JP3181407B2 - レーザマーキング方法 - Google Patents
レーザマーキング方法Info
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- JP3181407B2 JP3181407B2 JP32515892A JP32515892A JP3181407B2 JP 3181407 B2 JP3181407 B2 JP 3181407B2 JP 32515892 A JP32515892 A JP 32515892A JP 32515892 A JP32515892 A JP 32515892A JP 3181407 B2 JP3181407 B2 JP 3181407B2
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- Japan
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- optical element
- laser light
- package
- laser
- pattern
- Prior art date
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/465—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using masks, e.g. light-switching masks
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- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はマスクに形成されたパ
タ−ンをレ−ザ光によって被加工物に転写してマ−キン
グするレ−ザマ−キング方法に関する。
タ−ンをレ−ザ光によって被加工物に転写してマ−キン
グするレ−ザマ−キング方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】レ−ザマ−キング装置には、マスクの像
をレンズにより被加工物に転写する方式と、レ−ザ光を
被加工物に対して相対的に移動することで一筆書きの要
領でパタ−ンを描く方式とが一般的な方式として知られ
ている。ＩＣやＬＳＩなどの半導体装置のパッケ−ジを
マ−キングする場合、一筆書きの要領でパタ−ンを描く
方式に比べて生産性の高いマスクを用いた方式が用いら
れることが多い。
をレンズにより被加工物に転写する方式と、レ−ザ光を
被加工物に対して相対的に移動することで一筆書きの要
領でパタ−ンを描く方式とが一般的な方式として知られ
ている。ＩＣやＬＳＩなどの半導体装置のパッケ−ジを
マ−キングする場合、一筆書きの要領でパタ−ンを描く
方式に比べて生産性の高いマスクを用いた方式が用いら
れることが多い。
【０００３】上記半導体装置のパッケ−ジには、１フレ
−ムでより多くのパッケ−ジを取り出すことができるよ
う、図５に示すようにフレ−ムａにパッケ−ジｂを千鳥
状に配置するということが行われている。
−ムでより多くのパッケ−ジを取り出すことができるよ
う、図５に示すようにフレ−ムａにパッケ−ジｂを千鳥
状に配置するということが行われている。
【０００４】千鳥状に配列されたパッケ−ジの中央にマ
−キングを行う場合、上記パッケ−ジｂの偏心距離ｅに
応じてマスクを透過したレ−ザ光を上記偏心距離ｅの振
幅で左右に振らなければならない。
−キングを行う場合、上記パッケ−ジｂの偏心距離ｅに
応じてマスクを透過したレ−ザ光を上記偏心距離ｅの振
幅で左右に振らなければならない。
【０００５】図４に従来のマ−キング装置を示す。同図
中１はレ−ザ発振器である。このレ−ザ発振器１から出
力されたレ−ザ光Ｌは所定のパタ−ン２が形成されたマ
スク３を照射する。このマスク３のパタ−ン２を透過し
たレ−ザ光Ｌは結像レンズ４を通過し、偏向ミラ−５で
反射して光路をほぼ９０度変換して被加工物である、フ
レ−ムａに千鳥状に設けられたパッケ−ジｂの上面に結
像される。
中１はレ−ザ発振器である。このレ−ザ発振器１から出
力されたレ−ザ光Ｌは所定のパタ−ン２が形成されたマ
