JPH0318491A - レーザ印字装置 - Google Patents
レーザ印字装置Info
- Publication number
- JPH0318491A JPH0318491A JP1152783A JP15278389A JPH0318491A JP H0318491 A JPH0318491 A JP H0318491A JP 1152783 A JP1152783 A JP 1152783A JP 15278389 A JP15278389 A JP 15278389A JP H0318491 A JPH0318491 A JP H0318491A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- mirror scanner
- scanner
- liquid crystal
- characters
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000007648 laser printing Methods 0.000 title claims description 9
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims abstract description 19
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 12
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims abstract description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 abstract description 4
- 230000004931 aggregating effect Effects 0.000 abstract 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 238000010330 laser marking Methods 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000010187 selection method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/064—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
- B23K26/066—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms by using masks
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/08—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
- B23K26/082—Scanning systems, i.e. devices involving movement of the laser beam relative to the laser head
- B23K26/0821—Scanning systems, i.e. devices involving movement of the laser beam relative to the laser head using multifaceted mirrors, e.g. polygonal mirror
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は，レーザ光により文字や図形を刻印面に刻印す
るレーザ印字装置に関する。
るレーザ印字装置に関する。
［従来の技術］
従来，レーザ印字装置としては，
（１）レーザ光を金属マスク面に直接，かつ，スポット
に照射し，該照射部を蒸発させ，文字や図形を刻印する
もの， （２）２枚のミラーをガルパノスキャナ等で縦横操作し
，これらガルバノミラーを介し，文字や図形を刻印面に
刻印するもの， （３）偏向板と液晶とを用い，この液晶に任意に文字や
図形を形戊せしめ，レーザ光にコントラストを付与し，
刻印面にこれらの文字や図形を刻印するもの， 以上のものが知られる。
に照射し，該照射部を蒸発させ，文字や図形を刻印する
もの， （２）２枚のミラーをガルパノスキャナ等で縦横操作し
，これらガルバノミラーを介し，文字や図形を刻印面に
刻印するもの， （３）偏向板と液晶とを用い，この液晶に任意に文字や
