JP2000284206A - 露光記録装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】簡易な構成により、記録媒体に記録される画像
の解像度を容易に変更し、且つ、効率的に画像を記録す
ることのできる露光記録装置を提供することを目的とす
る。 【解決手段】半導体レーザＬＤから出力されたレーザビ
ームＬは、集光光学系１６を構成する１／２波長板３０
により偏光方向が調整された後、偏光光学素子３２によ
って常光Ｌｏおよび異常光Ｌｅに分離され、あるいは、
前記偏光方向によっては常光Ｌｏまたは異常光Ｌｅのい
ずれか一方とされ、記録フイルムＦに導かれる。この場
合、１／２波長板３０を回動制御するとともに、副走査
間隔を制御することで、解像度に応じた画像を形成する
ことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光源からの光によ
り記録媒体を走査し画像を記録する露光記録装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】例えば、外周面に感光材料が装着された
ドラムを主走査方向に回転させる一方、画像に応じて変
調されたレーザビームを前記主走査方向と直交する副走
査方向に走査させることで、２次元画像を前記感光材料
に記録するようにした露光記録装置が用いられている。

【０００３】従来、このような露光記録装置において、
例えば、解像度を低くして画像を記録するためには、記
録媒体上でのレーザビームのスポットを拡大するととも
に、副走査方向に対する記録ピッチを大きくし、あるい
は、スポットの大きさおよび記録ピッチはそのままとし
て同じ画像情報からなる画素を解像度を低くした分だけ
繰り返し記録する、といった方法が採られている。ま
た、解像度を高くして画像を記録する場合には、前記と
逆の方法による。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記の
ようにしてレーザビームのスポットを拡大、縮小するた
めには、駆動機構を用いて光学系のレンズ等を駆動させ
る必要があることから、装置構成が大型化するととも
に、コストが高騰してしまうという不具合がある。ま
た、例えば、同じ画像情報からなる画素を繰り返し記録
することで解像度を低くする場合には、副走査方向に対
する記録ピッチが一定であるため、記録速度を向上でき
ないという不具合がある。

【０００５】本発明は、前記の不具合を考慮してなされ
たものであり、簡易な構成により、記録媒体に記録され
る画像の解像度を容易に変更し、且つ、効率的に画像を
記録することのできる露光記録装置を提供することを目
的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明に係る露光記録装
置では、光源から出力された光を集光光学系を介して記
録媒体上に集光させて画像を記録する際、記録画像の解
像度に応じ、複数集光点生成手段によって前記記録媒体
の副走査方向に分割して生成される集光点の数を制御す
ることでビームスポットの大きさを調整するとともに、
副走査方向の前記ビームスポットの記録間隔を調整する
ことにより、解像度に応じた画像を効率的に記録するこ
とができる。

【０００７】この場合、複数の集光点は、光源からの光
を偏光方向の異なる２つの光に分離する偏光光学素子、
光を常光と異常光とに分離する偏光光学素子、あるい
は、頂点が光軸上に設定され、光を光軸を中心として副
走査方向に対称に分割するプリズムによって生成するこ
とができる。なお、プリズムを用いる場合には、分割さ
れた偏光が干渉しないように、副走査方向の一方の光を
導く面に１／２波長板を配設し、偏光方向が直交するよ
うに構成することが望ましい。

【０００８】偏光光学素子を光が略平行となる部位に配
設し、偏光方向の異なる２つの光を異なる方向に射出さ
せることで分離することができる。また、偏光光学素子
を光が発散する部位または集光する部位に配設し、偏光
方向の異なる２つの光を副走査方向に対して異なる位置
から射出させることで分離することもできる。

【０００９】また、集光点数の制御は、複数集光点生成
手段として偏光光学素子を用いる場合、その前段に液晶
素子やＰＬＺＴ等からなる電気光学効果素子を配置し、
この素子により偏光光学素子に入射する光の偏光方向を
制御することで実現できる。なお、偏光方向を制御可能
な素子としては、光軸を中心として回転制御される１／
２波長板、１／４波長板、偏光板等を使用することがで
きる。

