JPH07146448A - レーザ走査装置 - Google Patents

レーザ走査装置

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JPH07146448A
JPH07146448A JP29342893A JP29342893A JPH07146448A JP H07146448 A JPH07146448 A JP H07146448A JP 29342893 A JP29342893 A JP 29342893A JP 29342893 A JP29342893 A JP 29342893A JP H07146448 A JPH07146448 A JP H07146448A
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Japan
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reflecting mirror
plane reflecting
laser
plane
microscope
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JP29342893A
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Koji Ichie
更治 市江
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 走査によって光束の横振れが生じないレーザ
走査装置を提供する。 【構成】 レーザ光源11から出射されたレーザビーム
は、Y1軸を中心に回動するX平面反射鏡13に照射さ
れる。X平面反射鏡13からの反射光は、これの回動軸
から距離Dだけ離隔して配置されたY平面反射鏡15に
照射される。なお、Y平面反射鏡15の回動軸(X1軸
とする)は、X平面反射鏡13の回動軸(Y1軸)に直
交するとともに、これから距離Dだけ離隔している。Y
平面反射鏡15からの反射光は、再びX平面反射鏡13
に入射した後、接眼レンズ16,17および対物レンズ
18,19を介して試料20に照射される。顕微鏡MS
は、X平面反射鏡13で2度反射されたレーザビームが
接眼レンズ16,17を介して鏡筒21内に入射するよ
うに配置されている。そして、試料20を透過した光束
は、集光レンズ22を介して光検出器23に入射され
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、2次元にレーザ光を走
査するレーザ走査装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、レーザ走査装置を用いた走査型レ
ーザ顕微鏡としては、図8に示す構造のものが利用され
ている。この走査型レーザ顕微鏡は、互いに直交する回
動軸を有する2枚の平面反射鏡にレーザビームを入射さ
せ、その反射光を顕微鏡に入射させるものである。すな
わち、この走査型レーザ顕微鏡は以下のように動作す
る。
【0003】まず、レーザ光源101から出射されたレ
ーザ光は、Z軸を中心に回動するX平面反射鏡103に
照射される。なお、このX平面反射鏡103の回動は、
Z軸に回動軸が固定された回動用のXガルバノ駆動機構
102によって制御される。
【0004】次に、X平面反射鏡103からの反射光
は、これの回動軸から距離Dだけ離隔して配置されたY
平面反射鏡105に照射される。なお、Y平面反射鏡1
05の回動軸(X軸とする)は、X平面反射鏡103の
回動軸に直交するとともに、これから距離Dだけ離隔し
ている。そして、Y平面反射鏡105の回動は、X軸に
回動軸が固定された回動用のYガルバノ駆動機構104
によって制御される。そして、Y平面反射鏡105から
の反射光は、入射面がZ軸方向に向けられた接眼レンズ
106,107および対物レンズ108から構成される
顕微鏡MSを介して試料109に照射される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなレーザ走査装置においては、同図に示すように、顕
微鏡MS側から見たレーザビームの振れ角中心点は、Y
平面反射鏡105の光軸(Z軸)方向にX平面反射鏡1
03とY平面反射鏡105との間隔Dだけずれることと
なる。すなわち、顕微鏡MSに入射する光束の瞳位置を
顕微鏡の瞳位置(アポイント)に正しく合わせることが