図形を形戊せしめ，レーザ光にコントラストを付与し，
刻印面にこれらの文字や図形を刻印するもの， 以上のものが知られる。
［発明が解決しようとする課題コ
しかしながら，上記従来のレーザ印字装置には次に掲げ
る不都合がある。叩ち， （１）金属マスク方式は，レーザ照射を直接行うため，
文字や図形を任意に刻印することができないという不都
合がある。また金属マスクのミラーによる選択法におい
ては文字や図形の種類が限られるという欠点がある。
る不都合がある。叩ち， （１）金属マスク方式は，レーザ照射を直接行うため，
文字や図形を任意に刻印することができないという不都
合がある。また金属マスクのミラーによる選択法におい
ては文字や図形の種類が限られるという欠点がある。
（２）２枚のミラーとそのガルバノスキャナとによる方
式は，任意な文字や図形を刻印しようとすると，ガルパ
ノスキャナの縦横操作のための制御系が複雑となる。こ
のため，ハードウエア及びソフトウエアが大掛りになっ
てしまうという不都合がある。
式は，任意な文字や図形を刻印しようとすると，ガルパ
ノスキャナの縦横操作のための制御系が複雑となる。こ
のため，ハードウエア及びソフトウエアが大掛りになっ
てしまうという不都合がある。
（３）偏向板と液晶とによる方式では，偏向板において
３０〜４０％の透過率ロスが生ずるため，印字のための
レーザパワーが小さくなる。このため，そのロスバワー
分だけレーザ発振器を大型化する必要がある。かかる結
果，装置全体が大型化し，かつ，高価になるという不都
合がある。しかも大型化するにも，液晶を損なわない程
度の大型出力のレーザ発振器に限定されるという不都合
がある。
３０〜４０％の透過率ロスが生ずるため，印字のための
レーザパワーが小さくなる。このため，そのロスバワー
分だけレーザ発振器を大型化する必要がある。かかる結
果，装置全体が大型化し，かつ，高価になるという不都
合がある。しかも大型化するにも，液晶を損なわない程
度の大型出力のレーザ発振器に限定されるという不都合
がある。
本発明は上記従来の問題に鑑み，任意な文字や図形を，
小容量のレーザ発振器で，しかも場積をとることなく，
容易に，かつ，高精度に刻印できるレーザ印字装置を提
供することを目的とする。
小容量のレーザ発振器で，しかも場積をとることなく，
容易に，かつ，高精度に刻印できるレーザ印字装置を提
供することを目的とする。
［課題を解決するための手段コ
上記目的を達戒するため，本発明に係わるレーザ印字装
置は，第ｌ図を参照し説明すれば，レーザ発振器ｌから
刻印面６までの間のレーザ光路Ｓ上に，順に，ポリゴン
ミラースキャナ２と，ガルバノミラースキャナ３と，透
過散乱型液晶マスク４と，オプチカルファイバ集合レン
ズ５とを備えるｉｓとした。尚，ポリゴンミラースキャ
ナ２とガルバノミラースキャナ３との順は逆であっても
よい。更に，ガルバノミラースキャナ３については，い
わゆるＡＣモータ又はステップモータ等の制御容易な高
速モータにより駆動されるミラースキャナであってもよ
い。
置は，第ｌ図を参照し説明すれば，レーザ発振器ｌから
刻印面６までの間のレーザ光路Ｓ上に，順に，ポリゴン
ミラースキャナ２と，ガルバノミラースキャナ３と，透
過散乱型液晶マスク４と，オプチカルファイバ集合レン
ズ５とを備えるｉｓとした。尚，ポリゴンミラースキャ
ナ２とガルバノミラースキャナ３との順は逆であっても
よい。更に，ガルバノミラースキャナ３については，い
わゆるＡＣモータ又はステップモータ等の制御容易な高
速モータにより駆動されるミラースキャナであってもよ
い。
［作用１
かかる第１発明の構或であれば，レーザ発振器１から発
振されたレーザ光Ｓは，まずポリゴンミラースキャナ２
に照射される。ポリゴンミラースキャナ２は数千回転／
分のモータ軸に複数枚のミラーを多角形に備えた溝戊で
あり，回転するミラ一への入射レーザ光は，図示Ｘ−Ｘ
方向に幅をもって反射する。この反射レーザ光はガルバ
ノミラースキャナ３に入射する。そして，このガルバノ
ミラースキャナ３の反射レーザ光は，図示Ｙ−Ｙ方向に
幅をもって反射する。即ち，ポリゴンミラースキャナ２
と，ガルバノミラースキャナ３とにより，ｘ−ｙ方向（
簡単に言えば，縦横方向）に走査される。そして走査さ
れつつ，透過散乱型液晶マスク４の全面域に照射される
。この透過散乱型液晶マスク４には図形や文字が任意に
形或される。そして，文字や図形に相当する部位を透過
したレーザ光のみがオプチカルファイバ集合レンズ５を
経て，刻印面６に至り，ここにこれらの文字や図形を刻
印する。透過散乱型液晶マスク４において，図形や文字
を形威しない部位（即ち，透過しない部位）のレーザ光
はその部位において散乱するため，被検体に影響を与え
ない。
