JPH06170562A - レ−ザマ−キング装置 - Google Patents
レ−ザマ−キング装置Info
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- JPH06170562A JPH06170562A JP4325158A JP32515892A JPH06170562A JP H06170562 A JPH06170562 A JP H06170562A JP 4325158 A JP4325158 A JP 4325158A JP 32515892 A JP32515892 A JP 32515892A JP H06170562 A JPH06170562 A JP H06170562A
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- JP
- Japan
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- laser light
- laser beam
- optical element
- laser
- marking
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/465—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using masks, e.g. light-switching masks
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- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】この発明はワ−クデイスタンスを短くせずにレ
−ザ光を振ってマ−キングできるようにしたレ−ザマ−
キング装置を提供することにある。 【構成】 レ−ザ発振器１１から出力されたレ−ザ光を
所定のパタ−ン１２が形成されたマスク１３に照射し、
上記パタ−ンを透過したレ−ザ光を結像レンズ１５で被
加工物に結像させてマ−キングするレ−ザマ−キング装
置において、レ−ザ光を透過する材料で形成されている
とともに入射面と出射面とが平面をなし上記レ−ザ光の
光路の上記マスクの出射側に配置された光学素子１４
と、この光学素子を所定の回転角度で揺動駆動する駆動
手段１５とを具備し、上記光学手段は、その揺動角度に
応じて上記レ−ザ光を屈折させることを特徴とする。
−ザ光を振ってマ−キングできるようにしたレ−ザマ−
キング装置を提供することにある。 【構成】 レ−ザ発振器１１から出力されたレ−ザ光を
所定のパタ−ン１２が形成されたマスク１３に照射し、
上記パタ−ンを透過したレ−ザ光を結像レンズ１５で被
加工物に結像させてマ−キングするレ−ザマ−キング装
置において、レ−ザ光を透過する材料で形成されている
とともに入射面と出射面とが平面をなし上記レ−ザ光の
光路の上記マスクの出射側に配置された光学素子１４
と、この光学素子を所定の回転角度で揺動駆動する駆動
手段１５とを具備し、上記光学手段は、その揺動角度に
応じて上記レ−ザ光を屈折させることを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はマスクに形成されたパ
タ−ンをレ−ザ光によって被加工物に転写してマ−キン
グするレ−ザマ−キング装置に関する。
タ−ンをレ−ザ光によって被加工物に転写してマ−キン
グするレ−ザマ−キング装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】レ−ザマ−キング装置には、マスクの像
をレンズにより被加工物に転写する方式と、レ−ザ光を
被加工物に対して相対的に移動することで一筆書きの要
領でパタ−ンを描く方式とが一般的な方式として知られ
ている。ＩＣやＬＳＩなどの半導体装置のパッケ−ジを
マ−キングする場合、一筆書きの要領でパタ−ンを描く
方式に比べて生産性の高いマスクを用いた方式が用いら
れることが多い。
をレンズにより被加工物に転写する方式と、レ−ザ光を
被加工物に対して相対的に移動することで一筆書きの要
領でパタ−ンを描く方式とが一般的な方式として知られ
ている。ＩＣやＬＳＩなどの半導体装置のパッケ−ジを
マ−キングする場合、一筆書きの要領でパタ−ンを描く
方式に比べて生産性の高いマスクを用いた方式が用いら
れることが多い。
【０００３】上記半導体装置のパッケ−ジには、１フレ
−ムでより多くのパッケ−ジを取り出すことができるよ
う、図５に示すようにフレ−ムａにパッケ−ジｂを千鳥
状に配置するということが行われている。
−ムでより多くのパッケ−ジを取り出すことができるよ
う、図５に示すようにフレ−ムａにパッケ−ジｂを千鳥
状に配置するということが行われている。
【０００４】千鳥状に配列されたパッケ−ジの中央にマ
−キングを行う場合、上記パッケ−ジｂの偏心距離ｅに
応じてマスクを透過したレ−ザ光を上記偏心距離ｅの振
幅で左右に振らなければならない。
−キングを行う場合、上記パッケ−ジｂの偏心距離ｅに
応じてマスクを透過したレ−ザ光を上記偏心距離ｅの振
幅で左右に振らなければならない。
【０００５】図４に従来のマ−キング装置を示す。同図
中１はレ−ザ発振器である。このレ−ザ発振器１から出
力されたレ−ザ光Ｌは所定のパタ−ン２が形成されたマ
スク３を照射する。このマスク３のパタ−ン２を透過し
たレ−ザ光Ｌは結像レンズ４を通過し、偏向ミラ−５で
反射して光路をほぼ９０度変換して被加工物である、フ
レ−ムａに千鳥状に設けられたパッケ−ジｂの上面に結
像される。
中１はレ−ザ発振器である。このレ−ザ発振器１から出
力されたレ−ザ光Ｌは所定のパタ−ン２が形成されたマ
スク３を照射する。このマスク３のパタ−ン２を透過し
たレ−ザ光Ｌは結像レンズ４を通過し、偏向ミラ−５で
反射して光路をほぼ９０度変換して被加工物である、フ
レ−ムａに千鳥状に設けられたパッケ−ジｂの上面に結
像される。
【０００６】上記偏向ミラ−５はガルバノメ−タスキャ
ナ６によって揺動駆動される。それによって、上記偏向
ミラ−５で反射したレ−ザ光Ｌは、図５に示す千鳥状に
配置されたパッケ−ジｂの偏心距離ｅに応じて左右に振
られるから、偏心配置された各パッケ−ジｂに上記パタ
−ン２がマ−キングされることになる。
ナ６によって揺動駆動される。それによって、上記偏向
ミラ−５で反射したレ−ザ光Ｌは、図５に示す千鳥状に
配置されたパッケ−ジｂの偏心距離ｅに応じて左右に振
られるから、偏心配置された各パッケ−ジｂに上記パタ
−ン２がマ−キングされることになる。
【０００７】しかしながら、このように偏向ミラ−５を
揺動させマ−キング位置を変える方法は、結像レンズ４
とフレ−ムａとの間の距離が十分に確保された光学系で
なければ適用することができない。すなわち、偏向ミラ
−５によって光路を曲げる構成であると、図４にｄで示
す結像レンズ４とフレ−ムａとの距離、つまりワ−クデ
イスタンスが短くなってしまう。ワ−クデイスタンスｄ
が短くなると、マ−キング時にパッケ−ジｂがレ−ザ光
Ｌによって照射されることでスプラッシュが飛散する
と、そのスプラッシュが上記結像レンズ４や偏向ミラ−
５などに付着し、これらの光学部品を早期に損傷させる
ということがある。
揺動させマ−キング位置を変える方法は、結像レンズ４
とフレ−ムａとの間の距離が十分に確保された光学系で
なければ適用することができない。すなわち、偏向ミラ
−５によって光路を曲げる構成であると、図４にｄで示
す結像レンズ４とフレ−ムａとの距離、つまりワ−クデ
イスタンスが短くなってしまう。ワ−クデイスタンスｄ
が短くなると、マ−キング時にパッケ−ジｂがレ−ザ光
Ｌによって照射されることでスプラッシュが飛散する
と、そのスプラッシュが上記結像レンズ４や偏向ミラ−
５などに付着し、これらの光学部品を早期に損傷させる
ということがある。
【０００８】また、偏向ミラ−５を用いてマ−キング位
置を変えるには、レ−ザ光Ｌの光路を曲げなければなら
ないため、装置全体の大型化を招いたり、ラインへの組
み込みが困難になることがある。
置を変えるには、レ−ザ光Ｌの光路を曲げなければなら
ないため、装置全体の大型化を招いたり、ラインへの組
み込みが困難になることがある。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来は偏
向ミラ−を用いてマ−キング位置を変えるようにしてい
たので、結像レンズと被加工物との距離が短くなり、マ
−キング時に飛散するスプラッシュが結像レンズや偏向
ミラ−に付着するということがあるばかりか、レ−ザ光
の光路が曲げられるために、装置の大型化やラインへの
組み込みの自由度が失われるなどのことがあった。
向ミラ−を用いてマ−キング位置を変えるようにしてい
たので、結像レンズと被加工物との距離が短くなり、マ
−キング時に飛散するスプラッシュが結像レンズや偏向
ミラ−に付着するということがあるばかりか、レ−ザ光
の光路が曲げられるために、装置の大型化やラインへの
組み込みの自由度が失われるなどのことがあった。
【００１０】この発明は上記事情に基づきなされたもの
で、その目的とするところは、偏向ミラ−を用いずにレ
−ザ光のマ−キング位置を変えることができるようにし
たレ−ザマ−キング装置を提供することにある。
で、その目的とするところは、偏向ミラ−を用いずにレ
−ザ光のマ−キング位置を変えることができるようにし
たレ−ザマ−キング装置を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
にこの発明は、レ−ザ発振器から出力されたレ−ザ光を
所定のパタ−ンが形成されたマスクに照射し、上記パタ
−ンを透過したレ−ザ光を結像レンズで被加工物に結像
させてマ−キングするレ−ザマ−キング装置において、
レ−ザ光を透過する材料で形成されているとともに入射
面と出射面とが平面をなし上記レ−ザ光の光路の上記マ
スクの出射側に配置された光学素子と、この光学素子を
所定の揺動角度で揺動駆動させる駆動手段とを具備し、
上記光学素子は、揺動角度に応じて上記レ−ザ光を屈折
させることを特徴とする。
にこの発明は、レ−ザ発振器から出力されたレ−ザ光を
所定のパタ−ンが形成されたマスクに照射し、上記パタ
−ンを透過したレ−ザ光を結像レンズで被加工物に結像
させてマ−キングするレ−ザマ−キング装置において、
レ−ザ光を透過する材料で形成されているとともに入射
面と出射面とが平面をなし上記レ−ザ光の光路の上記マ
スクの出射側に配置された光学素子と、この光学素子を
所定の揺動角度で揺動駆動させる駆動手段とを具備し、
上記光学素子は、揺動角度に応じて上記レ−ザ光を屈折
させることを特徴とする。
【００１２】
【作用】上記構成によれば、光学素子を揺動させること
で、レ−ザ光を屈折させることができるから、レ−ザ光
が上記光学素子へ入射する光路に対して出射する光路を
ずらすことができる。
で、レ−ザ光を屈折させることができるから、レ−ザ光
が上記光学素子へ入射する光路に対して出射する光路を
ずらすことができる。
【００１３】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図１乃至図２を
参照して説明する。図１に示すレ−ザマ−キング装置は
レ−ザ発振器１１を備えている。このレ−ザ発振器１１
から出力されたレ−ザ光Ｌは所定の形状のパタ−ン１２
が形成されたマスク１３を照射し、その一部は上記パタ
−ン１２を透過する。
参照して説明する。図１に示すレ−ザマ−キング装置は
レ−ザ発振器１１を備えている。このレ−ザ発振器１１
から出力されたレ−ザ光Ｌは所定の形状のパタ−ン１２
が形成されたマスク１３を照射し、その一部は上記パタ
−ン１２を透過する。
【００１４】上記パタ−ン１２を透過したレ−ザ光Ｌ
は、上記マスク１３の出射側に配置された光学素子１４
を透過し、結像レンズ１５で結像されて被加工物であ
る、フレ−ムａに千鳥状に設けられたパッケ−ジｂに後
述するごとくマ−キングする。上記マスク１３、光学素
子１４および結像レンズ１５はレ−ザ光Ｌの光路に沿っ
て一列に配置されている。
は、上記マスク１３の出射側に配置された光学素子１４
を透過し、結像レンズ１５で結像されて被加工物であ
る、フレ−ムａに千鳥状に設けられたパッケ−ジｂに後
述するごとくマ−キングする。上記マスク１３、光学素
子１４および結像レンズ１５はレ−ザ光Ｌの光路に沿っ
て一列に配置されている。
【００１５】上記光学素子１４は、図２（ａ）、（ｂ）
に示すように入射面１４ａと出射面１４ｂとがともに平
面で、しかも平行に形成された板状部材からなり、上記
レ−ザ発振器１１がＹＡＧレ−ザの場合にはガラス板に