【００１０】さらに、複数集光点生成手段を光の光路内
および光路外の２位置に変位制御することで集光点数を
制御することもできる。

【００１１】さらにまた、光源を複数設け、各光源から
の光をそれぞれ複数集光点生成手段により分割して記録
媒体に同時に導くように構成すれば、記録画像の解像度
を容易に変更できるだけでなく、画像を高速に記録する
ことができる。

【００１２】

【発明の実施の形態】図１および図２は、本発明の露光
記録装置が適用されるレーザ記録装置１０を示す。この
レーザ記録装置１０は、露光ヘッド１２から出力された
レーザビームＬをドラム１４上に装着された記録フイル
ムＦ（記録媒体）に照射することで、面積変調画像を記
録するようにしたものである。なお、記録フイルムＦに
は、ドラム１４が矢印Ｘ方向（主走査方向）に回転し、
露光ヘッド１２が矢印Ｙ方向（副走査方向）に移動する
ことで、２次元画像が形成される。また、面積変調画像
とは、レーザビームＬをオンオフ制御することで、記録
フイルムＦ上に複数の画素を形成し、その画素の占める
面積によって所定の階調が得られるようにした画像であ
る。

【００１３】露光ヘッド１２は、略直線偏光からなるレ
ーザビームＬを出力する半導体レーザＬＤ（光源）と、
レーザビームＬを記録フイルムＦに集光する集光光学系
１６とを備える。なお、半導体レーザＬＤとしては、中
心光強度が高く、中心から離れるに従って光強度が徐々
に低くなる強度分布からなる単一横モード半導体レーザ
を用いることができる。また、このような強度分布を有
するものであれば、他の光源であってもよい。

【００１４】集光光学系１６は、半導体レーザＬＤ側よ
り、コリメータレンズ２８、１／２波長板３０（集光点
数制御手段）、偏光光学素子３２（複数集光点生成手
段）、シリンドリカルレンズ３４、３６、３８、４０、
集光レンズ４２が順に配列されている。なお、シリンド
リカルレンズ３４および３８は、レーザビームＬを副走
査方向（矢印Ｙ方向）にのみ集光する整形光学素子であ
り、シリンドリカルレンズ３６および４０は、レーザビ
ームＬを主走査方向（矢印Ｘ方向）にのみ集光する整形
光学素子である。

【００１５】１／２波長板３０は、コリメータレンズ２
８によってコリメートされた略直線偏光からなるレーザ
ビームＬの偏光方向を調整するもので、光学軸が１／２
波長板３０の入射面に沿った方向に設定されており、図
１に示す矢印θ方向に回転制御可能に構成される。な
お、集光点数制御手段としては、１／２波長板３０を用
いる代わりに、レーザビームＬの偏光方向を電気的に制
御できる電気光学効果素子を用いることもできる。

【００１６】偏光光学素子３２は、光学軸が互いに直交
する２つの一軸性結晶４４、４６を張り合わせ、レーザ
ビームＬを記録フイルムＦの副走査方向（矢印Ｙ方向）
に対して常光Ｌｏおよび異常光Ｌｅに分離するもの（Ro
chonプリズム）で、例えば、図３に示すように、レーザ
ビームＬの入射側に配置される一軸性結晶４４の光学軸
がレーザビームＬの光軸に平行に設定され、レーザビー
ムＬの出射側に配置される一軸性結晶４６の光学軸がレ
ーザビームＬの光軸および副走査方向（矢印Ｙ方向）と
直交する方向に設定される。この場合、常光Ｌｏは、偏
光光学素子３２を直進し、異常光Ｌｅは、偏光光学素子
３２によって副走査方向（矢印Ｙ方向）に屈折される。
なお、偏光光学素子３２としては、一軸性結晶４４の光
学軸がレーザビームＬの光軸に直交するとともに副走査
方向（矢印Ｙ方向）に平行に設定され、一軸性結晶４６
の光学軸がレーザビームＬの光軸および副走査方向（矢
印Ｙ方向）と直交する方向に設定されるもの（Wollasto
n プリズム）であってもよい。

【００１７】また、偏光光学素子３２は、レーザビーム
Ｌを必ずしも常光Ｌｏと異常光Ｌｅとに分離させる必要
はなく、偏光方向の異なる２つの光に分離するものであ
ればよい。

【００１８】ここで、上記のように構成されるレーザ記
録装置１０の制御系は、図４に示すように、画像データ
に従って半導体レーザＬＤを駆動するＬＤ駆動回路４１
と、１／２波長板３０を回動する波長板回動モータ４３
と、露光ヘッド１２を副走査方向（矢印Ｙ方向）に移動
させる副走査モータ４５と、前記波長板回動モータ４３
および前記副走査モータ４５を駆動するモータ駆動回路
４７と、前記ＬＤ駆動回路４１および前記モータ駆動回
路４７を制御する制御回路４９とを備える。この場合、
制御回路４９には、記録フイルムＦに記録する画像に係
る画像データおよび解像度データが供給される。

【００１９】本実施形態のレーザ記録装置１０は、基本
的には以上のように構成されるものであり、次に、その
作用効果につき、図５に示すフローチャートに従って説
明する。

【００２０】先ず、作業者は、当該レーザ記録装置１０
に対して記録する画像の解像度Ｓを入力する（ステップ
Ｓ１）。この解像度Ｓに係る解像度データおよび画像デ
ータは、制御回路４９に供給され、制御回路４９は、こ
れらのデータに従って調整された信号をＬＤ駆動回路４
１およびモータ駆動回路４７に供給する。この場合、本
実施形態のレーザ記録装置１０では、Ｋ０（ｄｐｉ）と
２・Ｋ０（ｄｐｉ）の２種類の解像度Ｓで画像を記録で
きるものとして以下説明する。

【００２１】入力された解像度Ｓが２・Ｋ０（ｄｐｉ）
である場合（ステップＳ２）、モータ駆動回路４７は、
波長板回動モータ４３を駆動し、偏光光学素子３２から
射出されるレーザビームＬが常光Ｌｏのみとなるよう
に、１／２波長板３０を回動させる（ステップＳ３）。
また、モータ駆動回路４７は、副走査モータ４５による
露光ヘッド１２の副走査方向（矢印Ｙ方向）に対する送
り間隔を１／（２・Ｋ０）に設定する（ステップＳ
４）。

【００２２】すなわち、１／２波長板３０の光学軸の方
向に対するレーザビームＬの偏光方向をθとすると、１
／２波長板３０を透過したレーザビームＬの偏光方向
は、−θとなる。従って、１／２波長板３０を光軸の回
りに回動制御することにより、任意の偏光方向からなる
レーザビームＬを偏光光学素子３２に導くことができ
る。一方、偏光光学素子３２は、入射するレーザビーム
Ｌの偏光方向が一軸性結晶４６の光学軸方向に一致して
いる場合、常光Ｌｏのみを射出する。従って、偏光方向
が一軸性結晶４６の光学軸方向となるように１／２波長
板３０を回動させることにより、常光Ｌｏのみを得るこ
とができる。

【００２３】なお、１／２波長板３０の代わりに２枚の
１／４波長板を用い、略直線偏光からなるレーザビーム
Ｌを前段の１／４波長板によって円偏光に変換した後、
後段に配置され光軸を中心として回動制御される１／４
波長板によって任意の偏光方向からなる直線偏光に変換
して偏光光学素子３２に導くように構成することもでき
る。また、集光光学系１６に供給されるレーザビームＬ
が略円偏光またはランダム偏光であれば、１枚の１／４
波長板を回動制御することで任意の偏光方向からなる直
線偏光を得ることができる。

【００２４】前記のように調整が行われた後、ＬＤ駆動
回路４１は、画像情報に応じて半導体レーザＬＤを制御
する（ステップＳ５）。半導体レーザＬＤより出力され
たレーザビームＬは、コリメータレンズ２８によって平
行光束とされた後、１／２波長板３０に入射する。１／
２波長板３０に入射した略直線偏光であるレーザビーム
Ｌは、その偏光方向が偏光光学素子３２を構成する一軸
性結晶４６の光学軸方向に変換された後、偏光光学素子
３２に供給される。

【００２５】偏光光学素子３２に供給されたレーザビー
ムＬは、常光Ｌｏのみが光軸に沿って透過する。次い
で、この常光Ｌｏは、シリンドリカルレンズ３４、３８
によって副走査方向（矢印Ｙ方向）のみが整形される一
方、シリンドリカルレンズ３６、４０によって主走査方
向（矢印Ｘ方向）のみが整形され、集光レンズ４２を介
してドラム１４上の記録フイルムＦに集光される。

【００２６】この場合、記録フイルムＦ上には、図６に
示す常光Ｌｏによる強度分布Ｐからなるビームスポット
５１（図８）が形成される。このビームスポット５１
は、図８に示すように、露光ヘッド１２が副走査方向
（矢印Ｙ方向）に１／（２・Ｋ０）のピッチで送られる
とともに、ドラム１４が主走査方向（矢印Ｘ方向）に回
転されることにより、解像度Ｓ＝２・Ｋ０（ｄｐｉ）か
らなる２次元画像が記録フイルムＦ上に形成される（ス
テップＳ６）。

【００２７】次に、解像度Ｓが２・Ｋ０（ｄｐｉ）から
Ｋ０（ｄｐｉ）に変更された場合（ステップＳ２）につ
いて説明する。この場合、モータ駆動回路４７は、波長
板回動モータ４３を駆動し、偏光光学素子３２から射出
されるレーザビームＬが常光Ｌｏおよび異常光Ｌｅから
なり、且つ、各強度が同じとなるように、１／２波長板
３０を回動させる（ステップＳ７）。また、モータ駆動
回路４７は、副走査モータ４５による露光ヘッド１２の
副走査方向（矢印Ｙ方向）に対する送り間隔を１／Ｋ０
に設定する（ステップＳ８）。

【００２８】すなわち、１／２波長板３０を光軸を中心
として回動制御し、レーザビームＬの偏光方向が一軸性
結晶４６の光学軸方向に対して略４５゜となるように調
整する。この場合、偏光光学素子３２に入射したレーザ
ビームＬは、一軸性結晶４４においては、レーザビーム
Ｌが光学軸に沿って進行するため、常光Ｌｏと異常光Ｌ
ｅとに分離されないが、一軸性結晶４６においては、レ
ーザビームＬの進行方向と光学軸とが直交し、且つ、光
学軸の方向が副走査方向（矢印Ｙ方向）と直交する方向
に設定されているため、常光Ｌｏは直進するが、異常光
Ｌｅは副走査方向（矢印Ｙ方向）に所定角度屈折されて
出射することになる。しかも、レーザビームＬの偏光方
向が一軸性結晶４６の光学軸方向に対して略４５゜に設
定されているため、同じ強度に調整された常光Ｌｏおよ
び異常光Ｌｅが得られる。なお、異常光Ｌｅの屈折角度
φは、偏光光学素子３２の光軸方向に対する厚みや材質
によって任意に調整することができる。

【００２９】前記のように調整が行われた後、ＬＤ駆動
回路４１は、画像情報に応じて半導体レーザＬＤを制御
する（ステップＳ５）。半導体レーザＬＤより出力され
たレーザビームＬは、１／２波長板３０によって偏光方
向が調整された後、偏光光学素子３２によって常光Ｌｏ
および異常光Ｌｅに分割される。次いで、偏光光学素子
３２を透過した常光Ｌｏおよび異常光Ｌｅは、シリンド
リカルレンズ３４、３８によって副走査方向（矢印Ｙ方
向）のみが整形される一方、シリンドリカルレンズ３
６、４０によって主走査方向（矢印Ｘ方向）のみが整形
され、集光レンズ４２を介してドラム１４上の記録フイ
ルムＦに集光される。

【００３０】この場合、記録フイルムＦ上には、図７に
示すように、常光Ｌｏによる強度分布Ｐｏと、異常光Ｌ
ｅによる強度分布Ｐｅとが副走査方向（矢印Ｙ方向）に
合成され、副走査方向（矢印Ｙ方向）に広がりを有する
強度分布Ｐｏｅからなるビームスポット５３（図９）が
形成される。なお、強度分布Ｐｏｅは、レーザビームＬ
が偏光光学素子３２によって常光Ｌｏおよび異常光Ｌｅ
に等分されているため、常光Ｌｏのみの場合よりも強度
が低下する。従って、ＬＤ駆動回路４１は、その分を考
慮して半導体レーザＬＤの出力を調整する。

【００３１】強度分布Ｐｏｅからなるビームスポット５
３は、図９に示すように、露光ヘッド１２が副走査方向
（矢印Ｙ方向）に１／Ｋ０のピッチで送られるととも
に、ドラム１４が主走査方向（矢印Ｘ方向）に回転され
ることにより、解像度Ｓ＝Ｋ０（ｄｐｉ）からなる２次
元画像が記録フイルムＦ上に形成される（ステップＳ
６）。

【００３２】このように、記録画像の解像度Ｓを２・Ｋ
０（ｄｐｉ）からＫ０（ｄｐｉ）に変更した場合、１／
２波長板３０の回動角度を調整するだけでビームスポッ
ト５１（図８）をビームスポット５３（図９）に容易に
拡大することができ、しかも、副走査速度が高速化され
るので、高速で画像記録を行うことが可能となる。

【００３３】同様にして、解像度ＳをＫ０（ｄｐｉ）か
ら２・Ｋ０（ｄｐｉ）に変更することができる。

【００３４】図１０は、他の実施形態のレーザ記録装置
５０を示す。なお、図１および図２に示すレーザ記録装
置１０と同一の構成要素には、同一の参照符号を付し、
その詳細な説明を省略する。

【００３５】レーザ記録装置５０を構成する集光光学系
５２は、図１および図２に示す集光光学系１６を構成す
る偏光光学素子３２の代わりに、シリンドリカルレンズ
３６および３８間のレーザビームＬの発散する部位に一
軸性結晶からなる偏光光学素子５４を配設して構成され
る。この場合、偏光光学素子５４の光学軸の方向は、レ
ーザビームＬの光軸方向と副走査方向（矢印Ｙ方向）と
の間となるように設定される。なお、偏光光学素子５４
は、集光レンズ４２と記録フイルムＦとの間のレーザビ
ームＬが集光する部位に配設してもよい。

【００３６】解像度ＳをＫ０（ｄｐｉ）に設定した場合
において、１／２波長板３０により偏光方向が調整さ
れ、シリンドリカルレンズ３４により副走査方向（矢印
Ｙ方向）に発散状態とされたレーザビームＬは、図１１
に示すように、偏光光学素子５４により常光Ｌｏおよび
異常光Ｌｅに分離される。この場合、常光Ｌｏに対する
偏光光学素子５４の屈折率は、光学軸の方向によらず一
定であるため、レーザビームＬの光軸上の仮想発光点ｆ
ｏから射出されてシリンドリカルレンズ３８に導かれ
る。一方、異常光Ｌｅに対する偏光光学素子５４の屈折
率は、レーザビームＬの入射方向と光学軸の方向とによ
って異なり、前記光学軸がレーザビームＬの光軸方向と
副走査方向（矢印Ｙ方向）との間に設定されているた
め、レーザビームＬの光軸から副走査方向（矢印Ｙ方
向）に所定量変位した仮想発光点ｆｅより射出されてシ
リンドリカルレンズ３８に導かれる。

【００３７】この結果、常光Ｌｏおよび異常光Ｌｅは、
シリンドリカルレンズ３８、４０および集光レンズ４２
を介して記録フイルムＦ上の副走査方向（矢印Ｙ方向）
に所定量ずれた位置に夫々集光されることにより、図７
に示す強度分布Ｐｏｅが得られる。このようにして拡大
されたビームスポットを用いることにより、解像度Ｓ＝
Ｋ０（ｄｐｉ）の画像を形成することができる。

【００３８】一方、解像度Ｓ＝２・Ｋ０（ｄｐｉ）の画
像を形成する場合には、レーザビームＬの偏光方向を１
／２波長板３０によって副走査方向（矢印Ｙ方向）と直
交する方向に設定し、図６に示す強度分布Ｐを得るよう
に制御すればよい。

【００３９】図１２は、他の実施形態のレーザ記録装置
６０を示す。なお、図１および図２に示すレーザ記録装
置１０と同一の構成要素には、同一の参照符号を付し、
その詳細な説明を省略する。

【００４０】レーザ記録装置６０を構成する集光光学系
６２は、図１および図２に示す集光光学系１６を構成す
る１／２波長板３０および偏光光学素子３２の代わり
に、シリンドリカルレンズ４０と集光レンズ４２との間
にプリズム６４を配設して構成される。この場合、プリ
ズム６４は、図１３に示すように、レーザビームＬの光
軸に対して副走査方向（矢印Ｙ方向）に対称に傾斜する
出射面６６ａ、６６ｂを有する。

【００４１】プリズム６４に入射したレーザビームＬ
は、出射面６６ａ、６６ｂにおいて屈折され、副走査方
向（矢印Ｙ方向）にずれた２組のレーザビームＬ１およ
びＬ２として記録フイルムＦに導かれ、同様にして、図
７に示す強度分布Ｐｏｅを得ることができる。なお、プ
リズム６４の入射面側を傾斜面として構成することもで
きる。また、出射面６６ａ、６６ｂまたは入射面の傾斜
方向は、光軸に対して対称であればよく、例えば、プリ
ズム６４を凹レンズ状に構成してもよい。このようにし
てレーザビームＬを２分割することにより、解像度Ｓ＝
Ｋ０（ｄｐｉ）からなる画像を形成することができる。

【００４２】一方、解像度Ｓ＝２・Ｋ０（ｄｐｉ）から
なる画像を形成する場合には、図６に示す強度分布Ｐが
得られるように、変位手段を用いてプリズム６４をレー
ザビームＬの光路外に退出させればよい。

【００４３】なお、図１４は、図１３に示すプリズム６
４の入射面の中、レーザビームＬ１を生成する側に１／
２波長板６８を配設したものである。この場合、１／２
波長板６８の光学軸の方向を略直線偏光であるレーザビ
ームＬの偏光方向に対して４５゜に設定することによ
り、レーザビームＬ１の偏光方向をレーザビームＬ２の
偏光方向に対して９０゜とすることができる。これによ
り、強度分布Ｐｏｅを得る際、レーザビームＬ１および
Ｌ２が記録フイルムＦ上で干渉することがなく、副走査
方向（矢印Ｙ方向）に対して矩形状となる強度分布を得
ることができる。

【００４４】上述した実施形態においては、１つの半導
体レーザＬＤを用いて画像を記録する場合について説明
したが、複数の半導体レーザＬＤを用いて同時に複数画
素を記録する、いわゆる、マルチビーム記録方式のレー
ザ記録装置においても、解像度の変更に対応することが
できる。

【００４５】図１５は、マルチビーム記録方式のレーザ
記録装置８０を示す。なお、図１に示すレーザ記録装置
１０と同一の構成要素には、同一の参照符号を付し、そ
の詳細な説明を省略する。

【００４６】レーザ記録装置８０は、レーザ記録装置１
０と同様に、ドラム１４に装着された記録フイルムＦに
対して、露光ヘッド８２から出力されたレーザビームを
照射することにより、面積変調画像を記録する。この場
合、露光ヘッド８２は、それぞれが複数に分割されたレ
ーザビームを出力する複数の露光ユニット８４ａ〜８４
ｇにより構成される。各露光ユニット８４ａ〜８４ｇ
は、レーザ記録装置１０の露光ヘッド１２と同様に構成
される。このように構成されるレーザ記録装置８０で
は、各露光ユニット８４ａ〜８４ｇから導出されたレー
ザビームが記録フイルムＦに照射され、同時に複数本の
主走査線からなる画像が形成される。