できない。換言すれば、一方の走査面(X平面反射鏡1
03,Y平面反射鏡105)内の光束の瞳位置を合わせ
た場合、他方の走査面(Y平面反射鏡105,X平面反
射鏡103)内の光束の瞳合わせは不可能となる。
【0006】このため、瞳位置が合わない状態では、顕
微鏡の瞳面内でレーザビームが横振れすることとなり、
レーザビームは、一般にその断面強度分布が正規分布を
しているので、走査角度の大きいところでは試料109
を走査するレーザビームスポットの強度が低下し、所謂
シェーディング現象が生ずる。
【0007】本発明は以上の問題に鑑みてなされたもの
であり、走査によって光束の横振れが生じないレーザ走
査装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るため、本発明は、入射されたビームを2次元上に走査
するレーザ走査装置を対象とするものであり、ビームの
走査方向に直交する回動軸を中心に回動可能であり、ビ
ームが入射される第1の反射鏡と、この回動軸に直交す
る回動軸を中心に回動可能な第2の反射鏡とを備え、第
1の反射鏡から反射されたビームが第2の反射鏡に入射
し、第2の反射鏡で反射されたビームが再度第1の反射
鏡に入射するようにした。
【0009】
【作用】かかるレーザ走査装置によれば、まず、入射ビ
ームは第1の反射鏡に入射される。次に、第1の反射鏡
をこれの回転軸を中心として回動することによって、こ
れからの反射ビームを第2の反射鏡に向かって(X方向
に)走査する。しかる後、この第2の反射鏡が、第1の
反射鏡の回動軸に直交した回動軸を中心に回動すること
によって、これへの入射ビームを再度第1の反射鏡に向
かって(Y方向に)走査する。このようにして第1の反
射鏡に入射されたビームは、XY平面上を走査すること
ができる。そして、このX方向の走査とY方向の走査の
際に、それぞれの反射鏡によるビームの振れ角中心は一
致するので、ビームを顕微鏡などの光学機器に入射する
際に、顕微鏡の瞳面内でビームが横振れすることがな
い。なお、X方向とY方向とは直交しているものとす
る。
【0010】さらに、第1の反射鏡が、これの回動軸を
交線として所定角度で交差した1対の平面反射鏡から構
成されていることにより、第2の反射鏡に入射するビー
ムの経路を任意にすることができるので、ビームの入射
方向を任意に設定することができる。
【0011】
【実施例】以下、本発明のレーザ走査装置に係る一実施
例を添付図面に基づいて説明する。なお、同一要素には
同一符号を用い、重複する説明は省略する。図1は、本
発明の第1実施例に係るレーザ走査装置を用いた透過型
レーザ走査顕微鏡の斜視構成を示す図である。同図に示
すように、まず、レーザ光源11から出射されたレーザ
ビームは、Y1軸を中心に回動するX平面反射鏡13に
照射される。なお、このX平面反射鏡13の回動は、Y
1軸に回動軸が固定された回動用のXガルバノ駆動機構
12によって制御される。
【0012】次に、X平面反射鏡13からの反射光は、
これの回動軸から距離Dだけ離隔して配置されたY平面
反射鏡15に照射される。なお、Y平面反射鏡15の回
動軸(X1軸とする)は、X平面反射鏡13の回動軸
(Y1軸)に直交するとともに、これから距離Dだけ離
隔している。そして、Y平面反射鏡15の回動は、X1
軸に回動軸が固定された回動用のYガルバノ駆動機構1
4によって制御される。そして、Y平面反射鏡15から
の反射光は、再びX平面反射鏡13に入射した後、接眼
レンズ16,17および対物レンズ18,19を介して
試料20に照射される。なお、これら接眼レンズ16,
17および対物レンズ108は鏡筒21内に収納されて
顕微鏡MSを構成しており、また、顕微鏡MSは、X平
面反射鏡13で2度反射されたレーザビームが接眼レン
ズ16,17を介して鏡筒21内に入射するように配置
されている。
【0013】そして、試料20を透過した光束は、集光
レンズ22を介して光検出器23に入射される。光検出
器23は、フォトダイオード(PD)やフォトマルチプ
ライヤー(PMT)などから構成されており、この透過
光を検出する。そして、光検出器23からの出力信号
は、制御装置24に入力される。なお、制御装置24で
は、レーザ光を走査するためにXガルバノ駆動機構12
およびYガルバノ駆動機構14を駆動させており、光検
出器23からの出力信号は、制御装置24内でXガルバ
ノ駆動機構12およびYガルバノ駆動機構14の駆動と