振されたレーザ光Ｓは，まずポリゴンミラースキャナ２
に照射される。ポリゴンミラースキャナ２は数千回転／
分のモータ軸に複数枚のミラーを多角形に備えた溝戊で
あり，回転するミラ一への入射レーザ光は，図示Ｘ−Ｘ
方向に幅をもって反射する。この反射レーザ光はガルバ
ノミラースキャナ３に入射する。そして，このガルバノ
ミラースキャナ３の反射レーザ光は，図示Ｙ−Ｙ方向に
幅をもって反射する。即ち，ポリゴンミラースキャナ２
と，ガルバノミラースキャナ３とにより，ｘ−ｙ方向（
簡単に言えば，縦横方向）に走査される。そして走査さ
れつつ，透過散乱型液晶マスク４の全面域に照射される
。この透過散乱型液晶マスク４には図形や文字が任意に
形或される。そして，文字や図形に相当する部位を透過
したレーザ光のみがオプチカルファイバ集合レンズ５を
経て，刻印面６に至り，ここにこれらの文字や図形を刻
印する。透過散乱型液晶マスク４において，図形や文字
を形威しない部位（即ち，透過しない部位）のレーザ光
はその部位において散乱するため，被検体に影響を与え
ない。
第２の発明は，ポリゴンミラースキャナ２と，ガルバノ
ミラースキャナ３との順を逆にしただけのＩｌ戊である
。また第３の発明は，ガルバノスキャナを他のモータに
変更しただけの構戒である。
ミラースキャナ３との順を逆にしただけのＩｌ戊である
。また第３の発明は，ガルバノスキャナを他のモータに
変更しただけの構戒である。
［実施例］
以下本発明の実施例を図面を参照し詳細に説明する。第
１図は第１発明の実施例を示す図である。第１図におい
て，レーザ発振器】から刻印面６までの間のレーザ光路
Ｓ上に，順に，ポリゴンミラースキャナ２と．ガルバノ
ミラースキャナ３と透過散乱型液晶マスク４と、オプチ
カルファイバ集合レンズ５とを備えた構戊である。作動
を述べれば，レーザ発振５１から発振されたレーザ光Ｓ
は，まずポリゴンミラースキャナ２に照射される。ポリ
ゴンミラースキャナ２は，第２図に示す構戊となってお
り，７，５００ｒｐｍのモータ軸に複数枚のミラーをボ
リゴン（実施例では１０角形）に備えたものである。従
って，回転するポリゴンミラーへの入射レーザ光は，図
示Ｘ−Ｘ方向に幅をもって反射する。この反射レーザ光
はガルバノミラースキャナ３に入射する。そして，この
ガルバノミラースキャナ３の反射レーザ光は，図示Ｙ−
Ｙ方向に幅をもって反射する。即ち，ポリゴンミラース
キャナ２と，ガルパノミラースキャナ３とにより，ｘ−
ｙ方向（簡単に言えば，ｔａＸ方向全域）に，かつ，透
過散乱型液晶マスク４の全面城に照射される。この透過
散乱型液晶マスク４には，別途制御器により任意の図形
や文字が形威される。そして文字や図形に相当する部位
を透過したレーザ光のみがオブチカルファイバ集合レン
ズ５を経て，刻印面６に至り，ここにこれらの文字や図
形を刻印する。尚，前記透過散乱型液晶マスク４におい
て，図形や文字を形威しない部位（即ち，透過しない部
位）のレーザ光はその部位において散乱し，被検体に影
響を及ぼさない（尚，透過散乱型液晶マスク４への電極
への印加電圧を制御することにより透過率を変更し刻印
の程度，例えば深さ等を制御することも可能である）。
１図は第１発明の実施例を示す図である。第１図におい
て，レーザ発振器】から刻印面６までの間のレーザ光路
Ｓ上に，順に，ポリゴンミラースキャナ２と．ガルバノ
ミラースキャナ３と透過散乱型液晶マスク４と、オプチ
カルファイバ集合レンズ５とを備えた構戊である。作動
を述べれば，レーザ発振５１から発振されたレーザ光Ｓ
は，まずポリゴンミラースキャナ２に照射される。ポリ
ゴンミラースキャナ２は，第２図に示す構戊となってお
り，７，５００ｒｐｍのモータ軸に複数枚のミラーをボ
リゴン（実施例では１０角形）に備えたものである。従
って，回転するポリゴンミラーへの入射レーザ光は，図
示Ｘ−Ｘ方向に幅をもって反射する。この反射レーザ光
はガルバノミラースキャナ３に入射する。そして，この
ガルバノミラースキャナ３の反射レーザ光は，図示Ｙ−
Ｙ方向に幅をもって反射する。即ち，ポリゴンミラース
キャナ２と，ガルパノミラースキャナ３とにより，ｘ−
ｙ方向（簡単に言えば，ｔａＸ方向全域）に，かつ，透
過散乱型液晶マスク４の全面城に照射される。この透過
散乱型液晶マスク４には，別途制御器により任意の図形
や文字が形威される。そして文字や図形に相当する部位
を透過したレーザ光のみがオブチカルファイバ集合レン
ズ５を経て，刻印面６に至り，ここにこれらの文字や図
形を刻印する。尚，前記透過散乱型液晶マスク４におい
て，図形や文字を形威しない部位（即ち，透過しない部
位）のレーザ光はその部位において散乱し，被検体に影
響を及ぼさない（尚，透過散乱型液晶マスク４への電極
