JP2001356488A - レーザ描画装置 - Google Patents
レーザ描画装置Info
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- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/47—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light
- B41J2/471—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror
- B41J2/473—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror using multiple light beams, wavelengths or colours
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- G—PHYSICS
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
- G03F7/2053—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser
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- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】描画用のレーザ光として非可視領域の波長から
なるレーザ光を使用しているにも拘わらず、アラインメ
ント調整を容易に行うことができるレーザ描画装置を、
提供する。 【解決手段】レーザ描画装置１は、レーザ光源１０と，
波長選択フィルタ６０と，縮小光学系２２，音響光学変
調器２５及びコリメートレンズ２７を主に備える変調光
学系２０と，ｆθレンズ４１及びコンデンサレンズ４３
を主に備える結像光学系４０とから構成される。レーザ
光源１０は、非可視領域の波長と可視領域の波長の２波
長からなるレーザ光を発する。波長選択フィルタ６０
は、非可視光を透過させる第１の領域６０ａと可視光を
透過させる第２の領域６０ｂとに区分されており、描画
時にはレーザ光を描画光として、また、アラインメント
時にはレーザ光をアラインメント光として切り替えるこ
とができる。
なるレーザ光を使用しているにも拘わらず、アラインメ
ント調整を容易に行うことができるレーザ描画装置を、
提供する。 【解決手段】レーザ描画装置１は、レーザ光源１０と，
波長選択フィルタ６０と，縮小光学系２２，音響光学変
調器２５及びコリメートレンズ２７を主に備える変調光
学系２０と，ｆθレンズ４１及びコンデンサレンズ４３
を主に備える結像光学系４０とから構成される。レーザ
光源１０は、非可視領域の波長と可視領域の波長の２波
長からなるレーザ光を発する。波長選択フィルタ６０
は、非可視光を透過させる第１の領域６０ａと可視光を
透過させる第２の領域６０ｂとに区分されており、描画
時にはレーザ光を描画光として、また、アラインメント
時にはレーザ光をアラインメント光として切り替えるこ
とができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、非可視光を用いて
描画面上にパターンを描画するレーザ描画装置に、関す
る。
描画面上にパターンを描画するレーザ描画装置に、関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、プリント基板や半導体素子を製造
する際に、配線等の描画パターンを被描画体である基板
上に直接記録するために、例えばダイレクトイメージャ
ーやレーザフォトプロッタ等のレーザ描画装置が使用さ
れている。これらレーザ描画装置は、光源から発せられ
るレーザ光を走査光学系を介してビームスポットとして
走査させることにより、感光材料が付着された基板など
の描画面に直接パターンを描く。
する際に、配線等の描画パターンを被描画体である基板
上に直接記録するために、例えばダイレクトイメージャ
ーやレーザフォトプロッタ等のレーザ描画装置が使用さ
れている。これらレーザ描画装置は、光源から発せられ
るレーザ光を走査光学系を介してビームスポットとして
走査させることにより、感光材料が付着された基板など
の描画面に直接パターンを描く。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このようなレーザ描画
装置では、半導体レーザのようにレーザ光を直接変調す
ることが不可能なガスレーザや固体レーザが光源として
用いられると、音響光学変調器などの光変調器が必要と
なるために、光学系が複雑になってしまう。
装置では、半導体レーザのようにレーザ光を直接変調す
ることが不可能なガスレーザや固体レーザが光源として
用いられると、音響光学変調器などの光変調器が必要と
なるために、光学系が複雑になってしまう。
【０００４】また、光源の交換などに因りレーザ光のビ
ーム軸に対する光学系の光軸合わせ（アラインメント）
を行う必要が生じた場合、描画用のレーザ光が７００ｎ
ｍ以上の波長を持つ赤外光や４００ｎｍ以下の波長を持
つ紫外光であるときには、カメラや蛍光板などを用いな
ければ光学系の各構成要素を透過するレーザ光を観察す
ることができない。光学系の各構成素子一つ一つを調整
する毎にカメラなどで光束位置の確認作業を行うこと
は、かなり不便である。
ーム軸に対する光学系の光軸合わせ（アラインメント）
を行う必要が生じた場合、描画用のレーザ光が７００ｎ
ｍ以上の波長を持つ赤外光や４００ｎｍ以下の波長を持
つ紫外光であるときには、カメラや蛍光板などを用いな
ければ光学系の各構成要素を透過するレーザ光を観察す
ることができない。光学系の各構成素子一つ一つを調整
する毎にカメラなどで光束位置の確認作業を行うこと
は、かなり不便である。
【０００５】そこで、本発明の課題は、描画用のレーザ
光として非可視領域の波長からなるレーザ光を使用して
いるにも拘わらず、アラインメントを容易に行うことが
できるレーザ描画装置を、提供することにある。
光として非可視領域の波長からなるレーザ光を使用して
いるにも拘わらず、アラインメントを容易に行うことが
できるレーザ描画装置を、提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の課題を達成するた
めに構成された本発明によるレーザ描画装置は、非可視
領域の波長からなる描画用のレーザ光と可視領域の波長
からなるアラインメント用のレーザ光とを互いのビーム
軸を同軸上に配置して発する光源部と、前記光源部から
発せられるレーザ光を変調する変調光学系と、前記変調
光学系において変調されたレーザ光を偏向する偏向器
と、前記偏向器により偏向されたレーザ光を被描画体の
描画面上に結像させる結像光学系とを備えたことを、特
徴とする。
めに構成された本発明によるレーザ描画装置は、非可視
領域の波長からなる描画用のレーザ光と可視領域の波長
からなるアラインメント用のレーザ光とを互いのビーム
軸を同軸上に配置して発する光源部と、前記光源部から
発せられるレーザ光を変調する変調光学系と、前記変調
光学系において変調されたレーザ光を偏向する偏向器
と、前記偏向器により偏向されたレーザ光を被描画体の
描画面上に結像させる結像光学系とを備えたことを、特
徴とする。
【０００７】このように構成されると、非可視領域の波
長からなるレーザ光と可視領域の波長からなるレーザ光
は、互いのビーム軸が同軸上に配置されるように射出さ
れた後、変調光学系を透過して偏向器により偏向され、
結像光学系を透過して被描画体の描画面に達する。この
ため、変調光学系の各構成素子において、可視領域の波
長からなるレーザ光が透過する様子を見ることができ