同期してサンプリングされ、フィルターを通してノイズ
成分が除去された後にAD変換されてフレームメモリー
に格納される。また、このようなフレーム単位の画像信
号は、制御装置24に接続されたCRT25等(液晶デ
ィスプレイを含む)に表示される。
【0014】次に、図1に示したレーザ走査装置の動作
原理を光の伝搬経路を光学的に展開した等価光学系を用
いて説明する。この等価光学系を図2に示す。同図に
は、間隔Dを保持して離隔したX平面反射鏡13とY平
面反射鏡15とが示されるとともに、これらの虚像が示
されている。すなわち、第1Y平面反射鏡虚像150
は、Y平面反射鏡15のX平面反射鏡13による虚像
を、第1X平面反射鏡虚像130は、X平面反射鏡13
のY平面反射鏡15による虚像を、第2X平面反射鏡虚
像131は、第1X平面反射鏡虚像130のX平面反射
鏡13による虚像を表している。
【0015】そして、この等価光学系を用いれば、X平
面反射鏡13にレーザビームが入射することは、第2X
平面反射鏡虚像131に入射することと等価である。こ
こで、X平面反射鏡13が、Y1軸を中心に角度δだけ
回動したとすると、これからの反射ビームは、第2X平
面反射鏡虚像131からの反射ビームの経路から明らか
なように、紙面内で角度2δだけ振られる。次に、この
反射ビームは、Y平面反射鏡15に達する。そして、Y
平面反射鏡15にレーザビームが入射することは、第1
Y平面反射鏡虚像150に入射することと等価であり、
Y平面反射鏡15 (第1Y平面反射鏡虚像150)の
回動軸(X1軸)は、Y1軸に直交しているので、反射
ビームの紙面内の成分には影響を与えず、等価光学系で
はそのまま進み、X平面反射鏡13に達する。
【0016】この際、X平面反射鏡13は角度δ回動し
ているので、レーザビームは更に角度2δだけ振られ、
全体で4δ振られて顕微鏡MSに入射することになる。
ここで、同図から明らかなように、第2X平面反射鏡虚
像131と第1Y平面反射鏡虚像150との距離および
第1Y平面反射鏡虚像150とX平面反射鏡13との距
離は共にX平面反射鏡13とY平面反射鏡15との距離
Dに等しいので、顕微鏡MS側から観察すると、4δの
角度で出射される光線は、第2X平面反射鏡虚像131
とX平面反射鏡13との中間点、すなわち第1Y平面反
射鏡虚像150の位置から出射されることと等価であ
る。よって、紙面に垂直な方向に振れる成分は、Y平面
反射鏡15の回動によって生じるので、その振れ角中心
は等価光学系では第1Y平面反射鏡虚像150の位置、
すなわち紙面内に振られる成分の振れ角中心と一致す
る。
【0017】以上、説明したように、本実施例のレーザ
走査装置によれば、レーザビームのX−Y走査の際に、
X平面反射鏡13とY平面反射鏡15とから構成される
光学系において、それぞれの軸方向に走査を行う場合の
振れ角中心は一致するので、顕微鏡MSの瞳面内でレー
ザビームが横振れすることがない。また、付加的効果と
して、同一の振れ角を得るのにX平面反射鏡13の回動
角は1/2で済むこととなり、したがって、低消費エネ
ルギーでスキャナ(X平面反射鏡13とY平面反射鏡1
5)を高速走査することができる。さらに、スキャナー
の回動角が小さいので、ビーム走査の直線性を高精度に
保持することが可能である。
【0018】このようなレーザ走査装置は、高精度を要
する種々の装置に適用され得る。図3は、図1に記載の
レーザ走査装置を用いた反射型レーザ顕微鏡の斜視構成
を示す図である。この反射型レーザ顕微鏡は、試料20
からの反射光を検出する構成としたものである。レーザ
光源11から出射された光ビームはレーザ光源11とX
平面反射鏡13との光路上に設けられたハーフミラー2
6を介してX平面反射鏡13に入射する。そして、この
光は図1の透過型レーザ顕微鏡と同様の経路を辿って試
料20に到達する。試料20からの反射光は、入射時と
同じ経路を溯ってハーフミラー26に再到達し、ここで
反射されてハーフミラー26の反射光経路上に設置され
た光検出器23で検出される。以下、光検出器23から
の出力信号は、図1の透過型レーザ顕微鏡と同様に処理
され、CRT等25上に試料20の拡大像が表示され
る。なお、Xガルバノ駆動機構12およびYガルバノ駆
動機構14もこの透過型レーザ顕微鏡のものと同等に制
御される。
【0019】また、略同様の構成でハーフミラー26を
ダイクロイックミラーにて構成することにより、試料2