への印加電圧を制御することにより透過率を変更し刻印
の程度，例えば深さ等を制御することも可能である）。
次に実施例の効果を以下説明する。まずポリゴンミラー
スキャナ２と，ガルバノミラースキャナ３とは高速スキ
ャナであり，このため透過散乱型液晶マスク４上の全面
域へのレーザ照射は数百回／分となる。仮にある図形が
透過散乱型液晶マスク４上に１秒間だけ形威されていて
も，その図形のどの部位に対しても，各々１０回程度レ
ーザ照射をすることができる（いわゆる重ね打ちをする
ことがである）。このように重ね打ちをすることができ
るため，レーザ出力が小さいレーザ発振器であっても実
施例に使用することができる。更に透過散乱型液晶マス
ク４は偏向板や偏向ミラーを使用していないため，従来
のような偏向板や偏向ミラーによる透過率の低下がなく
なる。この結果更にレーザ出力が小さなレーザ発振器で
あっても使用することができる。またオプチカルファイ
バ集合レンズ５はそれ自体が収差を伴わないこと，また
，像面間距離が極めて小さいこと（通常球面レンズの１
／３０〜１／１００の距離）という長所を備えているた
め，刻印を鮮明にでき，かつ，装置全体の場積も小さく
することが可能となる。
スキャナ２と，ガルバノミラースキャナ３とは高速スキ
ャナであり，このため透過散乱型液晶マスク４上の全面
域へのレーザ照射は数百回／分となる。仮にある図形が
透過散乱型液晶マスク４上に１秒間だけ形威されていて
も，その図形のどの部位に対しても，各々１０回程度レ
ーザ照射をすることができる（いわゆる重ね打ちをする
ことがである）。このように重ね打ちをすることができ
るため，レーザ出力が小さいレーザ発振器であっても実
施例に使用することができる。更に透過散乱型液晶マス
ク４は偏向板や偏向ミラーを使用していないため，従来
のような偏向板や偏向ミラーによる透過率の低下がなく
なる。この結果更にレーザ出力が小さなレーザ発振器で
あっても使用することができる。またオプチカルファイ
バ集合レンズ５はそれ自体が収差を伴わないこと，また
，像面間距離が極めて小さいこと（通常球面レンズの１
／３０〜１／１００の距離）という長所を備えているた
め，刻印を鮮明にでき，かつ，装置全体の場積も小さく
することが可能となる。
第２発明の実施例は，ポリゴンミラースキャナ２と，ガ
ルバノミラースキャナ３との順を逆にしただけの構戒で
ある（図示せず）。従ってＸ−Ｙ方向ではな（Ｙ−Ｘ方
向に順に走査されるだけであり，その他の作用及び効果
は上記実施例と同様である。また第３発明の実施例は，
ガルバノスキャナを他のモータに変更しただけの構戒で
ある（図示せず）。この作用及び効果についても，上記
第１発明の実施例と同様である。
ルバノミラースキャナ３との順を逆にしただけの構戒で
ある（図示せず）。従ってＸ−Ｙ方向ではな（Ｙ−Ｘ方
向に順に走査されるだけであり，その他の作用及び効果
は上記実施例と同様である。また第３発明の実施例は，
ガルバノスキャナを他のモータに変更しただけの構戒で
ある（図示せず）。この作用及び効果についても，上記
第１発明の実施例と同様である。
〔発明の効果］
以上説明したように，本発明に係わるレーザ印字装置に
よれば，レーザ発振器１から刻印面までの間のレーザ光
路上に，ポリゴンミラースキャナと，回転ミラースキャ
ナと，透過散乱型液晶マスクと，オプチ力ルファイバ集
合レンズとを備えた構戊により，高速重ね打ちをするこ
とができ，かつ，偏向による透過ロスがないため，高精
度の印字を小容量のレーザ発振器ですることができるよ
うになる。更に収差がなく，かつ，像面間距離が小さい
ため，装置自体の場積をも小さくすることができるよう
になる。
よれば，レーザ発振器１から刻印面までの間のレーザ光
路上に，ポリゴンミラースキャナと，回転ミラースキャ
ナと，透過散乱型液晶マスクと，オプチ力ルファイバ集
合レンズとを備えた構戊により，高速重ね打ちをするこ
とができ，かつ，偏向による透過ロスがないため，高精
度の印字を小容量のレーザ発振器ですることができるよ
うになる。更に収差がなく，かつ，像面間距離が小さい
ため，装置自体の場積をも小さくすることができるよう
になる。
第１図は第１発明に係わるレーザ印字装置の実施例を示
す図，第２図はポリゴンミラースキャナの構戊を説明す
る図である。 １・・・レーザ発振器 ２・・・ボリゴンミラースキャナ ３・・・ガルバノミラースキャナ ４・・・透過散乱型液晶マスク ５・・・オプチカルファイバ集合レンズ６・・・刻印面
す図，第２図はポリゴンミラースキャナの構戊を説明す
る図である。 １・・・レーザ発振器 ２・・・ボリゴンミラースキャナ ３・・・ガルバノミラースキャナ ４・・・透過散乱型液晶マスク ５・・・オプチカルファイバ集合レンズ６・・・刻印面