スク３を照射する。このマスク３のパタ−ン２を透過し
たレ−ザ光Ｌは結像レンズ４を通過し、偏向ミラ−５で
反射して光路をほぼ９０度変換して被加工物である、フ
レ−ムａに千鳥状に設けられたパッケ−ジｂの上面に結
像される。
【０００６】上記偏向ミラ−５はガルバノメ−タスキャ
ナ６によって揺動駆動される。それによって、上記偏向
ミラ−５で反射したレ−ザ光Ｌは、図５に示す千鳥状に
配置されたパッケ−ジｂの偏心距離ｅに応じて左右に振
られるから、偏心配置された各パッケ−ジｂに上記パタ
−ン２がマ−キングされることになる。
ナ６によって揺動駆動される。それによって、上記偏向
ミラ−５で反射したレ−ザ光Ｌは、図５に示す千鳥状に
配置されたパッケ−ジｂの偏心距離ｅに応じて左右に振
られるから、偏心配置された各パッケ−ジｂに上記パタ
−ン２がマ−キングされることになる。
【０００７】しかしながら、このように偏向ミラ−５を
揺動させマ−キング位置を変える方法は、結像レンズ４
とフレ−ムａとの間の距離が十分に確保された光学系で
なければ適用することができない。すなわち、偏向ミラ
−５によって光路を曲げる構成であると、図４にｄで示
す結像レンズ４とフレ−ムａとの距離、つまりワ−クデ
イスタンスが短くなってしまう。ワ−クデイスタンスｄ
が短くなると、マ−キング時にパッケ−ジｂがレ−ザ光
Ｌによって照射されることでスプラッシュが飛散する
と、そのスプラッシュが上記結像レンズ４や偏向ミラ−
５などに付着し、これらの光学部品を早期に損傷させる
ということがある。
揺動させマ−キング位置を変える方法は、結像レンズ４
とフレ−ムａとの間の距離が十分に確保された光学系で
なければ適用することができない。すなわち、偏向ミラ
−５によって光路を曲げる構成であると、図４にｄで示
す結像レンズ４とフレ−ムａとの距離、つまりワ−クデ
イスタンスが短くなってしまう。ワ−クデイスタンスｄ
が短くなると、マ−キング時にパッケ−ジｂがレ−ザ光
Ｌによって照射されることでスプラッシュが飛散する
と、そのスプラッシュが上記結像レンズ４や偏向ミラ−
５などに付着し、これらの光学部品を早期に損傷させる
ということがある。
【０００８】また、偏向ミラ−５を用いてマ−キング位
置を変えるには、レ−ザ光Ｌの光路を曲げなければなら
ないため、装置全体の大型化を招いたり、ラインへの組
み込みが困難になることがある。
置を変えるには、レ−ザ光Ｌの光路を曲げなければなら
ないため、装置全体の大型化を招いたり、ラインへの組
み込みが困難になることがある。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来は偏
向ミラ−を用いてマ−キング位置を変えるようにしてい
たので、結像レンズと被加工物との距離が短くなり、マ
−キング時に飛散するスプラッシュが結像レンズや偏向
ミラ−に付着するということがあるばかりか、レ−ザ光
の光路が曲げられるために、装置の大型化やラインへの
組み込みの自由度が失われるなどのことがあった。
向ミラ−を用いてマ−キング位置を変えるようにしてい
たので、結像レンズと被加工物との距離が短くなり、マ
−キング時に飛散するスプラッシュが結像レンズや偏向
ミラ−に付着するということがあるばかりか、レ−ザ光
の光路が曲げられるために、装置の大型化やラインへの
組み込みの自由度が失われるなどのことがあった。
【００１０】この発明は上記事情に基づきなされたもの
で、その目的とするところは、偏向ミラ−を用いずにレ
−ザ光のマ−キング位置を変えることができるようにし
たレ−ザマ−キング方法を提供することにある。
で、その目的とするところは、偏向ミラ−を用いずにレ
−ザ光のマ−キング位置を変えることができるようにし
たレ−ザマ−キング方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
にこの発明は、所定のパターンが形成されたマスクにレ
ーザ光を照射する工程と、入射面と出射面とが平面をな
す光学素子に上記パターンを通過したレーザ光を透過さ
せることによりレーザ光を屈折させる工程と、結像レン
ズを用いてこのレーザ光を千鳥状に偏心配置された各パ
ッケージに結像させることにより上記パターンをマーキ
ングさせる工程とを備えるレーザマーキング方法におい
て、上記光学素子の揺動角度が所定値のときの上記レー
ザ光の光路に対して上記パッケージが所定方向に偏心し
ている場合には、上記光学素子を揺動駆動させることに
より上記所定方向とは反対方向に上記レーザ光を屈折さ
せた後、上記光学素子の厚さ、揺動角度、屈折率および
上記光学系における結像比に基づいて上記偏心の距離に
対応させて上記パッケージにマーキングを行うととも
に、各パッケージの偏心の距離に応じて上記光学素子を
揺動駆動させて上記レーザ光を所定の振幅で振ることに
より上記マーキングを上記各パッケージに対して行うこ
とを特徴とするレーザマーキング方法。
にこの発明は、所定のパターンが形成されたマスクにレ
ーザ光を照射する工程と、入射面と出射面とが平面をな
す光学素子に上記パターンを通過したレーザ光を透過さ
せることによりレーザ光を屈折させる工程と、結像レン
ズを用いてこのレーザ光を千鳥状に偏心配置された各パ
ッケージに結像させることにより上記パターンをマーキ
ングさせる工程とを備えるレーザマーキング方法におい
て、上記光学素子の揺動角度が所定値のときの上記レー
ザ光の光路に対して上記パッケージが所定方向に偏心し
ている場合には、上記光学素子を揺動駆動させることに
より上記所定方向とは反対方向に上記レーザ光を屈折さ
せた後、上記光学素子の厚さ、揺動角度、屈折率および
上記光学系における結像比に基づいて上記偏心の距離に
対応させて上記パッケージにマーキングを行うととも
に、各パッケージの偏心の距離に応じて上記光学素子を
揺動駆動させて上記レーザ光を所定の振幅で振ることに
より上記マーキングを上記各パッケージに対して行うこ
とを特徴とするレーザマーキング方法。
【００１２】
【作用】上記構成によれば、光学素子を揺動させること
で、レ−ザ光を屈折させることができるから、レ−ザ光
が上記光学素子へ入射する光路に対して出射する光路を
ずらすことができる。
で、レ−ザ光を屈折させることができるから、レ−ザ光
が上記光学素子へ入射する光路に対して出射する光路を
ずらすことができる。
【００１３】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図１乃至図２を
参照して説明する。図１に示すレ−ザマ−キング装置は
レ−ザ発振器１１を備えている。このレ−ザ発振器１１
から出力されたレ−ザ光Ｌは所定の形状のパタ−ン１２
が形成されたマスク１３を照射し、その一部は上記パタ
−ン１２を透過する。
参照して説明する。図１に示すレ−ザマ−キング装置は
レ−ザ発振器１１を備えている。このレ−ザ発振器１１
から出力されたレ−ザ光Ｌは所定の形状のパタ−ン１２
が形成されたマスク１３を照射し、その一部は上記パタ
−ン１２を透過する。
【００１４】上記パタ−ン１２を透過したレ−ザ光Ｌ
は、上記マスク１３の出射側に配置された光学素子１４
を透過し、結像レンズ１５で結像されて被加工物であ
る、フレ−ムａに千鳥状に設けられたパッケ−ジｂに後
述するごとくマ−キングする。上記マスク１３、光学素
子１４および結像レンズ１５はレ−ザ光Ｌの光路に沿っ
て一列に配置されている。
は、上記マスク１３の出射側に配置された光学素子１４
を透過し、結像レンズ１５で結像されて被加工物であ
る、フレ−ムａに千鳥状に設けられたパッケ−ジｂに後
述するごとくマ−キングする。上記マスク１３、光学素
子１４および結像レンズ１５はレ−ザ光Ｌの光路に沿っ
て一列に配置されている。
【００１５】上記光学素子１４は、図２（ａ）、（ｂ）
に示すように入射面１４ａと出射面１４ｂとがともに平
面で、しかも平行に形成された板状部材からなり、上記
レ−ザ発振器１１がＹＡＧレ−ザの場合にはガラス板に
よって形成されている。この光学素子１４は、ガルバノ
メ−タスキャナやサ−ボモ−タなどの駆動手段１６によ
って所定の角度で揺動駆動されるようになっている。
に示すように入射面１４ａと出射面１４ｂとがともに平
面で、しかも平行に形成された板状部材からなり、上記
レ−ザ発振器１１がＹＡＧレ−ザの場合にはガラス板に
よって形成されている。この光学素子１４は、ガルバノ
メ−タスキャナやサ−ボモ−タなどの駆動手段１６によ
って所定の角度で揺動駆動されるようになっている。
【００１６】上記構成のレ−ザマ−キング装置によれ
ば、レ−ザ発振器１１から出力され、マスク１３を照射
してそのパタ−ン１２を透過したレ−ザ光Ｌは、光学素
子１４を透過してから結像レンズ１５で集束され、その
結像位置に配置されたフレ−ムａ上のパッケ−ジｂを照
射してマ−キングする。
ば、レ−ザ発振器１１から出力され、マスク１３を照射
してそのパタ−ン１２を透過したレ−ザ光Ｌは、光学素
子１４を透過してから結像レンズ１５で集束され、その
結像位置に配置されたフレ−ムａ上のパッケ−ジｂを照
射してマ−キングする。
【００１７】レ−ザ光Ｌが上記光学素子１４を透過する
際、レ−ザ光Ｌの光路は上記光学素子１４の揺動角度に
よって変化する。つまり、上記光学素子１４が図２
（ａ）に示すようにレ−ザ光Ｌの光路に対して直交する
角度（揺動角度０度）に駆動されているときには、この
光学素子１４の入射面１４ａから入射して出射面１４ｂ
に出射するレ−ザ光Ｌの光路は一致している。
際、レ−ザ光Ｌの光路は上記光学素子１４の揺動角度に
よって変化する。つまり、上記光学素子１４が図２
（ａ）に示すようにレ−ザ光Ｌの光路に対して直交する
角度（揺動角度０度）に駆動されているときには、この
光学素子１４の入射面１４ａから入射して出射面１４ｂ
に出射するレ−ザ光Ｌの光路は一致している。
【００１８】上記光学素子１４が図２（ｂ）に示すよう
に駆動手段１６によって角度θで揺動しているときにレ
−ザ光Ｌが入射面１４ａに入射すると、出射面１４ｂか
ら出射するレ−ザ光Ｌは屈折してその光路Ｏ2 は入射前
の光路Ｏ1 に対してずれ量Ｘでずれる。したがって、結
像レンズ１５で集束されてフレ−ムａのパッケ−ジｂを
照射するレ−ザ光Ｌの照射位置もずれることになる。上
記光学素子１４が角度θで傾いたときのレ−ザ光Ｌの照
射位置のずれ量をＸとすると、そのずれ量Ｘは次式
（１）で求めることができる。
に駆動手段１６によって角度θで揺動しているときにレ
−ザ光Ｌが入射面１４ａに入射すると、出射面１４ｂか
ら出射するレ−ザ光Ｌは屈折してその光路Ｏ2 は入射前
の光路Ｏ1 に対してずれ量Ｘでずれる。したがって、結
像レンズ１５で集束されてフレ−ムａのパッケ−ジｂを
照射するレ−ザ光Ｌの照射位置もずれることになる。上
記光学素子１４が角度θで傾いたときのレ−ザ光Ｌの照
射位置のずれ量をＸとすると、そのずれ量Ｘは次式
（１）で求めることができる。
【００１９】
【数１】
【００２０】上記（１）式において、ｔは光学素子１４
の厚さ、ｎは光学素子１４のレ−ザ光Ｌに対する屈折
率、ｍは光学系における結像比である。たとえば、ｔ＝
６mm、θ＝４５度、ｎ＝1.5 、ｍ＝１／２としてずれ量
Ｘを上記（１）式に基づいて計算すると、Ｘ＝0.99mmと
なる。
の厚さ、ｎは光学素子１４のレ−ザ光Ｌに対する屈折
率、ｍは光学系における結像比である。たとえば、ｔ＝
６mm、θ＝４５度、ｎ＝1.5 、ｍ＝１／２としてずれ量
Ｘを上記（１）式に基づいて計算すると、Ｘ＝0.99mmと
なる。
【００２１】千鳥配置のパッケ−ジｂの偏心距離ｅは通
常、１〜２mmなので、上記光学素子１４を約４５度の角
度で揺動させれば、千鳥配置された各パッケ−ジｂの偏
心距離ｅに応じてレ−ザ光を左右に振り、各々のパッケ
−ジｂにマ−キングすることができる。
常、１〜２mmなので、上記光学素子１４を約４５度の角
度で揺動させれば、千鳥配置された各パッケ−ジｂの偏
心距離ｅに応じてレ−ザ光を左右に振り、各々のパッケ
−ジｂにマ−キングすることができる。
【００２２】すなわち、上記構成によれば、従来のよう
に偏向ミラ−５を用いずにレ−ザ光Ｌを所定の振幅で振
ることができるから、図１のＤで示すワ−クデイスタン
スを短くすることなく、レ−ザ光Ｌによるマ−キング位
置を変えることができる。つまり、ワ−クデイスタンス
Ｄは従来のワ−クデイスタンスｄの約２倍とすることが
できる。
に偏向ミラ−５を用いずにレ−ザ光Ｌを所定の振幅で振
ることができるから、図１のＤで示すワ−クデイスタン
スを短くすることなく、レ−ザ光Ｌによるマ−キング位
置を変えることができる。つまり、ワ−クデイスタンス
Ｄは従来のワ−クデイスタンスｄの約２倍とすることが
できる。