0からの螢光を光検出器23で検出し、螢光顕微鏡を構
成することができる。
【0020】また、図4は図1に示したレーザ走査装置
を用いたレーザ描画装置の斜視構成を示す図である。レ
ーザ光源11から出射された光ビームはレーザ光源11
とX平面反射鏡13との光路上に設けられた液晶シャッ
ター27を介してX平面反射鏡13に入射する。そし
て、この光は図1の透過型レーザ顕微鏡と同様の経路を
辿って試料20に到達する。そして、試料20に描画を
行う場合には、制御装置24内のフレームメモリーに蓄
積されている映像信号の読み出しに同期して、Xガルバ
ノ駆動機構12およびYガルバノ駆動機構14を駆動し
試料20に照射されるレーザ光を走査するとともに、液
晶シャッター27を制御して液晶シャッター27を透過
するレーザ光源11からのレーザ光を制御する。そし
て、この描画は、例えば特定の波長の光に感応するフォ
トレジストを試料20の表面に塗布した後、この波長成
分を有するレーザ光を試料20に照射することにより、
行うことが可能である。
【0021】また、光モジュレータとしての液晶シャッ
ター27は、これの代わりに音波による光の回折を利用
したAOM(音響光学変調素子)を用いることとしても
よい。AOMは、これに印加する高周波により、一種の
可変回折格子として動作するため、特定周波数成分を有
した光を選択的にX平面反射鏡13に入射することがで
きる。そして、多波長発振レーザ(例えば、アルゴンイ
オンレーザ)を使うと、このような変調を行うことによ
り、感応波長帯の異なるフォトレジストを多層に積層し
た後に波長選択されたレーザ光を試料20に照射して3
次元的な描画を行うこともできる。なお、レーザ光源1
1としては、He−Neレーザや半導体レーザを用いる
ことができる。そして、レーザ光源11として半導体レ
ーザを用いた場合には、液晶シャッター27を用いず
に、半導体レーザに供給する駆動電流を制御装置24で
制御することによっても描画を行うことが可能である。
また、レーザ光源11からの高出力の光を出射すること
により、かかるレーザ描画装置をレーザ加工機とするこ
とができる。
【0022】しかしながら、第1実施例のレーザ走査装
置を図1または図3〜4のような実際の装置に適用する
場合には、いくつかの改良すべき点がある。その1つ
は、レーザ走査装置の実装体積の低減である。本発明の
第2実施例に係るレーザ走査装置は、第1実施例にこの
ような改善を施したものである。本実施例の構成を図5
に示す。
【0023】本実施例は、図1に記載したレーザ走査装
置のX平面反射鏡13とY平面反射鏡15の回動軸を入
れ替えた構造を有している。すなわち、X平面反射鏡1
3は、図1のX1軸を中心に回動し、Y平面反射鏡15
は図1のY1軸を中心に回動する。そして、X平面反射
鏡13の回動軸(X1軸)は、X平面反射鏡13の長手
方向と一致しているので、これの慣性モーメントが小さ
く、振幅が1/2で済むことと相俟って低消費電力で高
速走査が可能である。さらに、Y平面反射鏡15の回動
軸(Y1軸)が紙面に垂直であるので、Y平面反射鏡1
5と図示しないY平面反射鏡15駆動用のYガルバノ駆
動機構とから構成されるミラー駆動機構(ガルバノメー
タ等)が光路を妨害することがない。そして、このよう
な構成とすることによって、実装体積の低減が可能とな
る。
【0024】レーザ走査装置を実際のレーザ走査装置鏡
に搭載する場合のいま1つの改善点としては、レーザビ
ームの入射方向と出射方向を設定する際の自由度の増加
である。本発明の第3および第4実施例は、かかる改善
を行うとともに、装着容積の低減をさらに図ったもので
ある。
【0025】本発明の第3実施例に係るレーザ走査装置
の構成を図6に示す。本実施例は、第1実施例のX平面
反射鏡13に代えて、2枚の鈍角に交わる平面反射鏡か
ら構成されるX平面反射鏡413を採用したものであ
る。なお、このX平面反射鏡413の回動軸(Y1軸)
は、これらの平面反射鏡の交線と一致している。同図に
示すように、このような構成とすることによって、レー
ザ光源11を顕微鏡MS内を通過する光の光軸に対して
垂直に配置することができる。
【0026】本発明の第4実施例に係るレーザ走査装置
の構成を図7に示す。本実施例は、レーザ光源11をそ
の出射ビームの方向が、顕微鏡MS内を通過する光の光
軸方向と略一致するように配置するとともに、第1実施
例のX平面反射鏡13に代えて、2枚の直角に交わる平
面反射鏡から構成されるX平面反射鏡513を採用し、
Y平面反射鏡15の回動軸(X1軸)の方向をレーザ光
源11からの出射ビーム方向と一致させたものである。
なお、X平面反射鏡513の回動軸(Y1軸)は、これ
らを構成する平面反射鏡の交線と一致している。以上、
第4および第3実施例によれば、X平面反射鏡513を
構成する平面反射鏡の交差角度を調整することにより、
レーザ光源11からの出射ビームと顕微鏡MSへの入射
ビームの位置を任意に設定することが可能である。
【0027】また、本発明は上記実施例に限られるもの
ではなく、上記第1〜第4実施例に用いたY平面反射鏡
15は、これと同一の回転軸を有する特公平5−148
84号公報に開示されているような回転多面鏡を用いる
こととしてもよい。なお、上記第2〜4実施例のレーザ
走査装置は、図3および図4に示したような、反射型レ
ーザ顕微鏡、螢光顕微鏡、レーザ描画装置、レーザ加工
機に適用することができる。
【0028】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、直交する
X方向とY方向の走査の際に、第1の反射鏡と第2の反
射鏡によるビームの振れ角中心は一致するので、ビーム
が横振れすることがない。そして、第1の反射鏡が、こ
れの回動軸を交線として所定角度で交差した1対の平面
反射鏡から構成されている場合には、ビームの入射方向
を任意に設定することができるばかりでなく、装置全体
を小型化することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例に係るレーザ走査装置を用
いた透過型レーザ顕微鏡の斜視構成を示す図である。
【図2】図1に示したレーザ走査装置の等価光学系を示
す図である。
【図3】本発明の第1実施例に係るレーザ走査装置を用
いた反射型レーザ顕微鏡の斜視構成を示す図である。
【図4】本発明の第1実施例に係るレーザ走査装置を用
いたレーザ描画装置の斜視構成を示す図である。
【図5】本発明の第2実施例に係るレーザ走査装置の構
成を説明するための説明図である。
【図6】本発明の第3実施例に係るレーザ走査装置の構
成を説明するための説明図である。
【図7】本発明の第4実施例に係るレーザ走査装置の構
成を説明するための説明図である。
【図8】従来のレーザ走査装置の斜視構成を説明するた
めの図である。
【符号の説明】
11,101…レーザ光源、12,102…Xガルバノ
駆動機構、13,413,513,103…X平面反射
鏡、14,104…Yガルバノ駆動機構、15,105
…Y平面反射鏡、16,17,106,107…接眼レ
ンズ、18,19,108…対物レンズ、20,109
…試料、21…鏡筒、22…集光レンズ、23…光検出
器、24…制御装置、25…CRT、26…ハーフミラ
ー、27…液晶シャッター、MS…顕微鏡、130…第
1X平面反射鏡虚像、131…第2X平面反射鏡虚像、
150…第1Y平面反射鏡虚像。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 入射されたビームを2次元に走査するレ
    ーザ走査装置であって、 ビームの走査方向に直交する第1の回動軸を中心に回動
    可能であり、前記ビームが入射される第1の反射鏡と、 前記第1の回動軸に直交する第2の回動軸を中心に回動
    可能な第2の反射鏡と、を備え、 前記第1の反射鏡から反射されたビームが前記第2の反
    射鏡に入射し、前記第2の反射鏡で反射されたビームが
    再度前記第1の反射鏡に入射するようにしたことを特徴
    とするレーザ走査装置。
  2. 【請求項2】 前記第1の反射鏡が、前記第1の回動軸
    を交線として所定角度で交差した1対の平面反射鏡から
    構成されていることを特徴とする請求項1に記載のレー
    ザ走査装置。
JP29342893A 1993-11-24 1993-11-24 レーザ走査装置 Pending JPH07146448A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP1617273A1 (en) * 2004-07-12 2006-01-18 Olympus Corporation Optical-scanning microscope apparatus
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