る。
長からなるレーザ光と可視領域の波長からなるレーザ光
は、互いのビーム軸が同軸上に配置されるように射出さ
れた後、変調光学系を透過して偏向器により偏向され、
結像光学系を透過して被描画体の描画面に達する。この
ため、変調光学系の各構成素子において、可視領域の波
長からなるレーザ光が透過する様子を見ることができ
る。
【０００８】これにより、作業者は、変調光学系の光軸
のアラインメントを行うとき、可視領域の波長からなる
レーザ光を目視しながら、変調光学系の各構成素子の光
軸を一本の光軸として同軸に合わせるように、各構成素
子の位置を調整することができる。従って、作業者は、
容易に且つ簡単に、非可視領域の波長からなるレーザ光
のビーム軸に対して変調光学系の光軸を合わせ込むこと
ができる。
のアラインメントを行うとき、可視領域の波長からなる
レーザ光を目視しながら、変調光学系の各構成素子の光
軸を一本の光軸として同軸に合わせるように、各構成素
子の位置を調整することができる。従って、作業者は、
容易に且つ簡単に、非可視領域の波長からなるレーザ光
のビーム軸に対して変調光学系の光軸を合わせ込むこと
ができる。
【０００９】本発明によるレーザ描画装置では、光源部
が、非可視領域の波長からなるレーザ光（描画光）と可
視領域の波長からなるレーザ光（アラインメント光）と
を同時に発することができるレーザ光源を備えていても
良い。また、光源部は、描画光を発するレーザ光源とア
ラインメント光を発するレーザ光源とを備えるととも
に、描画光とアラインメント光とを互いのビーム軸を同
軸に配置するよう合成する合成光学系を、備えていても
良い。さらに、光源部は、励起光源とレーザ媒質とを備
えるとともに、励起光源から発せられるレーザ光および
レーザ媒質から発せられるレーザ光の何れかを射出する
よう光束切替手段を備えたレーザ光源であっても良い。
が、非可視領域の波長からなるレーザ光（描画光）と可
視領域の波長からなるレーザ光（アラインメント光）と
を同時に発することができるレーザ光源を備えていても
良い。また、光源部は、描画光を発するレーザ光源とア
ラインメント光を発するレーザ光源とを備えるととも
に、描画光とアラインメント光とを互いのビーム軸を同
軸に配置するよう合成する合成光学系を、備えていても
良い。さらに、光源部は、励起光源とレーザ媒質とを備
えるとともに、励起光源から発せられるレーザ光および
レーザ媒質から発せられるレーザ光の何れかを射出する
よう光束切替手段を備えたレーザ光源であっても良い。
【００１０】光源部から描画光とアラインメント光とが
同時に発せられる場合には、レーザ光から一方の波長成
分を除去する波長選択手段を、光源部と変調光学系との
間に備えていても良いし、レーザ光が描画面に達する前
にアラインメント光が取り除かれるように、変調光学系
又は結像光学系内に光分離光学系を備えていても良い。
同時に発せられる場合には、レーザ光から一方の波長成
分を除去する波長選択手段を、光源部と変調光学系との
間に備えていても良いし、レーザ光が描画面に達する前
にアラインメント光が取り除かれるように、変調光学系
又は結像光学系内に光分離光学系を備えていても良い。
【００１１】波長選択手段としては、レーザ光から一方
の波長成分を除去する光波長フィルタでも良いし、何れ
か一方の波長成分のみを取り出せるように２種類の光波
長フィルタを組み合わせた波長選択フィルタでも良い。
また、光分離光学系としては、ダイクロイックミラーで
も良いし、ダイクロイックプリズムでも良い。
の波長成分を除去する光波長フィルタでも良いし、何れ
か一方の波長成分のみを取り出せるように２種類の光波
長フィルタを組み合わせた波長選択フィルタでも良い。
また、光分離光学系としては、ダイクロイックミラーで
も良いし、ダイクロイックプリズムでも良い。
【００１２】変調光学系は、光束径を縮小する縮小光学
系と光変調器とコリメートレンズを備えることができ
る。光変調器は、音響光学変調器とすることができる
が、その他のものであっても良い。
系と光変調器とコリメートレンズを備えることができ
る。光変調器は、音響光学変調器とすることができる
が、その他のものであっても良い。
【００１３】また、レーザ光源が発するアライメント光
が描画光に比べて強い強度を有する場合には、光学系が
有するフィルタ等のコーティングを保護するために、ア
ラインメント光の強度を低下させるカットフィルター
を、レーザ光源の射出端などに配置しても良い。
が描画光に比べて強い強度を有する場合には、光学系が
有するフィルタ等のコーティングを保護するために、ア
ラインメント光の強度を低下させるカットフィルター
を、レーザ光源の射出端などに配置しても良い。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係るレーザ描画装
置の実施形態について図面を参照しながら説明する。
置の実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００１５】
【実施形態１】図１は、本発明の第１実施形態によるレ
ーザ描画装置１の概略光学構成を示す斜視図である。
ーザ描画装置１の概略光学構成を示す斜視図である。
【００１６】第１実施形態のレーザ描画装置１は、光源
部としてのレーザ光源１０と，波長選択フィルタ６０
と，レーザ光源１０から発せられるレーザ光を変調する
変調光学系２０と，変調光学系２０により変調されたレ
ーザ光を偏向する偏向器としてのポリゴンミラー３０
と，ポリゴンミラー３０により偏向されたレーザ光を被
描画体５０の描画面上に結像させる結像光学系４０とか
ら構成されている。
部としてのレーザ光源１０と，波長選択フィルタ６０
と，レーザ光源１０から発せられるレーザ光を変調する
変調光学系２０と，変調光学系２０により変調されたレ
ーザ光を偏向する偏向器としてのポリゴンミラー３０
と，ポリゴンミラー３０により偏向されたレーザ光を被
描画体５０の描画面上に結像させる結像光学系４０とか
ら構成されている。
【００１７】レーザ光源１０は、非可視領域の波長と可
視領域の波長の２波長からなるレーザ光を発する。そし
て、レーザ光源１０から発せられた平行光束のレーザ光
は、後述する波長選択フィルタ６０により何れか一方の
波長成分が除去された後、変調光学系２０へ入射する。
視領域の波長の２波長からなるレーザ光を発する。そし
て、レーザ光源１０から発せられた平行光束のレーザ光
は、後述する波長選択フィルタ６０により何れか一方の
波長成分が除去された後、変調光学系２０へ入射する。
【００１８】この変調光学系２０は、第１及び第２レン
ズ２２ａ，２２ｂからなる縮小光学系２２，音響光学変
調器（ＡＯＭ）２５，及び、コリメートレンズ２７を主
要な構成としている。これら縮小光学系２２，ＡＯＭ２
５，及び、コリメートレンズ２７の光軸は、ビームベン
ダー２３，２４，２６により折り曲げられた同一光軸Ａ
ｘ上に配置されている。この光軸Ａｘにおける縮小光学
系２２側の一端は、ビームベンダー２１により折り曲げ
られてレーザ光源１０から発せられるレーザ光のビーム
軸と同軸にされている。また、この光軸Ａｘにおけるコ
リメートレンズ２７側の一端は、ビームベンダー２８に
より折り曲げられてポリゴンミラー３０の反射面へ導か
れている。
ズ２２ａ，２２ｂからなる縮小光学系２２，音響光学変
調器（ＡＯＭ）２５，及び、コリメートレンズ２７を主
要な構成としている。これら縮小光学系２２，ＡＯＭ２
５，及び、コリメートレンズ２７の光軸は、ビームベン
ダー２３，２４，２６により折り曲げられた同一光軸Ａ
ｘ上に配置されている。この光軸Ａｘにおける縮小光学
系２２側の一端は、ビームベンダー２１により折り曲げ
られてレーザ光源１０から発せられるレーザ光のビーム
軸と同軸にされている。また、この光軸Ａｘにおけるコ
リメートレンズ２７側の一端は、ビームベンダー２８に
より折り曲げられてポリゴンミラー３０の反射面へ導か
れている。
【００１９】そして、変調光学系２０に入射したレーザ
光は、ビームベンダー２１により反射されて縮小光学系
２２へ入射する。縮小光学系２２へ入射したレーザ光
は、第１及び第２レンズ２２ａ，２２ｂを順次透過して
その光束径を狭められた後、ビームベンダー２３，２４
により反射されてＡＯＭ２５へ入射する。
光は、ビームベンダー２１により反射されて縮小光学系
２２へ入射する。縮小光学系２２へ入射したレーザ光
は、第１及び第２レンズ２２ａ，２２ｂを順次透過して
その光束径を狭められた後、ビームベンダー２３，２４
により反射されてＡＯＭ２５へ入射する。
【００２０】ＡＯＭ２５には、音響光学効果を有する結
晶、即ち、超音波が印加されると屈折率が周期的に変化
することにより入射光を回折させる結晶が、備えられて
いる。そして、このＡＯＭ２５へ入射したレーザ光は、
描画パターンに応じて超音波がオンオフ印加された当該
結晶を透過することにより、変調光として取り出され
る。
晶、即ち、超音波が印加されると屈折率が周期的に変化
することにより入射光を回折させる結晶が、備えられて
いる。そして、このＡＯＭ２５へ入射したレーザ光は、
描画パターンに応じて超音波がオンオフ印加された当該
結晶を透過することにより、変調光として取り出され
る。
【００２１】このＡＯＭ２５においてオンオフ変調され
たレーザ光は、ビームベンダー２６により反射されてコ
リメートレンズ２７へ入射する。コリメートレンズ２７
により平行光束とされたレーザ光は、ビームベンダー２
８により反射されてポリゴンミラー３０へ入射する。
たレーザ光は、ビームベンダー２６により反射されてコ
リメートレンズ２７へ入射する。コリメートレンズ２７
により平行光束とされたレーザ光は、ビームベンダー２
８により反射されてポリゴンミラー３０へ入射する。
【００２２】ポリゴンミラー３０は、複数の反射面を備
え、回転軸周りに等角速度にて回転駆動される。そし
て、このポリゴンミラー３０の回転に伴って各反射面に
おいて偏向されたレーザ光は、結像光学系４０へ入射す
る。
え、回転軸周りに等角速度にて回転駆動される。そし
て、このポリゴンミラー３０の回転に伴って各反射面に
おいて偏向されたレーザ光は、結像光学系４０へ入射す
る。
【００２３】この結像光学系４０は、ｆθレンズ４１，
折返しミラー４２，及び、コンデンサレンズ４３を備え
ている。そして、ポリゴンミラー３０により偏向された
レーザ光は、ｆθレンズ４１を透過して折返しミラー４
２により被描画体５０の描画面へ向けて反射されるとと
もに、コンデンサレンズ４３を介すことにより主走査方
向Ｙに沿って等速度に描画面上を走査する。このとき、
描画面上を走査するレーザ光は、コンデンサレンズ４３
を介すことにより、ビームスポットとして描画面上に結
像されるとともに描画面へ垂直に入射する光束として形
成される。
折返しミラー４２，及び、コンデンサレンズ４３を備え
ている。そして、ポリゴンミラー３０により偏向された
レーザ光は、ｆθレンズ４１を透過して折返しミラー４
２により被描画体５０の描画面へ向けて反射されるとと
もに、コンデンサレンズ４３を介すことにより主走査方
向Ｙに沿って等速度に描画面上を走査する。このとき、
描画面上を走査するレーザ光は、コンデンサレンズ４３
を介すことにより、ビームスポットとして描画面上に結
像されるとともに描画面へ垂直に入射する光束として形
成される。
【００２４】また、被描画体５０は、レーザ描画装置１
の図示せぬテーブルにズレないように固定されている。
この図示せぬテーブルは、図示せぬテーブル台に備えら
れた図示せぬ一対のレール上に載せられており、やはり
図示せぬ駆動源によってレールに沿って副走査方向Ｘへ
平行移動できるように取り付けられている。そして、こ
の被描画体５０を固定する図示せぬテーブルは、ポリゴ
ンミラー３０の一走査毎に副走査方向Ｘへ順次スライド
される。
の図示せぬテーブルにズレないように固定されている。
この図示せぬテーブルは、図示せぬテーブル台に備えら
れた図示せぬ一対のレール上に載せられており、やはり
図示せぬ駆動源によってレールに沿って副走査方向Ｘへ
平行移動できるように取り付けられている。そして、こ
の被描画体５０を固定する図示せぬテーブルは、ポリゴ
ンミラー３０の一走査毎に副走査方向Ｘへ順次スライド
される。
【００２５】上記の説明においては、レーザ光源１０か
ら発せられるレーザ光に対する変調光学系２０の光軸Ａ
ｘの光軸合わせ（アラインメント）が完了されているも
のとしたが、本レーザ描画装置１を組み立てる時、或い
は、レーザ光源１０を交換する時には、その都度、レー
ザ光源１０が発するレーザ光に対する光軸Ａｘのアライ
ンメントが必要となる。
ら発せられるレーザ光に対する変調光学系２０の光軸Ａ
ｘの光軸合わせ（アラインメント）が完了されているも
のとしたが、本レーザ描画装置１を組み立てる時、或い
は、レーザ光源１０を交換する時には、その都度、レー
ザ光源１０が発するレーザ光に対する光軸Ａｘのアライ
ンメントが必要となる。
【００２６】そのため、本例のレーザ描画装置１では、
光軸Ａｘのアラインメントを行う際、波長選択フィルタ
６０を用いることにより、レーザ光源１０から発せられ
るレーザ光から可視領域の波長成分のみを取り出して、
光軸Ａｘのアラインメントに利用する。
光軸Ａｘのアラインメントを行う際、波長選択フィルタ
６０を用いることにより、レーザ光源１０から発せられ
るレーザ光から可視領域の波長成分のみを取り出して、
光軸Ａｘのアラインメントに利用する。
【００２７】図２は、本例のレーザ描画装置１のレーザ
光源１０及び波長選択フィルタ６０を示す説明図であ
り、図２の（ａ）は描画面へ描画を行う時、また、図２
の（ｂ）はアラインメントを行う時におけるレーザ光に
対する波長選択フィルタ６０の位置を示している。
光源１０及び波長選択フィルタ６０を示す説明図であ
り、図２の（ａ）は描画面へ描画を行う時、また、図２
の（ｂ）はアラインメントを行う時におけるレーザ光に
対する波長選択フィルタ６０の位置を示している。
【００２８】波長選択フィルタ６０は、２つの領域（第
１及び第２の領域６０ａ，６０ｂ）に、夫々、異なる種
類のコーティングを施した長方形の透明板であり、第１
の領域６０ａには、非可視光のみを透過させるコーティ
ングが施され、第２の領域６０ｂには、可視光のみを透
過させるコーティングが施されている。
１及び第２の領域６０ａ，６０ｂ）に、夫々、異なる種
類のコーティングを施した長方形の透明板であり、第１
の領域６０ａには、非可視光のみを透過させるコーティ
ングが施され、第２の領域６０ｂには、可視光のみを透
過させるコーティングが施されている。
【００２９】この波長選択フィルタ６０は、レーザ光源
１０から射出されるレーザ光に対して直交するように配
置されるとともに、このレーザ光が第１の領域６０ａ及
び第２の領域６０ｂの何れかの領域において交差するよ
うに、当該フィルタ６０を含む平面内において平行移動
可能に設置されている。
１０から射出されるレーザ光に対して直交するように配
置されるとともに、このレーザ光が第１の領域６０ａ及
び第２の領域６０ｂの何れかの領域において交差するよ
うに、当該フィルタ６０を含む平面内において平行移動
可能に設置されている。
【００３０】そして、アラインメントを行う時には、図
２の（ｂ）に示すように、レーザ光源１０から発せられ
るレーザ光が第２の領域６０ｂにおいて交差する位置へ
波長選択フィルタ６０を移動させ、可視領域の波長のみ
からなるレーザ光（アラインメント光）を、各構成素子
２１〜２８の光軸がほぼ同軸となるように配置された変
調光学系２０へ入射させる。
２の（ｂ）に示すように、レーザ光源１０から発せられ
るレーザ光が第２の領域６０ｂにおいて交差する位置へ
波長選択フィルタ６０を移動させ、可視領域の波長のみ
からなるレーザ光（アラインメント光）を、各構成素子
２１〜２８の光軸がほぼ同軸となるように配置された変
調光学系２０へ入射させる。
【００３１】これにより、作業者は、縮小光学系２２，
ＡＯＭ２５，コリメートレンズ２７の各々の光軸近傍を
通過するレーザ光を目視することができるので、レーザ
光が各光軸上を透過するように各構成素子２１〜２８の
取り付け位置を調整することができる。
ＡＯＭ２５，コリメートレンズ２７の各々の光軸近傍を
通過するレーザ光を目視することができるので、レーザ
光が各光軸上を透過するように各構成素子２１〜２８の
取り付け位置を調整することができる。
【００３２】また、アラインメントを完了した後に描画
を行う際には、図２の（ａ）に示すように、レーザ光源
１０から発せられるレーザ光が第１の領域６０ａにおい
て交差する位置へ波長選択フィルタ６０を移動させ、非
可視領域の波長のみからなるレーザ光（描画光）を、変
調光学系２０へ入射させる。
を行う際には、図２の（ａ）に示すように、レーザ光源
１０から発せられるレーザ光が第１の領域６０ａにおい
て交差する位置へ波長選択フィルタ６０を移動させ、非
可視領域の波長のみからなるレーザ光（描画光）を、変
調光学系２０へ入射させる。
【００３３】ここで、本実施形態におけるレーザ光源１
０では、アラインメント光は、描画光のビーム軸と同軸
上に自己のビーム軸が配置されて射出されるので、アラ
インメント光を用いて光軸Ａｘが調整された変調光学系
２０へ描画光を入射しても、この描画光に対して光軸Ａ
ｘがズレることはない。
０では、アラインメント光は、描画光のビーム軸と同軸
上に自己のビーム軸が配置されて射出されるので、アラ
インメント光を用いて光軸Ａｘが調整された変調光学系
２０へ描画光を入射しても、この描画光に対して光軸Ａ
ｘがズレることはない。
【００３４】また、変調光学系２０は描画光に合わせて
製造されているために、アラインメントを行う際、アラ
インメント光のピント位置は僅かにズレることがある
が、アラインメントは、単なる光軸合わせを目的とする
ものに過ぎないので、アラインメント光によって変調光
学系２０の各構成素子２１〜２８の光軸が同軸となるよ
うに調整されていれば、多少ピントがズレていても良
い。勿論、描画光の結像位置とアラインメント光の結像
位置がズレないよう変調光学系２０の色収差が補正され
ていても良い。
製造されているために、アラインメントを行う際、アラ
インメント光のピント位置は僅かにズレることがある
が、アラインメントは、単なる光軸合わせを目的とする
ものに過ぎないので、アラインメント光によって変調光
学系２０の各構成素子２１〜２８の光軸が同軸となるよ
うに調整されていれば、多少ピントがズレていても良
い。勿論、描画光の結像位置とアラインメント光の結像
位置がズレないよう変調光学系２０の色収差が補正され
ていても良い。
【００３５】ところで、被描画体５０の描画面上に非可
視光にのみ感光する感光材料が塗布されている場合、波
長選択フィルタ６０を取り外し、描画光及びアラインメ
ント光をともに描画面へ入射させる構成としても、アラ
インメント光により変調光学系２０の光軸Ａｘの調整を
行うことができる。但し、レーザ光源１０がガスレーザ
であると、レーザ光源１０から発せられる紫外光に対し
て可視光の強度がかなり強いために、感光材料が感光
し、或いは焼き付く虞がある。従って、描画する時に使
用しない可視領域の波長は、できるだけ除去しておくこ
とが好ましい。
視光にのみ感光する感光材料が塗布されている場合、波
長選択フィルタ６０を取り外し、描画光及びアラインメ
ント光をともに描画面へ入射させる構成としても、アラ
インメント光により変調光学系２０の光軸Ａｘの調整を
行うことができる。但し、レーザ光源１０がガスレーザ
であると、レーザ光源１０から発せられる紫外光に対し
て可視光の強度がかなり強いために、感光材料が感光
し、或いは焼き付く虞がある。従って、描画する時に使
用しない可視領域の波長は、できるだけ除去しておくこ
とが好ましい。
【００３６】以上に示したように、本実施形態のレーザ
描画装置１によると、非可視領域の波長からなる描画光
と可視領域の波長からなるアラインメント光とを、波長
選択フィルタ６０により適宜切り替えることができる。
これにより、アラインメントを行う際には、描画光が射
出されることがなく、また、変調光学系２０の各構成素
子２１〜２８においては、アラインメント光を目視する
ことができるので、作業者は、容易に光軸Ａｘを調整す
ることができる。
描画装置１によると、非可視領域の波長からなる描画光
と可視領域の波長からなるアラインメント光とを、波長
選択フィルタ６０により適宜切り替えることができる。
これにより、アラインメントを行う際には、描画光が射
出されることがなく、また、変調光学系２０の各構成素
子２１〜２８においては、アラインメント光を目視する
ことができるので、作業者は、容易に光軸Ａｘを調整す
ることができる。
【００３７】
【実施形態２】図３は、本発明の第２実施形態によるレ
ーザ描画装置２の概略光学構成を示す斜視図である。ま
た、図４は、本例のレーザ描画装置２の光源部１０’を
示す説明図である。
ーザ描画装置２の概略光学構成を示す斜視図である。ま
た、図４は、本例のレーザ描画装置２の光源部１０’を
示す説明図である。
【００３８】第２実施形態のレーザ描画装置２は、第１
実施形態で示したレーザ描画装置１と比較すると、レー
ザ光源１０’の代わりに、レーザ光源１１，１２，コリ
メートレンズ１３，及び、偏光ビームコンバイナ１４を
備えるとともに、波長選択フィルタ６０の代わりに、結
像光学系４０の折返しミラー４２をダイクロイックミラ
ー４４に置き換えた他は、第１実施形態に示したレーザ
描画装置１と同様の構成を有している。そこで、以下の
説明においては、第１実施形態に示したレーザ描画装置
１と同様の構成の部分については説明を省略する。
実施形態で示したレーザ描画装置１と比較すると、レー
ザ光源１０’の代わりに、レーザ光源１１，１２，コリ
メートレンズ１３，及び、偏光ビームコンバイナ１４を
備えるとともに、波長選択フィルタ６０の代わりに、結
像光学系４０の折返しミラー４２をダイクロイックミラ
ー４４に置き換えた他は、第１実施形態に示したレーザ
描画装置１と同様の構成を有している。そこで、以下の
説明においては、第１実施形態に示したレーザ描画装置
１と同様の構成の部分については説明を省略する。
【００３９】上述したように、本例のレーザ描画装置２
の光源部１０’は、第１のレーザ光源１１及び第２のレ
ーザ光源１２の２基のレーザ光源と、コリメートレンズ
１３と，偏光ビームコンバイナ１４とを、備えている。
の光源部１０’は、第１のレーザ光源１１及び第２のレ
ーザ光源１２の２基のレーザ光源と、コリメートレンズ
１３と，偏光ビームコンバイナ１４とを、備えている。
【００４０】レーザ光源１１は、非可視領域の波長のみ
からなるレーザ光を発し、レーザ光源１２は、可視領域
の波長のみからなるレーザ光を発する。レーザ光源１１
から発せられるレーザ光は、偏光ビームコンバイナ１４
へＰ偏光として入射するように設定され、レーザ光源１
２から発せられるレーザ光は、偏光ビームコンバイナ１
４へＳ偏光として入射するように設定されている。ま
た、レーザ光源１２には半導体レーザが適用され、その
場合のレーザ光源１２から発せられるレーザ光は広がり
を持つので、レーザ光を平行光束として形成するための
コリメートレンズ１３を、レーザ光源１２と偏光ビーム
コンバイナ１４の間に配置している。
からなるレーザ光を発し、レーザ光源１２は、可視領域
の波長のみからなるレーザ光を発する。レーザ光源１１
から発せられるレーザ光は、偏光ビームコンバイナ１４
へＰ偏光として入射するように設定され、レーザ光源１
２から発せられるレーザ光は、偏光ビームコンバイナ１
４へＳ偏光として入射するように設定されている。ま
た、レーザ光源１２には半導体レーザが適用され、その
場合のレーザ光源１２から発せられるレーザ光は広がり
を持つので、レーザ光を平行光束として形成するための
コリメートレンズ１３を、レーザ光源１２と偏光ビーム
コンバイナ１４の間に配置している。
【００４１】そして、偏光ビームコンバイナ１４は、Ｐ
偏光として入射したレーザ光源１１からのレーザ光を透
過させるとともに、Ｓ偏光として入射したレーザ光源１
２からのレーザ光を反射させることにより、両レーザ光
のビーム軸が同軸となるよう合成している。この偏光ビ
ームコンバイナ１４で合成されたレーザ光は、変調光学
系２０へ入射する。
偏光として入射したレーザ光源１１からのレーザ光を透
過させるとともに、Ｓ偏光として入射したレーザ光源１
２からのレーザ光を反射させることにより、両レーザ光
のビーム軸が同軸となるよう合成している。この偏光ビ
ームコンバイナ１４で合成されたレーザ光は、変調光学
系２０へ入射する。
【００４２】変調光学系２０へ入射したレーザ光は、ビ
ームベンダー２１により反射され、縮小光学系２２の第
１及び第２レンズ２２ａ，２２ｂによりその光束径が狭
められた後、ビームベンダー２３，２４を介してＡＯＭ
２５へ入射する。そして、ＡＯＭ２５により描画パター
ンに応じてオンオフ変調されたレーザ光は、ビームベン
ダー２６により反射され、コリメートレンズ２７におい
て平行光束とされた後、ビームベンダー２８を介してポ
リゴンミラー３０へ入射する。
ームベンダー２１により反射され、縮小光学系２２の第
１及び第２レンズ２２ａ，２２ｂによりその光束径が狭
められた後、ビームベンダー２３，２４を介してＡＯＭ
２５へ入射する。そして、ＡＯＭ２５により描画パター
ンに応じてオンオフ変調されたレーザ光は、ビームベン
ダー２６により反射され、コリメートレンズ２７におい
て平行光束とされた後、ビームベンダー２８を介してポ
リゴンミラー３０へ入射する。
【００４３】回転軸周りに等角速度に回転するポリゴン
ミラー３０により偏向されたレーザ光は、結像光学系４
０’を介すことによりビームスポットとして結像されて
主走査方向Ｙに沿って等速度に被描画体５０の描画面上
を走査する。
ミラー３０により偏向されたレーザ光は、結像光学系４
０’を介すことによりビームスポットとして結像されて
主走査方向Ｙに沿って等速度に被描画体５０の描画面上
を走査する。
【００４４】ｆθレンズ４１とコンデンサレンズ４３と
の間に配置されるダイクロイックミラー４４には、透明
板に非可視光を反射させるとともに可視光を透過させる
コーティングが、施されている。従って、このダイクロ
イックミラー４４は、偏光ビームコンバイナ１４におい
て合成されたレーザ光のうち、レーザ光源１１から発せ
られた非可視領域の波長からなるレーザ光（描画光）の
みを被描画体５０の描画面へ向けて反射させるととも
に、レーザ光源１２から発せられた可視領域の波長から
なるレーザ光（アラインメント光）を透過させる。
の間に配置されるダイクロイックミラー４４には、透明
板に非可視光を反射させるとともに可視光を透過させる
コーティングが、施されている。従って、このダイクロ
イックミラー４４は、偏光ビームコンバイナ１４におい
て合成されたレーザ光のうち、レーザ光源１１から発せ
られた非可視領域の波長からなるレーザ光（描画光）の
みを被描画体５０の描画面へ向けて反射させるととも
に、レーザ光源１２から発せられた可視領域の波長から
なるレーザ光（アラインメント光）を透過させる。
【００４５】そして、本レーザ描画装置２を組み立てた
時、或いは、レーザ光源１１を交換した時に、変調光学
系２０の光軸Ａｘのアラインメントを行う場合には、偏
光ビームコンバイナ１４において合成したレーザ光を、
各構成素子２１〜２８の光軸がほぼ同軸となるように配
置された変調光学系２０へ入射させる。
時、或いは、レーザ光源１１を交換した時に、変調光学
系２０の光軸Ａｘのアラインメントを行う場合には、偏
光ビームコンバイナ１４において合成したレーザ光を、
各構成素子２１〜２８の光軸がほぼ同軸となるように配
置された変調光学系２０へ入射させる。
【００４６】これにより、作業者は、縮小光学系２２，
ＡＯＭ２５，コリメートレンズ２７の各々の光軸近傍を
通過するアラインメント光を目視することができるの
で、レーザ光が各光軸上を通過するように各構成素子２
１〜２８の取り付け位置を調整することができる。
ＡＯＭ２５，コリメートレンズ２７の各々の光軸近傍を
通過するアラインメント光を目視することができるの
で、レーザ光が各光軸上を通過するように各構成素子２
１〜２８の取り付け位置を調整することができる。
【００４７】また、上述したように、結像光学系４０’
のダイクロイックミラー４４では、描画光のみが被描画
体５０の描画面へ反射され、アラインメント光は、描画
光からは分離される。従って、描画を行う際には、描画
光のみによって描画パターンが描画面上に描かれる。
のダイクロイックミラー４４では、描画光のみが被描画
体５０の描画面へ反射され、アラインメント光は、描画
光からは分離される。従って、描画を行う際には、描画
光のみによって描画パターンが描画面上に描かれる。
【００４８】ここで、変調光学系２０は描画光に合わせ
て製造されているために、アラインメントを行う際、ア
ラインメント光のピント位置は僅かにズレることがある
が、第１実施形態の場合と同様に、アラインメント光に
よって変調光学系２０の各構成素子２１〜２８の光軸が
同軸となるように調整されていれば良い。また、変調光
学系２０の色収差が補正されていても良い。
て製造されているために、アラインメントを行う際、ア
ラインメント光のピント位置は僅かにズレることがある
が、第１実施形態の場合と同様に、アラインメント光に
よって変調光学系２０の各構成素子２１〜２８の光軸が
同軸となるように調整されていれば良い。また、変調光
学系２０の色収差が補正されていても良い。
【００４９】以上に示したように、本実施形態のレーザ
描画装置２によると、アラインメントを行う際、変調光
学系２０の各構成素子２１〜２８において、アラインメ
ント光を目視することができるので、作業者は、容易に
光軸Ａｘを調整することができる。
描画装置２によると、アラインメントを行う際、変調光
学系２０の各構成素子２１〜２８において、アラインメ
ント光を目視することができるので、作業者は、容易に
光軸Ａｘを調整することができる。
【００５０】
【実施形態３】図５は、本発明の第３実施形態によるレ
ーザ描画装置３の概略光学構成を示す斜視図である。ま
た、図６は、本例のレーザ描画装置３のレーザ光源１
０”の状態を示す説明図である。
ーザ描画装置３の概略光学構成を示す斜視図である。ま
た、図６は、本例のレーザ描画装置３のレーザ光源１
０”の状態を示す説明図である。
【００５１】第３実施形態のレーザ描画装置３は、第１
実施形態で示したレーザ描画装置１と比較すると、レー
ザ光源１０及び波長選択フィルタ６０の代わりに、レー
ザ光源１０”を備えるとともに、光軸調整用としてピン
ホール７１ａ，７２ａが形成された金属板７１，７２を
新たに備えている他は、第１実施形態に示したレーザ描
画装置１と同様の構成を有している。そこで、以下の説
明においては、第１実施形態に示したレーザ描画装置１
と同様の構成の部分については説明を省略する。
実施形態で示したレーザ描画装置１と比較すると、レー
ザ光源１０及び波長選択フィルタ６０の代わりに、レー
ザ光源１０”を備えるとともに、光軸調整用としてピン
ホール７１ａ，７２ａが形成された金属板７１，７２を
新たに備えている他は、第１実施形態に示したレーザ描
画装置１と同様の構成を有している。そこで、以下の説
明においては、第１実施形態に示したレーザ描画装置１
と同様の構成の部分については説明を省略する。
【００５２】本例のレーザ描画装置３に光源部として組
み込まれるレーザ光源１０”は、レーザ媒質からなるレ
ーザロッド１５と、このレーザロッド１５の励起光とし
て可視領域の波長からなるレーザ光を発する励起光源１
６と，光束切替手段として配置された折返しミラー１
７，１７’及び可動ミラー１８，１９とを、主要な構成
としている。
み込まれるレーザ光源１０”は、レーザ媒質からなるレ
ーザロッド１５と、このレーザロッド１５の励起光とし
て可視領域の波長からなるレーザ光を発する励起光源１
６と，光束切替手段として配置された折返しミラー１
７，１７’及び可動ミラー１８，１９とを、主要な構成
としている。
【００５３】本例のレーザ描画装置３において描画を行
う際には、図６の（ａ）に示すように、励起光源１６か
ら発せられるレーザ光は、レーザロッド１５の入射端１
５ａへ入射される。すると、入射端１５ａから入射され
たレーザ光によりレーザ媒質が励起され、非可視領域の
波長からなるレーザ光（描画光）がレーザロッド１５の
射出端１５ｂから射出される。
う際には、図６の（ａ）に示すように、励起光源１６か
ら発せられるレーザ光は、レーザロッド１５の入射端１
５ａへ入射される。すると、入射端１５ａから入射され
たレーザ光によりレーザ媒質が励起され、非可視領域の
波長からなるレーザ光（描画光）がレーザロッド１５の
射出端１５ｂから射出される。
【００５４】そして、本レーザ描画装置３を組み立てた
時、或いは、レーザ光源１０”を交換した時に、変調光
学系２０の光軸Ａｘのアラインメントを行う場合には、
可動ミラー１８，１９が、図示せぬ駆動手段により駆動
される。すると、図６の（ｂ）に示すように、可動ミラ
ー１８は励起光源１６とレーザロッド１５との間に配置
され、可動ミラー１９はレーザロッド１５の射出端１５
ｂ近傍に配置される。
時、或いは、レーザ光源１０”を交換した時に、変調光
学系２０の光軸Ａｘのアラインメントを行う場合には、
可動ミラー１８，１９が、図示せぬ駆動手段により駆動
される。すると、図６の（ｂ）に示すように、可動ミラ
ー１８は励起光源１６とレーザロッド１５との間に配置
され、可動ミラー１９はレーザロッド１５の射出端１５
ｂ近傍に配置される。
【００５５】このとき、励起光源１６から射出されるレ
ーザ光は、可動ミラー１８により折返しミラー１７へ向
けて反射された後、折返しミラー１７により折返しミラ
ー１７’へ向けて反射され、折返しミラー１７’により
可動ミラー１９に向けて反射される。可動ミラー１９に
より反射されたレーザ光は、描画を行う時にレーザロッ
ド１５から発せられる描画光のビーム軸に対して自己の
ビーム軸が同軸となる状態で、レーザ光源１０”から射
出される。
ーザ光は、可動ミラー１８により折返しミラー１７へ向
けて反射された後、折返しミラー１７により折返しミラ
ー１７’へ向けて反射され、折返しミラー１７’により
可動ミラー１９に向けて反射される。可動ミラー１９に
より反射されたレーザ光は、描画を行う時にレーザロッ
ド１５から発せられる描画光のビーム軸に対して自己の
ビーム軸が同軸となる状態で、レーザ光源１０”から射
出される。
【００５６】そして、アラインメントが完了した後に描
画を行う際には、可動ミラー１８，１９は、励起光源１
６及びレーザロッド１５から発せられるレーザ光の光路
を遮らない位置まで、図示せぬ駆動手段により移動され
る。
画を行う際には、可動ミラー１８，１９は、励起光源１
６及びレーザロッド１５から発せられるレーザ光の光路
を遮らない位置まで、図示せぬ駆動手段により移動され
る。
【００５７】このように、レーザ光源１０”では、可動
ミラー１８，１９を駆動させることにより可視領域の波
長からなる励起用のレーザ光をアラインメント光として
取り出すことができる。
ミラー１８，１９を駆動させることにより可視領域の波
長からなる励起用のレーザ光をアラインメント光として
取り出すことができる。
【００５８】従って、本レーザ描画装置３を組み立てる
時、或いは、レーザ光源１０”を交換する時に、変調光
学系２０の光軸Ａｘのアラインメントを行う場合、各構
成素子２１〜２８の光軸がほぼ同軸となるように配置さ
れた変調光学系２０へアラインメント光が入射される
と、作業者は、縮小光学系２２，ＡＯＭ２５，コリメー
トレンズ２７の各々の光軸近傍を通過するアライメント
光を目視することができるので、レーザ光が各光軸上を
通過するように各構成要素２１〜２８の取り付け位置を
調整することができる。
時、或いは、レーザ光源１０”を交換する時に、変調光
学系２０の光軸Ａｘのアラインメントを行う場合、各構
成素子２１〜２８の光軸がほぼ同軸となるように配置さ
れた変調光学系２０へアラインメント光が入射される
と、作業者は、縮小光学系２２，ＡＯＭ２５，コリメー
トレンズ２７の各々の光軸近傍を通過するアライメント
光を目視することができるので、レーザ光が各光軸上を
通過するように各構成要素２１〜２８の取り付け位置を
調整することができる。
【００５９】また、図５に示すように、レーザ光源１
０”とビームベンダー２１との間には金属板７１が配置
されているとともに、ビームベンダー２８とポリゴンミ
ラー３０との間には金属板７２が配置されている。これ
ら金属板７１，７２は、光軸調整用としてのピンホール
７１ａ，７２ａが形成されており、レーザ描画装置３の
図示せぬ光学台に固定されている。
０”とビームベンダー２１との間には金属板７１が配置
されているとともに、ビームベンダー２８とポリゴンミ
ラー３０との間には金属板７２が配置されている。これ
ら金属板７１，７２は、光軸調整用としてのピンホール
７１ａ，７２ａが形成されており、レーザ描画装置３の
図示せぬ光学台に固定されている。
【００６０】そして、アラインメントを行う時には、変
調光学系２０の光軸が金属板７１，７２のピンホール７
１ａ，７２ａを通ってほぼ同軸となるように各構成素子
２１〜２８を配置し、可視領域の波長のみからなるレー
ザ光（アラインメント光）を金属板７１のピンホール７
１ａへ向けて射出する。その後、作業者は、縮小光学系
２２，ＡＯＭ２５，コリメートレンズ２７の各々の光軸
近傍を通過するレーザ光を目視して、レーザ光が各光軸
上を透過するように、また、ビームベンダー２８を反射
するレーザ光が金属板７２に形成されるピンホール７２
ａを透過するように、各構成素子２１〜２８の取り付け
位置を調整する。
調光学系２０の光軸が金属板７１，７２のピンホール７
１ａ，７２ａを通ってほぼ同軸となるように各構成素子
２１〜２８を配置し、可視領域の波長のみからなるレー
ザ光（アラインメント光）を金属板７１のピンホール７
１ａへ向けて射出する。その後、作業者は、縮小光学系
２２，ＡＯＭ２５，コリメートレンズ２７の各々の光軸
近傍を通過するレーザ光を目視して、レーザ光が各光軸
上を透過するように、また、ビームベンダー２８を反射
するレーザ光が金属板７２に形成されるピンホール７２
ａを透過するように、各構成素子２１〜２８の取り付け
位置を調整する。
【００６１】このように、レーザ描画装置１の図示せぬ
光学台に金属板７１，７２を固定することにより、変調
光学系２０の光軸は、アラインメント毎に図示せぬ光学
台に対する位置を大きくズラすことなく、毎回ほぼ一定
の位置に配置され、また、ポリゴンミラー３０の反射面
に対してほぼ一定の入射角をもってほぼ一定の位置に描
画光を入射させることができる。
光学台に金属板７１，７２を固定することにより、変調
光学系２０の光軸は、アラインメント毎に図示せぬ光学
台に対する位置を大きくズラすことなく、毎回ほぼ一定
の位置に配置され、また、ポリゴンミラー３０の反射面
に対してほぼ一定の入射角をもってほぼ一定の位置に描
画光を入射させることができる。
【００６２】ところで、変調光学系２０は描画光に合わ
せて製造されているために、アラインメントを行う際、
アラインメント光のピント位置は僅かにズレることがあ
るが、第１実施形態の場合と同様に、アラインメント光
によって変調光学系の２０の各構成素子２１〜２８の光
軸が同軸となるように調整されていれば良い。また、変
調光学系２０の色収差が補正されていても良い。
せて製造されているために、アラインメントを行う際、
アラインメント光のピント位置は僅かにズレることがあ
るが、第１実施形態の場合と同様に、アラインメント光
によって変調光学系の２０の各構成素子２１〜２８の光
軸が同軸となるように調整されていれば良い。また、変
調光学系２０の色収差が補正されていても良い。
【００６３】以上に示したように、本実施形態のレーザ
描画装置３によると、非可視領域の波長からなる描画光
と可視領域の波長からなるアラインメント光とを、レー
ザ光源１０”内に備えられる可動ミラー１８，１９によ
り適宜切り替えることができる。これにより、アライン
メントを行う際には、描画光が射出されることがなく、
また、変調光学系２０の各構成素子２１〜２８において
は、アラインメント光を目視することができるので、作
業者は、金属板７１，７２に形成されるピンホール７１
ａ，７２ａに合わせ込みながら光軸Ａｘを調整すること
ができる。
描画装置３によると、非可視領域の波長からなる描画光
と可視領域の波長からなるアラインメント光とを、レー
ザ光源１０”内に備えられる可動ミラー１８，１９によ
り適宜切り替えることができる。これにより、アライン
メントを行う際には、描画光が射出されることがなく、
また、変調光学系２０の各構成素子２１〜２８において
は、アラインメント光を目視することができるので、作
業者は、金属板７１，７２に形成されるピンホール７１
ａ，７２ａに合わせ込みながら光軸Ａｘを調整すること
ができる。
【００６４】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明のレーザ
描画装置によれば、描画用のレーザ光として非可視領域
の波長からなるレーザ光を使用している場合であって
も、アラインメントを容易に行うことができる。
描画装置によれば、描画用のレーザ光として非可視領域
の波長からなるレーザ光を使用している場合であって
も、アラインメントを容易に行うことができる。
【図１】 本発明の第１実施形態によるレーザ描画装置
の概略光学構成を示す斜視図
の概略光学構成を示す斜視図
【図２】 本例のレーザ描画装置において（ａ）描画を
行う時および（ｂ）アライメントを行う時におけるレー
ザ光に対する波長選択フィルタの位置を示す説明図
行う時および（ｂ）アライメントを行う時におけるレー
ザ光に対する波長選択フィルタの位置を示す説明図
【図３】 本発明の第２実施形態によるレーザ描画装置
の概略光学構成を示す斜視図
の概略光学構成を示す斜視図
【図４】 本例のレーザ描画装置の光源部を示す説明図
【図５】 本発明の第３実施形態によるレーザ描画装置
の概略光学構成を示す斜視図
の概略光学構成を示す斜視図
【図６】 本例のレーザ描画装置において（ａ）描画時
および（ｂ）アライメント時におけるレーザ光源の状態
を示す説明図
および（ｂ）アライメント時におけるレーザ光源の状態
を示す説明図
１ レーザ描画装置 １０ レーザ光源 ２０ 変調光学系 ２２ 縮小光学系 ２５ 音響光学変調器（ＡＯＭ） ２７ コリメートレンズ ３０ ポリゴンミラー ４０ 結像光学系 ４１ ｆθレンズ ４３ コンデンサレンズ ５０ 被描画体 ６０ 波長選択フィルタ
Claims (20)
- 【請求項１】非可視領域の波長からなる描画用のレーザ
光と可視領域の波長からなるアラインメント用のレーザ
光とを互いのビーム軸を同軸上に配置して発する光源部
と、 前記光源部から発せられるレーザ光を変調する変調光学
系と、 前記変調光学系において変調されたレーザ光を偏向する
偏向器と、 前記偏向器により偏向されたレーザ光を被描画体の描画
面上に結像させる結像光学系とを備えたことを特徴とす
るレーザ描画装置。 - 【請求項２】前記光源部は、描画用としての非可視領域
の波長とアラインメント用としての可視領域の波長との
２波長からなるレーザ光を発するレーザ光源であること
を特徴とする請求項１記載のレーザ描画装置。 - 【請求項３】前記光源部は、非可視領域の波長からなる
描画用のレーザ光を発する第１のレーザ光源と、可視領
域の波長からなるアラインメント用のレーザ光を発する
第２のレーザ光源と、前記第１及び第２のレーザ光源か
ら発せられる各レーザ光を互いのビーム軸を同軸上に配
置するよう合成する合成光学系とを備えることを特徴と
する請求項１記載のレーザ描画装置。 - 【請求項４】前記合成光学系は、偏光ビームコンバイナ
を備え、前記第１及び第２のレーザ光源から発せられる
各レーザ光のうち、何れか一方のレーザ光を前記偏光ビ
ームコンバイナに対してＰ偏光として入射させ、他方の
レーザ光を前記偏光ビームコンバイナに対してＳ偏光と
して入射させることにより、両レーザ光を互いのビーム
軸を同軸上に配置するよう合成することを特徴とする請
求項３記載のレーザ描画装置。 - 【請求項５】前記第２のレーザ光源は、可視領域の波長
からなるレーザ光を発する半導体レーザであるととも
に、 前記第２のレーザ光源と前記偏光ビームコンバイナとの
間に、レーザ光を平行光束として形成するためのコリメ
ートレンズを、更に備えたことを特徴とする請求項４記
載のレーザ描画装置。 - 【請求項６】前記光源部は、可視領域の波長からなる光
束を発する励起光源と、前記励起光源から発せられる光
束により励起されて非可視領域の波長からなるレーザ光
を発振するレーザ媒質と、前記励起光源から発せられる
レーザ光および前記レーザ媒質から発せられるレーザ光
の何れかが射出されるように光束を切り替える光束切替
手段とを備えたレーザ光源であることを特徴とする請求
項１記載のレーザ描画装置。 - 【請求項７】前記光源部と前記変調光学系との間に配置
され、前記描画面へ描画を行う時には非可視領域の波長
からなるレーザ光を、また、アラインメントを行う時に
は可視領域の波長からなるレーザ光を、夫々前記変調光
学系へ入射させる波長選択手段を更に備えたことを特徴
とする請求項１乃至５の何れかに記載のレーザ描画装
置。 - 【請求項８】前記波長選択手段は、非可視領域の波長か
らなるレーザ光のみを透過させる光波長フィルタを備
え、前記描画面へ描画を行う時にのみ前記光波長フィル
タを前記光源部と前記変調光学系との間に配置して前記
光源部から発せられるレーザ光を前記光波長フィルタに
入射させ、非可視領域の波長からなるレーザ光を前記変
調光学系に入射させることを特徴とする請求項７記載の
レーザ描画装置。 - 【請求項９】前記波長選択手段は、可視領域の波長から
なるレーザ光のみを透過する光波長フィルタを更に備
え、アラインメントを行う時にのみ前記光波長フィルタ
を前記光源部と前記変調光学系との間に配置して前記光
源部から発せられるレーザ光を前記光波長フィルタに入
射させ、可視領域の波長からなるレーザ光を前記変調光
学系に入射させることを特徴とする請求項７記載のレー
ザ描画装置。 - 【請求項１０】前記波長選択手段は、非可視領域の波長
からなる光束のみを透過させる第１の領域と可視領域の
波長からなる光束のみを透過させる第２の領域とに区分
された波長選択フィルタを備え、前記描画面へ描画を行
う時には前記光源部から発せられるレーザ光が第１の領
域を透過する位置へ、また、アラインメントを行う時に
は前記光源部から発せられるレーザ光が第２の領域を透
過する位置へ、前記波長選択フィルタを移動させること
を特徴とする請求項７記載のレーザ描画装置。 - 【請求項１１】前記描画面へ描画を行う時には、前記第
１のレーザ光源の電源のみを投入して非可視領域の波長
からなるレーザ光のみを前記変調光学系へ入射するとと
もに、アラインメントを行う時には、前記第２のレーザ
光源の電源のみを投入して可視領域の波長からなるレー
ザ光のみを前記変調光学系へ入射する波長選択手段を更
に備えたことを特徴とする請求項３，４又は５記載のレ
ーザ描画装置。 - 【請求項１２】非可視領域の波長からなるレーザ光のみ
を前記被描画体の前記描画面へ到達させる光分離光学系
を更に備えたことを特徴とする請求項１乃至５の何れか
に記載のレーザ描画装置。 - 【請求項１３】前記光分離光学系は、前記変調光学系か
ら前記被描画体に至るまでの間に配置されていることを
特徴とする請求項１２記載のレーザ描画装置。 - 【請求項１４】前記光分離光学系は、ダイクロイックミ
ラーであることを特徴とする請求項１２又は１３記載の
レーザ描画装置。 - 【請求項１５】前記光分離光学系は、ダイクロイックプ
リズムであることを特徴とする請求項１２又は１３記載
のレーザ描画装置。 - 【請求項１６】前記変調光学系は、レーザ光の光束径を
縮小させる縮小光学系と、描画パターンに応じてレーザ
光をオンオフ変調する光変調器と、前記光変調器からの
レーザ光を平行光として修正するコリメートレンズとか
らなることを特徴とする請求項１乃至１５の何れかに記
載のレーザ描画装置。 - 【請求項１７】前記光変調器は、音響光学変調器である
ことを特徴とする請求項１６記載のレーザ描画装置。 - 【請求項１８】前記変調光学系は、非可視領域の波長か
らなるレーザ光と可視領域の波長からなるレーザ光の夫
々に対して互いに焦点距離を等しくさせるように、色収
差を補正されていることを特徴とする請求項１７記載の
レーザ描画装置。 - 【請求項１９】前記光源部から発せられる非可視領域の
波長からなるレーザ光は、紫外領域の波長からなるレー
ザ光であることを特徴とする請求項１乃至１８の何れか
に記載のレーザ描画装置。 - 【請求項２０】前記光源部は、可視領域の波長からなる
レーザ光を減光するためのカットフィルタを更に備えて
いることを特徴とする請求項１乃至１９の何れかに記載
のレーザ描画装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000178253A JP2001356488A (ja) | 2000-06-14 | 2000-06-14 | レーザ描画装置 |
| US09/879,161 US6791594B2 (en) | 2000-06-14 | 2001-06-13 | Laser imaging apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000178253A JP2001356488A (ja) | 2000-06-14 | 2000-06-14 | レーザ描画装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001356488A true JP2001356488A (ja) | 2001-12-26 |
| JP2001356488A5 JP2001356488A5 (ja) | 2007-07-19 |
Family
ID=18679710
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000178253A Pending JP2001356488A (ja) | 2000-06-14 | 2000-06-14 | レーザ描画装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6791594B2 (ja) |
| JP (1) | JP2001356488A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006235370A (ja) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成装置および画像形成方法 |
| TWI401539B (zh) * | 2007-03-28 | 2013-07-11 | Orc Mfg Co Ltd | Exposure drawing device |
| JP2019158926A (ja) * | 2018-03-07 | 2019-09-19 | キヤノン株式会社 | パターン形成装置及び物品の製造方法 |
| JP2020013137A (ja) * | 2019-08-23 | 2020-01-23 | 株式会社ニコン | パターン露光装置 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7256803B2 (en) * | 2002-09-26 | 2007-08-14 | Futurelogic, Inc. | Direct thermal printer |
| JP5651935B2 (ja) * | 2008-08-28 | 2015-01-14 | 株式会社リコー | 画像処理装置 |
| GB2477139A (en) * | 2010-01-25 | 2011-07-27 | Datalase Ltd | Inkless printing apparatus |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62237865A (ja) * | 1986-04-09 | 1987-10-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光走査装置 |
| US5587825A (en) * | 1991-06-26 | 1996-12-24 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Scanning optical system |
| US6141030A (en) * | 1997-04-24 | 2000-10-31 | Konica Corporation | Laser exposure unit including plural laser beam sources differing in wavelength |
-
2000
- 2000-06-14 JP JP2000178253A patent/JP2001356488A/ja active Pending
-
2001
- 2001-06-13 US US09/879,161 patent/US6791594B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006235370A (ja) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成装置および画像形成方法 |
| JP4485381B2 (ja) * | 2005-02-25 | 2010-06-23 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成装置および画像形成方法 |
| TWI401539B (zh) * | 2007-03-28 | 2013-07-11 | Orc Mfg Co Ltd | Exposure drawing device |
| JP2019158926A (ja) * | 2018-03-07 | 2019-09-19 | キヤノン株式会社 | パターン形成装置及び物品の製造方法 |
| JP7114277B2 (ja) | 2018-03-07 | 2022-08-08 | キヤノン株式会社 | パターン形成装置及び物品の製造方法 |
| JP2020013137A (ja) * | 2019-08-23 | 2020-01-23 | 株式会社ニコン | パターン露光装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20010053164A1 (en) | 2001-12-20 |
| US6791594B2 (en) | 2004-09-14 |
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