JP3181407B2 - レーザマーキング方法 - Google Patents

レーザマーキング方法

Info

Publication number
JP3181407B2
JP3181407B2 JP32515892A JP32515892A JP3181407B2 JP 3181407 B2 JP3181407 B2 JP 3181407B2 JP 32515892 A JP32515892 A JP 32515892A JP 32515892 A JP32515892 A JP 32515892A JP 3181407 B2 JP3181407 B2 JP 3181407B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical element
laser light
package
laser
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP32515892A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06170562A (ja
Inventor
弘 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP32515892A priority Critical patent/JP3181407B2/ja
Publication of JPH06170562A publication Critical patent/JPH06170562A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3181407B2 publication Critical patent/JP3181407B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/435Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
    • B41J2/465Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using masks, e.g. light-switching masks

Landscapes

  • Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
  • Laser Beam Printer (AREA)
  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明はマスクに形成されたパ
タ−ンをレ−ザ光によって被加工物に転写してマ−キン
グするレ−ザマ−キング方法に関する。
【0002】
【従来の技術】レ−ザマ−キング装置には、マスクの像
をレンズにより被加工物に転写する方式と、レ−ザ光を
被加工物に対して相対的に移動することで一筆書きの要
領でパタ−ンを描く方式とが一般的な方式として知られ
ている。ICやLSIなどの半導体装置のパッケ−ジを
マ−キングする場合、一筆書きの要領でパタ−ンを描く
方式に比べて生産性の高いマスクを用いた方式が用いら
れることが多い。
【0003】上記半導体装置のパッケ−ジには、1フレ
−ムでより多くのパッケ−ジを取り出すことができるよ
う、図5に示すようにフレ−ムaにパッケ−ジbを千鳥
状に配置するということが行われている。
【0004】千鳥状に配列されたパッケ−ジの中央にマ
−キングを行う場合、上記パッケ−ジbの偏心距離eに
応じてマスクを透過したレ−ザ光を上記偏心距離eの振
幅で左右に振らなければならない。
【0005】図4に従来のマ−キング装置を示す。同図
中1はレ−ザ発振器である。このレ−ザ発振器1から出
力されたレ−ザ光Lは所定のパタ−ン2が形成されたマ
スク3を照射する。このマスク3のパタ−ン2を透過し
たレ−ザ光Lは結像レンズ4を通過し、偏向ミラ−5で
反射して光路をほぼ90度変換して被加工物である、フ
レ−ムaに千鳥状に設けられたパッケ−ジbの上面に結
像される。
【0006】上記偏向ミラ−5はガルバノメ−タスキャ
ナ6によって揺動駆動される。それによって、上記偏向
ミラ−5で反射したレ−ザ光Lは、図5に示す千鳥状に
配置されたパッケ−ジbの偏心距離eに応じて左右に振
られるから、偏心配置された各パッケ−ジbに上記パタ
−ン2がマ−キングされることになる。
【0007】しかしながら、このように偏向ミラ−5を
揺動させマ−キング位置を変える方法は、結像レンズ4
とフレ−ムaとの間の距離が十分に確保された光学系で
なければ適用することができない。すなわち、偏向ミラ
−5によって光路を曲げる構成であると、図4にdで示
す結像レンズ4とフレ−ムaとの距離、つまりワ−クデ
イスタンスが短くなってしまう。ワ−クデイスタンスd
が短くなると、マ−キング時にパッケ−ジbがレ−ザ光
Lによって照射されることでスプラッシュが飛散する
と、そのスプラッシュが上記結像レンズ4や偏向ミラ−
5などに付着し、これらの光学部品を早期に損傷させる
ということがある。
【0008】また、偏向ミラ−5を用いてマ−キング位
置を変えるには、レ−ザ光Lの光路を曲げなければなら
ないため、装置全体の大型化を招いたり、ラインへの組
み込みが困難になることがある。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来は偏
向ミラ−を用いてマ−キング位置を変えるようにしてい
たので、結像レンズと被加工物との距離が短くなり、マ
−キング時に飛散するスプラッシュが結像レンズや偏向
ミラ−に付着するということがあるばかりか、レ−ザ光
の光路が曲げられるために、装置の大型化やラインへの
組み込みの自由度が失われるなどのことがあった。
【0010】この発明は上記事情に基づきなされたもの
で、その目的とするところは、偏向ミラ−を用いずにレ
−ザ光のマ−キング位置を変えることができるようにし
たレ−ザマ−キング方法を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
にこの発明は、所定のパターンが形成されたマスクにレ
ーザ光を照射する工程と、入射面と出射面とが平面をな
す光学素子に上記パターンを通過したレーザ光を透過さ
せることによりレーザ光を屈折させる工程と、結像レン
ズを用いてこのレーザ光を千鳥状に偏心配置された各パ
ッケージに結像させることにより上記パターンをマーキ
ングさせる工程とを備えるレーザマーキング方法におい
て、上記光学素子の揺動角度が所定値のときの上記レー
ザ光の光路に対して上記パッケージが所定方向に偏心し
ている場合には、上記光学素子を揺動駆動させることに
より上記所定方向とは反対方向に上記レーザ光を屈折さ
せた後、上記光学素子の厚さ、揺動角度、屈折率および
上記光学系における結像比に基づいて上記偏心の距離に
対応させて上記パッケージにマーキングを行うととも
に、各パッケージの偏心の距離に応じて上記光学素子を
揺動駆動させて上記レーザ光を所定の振幅で振ることに
より上記マーキングを上記各パッケージに対して行うこ
を特徴とするレーザマーキング方法。
【0012】
【作用】上記構成によれば、光学素子を揺動させること
で、レ−ザ光を屈折させることができるから、レ−ザ光
が上記光学素子へ入射する光路に対して出射する光路を
ずらすことができる。
【0013】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図1乃至図2を
参照して説明する。図1に示すレ−ザマ−キング装置は
レ−ザ発振器11を備えている。このレ−ザ発振器11
から出力されたレ−ザ光Lは所定の形状のパタ−ン12
が形成されたマスク13を照射し、その一部は上記パタ
−ン12を透過する。
【0014】上記パタ−ン12を透過したレ−ザ光L
は、上記マスク13の出射側に配置された光学素子14
を透過し、結像レンズ15で結像されて被加工物であ
る、フレ−ムaに千鳥状に設けられたパッケ−ジbに後
述するごとくマ−キングする。上記マスク13、光学素
子14および結像レンズ15はレ−ザ光Lの光路に沿っ
て一列に配置されている。
【0015】上記光学素子14は、図2(a)、(b)
に示すように入射面14aと出射面14bとがともに平
面で、しかも平行に形成された板状部材からなり、上記
レ−ザ発振器11がYAGレ−ザの場合にはガラス板に
よって形成されている。この光学素子14は、ガルバノ
メ−タスキャナやサ−ボモ−タなどの駆動手段16によ
って所定の角度で揺動駆動されるようになっている。
【0016】上記構成のレ−ザマ−キング装置によれ
ば、レ−ザ発振器11から出力され、マスク13を照射
してそのパタ−ン12を透過したレ−ザ光Lは、光学素
子14を透過してから結像レンズ15で集束され、その
結像位置に配置されたフレ−ムa上のパッケ−ジbを照
射してマ−キングする。
【0017】レ−ザ光Lが上記光学素子14を透過する
際、レ−ザ光Lの光路は上記光学素子14の揺動角度に
よって変化する。つまり、上記光学素子14が図2
(a)に示すようにレ−ザ光Lの光路に対して直交する
角度(揺動角度0度)に駆動されているときには、この
光学素子14の入射面14aから入射して出射面14b
に出射するレ−ザ光Lの光路は一致している。
【0018】上記光学素子14が図2(b)に示すよう
に駆動手段16によって角度θで揺動しているときにレ
−ザ光Lが入射面14aに入射すると、出射面14bか
ら出射するレ−ザ光Lは屈折してその光路O2 は入射前
の光路O1 に対してずれ量Xでずれる。したがって、結
像レンズ15で集束されてフレ−ムaのパッケ−ジbを
照射するレ−ザ光Lの照射位置もずれることになる。上
記光学素子14が角度θで傾いたときのレ−ザ光Lの照
射位置のずれ量をXとすると、そのずれ量Xは次式
(1)で求めることができる。
【0019】
【数1】
【0020】上記(1)式において、tは光学素子14
の厚さ、nは光学素子14のレ−ザ光Lに対する屈折
率、mは光学系における結像比である。たとえば、t=
6mm、θ=45度、n=1.5 、m=1/2としてずれ量
Xを上記(1)式に基づいて計算すると、X=0.99mmと
なる。
【0021】千鳥配置のパッケ−ジbの偏心距離eは通
常、1〜2mmなので、上記光学素子14を約45度の角
度で揺動させれば、千鳥配置された各パッケ−ジbの偏
心距離eに応じてレ−ザ光を左右に振り、各々のパッケ
−ジbにマ−キングすることができる。
【0022】すなわち、上記構成によれば、従来のよう
に偏向ミラ−5を用いずにレ−ザ光Lを所定の振幅で振
ることができるから、図1のDで示すワ−クデイスタン
スを短くすることなく、レ−ザ光Lによるマ−キング位
置を変えることができる。つまり、ワ−クデイスタンス
Dは従来のワ−クデイスタンスdの約2倍とすることが
できる。
【0023】また、光学素子14を用いることで、光学
系を折り曲げることなくレ−ザ光Lを所定の振幅で振る
ことができるから、装置の小型化や配置の自由度が得ら
れるなどのこともある。
【0024】この発明は上記一実施例に限定されず、種
々変形可能であり、たとえば、図3に示す光学素子24
であってもよい。つまり、この光学素子24は入射面2
4aと出射面24bとは、共に平面であるものの平行で
はなく、したがって光学素子24は楔状の断面形状をな
している。
【0025】このような光学素子24によれば、図3に
実線で示すように出射面24bを出射したレ−ザ光Lの
出射光路は、入射面24aと出射面24bとがなす角度
に応じて傾斜するから、平行平面の光学素子14に比べ
てずれ量Xを大きくすることができる。なお、同図にお
いて、鎖線で示す光路は入射面と出射面とが平行平面に
形成された光学素子14から出射するレ−ザ光L´の光
路である。
【0026】また、光学素子14はマスク13と結像レ
ンズ15との間でなく、結像レンズ15とフレ−ムaと
の間に配置しても良く、要はマスク13の出射側に配置
すればよい。
【0027】
【発明の効果】以上述べたようにこの発明は、レ−ザ光
の光路のマスクの出射側に、レ−ザ光を透過する材料で
形成されているとともに入射面と出射面とが平面をなし
た光学素子を配置し、この光学素子を揺動駆動すること
で、レ−ザ光を屈折させるようにした。
【0028】したがって、上記光学素子の揺動角度に応
じてレ−ザ光を屈折させ、その光路を変えることができ
るから、上記光学素子を揺動駆動すれば、レ−ザ光を所
定の振幅で振ってフレームに千鳥状に偏心配置された各
パッケージにマ−キングすることができる。そのため、
レ−ザ光を反射ミラ−で振る場合のように、結像レンズ
パッケージとの距離である、ワ−クデイスタンスを短
くせずにすむから、レ−ザ光がパッケージを照射したと
きに発生するスプラッシュが光学系に付着しずらくな
る。また、光学系を折り曲げずにすむから、装置の小型
化や配置の自由度が計れるなどの利点もある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例を示すレ−ザマ−キング装
置の概略的構成の斜視図。
【図2】同じく(a)は光学素子の傾きが0のときのレ
−ザ光の光路を説明する平面図、(b)は光学素子がθ
の角度で傾いたときのレ−ザ光の光路を説明する平面
図。
【図3】この発明の変形例を示す光学素子の平面図。
【図4】従来のレ−ザマ−キング装置の概略的構成を示
す斜視図。
【図5】パッケ−ッジが千鳥状に配置されたフレ−ムの
平面図。
【符号の説明】 11…レ−ザ発振器、12…パタ−ン、13…マスク、
14…光学素子、15…駆動手段。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI G02B 26/10 101 H01L 23/00 A H01L 23/00 B41J 3/00 Q