Claims (3)
- （１）レーザ発振器１から刻印面６までの間のレーザ光
路上に、順に、ポリゴンミラースキャナ２と、ガルバノ
ミラースキャナ３と、透過散乱型液晶マスク４と、オプ
チカルファイバ集合レンズ５とを設けた構成を特徴とす
るレーザ印字装置。 - （２）ポリゴンミラースキャナ２と、ガルバノミラース
キャナ３との順が、ガルバノミラースキャナ３と、ポリ
ゴンミラースキャナ２との順である請求項１記載のレー
ザ印字装置。 - （３）ガルバノミラースキャナ３が、ＡＣモータ又はス
テップモータ等の高速モータにより駆動されるミラース
キャナである請求項１又は請求項２記載のレーザ印字装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1152783A JPH0825044B2 (ja) | 1989-06-15 | 1989-06-15 | レーザ印字装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1152783A JPH0825044B2 (ja) | 1989-06-15 | 1989-06-15 | レーザ印字装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0318491A true JPH0318491A (ja) | 1991-01-28 |
| JPH0825044B2 JPH0825044B2 (ja) | 1996-03-13 |
Family
ID=15548055
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1152783A Expired - Fee Related JPH0825044B2 (ja) | 1989-06-15 | 1989-06-15 | レーザ印字装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0825044B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994011147A1 (en) * | 1992-11-11 | 1994-05-26 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Liquid crystal display for laser marker |
| US5587094A (en) * | 1992-11-25 | 1996-12-24 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Laser marking apparatus |
| US5589955A (en) * | 1991-05-21 | 1996-12-31 | Seiko Epson Corporation | Optical device and optical machining system using the optical device |
| WO1998010885A1 (fr) * | 1996-09-13 | 1998-03-19 | Komatsu Ltd. | Marqueur a laser pour balayage de masque et procede de balayage correspondant |
| US5747772A (en) * | 1994-08-19 | 1998-05-05 | Komatsu Ltd. | Laser marking method including raster scanning of rapidly rewritten liquid crystal mask |
| KR100414280B1 (ko) * | 2001-11-09 | 2004-01-07 | 주식회사 엘지이아이 | 특선실을 구비한 냉장고 |
| US9459041B2 (en) | 2008-11-05 | 2016-10-04 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Refrigerator |
-
1989
- 1989-06-15 JP JP1152783A patent/JPH0825044B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5589955A (en) * | 1991-05-21 | 1996-12-31 | Seiko Epson Corporation | Optical device and optical machining system using the optical device |
| WO1994011147A1 (en) * | 1992-11-11 | 1994-05-26 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Liquid crystal display for laser marker |
| US5587094A (en) * | 1992-11-25 | 1996-12-24 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Laser marking apparatus |
| US5747772A (en) * | 1994-08-19 | 1998-05-05 | Komatsu Ltd. | Laser marking method including raster scanning of rapidly rewritten liquid crystal mask |
| WO1998010885A1 (fr) * | 1996-09-13 | 1998-03-19 | Komatsu Ltd. | Marqueur a laser pour balayage de masque et procede de balayage correspondant |
| KR100414280B1 (ko) * | 2001-11-09 | 2004-01-07 | 주식회사 엘지이아이 | 특선실을 구비한 냉장고 |
| US9459041B2 (en) | 2008-11-05 | 2016-10-04 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Refrigerator |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0825044B2 (ja) | 1996-03-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2701183B2 (ja) | 液晶マスク式レーザマーカ | |
| EP1147906B1 (en) | Multi-beam exposure apparatus | |
| JPH0318491A (ja) | レーザ印字装置 | |
| KR100299653B1 (ko) | 액정마스크와,액정식레이저마커및이것을이용한각인방법 | |
| JP3809998B2 (ja) | ガルバノスキャニング式レーザマーキング装置及びその投影像投射方法。 | |
| US4156555A (en) | Apparatus and method for providing unblurred images with a continuously scanned light beam | |
| JPH08257771A (ja) | レーザ刻印装置における刻印位置補正装置 | |
| JPH0687097B2 (ja) | 受動的な反射面追跡型レーザ・ラスタ・スキャナ | |
| JPH02251387A (ja) | レーザマーキング装置 | |
| JP3263517B2 (ja) | 液晶マスクマーカの駆動方法 | |
| JPH0441259A (ja) | レーザ印字装置 | |
| JPH01167718A (ja) | 二次元走査装置 | |
| JP2788770B2 (ja) | レーザ表示装置 | |
| JP2005241938A (ja) | 光ビーム走査装置 | |
| JPS5974775A (ja) | レ−ザプリンタ | |
| JPH07146448A (ja) | レーザ走査装置 | |
| JPH0839283A (ja) | レ−ザ照射装置およびその方法 | |
| JPH0459621B2 (ja) | ||
| KR920006417B1 (ko) | 마킹 모드 선택 기능을 지니고 있는 광학 마킹 시스템 및 그 방법 | |
| JP2005186078A (ja) | レーザマーキング装置及びレーザマーキング方法 | |
| JPH06170562A (ja) | レ−ザマ−キング装置 | |
| JPS6128918A (ja) | レ−ザビ−ム走査装置 | |
| JPH05318149A (ja) | レーザマーカのｘｙ偏光器 | |
| JPH0431797B2 (ja) | ||
| JP2788317B2 (ja) | バーコードリーダにおける走査パターンの形成装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |