ビームコンバイナ４００と，各偏光ビー
ムコンバイナ３００，４００で合成された各光束を走査
する結像光学系１４０，１９０とを、主要な構成として
いる。
【００４５】本例においては、第２の波長の光束を変調
して合成する第２，第４変調光学系１７０，２７０が、
第１の波長の光束を変調して合成する第１，第３変調光
学系１２０，２２０と同一の構成であるので、第１の波
長の光束が辿る光路について詳細に説明する。
して合成する第２，第４変調光学系１７０，２７０が、
第１の波長の光束を変調して合成する第１，第３変調光
学系１２０，２２０と同一の構成であるので、第１の波
長の光束が辿る光路について詳細に説明する。
【００４６】第１，第３変調光学系１２０，２２０は、
入射側から順に、一対の正レンズから構成されるリレー
光学系１２１，２２１，ピエゾミラー１２２，２２２，
回折分岐素子１２３，２２３，集光レンズ１２４，２２
４，マルチチャンネルＡＯＭ１２５，２２５，及び、コ
リメートレンズ１２６，２２６を、備えている（但し、
これら第１，第３変調光学系１２０，２２０（並びに第
２，第４変調光学系１７０，２７０）は、実施形態１の
各変調光学系１２０，１７０と同一の構成であるので、
図２では図示を一部省略している）。
入射側から順に、一対の正レンズから構成されるリレー
光学系１２１，２２１，ピエゾミラー１２２，２２２，
回折分岐素子１２３，２２３，集光レンズ１２４，２２
４，マルチチャンネルＡＯＭ１２５，２２５，及び、コ
リメートレンズ１２６，２２６を、備えている（但し、
これら第１，第３変調光学系１２０，２２０（並びに第
２，第４変調光学系１７０，２７０）は、実施形態１の
各変調光学系１２０，１７０と同一の構成であるので、
図２では図示を一部省略している）。
【００４７】Ａｒレーザ光源１００から発した第１の波
長のレーザ光は、ダイクロイックミラー１１０で反射し
たあと、第１変調光学系１２０のリレー光学系へ入射す
る。リレー光学系１２１に入射したレーザ光は、その光
束径が調整され、ピエゾミラー１２２を透過した後、回
折分岐素子１２３に入射する。回折分岐素子１２３にて
８本の光束に分岐された各光束は、集光レンズ１２４に
より収束光となり、集光レンズ１２４の後側焦点の位置
に配置されたマルチチャンネルＡＯＭ１２５に入射して
夫々変調される。変調された各光束は、コリメートレン
ズ１２６により平行光とされ、偏光ビームコンバイナ３
００へ入射する。このとき、第１変調光学系１２０で
は、各光束が偏光ビームコンバイナ３００にＰ偏光とし
て入射するように、設定されている。
長のレーザ光は、ダイクロイックミラー１１０で反射し
たあと、第１変調光学系１２０のリレー光学系へ入射す
る。リレー光学系１２１に入射したレーザ光は、その光
束径が調整され、ピエゾミラー１２２を透過した後、回
折分岐素子１２３に入射する。回折分岐素子１２３にて
８本の光束に分岐された各光束は、集光レンズ１２４に
より収束光となり、集光レンズ１２４の後側焦点の位置
に配置されたマルチチャンネルＡＯＭ１２５に入射して
夫々変調される。変調された各光束は、コリメートレン
ズ１２６により平行光とされ、偏光ビームコンバイナ３
００へ入射する。このとき、第１変調光学系１２０で
は、各光束が偏光ビームコンバイナ３００にＰ偏光とし
て入射するように、設定されている。
【００４８】また、Ａｒレーザ光源２００から発した第
１の波長のレーザ光は、ダイクロイックミラー２１０で
反射したあと、第３変調光学系２２０のリレー光学系へ
入射する。リレー光学系２２１に入射したレーザ光は、
その光束径が調整され、ピエゾミラー２２２を透過した
後、回折分岐素子２２３に入射する。回折分岐素子２２
３にて８本の光束に分岐された各光束は、集光レンズ２
２４により収束光となり、集光レンズ２２４の後側焦点
の位置に配置されたマルチチャンネルＡＯＭ２２５に入
射して夫々変調される。変調された各光束は、コリメー
トレンズ２２６で平行光とされた後、ビームベンダー２
３０で反射され、１／２波長板２４０によって、その偏
光方向が偏光ビームコンバイナ３００に対してＳ偏光と
なるように回転されてから、この偏光ビームコンバイナ
３００へ入射する。このため、各光束は、偏光ビームコ
ンバイナ３００で反射する。
１の波長のレーザ光は、ダイクロイックミラー２１０で
反射したあと、第３変調光学系２２０のリレー光学系へ
入射する。リレー光学系２２１に入射したレーザ光は、
その光束径が調整され、ピエゾミラー２２２を透過した
後、回折分岐素子２２３に入射する。回折分岐素子２２