【００２３】また、光学素子１４を用いることで、光学
系を折り曲げることなくレ−ザ光Ｌを所定の振幅で振る
ことができるから、装置の小型化や配置の自由度が得ら
れるなどのこともある。
系を折り曲げることなくレ−ザ光Ｌを所定の振幅で振る
ことができるから、装置の小型化や配置の自由度が得ら
れるなどのこともある。
【００２４】この発明は上記一実施例に限定されず、種
々変形可能であり、たとえば、図３に示す光学素子２４
であってもよい。つまり、この光学素子２４は入射面２
４ａと出射面２４ｂとは、共に平面であるものの平行で
はなく、したがって光学素子２４は楔状の断面形状をな
している。
々変形可能であり、たとえば、図３に示す光学素子２４
であってもよい。つまり、この光学素子２４は入射面２
４ａと出射面２４ｂとは、共に平面であるものの平行で
はなく、したがって光学素子２４は楔状の断面形状をな
している。
【００２５】このような光学素子２４によれば、図３に
実線で示すように出射面２４ｂを出射したレ−ザ光Ｌの
出射光路は、入射面２４ａと出射面２４ｂとがなす角度
に応じて傾斜するから、平行平面の光学素子１４に比べ
てずれ量Ｘを大きくすることができる。なお、同図にお
いて、鎖線で示す光路は入射面と出射面とが平行平面に
形成された光学素子１４から出射するレ−ザ光Ｌ´の光
路である。
実線で示すように出射面２４ｂを出射したレ−ザ光Ｌの
出射光路は、入射面２４ａと出射面２４ｂとがなす角度
に応じて傾斜するから、平行平面の光学素子１４に比べ
てずれ量Ｘを大きくすることができる。なお、同図にお
いて、鎖線で示す光路は入射面と出射面とが平行平面に
形成された光学素子１４から出射するレ−ザ光Ｌ´の光
路である。
【００２６】また、光学素子１４はマスク１３と結像レ
ンズ１５との間でなく、結像レンズ１５とフレ−ムａと
の間に配置しても良く、要はマスク１３の出射側に配置
すればよい。
ンズ１５との間でなく、結像レンズ１５とフレ−ムａと
の間に配置しても良く、要はマスク１３の出射側に配置
すればよい。
【００２７】
【発明の効果】以上述べたようにこの発明は、レ−ザ光
の光路のマスクの出射側に、レ−ザ光を透過する材料で
形成されているとともに入射面と出射面とが平面をなし
た光学素子を配置し、この光学素子を揺動駆動すること
で、レ−ザ光を屈折させるようにした。
の光路のマスクの出射側に、レ−ザ光を透過する材料で
形成されているとともに入射面と出射面とが平面をなし
た光学素子を配置し、この光学素子を揺動駆動すること
で、レ−ザ光を屈折させるようにした。
【００２８】したがって、上記光学素子の揺動角度に応
じてレ−ザ光を屈折させ、その光路を変えることができ
るから、上記光学素子を揺動駆動すれば、レ−ザ光を所
定の振幅で振ってフレームに千鳥状に偏心配置された各
パッケージにマ−キングすることができる。そのため、
レ−ザ光を反射ミラ−で振る場合のように、結像レンズ
とパッケージとの距離である、ワ−クデイスタンスを短
くせずにすむから、レ−ザ光がパッケージを照射したと
きに発生するスプラッシュが光学系に付着しずらくな
る。また、光学系を折り曲げずにすむから、装置の小型
化や配置の自由度が計れるなどの利点もある。
じてレ−ザ光を屈折させ、その光路を変えることができ
るから、上記光学素子を揺動駆動すれば、レ−ザ光を所
定の振幅で振ってフレームに千鳥状に偏心配置された各
パッケージにマ−キングすることができる。そのため、
レ−ザ光を反射ミラ−で振る場合のように、結像レンズ
とパッケージとの距離である、ワ−クデイスタンスを短
くせずにすむから、レ−ザ光がパッケージを照射したと
きに発生するスプラッシュが光学系に付着しずらくな
る。また、光学系を折り曲げずにすむから、装置の小型
化や配置の自由度が計れるなどの利点もある。
【図１】この発明の一実施例を示すレ−ザマ−キング装
置の概略的構成の斜視図。
置の概略的構成の斜視図。
【図２】同じく（ａ）は光学素子の傾きが０のときのレ
−ザ光の光路を説明する平面図、（ｂ）は光学素子がθ
の角度で傾いたときのレ−ザ光の光路を説明する平面
図。
−ザ光の光路を説明する平面図、（ｂ）は光学素子がθ
の角度で傾いたときのレ−ザ光の光路を説明する平面
図。
【図３】この発明の変形例を示す光学素子の平面図。
【図４】従来のレ−ザマ−キング装置の概略的構成を示
す斜視図。
す斜視図。
【図５】パッケ−ッジが千鳥状に配置されたフレ−ムの
平面図。
平面図。
【符号の説明】 １１…レ−ザ発振器、１２…パタ−ン、１３…マスク、
１４…光学素子、１５…駆動手段。
１４…光学素子、１５…駆動手段。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｇ０２Ｂ 26/10 １０１ Ｈ０１Ｌ 23/00 Ａ Ｈ０１Ｌ 23/00 Ｂ４１Ｊ 3/00 Ｑ
Claims (1)
- 【請求項１】 所定のパターンが形成されたマスクにレ
ーザ光を照射する工程と、入射面と出射面とが平面をな
す光学素子に上記パターンを通過したレーザ光を透過さ
せることによりレーザ光を屈折させる工程と、結像レン
ズを用いてこのレーザ光を千鳥状に偏心配置された各パ
ッケージに結像させることにより上記パターンをマーキ
ングさせる工程とを備えるレーザマーキング方法におい
て、上記光学素子の揺動角度が所定値のときの上記レー
ザ光の光路に対して上記パッケージが所定方向に偏心し
ている場合には、上記光学素子を揺動駆動させることに
より上記所定方向とは反対方向に上記レーザ光を屈折さ
せた後、上記光学素子の厚さ、揺動角度、屈折率および
上記光学系における結像比に基づいて上記偏心の距離に
対応させて上記パッケージにマーキングを行うととも
に、各パッケージの偏心の距離に応じて上記光学素子を
揺動駆動させて上記レーザ光を所定の振幅で振ることに
より上記マーキングを上記各パッケージに対して行うこ
とを特徴とするレーザマーキング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32515892A JP3181407B2 (ja) | 1992-12-04 | 1992-12-04 | レーザマーキング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32515892A JP3181407B2 (ja) | 1992-12-04 | 1992-12-04 | レーザマーキング方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06170562A JPH06170562A (ja) | 1994-06-21 |
| JP3181407B2 true JP3181407B2 (ja) | 2001-07-03 |
Family
ID=18173672
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32515892A Expired - Fee Related JP3181407B2 (ja) | 1992-12-04 | 1992-12-04 | レーザマーキング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3181407B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10045973A1 (de) * | 2000-09-16 | 2002-04-04 | Bosch Gmbh Robert | Optische Vorrichtung zum Bohren mittels Laserstrahl |
| CN108098165A (zh) * | 2017-12-13 | 2018-06-01 | 深圳市晶特智造科技有限公司 | 激光打标方法 |
| CN108568597A (zh) * | 2018-05-04 | 2018-09-25 | 深圳市有道腾达科技有限公司 | 一种激光束往复摆动式加工装置及方法 |
-
1992
- 1992-12-04 JP JP32515892A patent/JP3181407B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06170562A (ja) | 1994-06-21 |
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