【００４７】ここで、図１６および図１７に基づき、レ
ーザ記録装置８０による解像度の変更方法について説明
する。

【００４８】図１６は、間隔が２εに設定された７つの
ビームスポット７０ａ〜７０ｇを同時に形成することの
できる露光ヘッド８２を用いて、解像度Ｓ＝２・Ｋ０
（ｄｐｉ）の画像を記録する場合の説明図である。この
場合、各回の走査において露光ヘッド８２を副走査方向
（矢印Ｙ方向）に半分ずつ重畳させ、且つ、前回の主走
査線の間を次回の主走査線で走査するように制御するも
のとする。

【００４９】次に、解像度ＳをＫ０（ｄｐｉ）に変更し
た場合、偏光光学素子３２等の複数集光点生成手段を用
いてビームスポット７０ａ〜７０ｇの集光点を副走査方
向（矢印Ｙ方向）に対して距離εだけずらすことで夫々
２つの集光点からなるビームスポット７２ａ〜７２ｇを
形成するとともに、露光ヘッド８２を副走査方向（矢印
Ｙ方向）に重畳させることなく移動させるように制御す
る。このようにして、ビーム径を解像度Ｓに応じて拡大
し、且つ、解像度Ｓ＝２・Ｋ０（ｄｐｉ）の場合の１／
２の走査回数で画像記録を行うことができる。

【００５０】また、上述した実施形態においては、解像
度Ｓを１／２とする際には、レーザビームＬを常光Ｌｏ
と異常光Ｌｅとに２分割するようにしているが、解像度
Ｓの変更範囲は、これに限られるものではない。例え
ば、２組の偏光光学素子５４を用いてレーザビームＬを
４分割すれば、容易に解像度Ｓを１／４とすることがで
きる。また、レーザビームＬの複数の集光点の副走査方
向（矢印Ｙ方向）に対する集光位置を調整することによ
り、任意の解像度Ｓに対応させることも可能である。な
お、露光光学系は、上記で説明した光学系に限られるも
のではない。

【００５１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る露光
記録装置によれば、解像度に応じて、複数集光点生成手
段および集光点数制御手段を用いて集光点数を制御し、
且つ、副走査の記録間隔を制御することにより、簡易な
構成で記録媒体に記録される画像の解像度を容易に変更
し、且つ、効率的に画像を記録することができる。

【００５２】また、光源を副走査方向に複数配列し、各
光源から出力される複数に分割された光により同時に画
像を記録することにより、記録画像の解像度を容易に変
更できるだけでなく、画像を高速に記録することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施形態のレーザ記録装置の斜視構成図であ
る。

【図２】図１に示すレーザ記録装置の平面構成図であ
る。

【図３】図２に示す偏光光学素子の作用説明図である。

【図４】図１に示すレーザ記録装置の制御系の構成ブロ
ック図である。

【図５】解像度に対応して画像記録を行う場合の処理フ
ローチャートである。

【図６】集光点が１つの場合における強度分布の説明図
である。

【図７】集光点が２つの場合における強度分布の説明図
である。

【図８】集光点が１つの場合における記録媒体上のビー
ムスポットの説明図である。

【図９】集光点が２つの場合における記録媒体上のビー
ムスポットの説明図である。

【図１０】他の実施形態に係るレーザ記録装置の平面構
成図である。

【図１１】図１０に示す一軸性結晶の作用説明図であ
る。

【図１２】他の実施形態に係るレーザ記録装置の平面構
成図である。

【図１３】図１２に示すプリズムの作用説明図である。

【図１４】図１２に示すプリズムに１／２波長板を設け
た構成の説明図である。

【図１５】マルチビーム方式によるレーザ記録装置の斜
視構成図である。

【図１６】他の実施形態に係るマルチビーム記録方式を
用いたレーザ記録装置による記録媒体上でのビームスポ
ットの説明図である。

【図１７】図１６に示すビームスポットに対して、解像
度を１／２とした場合の記録媒体上でのビームスポット
の説明図である。

【符号の説明】

１０、５０、６０、８０…レーザ記録装置 １２、８２…露光ヘッド １４…ドラム １６、５２、６２…集光光学系 ３０、６８…１／
２波長板 ３２、５４…偏光光学素子 ４１…ＬＤ駆動回
路 ４３…波長板回動モータ ４５…副走査モー
タ ４７…モータ駆動回路 ４９…制御回路 ６４…プリズム Ｆ…記録フイルム ＬＤ…半導体レーザ

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】光源からの光により記録媒体を走査し画像
   を記録する露光記録装置において、 前記光源から出力された光を集光して記録媒体に導く集
   光光学系と、 前記光を複数に分割し、前記集光光学系による前記記録
   媒体上での集光点を、 前記記録媒体の副走査方向に対して複数生成する複数集
   光点生成手段と、 前記記録媒体に記録する画像の解像度に応じて、前記複
   数集光点生成手段により生成される集光点数を制御する
   集光点数制御手段と、 前記解像度に応じて前記副走査方向の記録間隔を制御す
   る副走査制御手段と、 を備えることを特徴とする露光記録装置。
2. 【請求項２】請求項１記載の装置において、 前記複数集光点生成手段は、前記光を偏光方向の異なる
   ２つの光に分離する偏光光学素子であることを特徴とす
   る露光記録装置。
3. 【請求項３】請求項２記載の装置において、前記偏光光
   学素子は、前記光を常光と異常光とに分離することを特
   徴とする露光記録装置。
4. 【請求項４】請求項２記載の装置において、 前記偏光
   光学素子は、前記光が略平行光束となる部位に配設さ
   れ、偏光方向の異なる前記２つの光を異なる角度で射出
   することを特徴とする露光記録装置。
5. 【請求項５】請求項２記載の装置において、前記偏光光
   学素子は、前記光が発散する部位または集光する部位に
   配設され、偏光方向の異なる前記２つの光を前記副走査
   方向に対する異なる位置から射出することを特徴とする
   露光記録装置。
6. 【請求項６】請求項２記載の装置において、前記集光点
   数制御手段は、前記光源と前記偏光光学素子との間に配
   設され、偏光した前記光の光軸を中心として回動制御可
   能な１／２波長板または１／４波長板からなり、前記解
   像度に応じて前記偏光光学素子に入射する前記光の偏光
   方向を制御して前記集光点数を制御することを特徴とす
   る露光記録装置。
7. 【請求項７】請求項２記載の装置において、前記集光点
   数制御手段は、前記光源と前記偏光光学素子との間に配
   設され、前記光の偏光方向を前記解像度に応じて制御可
   能な電気光学効果素子からなり、前記偏光光学素子に入
   射する前記光の偏光方向を制御して前記集光点数を制御
   することを特徴とする露光記録装置。
8. 【請求項８】請求項２記載の装置において、前記集光点
   数制御手段は、前記光源と前記偏光光学素子との間に配
   設され、略円偏光またはランダム偏光の前記光の光軸を
   中心として回動制御可能な偏光板からなり、前記解像度
   に応じて前記偏光光学素子に入射する前記光の偏光方向
   を制御して前記集光点数を制御することを特徴とする露
   光記録装置。
9. 【請求項９】請求項１記載の装置において、前記複数集
   光点生成手段は、前記光の光軸上に頂点が設定され、前
   記光軸を中心として前記光を前記副走査方向に分割する
   プリズムであることを特徴とする露光記録装置。
10. 【請求項１０】請求項９記載の装置において、前記プリ
    ズムには、前記光軸を中心として対称となる副走査方向
    の一方の面に１／２波長板が配設されることを特徴とす
    る露光記録装置。
11. 【請求項１１】請求項１または９記載の装置において、
    前記集光点数制御手段は、前記複数集光点生成手段を前
    記光の光路内および光路外の２位置に変位制御する変位
    制御手段からなることを特徴とする露光記録装置。
12. 【請求項１２】請求項１記載の装置において、 前記光源は、前記副走査方向に複数配列されることを特
    徴とする露光記録装置。