３にて８本の光束に分岐された各光束は、集光レンズ２
２４により収束光となり、集光レンズ２２４の後側焦点
の位置に配置されたマルチチャンネルＡＯＭ２２５に入
射して夫々変調される。変調された各光束は、コリメー
トレンズ２２６で平行光とされた後、ビームベンダー２
３０で反射され、１／２波長板２４０によって、その偏
光方向が偏光ビームコンバイナ３００に対してＳ偏光と
なるように回転されてから、この偏光ビームコンバイナ
３００へ入射する。このため、各光束は、偏光ビームコ
ンバイナ３００で反射する。
【００４９】偏光ビームコンバイナ３００は、Ｐ偏光と
して入射した第１変調光学系１２０からの各光束を透過
させるとともに、Ｓ偏光として入射した第２変調光学系
１７０からの各光束を反射させることにより、合成光学
系として両者を合成する。このとき、偏光ビームコンバ
イナ３００では、副走査方向の解像度を大きくするため
に、第１変調光学系１２０からの８本の光束と第２変調
光学系２２０からの８本の光束とを、交互に配列するよ
うに合成している。偏光ビームコンバイナ３００で合成
された各光束は、ビームベンダー１３０で反射した後、
走査光学系１４０へ入射する。
して入射した第１変調光学系１２０からの各光束を透過
させるとともに、Ｓ偏光として入射した第２変調光学系
１７０からの各光束を反射させることにより、合成光学
系として両者を合成する。このとき、偏光ビームコンバ
イナ３００では、副走査方向の解像度を大きくするため
に、第１変調光学系１２０からの８本の光束と第２変調
光学系２２０からの８本の光束とを、交互に配列するよ
うに合成している。偏光ビームコンバイナ３００で合成
された各光束は、ビームベンダー１３０で反射した後、
走査光学系１４０へ入射する。
【００５０】走査光学系１４０に入射した１６本の各光
束は、回転多面鏡１４１にて同時に偏向され、ｆθレン
ズ１４２及びミラー１４３を介して第１の被描画領域Ｓ
１に達するとともに、結像光学系であるｆθレンズ１４
２によって第１の被描画領域Ｓ１上を走査する１６個の
スポットとして収束される。
束は、回転多面鏡１４１にて同時に偏向され、ｆθレン
ズ１４２及びミラー１４３を介して第１の被描画領域Ｓ
１に達するとともに、結像光学系であるｆθレンズ１４
２によって第１の被描画領域Ｓ１上を走査する１６個の
スポットとして収束される。
【００５１】第２，第４変調光学系１７０，２７０につ
いても同様に、Ａｒレーザ光源１００から発した第２の
波長のレーザ光は、８本の光束に分岐され、マルチチャ
ンネルＡＯＭ１７５で変調されて偏光ビームコンバイナ
４００へ入射する。また、Ａｒレーザ光源２００から発
した第２の波長のレーザ光は、８本の光束に分岐され、
マルチチャンネルＡＯＭ２７５で変調された後、１／２
波長板２９０で回転されてから偏光ビームコンバイナ４
００に入射する。
いても同様に、Ａｒレーザ光源１００から発した第２の
波長のレーザ光は、８本の光束に分岐され、マルチチャ
ンネルＡＯＭ１７５で変調されて偏光ビームコンバイナ
４００へ入射する。また、Ａｒレーザ光源２００から発
した第２の波長のレーザ光は、８本の光束に分岐され、
マルチチャンネルＡＯＭ２７５で変調された後、１／２
波長板２９０で回転されてから偏光ビームコンバイナ４
００に入射する。
【００５２】偏光ビームコンバイナ４００では、Ｐ偏光
として入射する第２変調光学系１７０からの各光束を透
過させるとともに、Ｓ偏光として入射する第４変調光学
系２７０からの各光束を反射させることにより、両者を
合成している。このとき、偏光ビームコンバイナ４００
では、第２変調光学系１７０からの８本の光束と第４変
調光学系２７０からの８本の光束とを、交互に配列する
ように合成している。偏光ビームコンバイナ４００で合
成された各光束は、ビームベンダー１８０で反射した
後、走査光学系１９０へ入射する。
として入射する第２変調光学系１７０からの各光束を透
過させるとともに、Ｓ偏光として入射する第４変調光学
系２７０からの各光束を反射させることにより、両者を
合成している。このとき、偏光ビームコンバイナ４００
では、第２変調光学系１７０からの８本の光束と第４変
調光学系２７０からの８本の光束とを、交互に配列する
ように合成している。偏光ビームコンバイナ４００で合
成された各光束は、ビームベンダー１８０で反射した
後、走査光学系１９０へ入射する。
【００５３】走査光学系１９０に入射した１６本の各光
束は、回転多面鏡１９１にて同時に偏向され、ｆθレン
ズ１９２及びミラー１９３を介して第２の被描画領域Ｓ
２に達するとともに、結像光学系であるｆθレンズ１９
２によって第２の被描画領域Ｓ２上を走査する１６個の
スポット光に形成される。
束は、回転多面鏡１９１にて同時に偏向され、ｆθレン
ズ１９２及びミラー１９３を介して第２の被描画領域Ｓ
２に達するとともに、結像光学系であるｆθレンズ１９
２によって第２の被描画領域Ｓ２上を走査する１６個の
スポット光に形成される。
【００５４】このように、本例では、２基のＡｒレーザ
光源１００，２００から発したレーザ光を８本ずつに分
割してから合成することにより１６本の光束を形成して
いるので、１基のＡｒレーザ光源１００から発したレー
ザ光を１６本の光束に分割している実施形態１の場合と
比べると、およそ２倍の光量を得ることができる。ま
た、互いに異なるＡｒレーザ光源１００，２００から発
したレーザ光であっても、同じ波長の光束を取り出して
変調して合成しているので、各走査光学系１４０，１９
０では単波長レーザ光を走査していることになり、色収
差が発生することも無い。
光源１００，２００から発したレーザ光を８本ずつに分
割してから合成することにより１６本の光束を形成して
いるので、１基のＡｒレーザ光源１００から発したレー
ザ光を１６本の光束に分割している実施形態１の場合と
比べると、およそ２倍の光量を得ることができる。ま
た、互いに異なるＡｒレーザ光源１００，２００から発
したレーザ光であっても、同じ波長の光束を取り出して
変調して合成しているので、各走査光学系１４０，１９
０では単波長レーザ光を走査していることになり、色収
差が発生することも無い。
【００５５】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明のレーザ
描画装置によると、複数の波長からなるレーザ光を発振
するレーザ光源を採用し、且つ主走査方向に沿って縦列
に並べられた複数の走査光学系を備えた場合において
も、光学系が複雑にならない。
描画装置によると、複数の波長からなるレーザ光を発振
するレーザ光源を採用し、且つ主走査方向に沿って縦列
に並べられた複数の走査光学系を備えた場合において
も、光学系が複雑にならない。
【図１】 本発明の実施形態によるレーザ描画装置の概
略光学構成を示す斜視図
略光学構成を示す斜視図
【図２】 本発明の実施形態によるレーザ描画装置の概
略光学構成を示す斜視図
略光学構成を示す斜視図
【図３】 本発明の実施形態によるレーザ描画装置の概
要を示す説明図
要を示す説明図
１ レーザ描画装置 １００ アルゴンレーザ光源 １２３，１７３ 回折分岐素子 １２５，１７５ マルチチャンネル音響光学変調器 １４１，１９１ 回転多面鏡 １４２，１９２ ｆθレンズ Ｓ１，Ｓ２ 描画面 ５００ 基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2C362 AA02 AA04 BA59 BA86 BA87 BB02 BB08 2H045 AA01 BA24 BA26 BA34 BA36 CA22 CA63 CB14 2H079 AA04 AA12 BA01 CA22 CA24 DA03 EA11 HA02 HA03 KA01 KA08 5C072 AA03 BA02 CA06 DA06 DA19 DA20 DA30 HA02 HA06 HA13 HA16 HB08
Claims (9)
- 【請求項１】複数の発振波長からなる光束を発するレー
ザ光源と、 前記レーザ光源から発された前記光束を前記発振波長に
応じて波長毎に分離する波長分離光学系と、 前記波長分離光学系により波長毎に分離された夫々の光
束に対応して設けられ、前記各光束を夫々変調する変調
器を備える複数の変調光学系と、 前記各変調光学系により変調された前記各光束を、被描
画体の描画面における異なる領域に走査する複数の走査
光学系とを備えたことを特徴とするレーザ描画装置。 - 【請求項２】複数の前記レーザ光源と、 前記レーザ光源と同数の前記波長分離光学系と、 前記波長分離光学系により波長毎に分離された夫々の光
束に対応して設けられる複数の前記変調光学系と、 前記各変調光学系で変調された同一の波長を有する複数
の光束を合成する合成光学系とを更に備えたことを特徴
とする請求項１記載のレーザ描画装置。 - 【請求項３】前記各変調光学系の前記変調器は、印加し
た超音波によって周期的に屈折率を変化させることによ
り入射光を回折させ、回折光を変調光として取り出す音
響光学変調器であることを特徴とする請求項１又は２記
載のレーザ描画装置。 - 【請求項４】前記各変調光学系は、レーザ光源より発さ
れる光束を複数本に分岐して射出する分岐素子を更に備
えるとともに、前記変調器が、前記分岐素子により分岐
された各光束を夫々独立して変調するマルチチャンネル
音響光学変調器であることを特徴とする請求項３記載の
レーザ描画装置。 - 【請求項５】前記各変調光学系は、前記波長分離光学系
により分離された前記光束の光束径を調整するリレーレ
ンズと、前記分岐素子で分岐した前記各光束を前記変調
器の近傍に収束させる集光レンズと、前記変調器で変調
された前記各光束を平行光にするコリメートレンズとを
更に備えた ことを特徴とする請求項４記載のレーザ描画装置。 - 【請求項６】前記各走査光学系は、前記変調光学系によ
り変調された前記各光束を偏向する回転多面鏡を備える
とともに、 前記各変調光学系は、前記回転多面鏡の面倒れを補正す
るためピエゾ素子により傾きが微少に調整可能なミラー
を更に備えたことを特徴とする請求項１乃至５の何れか
に記載のレーザ描画装置。 - 【請求項７】前記レーザ光源は、アルゴンレーザであ
り、複数ある発振波長のうち、互いに近い波長にあると
ともに同程度の出力を有する２つの発振波長からなる光
束を射出することを特徴とする請求項１乃至６の何れか
に記載のレーザ描画装置。 - 【請求項８】前記レーザ光源は、３５１．１ｎｍ及び３
６３．８ｎｍの２つの発振波長からなる光束を射出する
ことを特徴とする請求項７記載のレーザ描画装置。 - 【請求項９】前記レーザ光源は、３５１．１ｎｍ及び３
５１．３ｎｍの２つの発振波長を含む波長域の光束と、
３６３．８ｎｍの発振波長からなる光束とを射出するこ
とを特徴とする請求項７記載のレーザ描画装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000018469A JP2001208998A (ja) | 2000-01-27 | 2000-01-27 | レーザ描画装置 |
| US09/769,436 US6493130B2 (en) | 2000-01-27 | 2001-01-26 | Laser imaging device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000018469A JP2001208998A (ja) | 2000-01-27 | 2000-01-27 | レーザ描画装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001208998A true JP2001208998A (ja) | 2001-08-03 |
Family
ID=18545316
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000018469A Withdrawn JP2001208998A (ja) | 2000-01-27 | 2000-01-27 | レーザ描画装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6493130B2 (ja) |
| JP (1) | JP2001208998A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004170940A (ja) * | 2002-11-05 | 2004-06-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 紫外光用音響光学素子及びこれを用いた光描画装置 |
| KR100993625B1 (ko) * | 2009-02-25 | 2010-11-11 | (주)하드램 | 멀티 스캐너 유닛을 구비한 레이저 다이렉트 이미징 시스템 |
| KR101168660B1 (ko) | 2011-12-23 | 2012-07-25 | 김동각 | 종이컵 인쇄장치 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10047695C2 (de) * | 2000-09-25 | 2003-05-28 | Ruediger Hartwig | Vorrichtung und Verfahren zum Erzeugen von Bildpunktgruppen im Raum |
| US6643049B2 (en) * | 2001-02-01 | 2003-11-04 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Compact imaging head and high speed multi-head laser imaging assembly and method |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0202811B1 (en) * | 1985-05-07 | 1989-11-08 | The De La Rue Company Plc | Exposing system and method |
| US5325381A (en) * | 1992-12-22 | 1994-06-28 | Xerox Corporation | Multiple beam diode laser output scanning system |
| JPH1068899A (ja) | 1996-08-26 | 1998-03-10 | Asahi Optical Co Ltd | カスケード走査光学系 |
| JPH10142538A (ja) | 1996-11-12 | 1998-05-29 | Asahi Optical Co Ltd | マルチヘッド走査光学系を持つレーザ描画装置 |
| JPH10190985A (ja) | 1996-12-26 | 1998-07-21 | Asahi Optical Co Ltd | カスケード走査光学系を備えた記録装置 |
| US5969347A (en) | 1996-12-26 | 1999-10-19 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Synchronizing apparatus of a cascade scanning optical system having tilting measurement of reflecting surfaces |
| JPH10197812A (ja) | 1997-01-06 | 1998-07-31 | Asahi Optical Co Ltd | カスケード走査光学系の書き出し位置調整装置 |
| DE19757666A1 (de) | 1997-01-06 | 1998-07-09 | Asahi Optical Co Ltd | Abtasteinrichtung mit optischem Kaskade-Abtastsystem |
| JPH10197811A (ja) | 1997-01-14 | 1998-07-31 | Asahi Optical Co Ltd | カスケード走査光学系 |
-
2000
- 2000-01-27 JP JP2000018469A patent/JP2001208998A/ja not_active Withdrawn
-
2001
- 2001-01-26 US US09/769,436 patent/US6493130B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004170940A (ja) * | 2002-11-05 | 2004-06-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 紫外光用音響光学素子及びこれを用いた光描画装置 |
| JP4511152B2 (ja) * | 2002-11-05 | 2010-07-28 | パナソニック株式会社 | 紫外光用音響光学素子及びこれを用いた光描画装置 |
| KR100993625B1 (ko) * | 2009-02-25 | 2010-11-11 | (주)하드램 | 멀티 스캐너 유닛을 구비한 레이저 다이렉트 이미징 시스템 |
| KR101168660B1 (ko) | 2011-12-23 | 2012-07-25 | 김동각 | 종이컵 인쇄장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20010010589A1 (en) | 2001-08-02 |
| US6493130B2 (en) | 2002-12-10 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050823 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050830 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20051021 |