よって形成されている。この光学素子１４は、ガルバノ
メ−タスキャナやサ−ボモ−タなどの駆動手段１６によ
って所定の角度で揺動駆動されるようになっている。
に示すように入射面１４ａと出射面１４ｂとがともに平
面で、しかも平行に形成された板状部材からなり、上記
レ−ザ発振器１１がＹＡＧレ−ザの場合にはガラス板に
よって形成されている。この光学素子１４は、ガルバノ
メ−タスキャナやサ−ボモ−タなどの駆動手段１６によ
って所定の角度で揺動駆動されるようになっている。
【００１６】上記構成のレ−ザマ−キング装置によれ
ば、レ−ザ発振器１１から出力され、マスク１３を照射
してそのパタ−ン１２を透過したレ−ザ光Ｌは、光学素
子１４を透過してから結像レンズ１５で集束され、その
結像位置に配置されたフレ−ムａ上のパッケ−ジｂを照
射してマ−キングする。
ば、レ−ザ発振器１１から出力され、マスク１３を照射
してそのパタ−ン１２を透過したレ−ザ光Ｌは、光学素
子１４を透過してから結像レンズ１５で集束され、その
結像位置に配置されたフレ−ムａ上のパッケ−ジｂを照
射してマ−キングする。
【００１７】レ−ザ光Ｌが上記光学素子１４を透過する
際、レ−ザ光Ｌの光路は上記光学素子１４の揺動角度に
よって変化する。つまり、上記光学素子１４が図２
（ａ）に示すようにレ−ザ光Ｌの光路に対して直行する
角度（揺動角度０度）に駆動されているときには、この
光学素子１４の入射面１４ａから入射して出射面１４ｂ
に出射するレ−ザ光Ｌの光路は一致している。
際、レ−ザ光Ｌの光路は上記光学素子１４の揺動角度に
よって変化する。つまり、上記光学素子１４が図２
（ａ）に示すようにレ−ザ光Ｌの光路に対して直行する
角度（揺動角度０度）に駆動されているときには、この
光学素子１４の入射面１４ａから入射して出射面１４ｂ
に出射するレ−ザ光Ｌの光路は一致している。
【００１８】上記光学素子１４が図２（ｂ）に示すよう
に駆動手段１６によって角度θで揺動しているときにレ
−ザ光Ｌが入射面１４ａに入射すると、出射面１４ｂか
ら出射するレ−ザ光Ｌは屈折してその光路Ｏ2 は入射前
の光路Ｏ1 に対してずれ量Ｘでずれる。したがって、結
像レンズ１５で集束されてフレ−ムａのパッケ−ジｂを
照射するレ−ザ光Ｌの照射位置もずれることになる。上
記光学素子１４が角度θで傾いたときのレ−ザ光Ｌの照
射位置のずれ量をＸとすると、そのずれ量Ｘは次式
（１）で求めることができる。
に駆動手段１６によって角度θで揺動しているときにレ
−ザ光Ｌが入射面１４ａに入射すると、出射面１４ｂか
ら出射するレ−ザ光Ｌは屈折してその光路Ｏ2 は入射前
の光路Ｏ1 に対してずれ量Ｘでずれる。したがって、結
像レンズ１５で集束されてフレ−ムａのパッケ−ジｂを
照射するレ−ザ光Ｌの照射位置もずれることになる。上
記光学素子１４が角度θで傾いたときのレ−ザ光Ｌの照
射位置のずれ量をＸとすると、そのずれ量Ｘは次式
（１）で求めることができる。
【００１９】
【数１】
【００２０】上記（１）式において、ｔは光学素子１４
の厚さ、ｎは光学素子１４のレ−ザ光Ｌに対する屈折
率、ｍは光学系における結像比である。たとえば、ｔ＝
６mm、θ＝４５度、ｎ＝1.5 、ｍ＝１／２としてずれ量
Ｘを上記（１）式に基づいて計算すると、Ｘ＝0.99mmと
なる。
の厚さ、ｎは光学素子１４のレ−ザ光Ｌに対する屈折
率、ｍは光学系における結像比である。たとえば、ｔ＝
６mm、θ＝４５度、ｎ＝1.5 、ｍ＝１／２としてずれ量
Ｘを上記（１）式に基づいて計算すると、Ｘ＝0.99mmと
なる。
【００２１】千鳥配置のパッケ−ジｂの偏心距離ｅは通
常、１〜２mmなので、上記光学素子１４を約４５度の角
度で揺動させれば、千鳥配置された各パッケ−ジｂの偏
心距離ｅに応じてレ−ザ光を左右に振り、各々のパッケ
−ジｂにマ−キングすることができる。
常、１〜２mmなので、上記光学素子１４を約４５度の角
度で揺動させれば、千鳥配置された各パッケ−ジｂの偏
心距離ｅに応じてレ−ザ光を左右に振り、各々のパッケ
−ジｂにマ−キングすることができる。
【００２２】すなわち、上記構成によれば、従来のよう
に偏向ミラ−５を用いずにレ−ザ光Ｌを所定の振幅で振
ることができるから、図１のＤで示すワ−クデイスタン
スを短くすることなく、レ−ザ光Ｌによるマ−キング位
置を変えることができる。つまり、ワ−クデイスタンス
Ｄは従来のワ−クデイスタンスｄの約２倍とすることが
できる。
に偏向ミラ−５を用いずにレ−ザ光Ｌを所定の振幅で振
ることができるから、図１のＤで示すワ−クデイスタン
スを短くすることなく、レ−ザ光Ｌによるマ−キング位
置を変えることができる。つまり、ワ−クデイスタンス
Ｄは従来のワ−クデイスタンスｄの約２倍とすることが
できる。
【００２３】また、光学素子１４を用いることで、光学
系を折り曲げることなくレ−ザ光Ｌを所定の振幅で振る
ことができるから、装置の小型化や配置の自由度が得ら
れるなどのこともある。
系を折り曲げることなくレ−ザ光Ｌを所定の振幅で振る
ことができるから、装置の小型化や配置の自由度が得ら
れるなどのこともある。
【００２４】この発明は上記一実施例に限定されず、種
々変形可能であり、たとえば、図３に示す光学素子２４
であってもよい。つまり、この光学素子２４は入射面２
４ａと出射面２４ｂとは、共に平面であるものの平行で
はなく、したがって光学素子２４は楔状の断面形状をな
している。
々変形可能であり、たとえば、図３に示す光学素子２４
であってもよい。つまり、この光学素子２４は入射面２
４ａと出射面２４ｂとは、共に平面であるものの平行で
はなく、したがって光学素子２４は楔状の断面形状をな
している。
【００２５】このような光学素子２４によれば、図３に
実線で示すように出射面２４ｂを出射したレ−ザ光Ｌの
出射光路は、入射面２４ａと出射面２４ｂとがなす角度
に応じて傾斜するから、平行平面の光学素子１４に比べ
てずれ量Ｘを大きくすることができる。なお、同図にお
いて、鎖線で示す光路は入射面と出射面とが平行平面に
形成された光学素子１４から出射するレ−ザ光Ｌ´の光
路である。
実線で示すように出射面２４ｂを出射したレ−ザ光Ｌの
出射光路は、入射面２４ａと出射面２４ｂとがなす角度
に応じて傾斜するから、平行平面の光学素子１４に比べ
てずれ量Ｘを大きくすることができる。なお、同図にお
いて、鎖線で示す光路は入射面と出射面とが平行平面に
形成された光学素子１４から出射するレ−ザ光Ｌ´の光
路である。
【００２６】また、光学素子１４はマスク１３と結像レ
ンズ１５との間でなく、結像レンズ１５とフレ−ムａと
の間に配置しても良く、要はマスク１３の出射側に配置
すればよい。
ンズ１５との間でなく、結像レンズ１５とフレ−ムａと
の間に配置しても良く、要はマスク１３の出射側に配置
すればよい。
【００２７】
【発明の効果】以上述べたようにこの発明は、レ−ザ光
の光路のマスクの出射側に、レ−ザ光を透過する材料で
形成されているとともに入射面と出射面とが平面をなし
た光学素子を配置し、この光学素子を揺動駆動すること
で、レ−ザ光を屈折させるようにした。
の光路のマスクの出射側に、レ−ザ光を透過する材料で
形成されているとともに入射面と出射面とが平面をなし
た光学素子を配置し、この光学素子を揺動駆動すること
で、レ−ザ光を屈折させるようにした。
【００２８】したがって、上記光学素子の揺動角度に応
じてレ−ザ光を屈折させ、その光路を変えることができ
るから、上記光学素子を揺動駆動すれば、レ−ザ光を所
定の振幅で振って被加工物にマ−キングすることができ
る。そのため、レ−ザ光を反射ミラ−で振る場合のよう
に、結像レンズと被加工物との距離である、ワ−クデイ
スタンスを短くせずにすむから、レ−ザ光が被加工物を
照射したときに発生するスプラッシュが光学系に付着し
ずらくなる。また、光学系を折り曲げずにすむから、装
置の小型化や配置の自由度が計れるなどの利点もある。
じてレ−ザ光を屈折させ、その光路を変えることができ
るから、上記光学素子を揺動駆動すれば、レ−ザ光を所
定の振幅で振って被加工物にマ−キングすることができ
る。そのため、レ−ザ光を反射ミラ−で振る場合のよう
に、結像レンズと被加工物との距離である、ワ−クデイ
スタンスを短くせずにすむから、レ−ザ光が被加工物を
照射したときに発生するスプラッシュが光学系に付着し
ずらくなる。また、光学系を折り曲げずにすむから、装
置の小型化や配置の自由度が計れるなどの利点もある。
【図１】この発明の一実施例を示すレ−ザマ−キング装
置の概略的構成の斜視図。
置の概略的構成の斜視図。
【図２】同じく（ａ）は光学素子の傾きが０のときのレ
−ザ光の光路を説明する平面図、（ｂ）は光学素子がθ
の角度で傾いたときのレ−ザ光の光路を説明する平面
図。
−ザ光の光路を説明する平面図、（ｂ）は光学素子がθ
の角度で傾いたときのレ−ザ光の光路を説明する平面
図。
【図３】この発明の変形例を示す光学素子の平面図。
【図４】従来のレ−ザマ−キング装置の概略的構成を示
す斜視図。
す斜視図。
【図５】パッケ−ッジが千鳥状に配置されたフレ−ムの
平面図。
平面図。
１１…レ−ザ発振器、１２…パタ−ン、１３…マスク、
１４…光学素子、１５…駆動手段。
１４…光学素子、１５…駆動手段。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ４１Ｍ 5/24 9221−2Ｈ Ｇ０２Ｂ 26/08 Ａ 9226−2Ｋ 26/10 １０１ Ｈ０１Ｌ 23/00 Ａ
Claims (1)
- 【請求項１】 レ−ザ発振器から出力されたレ−ザ光を
所定のパタ−ンが形成されたマスクに照射し、上記パタ
−ンを透過したレ−ザ光を結像レンズで被加工物に結像
させてマ−キングするレ−ザマ−キング装置において、
レ−ザ光を透過する材料で形成されているとともに入射
面と出射面とが平面をなし上記レ−ザ光の光路の上記マ
スクの出射側に配置された光学素子と、この光学素子を
所定の揺動角度で揺動駆動する駆動手段とを具備し、上
記光学素子は、揺動角度に応じて上記レ−ザ光を屈折さ
せることを特徴とするレ−ザマ−キング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32515892A JP3181407B2 (ja) | 1992-12-04 | 1992-12-04 | レーザマーキング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32515892A JP3181407B2 (ja) | 1992-12-04 | 1992-12-04 | レーザマーキング方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06170562A true JPH06170562A (ja) | 1994-06-21 |
| JP3181407B2 JP3181407B2 (ja) | 2001-07-03 |
Family
ID=18173672
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32515892A Expired - Fee Related JP3181407B2 (ja) | 1992-12-04 | 1992-12-04 | レーザマーキング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3181407B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1188509A3 (de) * | 2000-09-16 | 2003-11-26 | Robert Bosch Gmbh | Optische Vorrichtung zum Bohren mittels Laserstrahls |
| CN108098165A (zh) * | 2017-12-13 | 2018-06-01 | 深圳市晶特智造科技有限公司 | 激光打标方法 |
| CN108568597A (zh) * | 2018-05-04 | 2018-09-25 | 深圳市有道腾达科技有限公司 | 一种激光束往复摆动式加工装置及方法 |
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1992
- 1992-12-04 JP JP32515892A patent/JP3181407B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP3181407B2 (ja) | 2001-07-03 |
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