JP4063990B2 - 露光記録装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光源からの光を記録媒体に導いて画像を記録する露光記録装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
例えば、外周面に感光材料が装着されたドラムを主走査方向に回転させる一方、画像に応じて変調されたレーザビームを前記主走査方向と直交する副走査方向に走査させることで、2次元画像を前記感光材料に記録するようにした露光記録装置が用いられている。
【0003】
このような露光記録装置では、回転するドラムの偏心や感光材料のドラムからの浮き、さらには、レーザビームの副走査の送り方向とドラムの軸とのずれ等があると、レーザビームが感光材料上に高精度に集光されず、高精細な画像を得ることができなくなってしまう。特に、面積変調による網点画像を形成する場合においては、レーザビームを相当に細く絞らなければならないため、集光点を感光材料上に高精度に位置決めする必要がある。
【0004】
そこで、このような問題を解決するために、感光材料上でのレーザビームの光量を検出し、集光点が感光材料上となるように集光光学系の位置制御を行う自動焦点機構を採用したものがある。この場合、集光光学系を機械的に駆動する駆動機構が必要となるため、構成が複雑で高価になるだけでなく、レーザビームを感光材料上で高速走査する際の前記駆動機構の追従性に難点があり、高精度な集光を行うことが困難であった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、前記の不具合を考慮してなされたものであり、記録媒体の位置変動によらず廉価な構成によって光源からの光を高精度に記録媒体上に集光させ、高精細な画像を記録することのできる露光記録装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る露光記録装置では、光源から出力された光を集光光学系を介して記録媒体上に集光させて画像を記録する際、光の発散する部位または集光する部位に配設した偏光分離素子によって光を正常光および異常光に分離し、記録媒体近傍の光軸上に複数の集光点を生成することにより、実質的に焦点深度を深く設定するとともに、位置検出手段により集光点に対する記録媒体の位置を求め、記録媒体の位置変動に応じて各集光点での光量配分を制御することにより、記録媒体上での集光効率を向上させ、これによって高精細な画像を記録することができる。
【0007】
この場合、偏光分離素子としては、光を正常光と異常光とに分離する一軸性結晶を用いることができる。この素子を光の発散する部位または集光する部位に配設することにより、正常光の集光点と異常光の集光点とを光軸上で分離することができる。
【0008】
また、前記偏光分離素子に入射する光を直線偏光とし、その偏光方向と偏光分離素子の結晶光軸の方向との関係を調整することにより、各集光点での光量の配分を制御することができる。この場合、例えば、記録媒体に近い方の集光点での光量を遠い方の集光点での光量よりも多くなるように制御すれば、実質的に記録媒体上で光を効率的に集光させることができる。
【0009】
なお、光量配分は、記録媒体と集光点との距離に応じて偏光分離素子を光軸の周りに回転制御し、あるいは、偏光分離素子の前段に配置した液晶素子等からなる電気光学効果素子を用いて偏光方向を制御することにより実現できる。また、電気光学効果素子の代わりに1/2波長板を用い、これを回転させることで偏光方向を制御することができる。さらに、2枚の1/4波長板を用い、一方を回転させるようにしてもよい。
【0010】
さらにまた、光源からの光を円偏光とし、この円偏光を回転制御される偏光板を通過させることにより所望の偏光方向からなる光を生成して偏光分離素子に導くようにしてもよい。
【0011】
なお、偏光分離素子を光の光軸に沿って複数配設することにより、記録媒体近傍での焦点深度を実質上さらに深く設定することができる。
【0012】
【発明の実施の形態】
図1および図2は、本発明の露光記録装置が適用されるレーザ記録装置10を示す。このレーザ記録装置10は、露光ヘッド12から出力されたレーザビームL(光)をドラム14上に装着されたフイルムF(記録媒体)に照射することで、面積変調画像を記録するようにしたものである。なお、フイルムFには、ドラム14が矢印X方向(主走査方向)に回転し、露光ヘッド12が矢印Y方向(副走査方向)に移動することで、2次元画像が形成される。また、面積変調画像とは、レーザビームLをオンオフ制御することで、フイルムF上に複数の画素を形成し、その画素の占める面積によって所定の階調が得られるようにした画像である。
【0013】
露光ヘッド12は、レーザビームLを出力する半導体レーザLD(光源)と、レーザビームLをフイルムF上に集光する集光光学系16とを備える。
【0014】
集光光学系16は、半導体レーザLD側より、集光レンズ28、シリンドリカルレンズ30、32、34、36、光量制御素子37(光量制御手段)、集光レンズ38および偏光分離素子40(複数焦点生成手段)が順に配列されている。なお、シリンドリカルレンズ30および34は、レーザビームLを副走査方向(矢印Y方向)にのみ集光し、シリンドリカルレンズ32および36は、レーザビームLを主走査方向(矢印X方向)にのみ集光する。
【0015】
光量制御素子37は、半導体レーザLDから出力された略直線偏光のレーザビームLの偏光方向を制御するもので、図3に示すように構成される。すなわち、光量制御素子37は、ネマティック液晶42を2枚の配向膜44、46で挟むことによりツイストネマティック液晶セルを構成し、このセルの両面に透明電極48、50を配設し、さらに、透明電極48、50を透明基板52、54によって挟んで構成される。なお、透明電極48、50間には、液晶制御回路56により所定の電圧が印加される。このように構成される光量制御素子37は、透明電極48、50間に電圧が印加されない場合には、図3に示すように、ネマティック液晶42が略直線偏光からなるレーザビームLの偏光方向を矢印Pa方向から矢印Pb方向に変換する。また、電圧が印加されると、レーザビームLの偏光方向は、その電圧に応じて任意の方向に変換される。
【0016】
偏光分離素子40は、レーザビームLが集光する部位に配設されており、図2および図4に示すように、レーザビームLを正常光Loと異常光Leとに分離して2つの焦点foおよびfeを生成する。この偏光分離素子40は、例えば、ニオブ酸リチウム(LN)、水晶、方解石等の一軸性結晶からなり、レーザビームLの光軸に略垂直な面内で直交する二軸の方向に対する屈折率が異なるように、結晶の光学軸がレーザビームLの光軸に対して傾斜して設定される。この場合、レーザビームLの透過効率を高めるため、偏光分離素子40の表面にARコーティングを施すと好適である。なお、焦点foおよびfeは、図2に示すように、ドラム14に装着された誤差がない状態におけるフイルムFの表面の正規の位置を挟むように設定する。
【0017】
さらに、集光光学系16は、フイルムFの記録位置に近接して距離検出素子58を備える。距離検出素子58は、ドラム14上に装着されたフイルムFまでの距離を検出するもので、例えば、レーザビームLのフイルムFによる反射光を検出することで距離信号を生成することができる。距離信号は、デフォーカス量算出回路60(位置検出手段)に供給される。デフォーカス量算出回路60は、前記距離信号に基づいて、集光光学系16によるレーザビームLの集光点である焦点foまたはfeとフイルムFの記録面との距離であるデフォーカス量を算出し、その量に応じた制御信号を液晶制御回路56に供給する。
【0018】
本実施形態のレーザ記録装置10は、基本的には以上のように構成されるものであり、次に、その作用効果について説明する。
【0019】
画像情報に応じて変調され、半導体レーザLDより出力されたレーザビームLは、集光レンズ28によって平行光束とされた後、シリンドリカルレンズ30、34によって副走査方向(矢印Y方向)のみが整形される一方、シリンドリカルレンズ32、36によって主走査方向(矢印X方向)のみが整形され、光量制御素子37、集光レンズ38および偏光分離素子40を介してドラム14上のフイルムFに集光される。
【0020】
ここで、集光レンズ38を通過したレーザビームLは、その集光部分に配設された偏光分離素子40によって、図4に示すように、「○および・」で示す図面に直交する直線偏光からなる正常光Loと、「双方向の矢印」で示す図面に沿った直線偏光からなる異常光Leとに分離される。この場合、偏光分離素子40に対するレーザビームLの入射角をθ1、正常光Loおよび異常光Leの屈折角をθ2oおよびθ2e、偏光分離素子40の正常光Loおよび異常光Leに対する屈折率をnoおよびneとすると、
sin θ1=no・sin θ2o
sin θ1=ne・sin θ2e
であり、偏光分離素子40を通過した正常光Loの焦点foと異常光Leの焦点feとの離間距離ΔLは、偏光分離素子40の光軸方向の厚さをtとして、
ΔL≒t・(1/no−1/ne)
となる。
【0021】
図5は、偏光分離素子40を用いない場合(ΔL=0μm)における集光光学系16の集光点fからの距離と、各距離でのレーザビームLのビーム径との関係を示す。Dfは、フイルムFに対する画像記録に許容される焦点深度である。一方、図6は、偏光分離素子40を用いて2つの集光点である焦点foおよびfeを生成した場合における集光点からの距離と、各距離でのレーザビームLのビーム径との関係を示す。Dfoeは、フイルムFに対する画像記録に許容される焦点深度である。この場合、偏光分離素子40を用いてレーザビームLを正常光Loおよび異常光Leに分離することにより、焦点深度Dfoeを大きくすることができる。
【0022】
さらに、本実施形態においては、集光光学系16に対するフイルムFまでの距離を距離検出素子58により検出し、その距離に応じて光量制御素子37を制御することで、フイルムF上でのレーザビームLのビーム径をさらに絞ることができる。
【0023】
すなわち、距離検出素子58は、フイルムFまでの距離を検出し、距離信号をデフォーカス量算出回路60に供給する。デフォーカス量算出回路60は、前記距離信号からレーザビームLの集光点とフイルムFの記録面との位置関係、例えば、正常光Loの焦点foとフイルムFの記録面との距離δf(図4参照)をデフォーカス量として算出し、その量に応じた制御信号を液晶制御回路56に供給する。液晶制御回路56は、前記制御信号に従い、光量制御素子37を構成する透明電極48、50間に所定の電圧を印加してネマティック液晶42の配向を制御し、光量制御素子37を透過するレーザビームLの偏光方向を調整する(図3参照)。
【0024】
この場合、図4において、偏光分離素子40に入射するレーザビームLの偏光方向に応じて正常光Loおよび異常光Leの光量が分配される。例えば、フイルムFの記録面が正常光Loの焦点fo上にあるときには(δf=0)、偏光分離素子40に入射するレーザビームLの偏光方向を図4の紙面に直交する方向に設定することにより、偏光分離素子40から射出されるレーザビームLを正常光Loのみとすることができる。従って、レーザビームLが焦点foにのみ集光されるため、ぼけのない高精細な画像を記録することができる。また、フイルムFの記録面が異常光Leの焦点fe上にあるときには(δf=ΔL)、偏光分離素子40に入射するレーザビームLの偏光方向を図4の紙面に平行となる方向に設定することにより、偏光分離素子40から射出されるレーザビームLを異常光Leのみとし、同様にしてぼけのない高精細な画像を記録することができる。さらに、フイルムFの記録面が焦点foとfeとの間にあるときには、焦点foからの距離δfに応じて偏光分離素子40に入射するレーザビームLの偏光方向を調整することにより、フイルムFの記録面にレーザビームLを効率的に集光させて高精細な画像を記録することができる。
【0025】
図7は、光量制御素子37および偏光分離素子40を用いない場合における集光光学系16の集光点fからの距離と、各距離でのレーザビームLの強度分布との関係を示す。この場合、集光点fからフイルムFの記録面が離間するにつれ、強度分布のなまりが急速に増大することが了解される。
【0026】
図8は、偏光分離素子40のみを用いた場合における集光光学系16の焦点foからの距離と、各距離でのレーザビームLの強度分布との関係を示す。この場合、焦点foとfeとの間では、強度分布のなまりが急速に増大することはない。
【0027】
図9は、光量制御素子37および偏光分離素子40を用いた場合における集光光学系16の焦点foからの距離と、各距離でのレーザビームLの強度分布との関係を示す。この場合、レーザビームLの強度分布は、図8に示す場合よりもさらになまりが抑制されている。この結果、フイルムFの記録面がレーザビームLの光軸方向に変動するようなことがあっても、レーザビームLを好適に集光し、高精細な画像を記録することができる。しかも、光量配分の制御は、光量制御素子37を電気的に制御することで行われるため、レーザビームLのフイルムFに対する高速走査に十分追従することができる。
【0028】
図10は、他の実施形態に係るレーザ記録装置70を示す。このレーザ記録装置70では、図1および図2に示すレーザ記録装置10におけるシリンドリカルレンズ32と34との間の発散部分に偏光分離素子72を挿入するとともに、集光レンズ28とシリンドリカルレンズ30との間に光量制御素子74を挿入している。なお、偏光分離素子72は、図1および図2に示す偏光分離素子40と同じ構成からなり、また、光量制御素子74は、図3に示す光量制御素子37と同じ構成からなる。
【0029】
このように構成されるレーザ記録装置70では、半導体レーザLDから出力されたレーザビームLは、前段に配置された偏光分離素子72によって正常光と異常光とに分離された後、後段に配置された偏光分離素子40によって正常光および異常光の夫々がさらに正常光および異常光に分離される。従って、フイルムFに対しては、集光点の異なる4本のレーザビームLが導かれることになる。
【0030】
図11は、偏光分離素子40および72を用いて4つの集光点である焦点fo1、fe1およびfo2、fe2を生成した場合における集光点からの距離と、各距離でのレーザビームLのビーム径との関係を示す。なお、焦点fo1、fe1は、偏光分離素子72によって分離されたレーザビームLの正常光を偏光分離素子40によってさらに分離して得られた正常光および異常光による集光点とし、焦点fo2、fe2は、偏光分離素子72によって分離されたレーザビームLの異常光を偏光分離素子40によってさらに分離して得られた正常光および異常光による集光点とする。この場合、フイルムFに対する画像記録に許容される焦点深度Df12は、偏光分離素子40のみを用いた場合の焦点深度Dfoe(図6参照)よりもさらに大きくすることができる。
【0031】
ここで、光量制御素子37および74を用いて、各焦点fo1、fe1およびfo2、fe2でのレーザビームLの光量配分を制御する場合、例えば、フイルムFの記録面が焦点fo1、fe1側にあるとすると、偏光分離素子72より射出されるレーザビームLが正常光のみとなるように、光量制御素子74を制御する。すなわち、偏光分離素子72に入射するレーザビームLの偏光方向がそれより射出される正常光の偏光方向と一致するように、光量制御素子74を制御することにより、レーザビームLを焦点fo1およびfe1のみに集光させる。次いで、光量制御素子37を制御し、図1および図2に示す実施形態の場合と同様に、フイルムFの記録面に対する集光点の位置に応じて各焦点fo1、fe1での光量配分を調整することにより、レーザビームLを好適に集光し、高精細な画像を記録することができる。
【0032】
また、フイルムFの記録面が焦点fo2、fe2側にある場合には、偏光分離素子72より射出されるレーザビームLが異常光のみとなるように、光量制御素子74を制御する。すなわち、偏光分離素子72に入射するレーザビームLの偏光方向がそれより射出される異常光の偏光方向と一致するように、光量制御素子74を制御することにより、レーザビームLを焦点fo2およびfe2のみに集光させる。次いで、光量制御素子37を制御し、図1および図2に示す実施形態の場合と同様に、フイルムFの記録面に対する集光点の位置に応じて各焦点fo2、fe2での光量配分を調整することにより、レーザビームLを好適に集光し、高精細な画像を記録することができる。
【0033】
なお、上述した実施形態において、距離検出素子58を用いてデフォーカス量をリアルタイムで測定する代わりに、予めデフォーカス量を測定し、フイルムFの記録面の2次元位置に対するデフォーカス量テーブルとして記憶させておき、このデータを前記制御信号として液晶制御回路56に供給するようにしてもよい。
【0034】
また、レーザビームLの偏光方向を制御するものとしては、ネマティック液晶42を用いる代わりに、反強誘電性液晶、表面安定化強誘電性液晶、PLZT等を用いることができる。さらに、光量制御素子37、74を用いる代わりに、デフォーカス量に応じて偏光分離素子40、72を直接レーザビームLの光軸の周りに回転制御するようにしてもよい。
【0035】
さらにまた、光量制御素子37、74を1/2波長板とし、これをデフォーカス量に応じて回転制御するように構成すれば、レーザビームLが良好な直線偏光でなくても、それを直線偏光に変換できるとともに、偏光方向をデフォーカス量に応じて制御することができる。
【0036】
また、光量制御素子37、74をデフォーカス量に応じて回転制御される第1の1/4波長板と、入射するレーザビームLの偏光方向に対して屈折率一定の方向を45゜に傾斜させて設定した第2の1/4波長板とで構成すれば、直線偏光と円偏光との間の任意の偏光状態からなるレーザビームLを生成して偏光分離素子40、72に導くことができる。
【0037】
また、光量制御素子37、74をデフォーカス量に応じて回転制御される偏光板とすれば、入射する光が円偏光の場合、その偏光方向を制御できるとともに、当該偏光板を透過するレーザビームLの光量を偏光方向によらず一定とすることができるため、集光点における光量制御をより容易且つ正確に行うことができる。
【0038】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る露光記録装置によれば、集光点に対する記録媒体の位置変動に応じて光量を制御することができ、廉価な構成によって光源からの光を高精度に記録媒体上に集光させ、高精細な画像を記録することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施形態のレーザ記録装置の斜視構成図である。
【図2】図1に示すレーザ記録装置の平面構成図である。
【図3】図1に示すレーザ記録装置に使用される光量制御素子の構成説明図である。
【図4】偏光分離素子によりレーザビームが分離され、2つの焦点が形成されることを説明するための図である。
【図5】単一の集光点を形成した場合におけるビーム径の説明図である。
【図6】2つの集光点を形成した場合におけるビーム径の説明図である。
【図7】1つの集光点を形成した場合における集光点からの距離とレーザビームの強度分布との関係説明図である。
【図8】2つの集光点を形成した場合における集光点からの距離とレーザビームの強度分布との関係説明図である。
【図9】2つの集光点を形成し、且つ、各集光点での光量分布を制御した場合における集光点からの距離とレーザビームの強度分布との関係説明図である。
【図10】他の実施形態であるレーザ記録装置の平面構成図である。
【図11】4つの集光点を形成した場合におけるビーム径の説明図である。
【符号の説明】
10、70…レーザ記録装置 12…露光ヘッド
14…ドラム 16…集光光学系
37、74…光量制御素子 40、72…偏光分離素子
56…液晶制御回路 58…距離検出素子
60…デフォーカス量算出回路 F…フイルム(記録媒体)
LD…半導体レーザ

Claims (10)

  1. 光源からの光を記録媒体に導いて画像を記録する露光記録装置において、
    前記光源から出力された光を集光して記録媒体に導く集光光学系と、
    前記光の発散する部位または集光する部位に配設され、前記光を正常光と異常光とに分離することで、前記集光光学系の焦点を、前記光の光軸に沿って前記記録媒体近傍に複数生成する偏光分離素子と、
    前記焦点に対する前記記録媒体の位置を検出する位置検出手段と、
    検出された前記記録媒体の位置に基づき、前記偏光分離素子に入射する前記光の偏光方向を調整し、前記各焦点に対する前記光の光量配分を制御する光量制御手段と、
    を備えることを特徴とする露光記録装置。
  2. 請求項記載の装置において、
    前記光は、直線偏光であり、前記光量制御手段は、前記焦点に対する前記記録媒体の位置に応じて前記偏光分離素子を光軸の周りに回転制御することを特徴とする露光記録装置。
  3. 請求項記載の装置において、
    前記光は、直線偏光であり、前記光量制御手段は、前記焦点に対する前記記録媒体の位置に基づき、前記複数焦点生成手段に入射する前記光の偏光方向を制御する電気光学効果素子を備えることを特徴とする露光記録装置。
  4. 請求項記載の装置において、
    前記電気光学効果素子は、液晶素子であることを特徴とする露光記録装置。
  5. 請求項1記載の装置において、
    前記光量制御手段は、前記焦点に対する前記記録媒体の位置に応じて前記光の偏光方向を制御すべく回転制御される1/2波長板であることを特徴とする露光記録装置。
  6. 請求項1記載の装置において、
    前記光量制御手段は、前記焦点に対する前記記録媒体の位置に応じて前記光の偏光を制御すべく回転制御される第1の1/4波長板と、前記第1の1/4波長板を通過した前記光を前記偏光分離素子に導く第2の1/4波長板とからなることを特徴とする露光記録装置。
  7. 請求項1記載の装置において、
    前記光は、円偏光であり、前記光量制御手段は、前記焦点に対する前記記録媒体の位置に応じて前記光の偏光方向を制御すべく回転制御される偏光板からなることを特徴とする露光記録装置。
  8. 請求項のいずれかに記載の装置において、
    前記偏光分離素子は、前記光の光軸に沿って複数配設されることを特徴とする露光記録装置。
  9. 請求項1〜のいずれかに記載の装置において、
    前記偏光分離素子は、一軸性結晶であることを特徴とする露光記録装置。
  10. 請求項1〜のいずれかに記載の装置において、
    前記光源から出力される前記光は、前記記録媒体を2次元的に走査して画像を記録し、前記位置検出手段は、前記記録媒体の前記光による走査位置毎に前記焦点に対する前記記録媒体の位置を検出することを特徴とする露光記録装置。
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