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定のパターンが形成されたマスクにレ
    ーザ光を照射する工程と、入射面と出射面とが平面をな
    す光学素子に上記パターンを通過したレーザ光を透過さ
    せることによりレーザ光を屈折させる工程と、結像レン
    ズを用いてこのレーザ光を千鳥状に偏心配置された各パ
    ッケージに結像させることにより上記パターンをマーキ
    ングさせる工程とを備えるレーザマーキング方法におい
    て、上記光学素子の揺動角度が所定値のときの上記レー
    ザ光の光路に対して上記パッケージが所定方向に偏心し
    ている場合には、上記光学素子を揺動駆動させることに
    より上記所定方向とは反対方向に上記レーザ光を屈折さ
    せた後、上記光学素子の厚さ、揺動角度、屈折率および
    上記光学系における結像比に基づいて上記偏心の距離に
    対応させて上記パッケージにマーキングを行うととも
    に、各パッケージの偏心の距離に応じて上記光学素子を
    揺動駆動させて上記レーザ光を所定の振幅で振ることに
    より上記マーキングを上記各パッケージに対して行うこ
    を特徴とするレーザマーキング方法。
JP32515892A 1992-12-04 1992-12-04 レーザマーキング方法 Expired - Fee Related JP3181407B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32515892A JP3181407B2 (ja) 1992-12-04 1992-12-04 レーザマーキング方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32515892A JP3181407B2 (ja) 1992-12-04 1992-12-04 レーザマーキング方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06170562A JPH06170562A (ja) 1994-06-21
JP3181407B2 true JP3181407B2 (ja) 2001-07-03

Family

ID=18173672

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP32515892A Expired - Fee Related JP3181407B2 (ja) 1992-12-04 1992-12-04 レーザマーキング方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3181407B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10045973A1 (de) * 2000-09-16 2002-04-04 Bosch Gmbh Robert Optische Vorrichtung zum Bohren mittels Laserstrahl
CN108098165A (zh) * 2017-12-13 2018-06-01 深圳市晶特智造科技有限公司 激光打标方法
CN108568597A (zh) * 2018-05-04 2018-09-25 深圳市有道腾达科技有限公司 一种激光束往复摆动式加工装置及方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06170562A (ja) 1994-06-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7184187B2 (en) Optical system for torsion oscillator laser scanning unit
US5661744A (en) Excimer laser beam irradiation apparatus for optically processing workpiece
US6888096B1 (en) Laser drilling method and laser drilling device
EP0093583B1 (en) Apparatus for scanning a plane with light beams
US20100044596A1 (en) Image exposing method and apparatus
JP2005234157A5 (ja)
JPH11109270A (ja) シリンドリカルレンズ及び該レンズを使用する光走査装置
JP3181407B2 (ja) レーザマーキング方法
US6268585B1 (en) Method of forming groove by laser
JP2577638B2 (ja) レーザマーキング方法及び装置
JP2003088966A (ja) レーザマーキング装置
JP4040896B2 (ja) レーザ加工方法及びレーザ加工装置
JPH0318491A (ja) レーザ印字装置
JP3524855B2 (ja) レーザ照射装置及びレーザ加工方法
JPH05318160A (ja) 光処理装置
JPH0643369A (ja) レーザ走査顕微鏡における2次元スキャナ
JP3028675B2 (ja) X線走査装置
JP2003039188A (ja) レーザー加工方法及びレーザー加工装置
JP2788317B2 (ja) バーコードリーダにおける走査パターンの形成装置
JP4282103B2 (ja) レーザマーキング装置
JP2002311374A (ja) 光偏向器
JP2740021B2 (ja) レーザ走査装置
JP2537277B2 (ja) 走査光学系
JP2003287692A (ja) 光線束走査装置
JP2002023088A (ja) 走査光学系

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees