JP2001205937A - 感熱記録材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 色相の良好なマゼンタ色素を与え、かつ、画
像耐光性に優れた新規な赤〜マゼンタ〜紫発色型のジア
ゾ感熱記録材料を提供する。 【解決手段】 支持体上に、ジアゾニウム塩化合物と、
該ジアゾニウム塩化合物と熱時反応して発色するカプラ
ーとを含有する感熱記録層を設けた感熱記録材料におい
て、該カプラーとして、下記一般式（１）で表される化
合物を少なくとも１種含有することを特徴とする感熱記
録材料である。一般式（１）中、Ｒ¹は、水素原子、ア
リール基等を表し、Ｒ²は、水素原子、アリール基等を
表し、Ｒ³は、−ＮＨＲ⁴又は−ＣＨ（Ｒ⁵）（Ｒ⁶）を表
し、Ｒ⁴は、水素原子、アリール基等を表し、Ｒ⁵及びＲ
⁶は、Ｈａｍｍｅｔの置換基定数σｐが０．３〜１．５
の置換基等を表し、Ｌは、水素原子、又はジアゾニウム
塩化合物とカップリングした際に離脱可能な置換基を表
す。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ジアゾニウム塩化
合物の感光性を利用した感熱記録材料に関する。更に詳
しくは、色相が良好で、かつ、画像耐光性に優れた新規
な赤〜マゼンタ〜紫発色型のジアゾ感熱記録材料に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】ジアゾニウム塩化合物は、ジアゾコピー
に代表される光記録材料として古くから利用されてお
り、更に、光によって分解して機能を失う性質を利用し
て、最近では画像の定着が要求される記録材料にも応用
され、代表的なものとしてはジアゾニウム塩化合物とカ
プラーを画像信号に従って加熱し、反応させて画像を形
成した後、光照射により画像を定着する光定着型感熱記
録材料が提案されている（佐藤弘次ら、画像電子学会
誌、第１１巻、２９０〜２９６頁（１９８２年））。

【０００３】更に、ジアゾニウム塩化合物の保在性改良
等の技術的な発展もあり、フルカラー感熱記録材料への
適用が報告されている（電子写真学会誌、第２６巻、１
１５〜１２５ぺ一ジ（１９８７年）、ＦＵＪＩＦＩＬＭ
Ｒｅｓｅａｒｃｈ＆Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ，４０
巻、１３頁（１９９５年）、特公平４−１０８７９号公
報等）。

【０００４】これまでフルカラー感材を作る多くの研究
において、マゼンタは３６５ｎｍ付近に極大吸収を有す
るジアゾを用いて色素を形成させていた。しかしなが
ら、感熱記録材料の高性能化に伴って視感度の高いマゼ
ンタを最上層におくこくにより、シャープネスを高める
設計が有効であることがわかった。そのためには、４２
０ｎｍ前後の波長で定着が可能なジアゾニウム塩化合物
を用いてマゼンタ色素を形成するカプラーを用いる必要
がある。４２０ｎｍ前後の波長で定着が可能なジアゾニ
ウム塩化合物と熱時反応して発色するマゼンタカプラー
として、これまで３６５ｎｍ付近に極大吸収を有するジ
アゾニウム塩化合物と熱時反応して発色する１−ヒドロ
キシクマリン等のカプラーを用いた場合には、非常にブ
ロードで茶色い色味を示す色素を与えてしまい、その母
核上の置換基を変えてもマゼンタを形成することはでき
なかった。

【０００５】また、これを改良する目的で、特願平９−
１５２４１４号明細書に新しいジアゾニウム塩化合物が
提案されている。１−ヒドロキシクマリンカプラーから
得られる色相は、従来型のジアゾから得られるものに比
べて改良されているものの、色相として満足できるもの
ではなく、画像耐光性も良好とは言えなかった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来に
おける問題を解決し、以下の目的を達成することを課題
とする。即ち、本発明は、４２０ｎｍ前後の波長で定着
が可能なジアゾニウム塩化合物を用いて、色相の良好な
マゼンタ色素を与え、かつ、画像耐光性に優れた新規な
赤〜マゼンタ〜紫発色型のジアゾ感熱記録材料を提供す
ることを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の手段は、以下の通りである。即ち、 ＜１＞ 支持体上に、ジアゾニウム塩化合物と、該ジア
ゾニウム塩化合物と熱時反応して発色するカプラーとを
含有する感熱記録層を設けた感熱記録材料において、該
カプラーとして、下記一般式（１）で表される化合物を
少なくとも１種含有することを特徴とする感熱記録材料
である。

【０００８】

【化５】

【０００９】（一般式（１）中、Ｒ¹は、水素原子、ア
リール基、アルキル基、ヘテロ環基、アシル基、カルバ
モイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル
基、又はアリールスルホニル基を表す。Ｒ²は、水素原
子、アリール基、アルキル基、ヘテロ環基、アシル基、
カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、スルファモイル基、アルキルスルホ
ニル基、アリールスルホニル基、アシルオキシ基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、アミノ基、又は−ＯＨを表す。Ｒ³は、−Ｎ
ＨＲ⁴又は−ＣＨ（Ｒ⁵）（Ｒ⁶）を表す。Ｒ⁴は、水素原
子、アリール基、アルキル基、ヘテロ環基、アシル基、
カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、スルファモイル基、アルキルスルホ
ニル基、アリールスルホニル基、−ＣＮ、アルキルホス
ホリル基、又はアリールホスホリル基を表す。Ｒ⁵及び
Ｒ⁶の一方は、Ｈａｍｍｅｔの置換基定数σ_pが０．３〜
１．５の置換基を表し、Ｒ⁵及びＲ⁶の他方は、水素原
子、アリール基、ヘテロ環基、又はＨａｍｍｅｔの置換
基定数σ_pが０．３〜１．５の置換基を表す。Ｌは、水
素原子、又はジアゾニウム塩化合物とカップリングした
際に離脱可能な置換基を表す。） ＜２＞ 前記一般式（１）におけるＲ¹が、水素原子を
表す前記＜１＞に記載の感熱記録材料である。 ＜３＞ 前記一般式（１）におけるＲ³が、−ＣＨ
（Ｒ⁵）（Ｒ⁶）を表す前記＜１＞又は＜２＞に記載の感
熱記録材料である。 ＜４＞ 前記ジアゾニウム塩化合物が、下記一般式
（２）で表される化合物である前記＜１＞から＜３＞の
いずれかに記載の感熱記録材料である。

【００１０】

【化６】

【００１１】（一般式（２）中、Ｒ¹¹は、アルキルスル
フェニル基、アリールスルフェニル基、アルキルスルフ
ィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニ
ル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、アル
コキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシル
基、アシル基又はシアノ基を表す。Ｒ¹³及びＲ¹⁴は、各
々独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表
す。Ｒ¹²、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶は、各々独立に、水素原子、ア
リール基、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子
を表す。Ｘ^-は陰イオンを表す。Ｒ¹³とＲ¹⁴、Ｒ¹²とＲ
¹³、及びＲ¹⁴とＲ¹⁵は、互いに結合して環を形成してい
てもよい。） ＜５＞ 前記ジアゾニウム塩化合物が、下記一般式
（３）で表される化合物である前記＜１＞から＜３＞の
いずれかに記載の感熱記録材料である。

【００１２】

【化７】

【００１３】（一般式（３）中、Ｒ¹¹は、アルキルスル
フェニル基、アリールスルフェニル基、アルキルスルフ
ィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニ
ル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、アル
コキシカルボニル基、カルバモイル基、アシル基又はシ
アノ基を表す。Ｒ¹³及びＲ¹⁴は、各々独立に、水素原
子、アルキル基又はアリール基を表す。Ｘ^-は陰イオン
を表す。Ｒ¹³とＲ¹⁴は、互いに結合して環を形成してい
てもよい。） ＜６＞ 前記ジアゾニウム塩化合物が、下記一般式
（４）で表される化合物である前記＜１＞から＜３＞の
いずれかに記載の感熱記録材料である。

【００１４】

【化８】

【００１５】（一般式（４）中、Ａｒはアリール基を表
す。Ｒ¹⁷及びＲ¹⁸は、各々独立に、アルキル基又はアリ
ール基を表す。Ｘ^-は、酸アニオンを表す。）

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の感熱記録材料は、支持体上に、感熱記録
層を有し、更に必要に応じて、その他の層を有してな
る。

【００１７】［感熱記録層］前記感熱記録層は、ジアゾ
ニウム塩化合物と、該ジアゾニウム塩化合物と熱時反応
して発色するカプラーとを含有し、更に必要に応じて、
その他の成分を含有してなる。

【００１８】（カプラー）前記カプラーは、前記一般式
（１）で表される化合物を少なくとも１種含有してな
る。一般式（１）で表される化合物は、種々の互変異性
構造をとりうるものであり、本発明における一般式
（１）で表される化合物は、これら互変異性体をも含む
ものである。

【００１９】一般式（１）中、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ⁴〜Ｒ⁶
がアリール基を表す場合、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ⁴〜Ｒ⁶で表
されるアリール基には、無置換のアリール基及び置換基
を有するアリール基が含まれる。Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ⁴〜
Ｒ⁶が置換基を有するアリール基を表す場合、該置換基
としては、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、置換カルバモ
イル基、置換スルファモイル基、置換アミノ基、置換オ
キシカルバモイル基、置換オキシスルホニル基、アルキ
ルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基、アリール基、ヒドロキシ基、アシ
ル基、アシルオキシ基、置換スルホニルオキシ基、置換
アミノカルボニルオキシ基、置換ホスホリルオキシ基等
が挙げられる。

【００２０】Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ⁴〜Ｒ⁶で表されるアリー
ル基としては、炭素原子数６〜３０のアリール基が好ま
しく、例えば、フェニル基、２−メチルフェニル基、２
−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、２−エ
トキシフェニル基、２−プロポキシフェニル基、２−イ
ソプロポキシフェニル基、２−ブトキシフェニル基、２
−（２−エチルヘキシルオキシ）フェニル基、２−オク
チルオキシフェニル基、２−ウンデシルオキシフェニル
基、２−トリフルオロメチルフェニル基、２−（２−エ
チルヘキシルオキシ）−５−クロロフェニル基、２，
２’−ヘキシルオキシ−３，５−ジクロロフェニル基、
３−（２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェノキシエトキシ）
フェニル基、２−（ジブチルアミノカルボニルエトキ
シ）フェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、２，５
−ジクロロフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニ
ル基、３−クロロフェニル基、３−ニトロフェニル基、
３−シアノフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニ
ル基、３−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル
基、３−ブトキシフェニル基、３−（２’−エチルヘキ
シルオキシ）フェニル基、３，４−ジクロロフェニル
基、３，５−ジクロロフェニル基、３，４−ジメトキシ
フェニル基、３，５−ジブトキシフェニル基、

【００２１】３−オクチルオキシフェニル基、３−（ジ
ブチルアミノカルボニルメトキシ）フェニル基、３−
（ジ−２−エチルヘキシルアミノカルボニルメトキシ）
フェニル基、３−ドデシルオキシフェニル基、４−クロ
ロフェニル基、４−シアノフェニル基、４−ニトロフェ
ニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、４−メト
キシフェニル基、４−エトキシフェニル基、４−イソプ
ロポキシフェニル基、４−ブトキシフェニル基、４−
（２−エチルヘキシルオキシ）フェニル基、４−イソペ
ンチルオキシフェニル基、４−（オクタデシルオキシ）
フェニル基、４−ベンジルフェニル基、４−アミノスル
ホニルフェニル基、４−Ｎ，Ｎ−ジブチルスルホニルフ
ェニル基、４−エトキシカルボニルフェニル基、４−
（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）フェニル基、
４−ｔ−オクチルフェニル基、４−フルオロフェニル
基、３−アセチルフェニル基、２−アセチルアミノフェ
ニル基、２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェニル基、４−
（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルフェニル基、
４−メチルチオフェニル基、４−（４−クロロフェニル
チオ）フェニル基、の他にヒドロキシフェニル基、フェ
ニルスルホニルフェニル基、フェニルスルホニルオキシ
フェニル基、フェニルカルボニルオキシフェニル基、ジ
メチルアミノカルボニルオキシフェニル基、ブチルカル
ボニルオキシフェニル基、等が挙げられる。

【００２２】一般式（１）中、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ⁴〜Ｒ⁶
がヘテロ環基を表す場合、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ⁴〜Ｒ⁶で表
されるヘテロ環基には、無置換のヘテロ環基及び置換基
を有するヘテロ環基が含まれる。Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ⁴〜
Ｒ⁶が置換基を有するヘテロ環基を表す場合、該置換基
としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ア
シル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル
オキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基、アルキルホスホリル基、アリールホ
スホリル基、アミノ基、−ＣＮ等が挙げられる。ヘテロ
環基を構成しているヘテロ環としては、窒素、硫黄、又
は酸素等を環構成原子として含む５員環、及び６員環の
ヘテロ環が挙げられる。例えば、ピリジン、チオフェ
ン、チアゾール、フラン、イミダゾール等が挙げられ、
これらのヘテロ環は、他のヘテロ環又は炭素環と縮合し
ていてもよい。Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ⁴〜Ｒ⁶で表されるヘテ
ロ環基の具体例としては、例えば、以下のヘテロ環基が
挙げられる。

【００２３】

【化９】

【００２４】一般式（１）中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴がアル
キル基を表す場合、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴で表されるアルキ
ル基には、無置換のアルキル基及び置換基を有するアル
キル基が含まれる。Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴が置換基を有する
アルキル基を表す場合、該置換基としては、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリ
ールオキシカルボニル基、アリール基、ヒドロキシ基、
ハロゲン原子等が挙げられる。該置換基は、更に、アル
キル基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキ
シ基、ハロゲン原子等で置換されていてもよい。

【００２５】Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴で表されるアルキル基と
しては、直鎖状でも分岐状でもよく、不飽和結合を有し
ていてもよい。Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴で表されるアルキル基
としては、炭素原子数１〜３０のアルキル基が好まし
く、例えば、メチル基、トリフルオロメチル基、エチル
基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘ
キシル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブ
チル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、１−エチルペンチ
ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、イソペン
チル基、ヘプチル基、ノニル基、ウンデシル基、プロペ
ニル基、ヘプタデセニル基、ｔ−オクチル基、エトキシ
カルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基、２
−エチルヘキシルオキシカルボニルメチル基、１−（エ
トキシカルボニル）エチル基、２’，４’−ジイソペン
チルフェニルオキシメチル基、２’，４’−ジ−ｔ−ブ
チルフェニルオキシメチル基、エトキシカルボニルエチ
ル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニルエチル基、
ブチルデシルオキシカルボニルエチル基、ジブチルアミ
ノカルボニルメチル基、ジベンジルアミノカルボニルエ
チル基、エチルオキシカルボニルプロピル基、２−エチ
ルヘキシルオキシカルボニルプロピル基、２，４−ジ−
ｔ−アミルフェニルオキシプロピル基、１−（２’，
４’−ジ−ｔ−アミルフェニルオキシ）プロピル基、
２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニルオキシプロピル基、ア
セチルアミノエチル基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノカル
ボニルエチル基、２，４−ジ−ｔ−アミルオキシエチル
オキシカルボニルプロピル基、イソステアリルオキシカ
ルボニルプロピル基、１−（２，４−ジ−ｔ−ペンチル
フェニルオキシ）プロピル基、２，４−ジ−ｔ−ペンチ
ルフェニルオキシエチルオキシカルボニルプロピル基、
ナフチルオキシエチルオキシカルボニルエチル基、Ｎ−
メチル−Ｎ−フェニルエチルオキシカルボニルエチル
基、メタンスルホニルアミノプロピル基等が挙げられ
る。

【００２６】一般式（１）中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴がアシ
ル基を表す場合、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴で表されるアシル基
には、無置換のアシル基及び置換基を有するアシル基が
含まれる。Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴が置換基を有するアシル基
を表す場合、該置換基としては、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、ハロゲン原子、アルキルチオ基、アリール
チオ基、アニリノ基が好ましい。Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴で表
されるアシル基としては、炭素原子数２〜２０のアシル
基が好ましく、例えば、アセチル基、プロパノイル基、
ブタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、２−
エチルヘキサノイル基、デカノイル基、ドデカノイル
基、オクタデカノイル基、２−シアノプロパノイル基、
１，１−ジメチルプロパノイル基等が挙げられる。ま
た、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴で表されるアシル基としては、以
下のアシル基も挙げられる。

【００２７】

【化１０】

【００２８】一般式（１）中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴がカル
バモイル基を表す場合、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴で表されるカ
ルバモイル基には、無置換のカルバモイル基及び置換基
を有するカルバモイル基が含まれる。Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴
が置換基を有するカルバモイル基を表す場合、該置換基
としては、アルキル基、アリール基が好ましい。Ｒ¹、
Ｒ²及びＲ⁴で表されるカルバモイル基としては、総炭素
数１〜３０のカルバモイル基が好ましく、例えば、Ｎ−
メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ
−プロピルカルバモイル基、Ｎ−ブチルカルバモイル
基、Ｎ−ヘキシルカルバモイル基、Ｎ−シクロヘキシル
カルバモイル基、Ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−２
−エチルヘキシルカルバモイル基、Ｎ−デシルカルバモ
イル基、Ｎ−オクタデシルカルバモイル基、Ｎ−フェニ
ルカルバモイル基、Ｎ−２−メチルフェニルカルバモイ
ル基、Ｎ−２−クロロフェニルカルバモイル基、Ｎ−２
−メトキシフェニルカルバモイル基、Ｎ−２−イソプロ
ポキシフェニルカルバモイル基、Ｎ−２−（２−エチル
ヘキシルオキシ）フェニルカルバモイル基、Ｎ−３−ク
ロロフェニルカルバモイル基、Ｎ−３−ニトロフェニル
カルバモイル基、Ｎ−３−シアノフェニルカルバモイル
基、Ｎ−４−メトキシカルバモイル基、Ｎ−４−（２’
−エチルヘキシルオキシ）フェニルカルバモイル基、Ｎ
−４−シアノフェニルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ
−フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモ
イル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ
フェニルカルバモイル基等が挙げられる。また、Ｒ¹、
Ｒ²及びＲ⁴で表されるカルバモイル基としては、以下の
カルバモイル基も挙げられる。

【００２９】

【化１１】

【００３０】一般式（１）中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴がアル
コキシカルボニル基を表す場合、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴で表
されるアルコキシカルボニル基には、無置換のアルコキ
シカルボニル基及び置換基を有するアルコキシカルボニ
ル基が含まれる。Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴が置換基を有するア
ルコキシカルボニル基を表す場合、アルキル基（アルコ
キシ部のアルキル基）の置換基としては、ハロゲン原
子、アルコキシ基、アリールオキシ基が好ましい。
Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴で表されるアルコキシカルボニル基と
しては、総炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基が
好ましく、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボ
ニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、２−エチルヘキ
シルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル
基、デシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカ
ルボニル基、フェニルオキシエチルオキシカルボニル
基、フェニルオキシプロピルオキシカルボニル基、２，
４−ジ−ｔ−アミルフェニルオキシエチルカルボニル
基、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルシクロヘキシ
ルオキシカルボニル基、イソステアリルオキシカルボニ
ル基等が挙げられる。

【００３１】一般式（１）中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴がアリ
ールオキシカルボニル基を表す場合、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴
で表されるアリールオキシカルボニル基には、無置換の
アリールオキシカルボニル基及び置換基を有するアリー
ルオキシカルボニル基が含まれる。Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴が
置換基を有するアリールオキシカルボニル基を表す場
合、アリール基（アリールオキシ部のアリール基）の置
換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ
基、アシルアミノ基が好ましい。Ｒ¹、Ｒ²及びＲ ⁴で表
されるアリールオキシカルボニル基としては、総炭素数
７〜３０のアリールオキシカルボニル基が好ましく、例
えば、２−メチルフェニルオキシカルボニル基、２−ク
ロロフェニルオキシカルボニル基、２，６−ジメチルフ
ェニルオキシカルボニル基、２，４，６−トリメチルフ
ェニルオキシカルボニル基、２−メトキシフェニルオキ
シカルボニル基、２−ブトキシフェニルオキシカルボニ
ル基、３−シアノフェニルオキシカルボニル基、３−ニ
トロフェニルオキシカルボニル基、２，２−エチルヘキ
シルフェニルオキシカルボニル基、３−（２−エチルヘ
キシルオキシ）フェニルオキシカルボニル基、４−フル
オロフェニルオキシカルボニル基、４−クロロフェニル
オキシカルボニル基、４−シアノフェニルオキシカルボ
ニル基、４−ブトキシフェニルオキシカルボニル基等が
挙げられる。

【００３２】一般式（１）中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴がスル
ファモイル基を表す場合、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴で表される
スルファモイル基には、無置換のスルファモイル基及び
置換基を有するスルファモイル基が含まれる。Ｒ¹、Ｒ²
及びＲ⁴が置換基を有するスルファモイル基を表す場
合、該置換基としては、アルキル基、アリール基が好ま
しい。Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴で表されるスルファモイル基と
しては、総炭素数０〜３０のスルファモイル基が好まし
く、例えば、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファ
モイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ
アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフ
ァモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイ
ル基等が挙げられる。より具体的には、Ｎ−メチルスル
ファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−プロ
ピルスルファモイル基、Ｎ−ブチルスルファモイル基、
Ｎ−ヘキシルスルファモイル基、Ｎ−シクロヘキシルス
ルファモイル基、Ｎ−オクチルスルファモイル基、Ｎ−
２−エチルヘキシルスルファモイル基、Ｎ−デシルスル
ファモイル基、Ｎ−オクタデシルスルファモイル基、Ｎ
−フェニルスルファモイル基、Ｎ−２−メチルフェニル
スルファモイル基、Ｎ−２−クロロフェニルスルファモ
イル基、Ｎ−２−メトキシフェニルスルファモイル基、
Ｎ−２−イソプロポキシフェニルスルファモイル基、Ｎ
−２−（２−エチルヘキシルオキシ）フェニルスルファ
モイル基、Ｎ−３−クロロフェニルスルファモイル基、
Ｎ−３−ニトロフェニルスルファモイル基、Ｎ−３−シ
アノフェニルスルファモイル基、Ｎ−４−メトキシスル
ファモイル基、Ｎ−４−（２’−エチルヘキシルオキ
シ）フェニルスルファモイル基、Ｎ−４−シアノフェニ
ルスルファモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルスルフ
ァモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ，
Ｎ−ジブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルス
ルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−（２−エチルヘキシル）
スルファモイル基等が挙げられる。

【００３３】一般式（１）中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴がアル
キルスルホニル基を表す場合、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴で表さ
れるアルキルスルホニル基には、無置換のアルキルスル
ホニル基及び置換基を有するアルキルスルホニル基が含
まれる。Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴で表されるアルキルスルホニ
ル基としては、総炭素数１〜２０のアルキルスルホニル
基が好ましく、例えば、メチルスルホニル基、エチルス
ルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスル
ホニル基、ブチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル
基、シクロヘキシルスルホニル基、オクチルスルホニル
基、２−エチルヘキシルスルホニル基、デカノイルスル
ホニル基、ドデカノイルスルホニル基、オクタデカノイ
ルスルホニル基、シアノメチルスルホニル基等が挙げら
れる。

【００３４】一般式（１）中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴がアリ
ールスルホニル基を表す場合、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴で表さ
れるアリールスルホニル基には、無置換のアリールスル
ホニル基及び置換基を有するアリールスルホニル基が含
まれる。Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴が置換基を有するアリールス
ルホニル基を表す場合、該置換基としては、ハロゲン原
子、アルコキシ基、アリールオキシ基、シアノ基、トリ
フルオロメチル基、ニトロ基が好ましい。Ｒ¹、Ｒ²及び
Ｒ⁴で表されるアリールスルホニル基としては、総炭素
数６〜３０のアリールスルホニル基が好ましく、例え
ば、フェニルスルホニル基、１−ナフチルスルホニル
基、２−ナフチルスルホニル基、２−クロロフェニルス
ルホニル基、２−メチルフェニルスルホニル基、２−メ
トキシフェニルスルホニル基、２−ブトキシフェニルス
ルホニル基、３−クロロフェニルスルホニル基、３−ト
リフルオロメチルフェニルスルホニル基、３−シアノフ
ェニルスルホニル基、３−（２−エチルヘキシルオキ
シ）フェニルスルホニル基、３−ニトロフェニルスルホ
ニル基、４−フルオロフェニルスルホニル基、４−シア
ノフェニルスルホニル基、４−ブトキシフェニルスルホ
ニル基、４−（２−エチルヘキシルオキシ）フェニルス
ルホニル基、４−オクタデシルフェニルスルホニル基等
が挙げられる。

【００３５】一般式（１）中、Ｒ²がアシルオキシ基を
表す場合、Ｒ²で表されるアシルオキシ基には、無置換
のアシルオキシ基及び置換基を有するアシルオキシ基が
含まれる。Ｒ²が置換基を有するアシルオキシ基を表す
場合、該置換基としては、ハロゲン原子、アルコキシ
基、アリールオキシ基が好ましい。Ｒ²で表されるアシ
ルオキシ基としては、総炭素数２〜２０のアシルオキシ
基が好ましく、例えば、アセチルオキシ基、プロパノイ
ルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ペンタノイルオキシ
基、トリフルオロメチルカルボニルオキシ基、オクタノ
イルオキシ基、デカノイルオキシ基、ウンデカノイルオ
キシ基、オクタデカノイルオキシ基等が挙げられる。

【００３６】一般式（１）中、Ｒ²がアルコキシ基を表
す場合、Ｒ²で表されるアルコキシ基には、無置換のア
ルコキシ基及び置換基を有するアルコキシ基が含まれ
る。Ｒ²が置換基を有するアルコキシ基を表す場合、該
置換基としては、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基が好ましい。Ｒ²で表されるアルコキシ基と
しては、総炭素数１〜３０のアルコキシ基が好ましく、
例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、
イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、
ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ
基、イソペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチ
ルオキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオ
キシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、オクタデ
シルオキシ基、エトキシカルボニルメチルオキシ基、２
−エチルヘキシルオキシカルボニルメチルオキシ基、ア
ミノカルボニルメチルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミ
ノカルボニルメチルオキシ基、Ｎ−メチルアミノカルボ
ニルメチルオキシ基、Ｎ−エチルアミノカルボニルメチ
ルオキシ基、Ｎ−オクチルアミノカルボニルメチルオキ
シ基、Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジルアミノカルボニルメチ
ルオキシ基、ベンジルオキシ基、シアノメチルオキシ基
等が挙げられる。

【００３７】一般式（１）中、Ｒ²がアリールオキシ基
を表す場合、Ｒ²で表されるアリールオキシ基には、無
置換のアリールオキシ基及び置換基を有するアリールオ
キシ基が含まれる。Ｒ²が置換基を有するアリールオキ
シ基を表す場合、該置換基としては、ハロゲン原子、ア
ルコキシ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、アリー
ルオキシ基、ニトロ基が好ましい。Ｒ²で表されるアリ
ールオキシ基としては、総炭素数６〜３０のアリールオ
キシ基が好ましく、例えば、フェニルオキシ基、１−ナ
フチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、２−クロロフ
ェニルオキシ基、２−メチルフェニルオキシ基、２−メ
トキシフェニルオキシ基、２−ブトキシフェニルオキシ
基、３−クロロフェニルオキシ基、３−トリフルオロメ
チルフェニルオキシ基、３−シアノフェニルオキシ基、
３−（２−エチルヘキシルオキシ）フェニルオキシ基、
３−ニトロフェニルオキシ基、４−フルオロフェニルオ
キシ基、４−シアノフェニルオキシ基、４−ブトキシフ
ェニルオキシ基、４−（２−エチルヘキシルオキシ）フ
ェニルオキシ基、４−オクタデシルフェニルオキシ基等
が挙げられる。

【００３８】一般式（１）中、Ｒ²がアルキルチオ基を
表す場合、Ｒ²で表されるアルキルチオ基には、無置換
のアルキルチオ基及び置換基を有するアルキルチオ基が
含まれる。Ｒ²が置換基を有するアルキルチオ基を表す
場合、該置換基としては、カルボニル基、アルコキシ
基、アリールオキシ基が好ましい。Ｒ²で表されるアル
キルチオ基としては、総炭素数１〜３０のアルキルチオ
基が好ましく、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、
プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、
イソブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔ−ブチル
チオ基、ペンチルチオ基、イソペンチルチオ基、ヘキシ
ルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、２−エチ
ルヘキシルチオ基、デシルチオ基、ドデシルチオ基、オ
クタデシルチオ基、エトキシカルボニルメチルチオ基、
２−エチルヘキシルオキシカルボニルメチルチオ基、ア
ミノカルボニルメチルチオ基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ
カルボニルメチル基、Ｎ−メチルアミノカルボニルメチ
ルチオ基、Ｎ−エチルアミノカルボニルメチルチオ基、
Ｎ−オクチルアミノカルボニルメチルチオ基、Ｎ−メチ
ル−Ｎ−ベンジルアミノカルボニルメチルチオ基、ベン
ジルチオ基、シアノメチルチオ基等が挙げられる。

【００３９】一般式（１）中、Ｒ²がアリールチオ基を
表す場合、Ｒ²で表されるアリールチオ基には、無置換
のアリールチオ基及び置換基を有するアリールチオ基が
含まれる。Ｒ²が置換基を有するアリールチオ基を表す
場合、該置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、
アリールオキシ基、アルコキシ基、シアノ基、トリフル
オロメチル基、ニトロ基が好ましい。Ｒ²で表されるア
リールチオ基としては、総炭素数６〜３０のアリールチ
オ基が好ましく、例えば、フェニルチオ基、１−ナフチ
ルチオ基、２−ナフチルチオ基、２−クロロフェニルチ
オ基、２−メチルフェニルチオ基、２−メトキシフェニ
ルチオ基、２−ブトキシフェニルチオ基、３−クロロフ
ェニルチオ基、３−トリフルオロメチルフェニルチオ
基、３−シアノフェニルチオ基、３−（２−エチルヘキ
シルオキシ）フェニルチオ基、３−ニトロフェニルチオ
基、４−フルオロフェニルチオ基、４−シアノフェニル
チオ基、４−ブトキシフェニルチオ基、４−（２−エチ
ルヘキシルオキシ）フェニルチオ基、４−オクタデシル
フェニルチオ基等が挙げられる。

【００４０】一般式（１）中、Ｒ²がアミノ基を表す場
合、Ｒ²で表されるアミノ基には、無置換のアミノ基及
び置換基を有するアミノ基が含まれる。Ｒ²が置換基を
有するアミノ基を表す場合、該置換基としては、アルキ
ル基、アリール基が好ましい。Ｒ²で表されるアミノ基
としては、総炭素数０〜５０のアミノ基が好ましく、例
えば、−ＮＨ₂、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ−アリール
アミノ基、Ｎ−アシルアミノ基、Ｎ−スルホニルアミノ
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリール
アミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，
Ｎ−ジスルホニルアミノ基等が挙げられる。より具体的
には、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−
プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基、Ｎ−ｔ
ｅｒｔブチルアミノ基、Ｎ−ヘキシルアミノ基、Ｎ−シ
クロヘキシルアミノ基、Ｎ−オクチルアミノ基、Ｎ−２
−エチルヘキシルアミノ基、Ｎ−デシルアミノ基、Ｎ−
オクタデシルアミノ基、Ｎ−ベンジルアミノ基、Ｎ−フ
ェニルアミノ基、Ｎ−２−メチルフェニルアミノ基、Ｎ
−２−クロロフェニルアミノ基、Ｎ−２−メトキシフェ
ニルアミノ基、Ｎ−２−イソプロポキシフェニルアミノ
基、Ｎ−２−（２−エチルヘキシルオキシ）フェニルア
ミノ基、Ｎ−３−クロロフェニルアミノ基、Ｎ−３−ニ
トロフェニルアミノ基、Ｎ−３−シアノフェニルアミノ
基、Ｎ−４−メトキシアミノ基、Ｎ−４−（２’−エチ
ルヘキシルオキシ）フェニルアミノ基、Ｎ−４−シアノ
フェニルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ
基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミ
ノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアセチ
ルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンゾイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−
（ジブチルカルボニル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−（ジ−２−
エチルヘキシルカルボニル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−（ジメ
チルスルホニル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−（ジエチルスルホ
ニル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−（ジブチルスルホニル）アミ
ノ基、Ｎ，Ｎ−（２−エチルヘキシルスルホニル）アミ
ノ基、Ｎ，Ｎ−（ジフェニルスルホニル）アミノ基等が
挙げられる。また、Ｒ²で表されるアミノ基としては、
以下のアミノ基も挙げられる。

【００４１】

【化１２】

【００４２】

【化１３】

【００４３】一般式（１）中、Ｒ⁴がアルキルホスホリ
ル基を表す場合、Ｒ⁴で表されるアルキルホスホリル基
には、無置換のアルキルホスホリル基及び置換基を有す
るアルキルホスホリル基が含まれる。Ｒ⁴で表されるア
ルキルホスホリル基としては、総炭素数２〜４０のアル
キルホスホリル基が好ましく、例えば、メチルホスホリ
ル基、エチルホスホリル基、プロピルホスホリル基、イ
ソプロピルホスホリル基、ブチルホスホリル基、イソブ
チルホスホリル基、ｓｅｃ−ブチルホスホリル基、ｔ−
ブチルホスホリル基、ペンチルホスホリル基、イソペン
チルホスホリル基、ヘキシルホスホリル基、ヘプチルホ
スホリル基、オクチルホスホリル基、２−エチルヘキシ
ルホスホリル基、デシルホスホリル基、ドデシルホスホ
リル基、オクタデシルホスホリル基、エトキシカルボニ
ルメチルホスホリル基、２−エチルヘキシルオキシカル
ボニルメチルホスホリル基、アミノカルボニルメチルホ
スホリル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノカルボニルメチル
ホスホリル基、Ｎ−メチルアミノカルボニルメチルホス
ホリル基、Ｎ−エチルアミノカルボニルメチルホスホリ
ル基、Ｎ−オクチルアミノカルボニルメチルホスホリル
基、ベンジルホスホリル基等が挙げられる。

【００４４】一般式（１）中、Ｒ⁴がアリールホスホリ
ル基を表す場合、Ｒ⁴で表されるアリールホスホリル基
には、無置換のアリールホスホリル基及び置換基を有す
るアリールホスホリル基が含まれる。Ｒ⁴で表されるア
リールホスホリル基としては、総炭素数１２〜５０のア
リールホスホリル基が好ましく、例えば、フェニルホス
ホリル基、１−ナフチルホスホリル基、２−ナフチルホ
スホリル基、２−クロロフェニルホスホリル基、２−メ
チルフェニルホスホリル基、２−メトキシフェニルホス
ホリル基、２−ブトキシフェニルホスホリル基、３−ク
ロロフェニルホスホリル基、３−トリフルオロメチルフ
ェニルホスホリル基、３−シアノフェニルホスホリル
基、３−（２−エチルヘキシルオキシ）フェニルホスホ
リル基、３−ニトロフェニルホスホリル基、４−フルオ
ロフェニルホスホリル基、４−シアノフェニルホスホリ
ル基、４−ブトキシフェニルホスホリル基、４−（２−
エチルヘキシルオキシ）フェニルホスホリル基、４−オ
クタデシルフェニルホスホリル基等が挙げられる。

【００４５】一般式（１）中、Ｒ⁵及びＲ⁶で表されるＨ
ａｍｍｅｔの置換基定数σ_pが０．３〜１．５の置換基
としては、シアノ基、ニトロ基、スルホニル基（例え
ば、オクチルスルホニル、フェニルスルホニル、トリフ
ルオロメチルスルホニル、ペンタフルオロフェニルスル
ホニル等）、β−カルボキシビニル基、スルフィニル基
（例えば、t−ブチルスルフィニル、トリルスルフィニ
ル、トリフルオロメチルスルフィニル、ペンタフルオロ
フェニルスルフィニル等）、β,β−ジシアノビニル
基、ハロゲン化アルキル基（例えば、トリフルオロメチ
ル、パーフルオロオクチル、ω−ヒドロパーフルオロド
デシル等）、ホルミル基、カルボキシル基、カルボニル
基（例えば、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、トリ
フルオロアセチル等）、アルキル又はアリールオキシカ
ルボニル基（例えば、エトキシカルボニル、フェノキシ
カルボニル等）、１−テトラゾリル基、５−クロル−１
−テトラゾリル基、カルバモイル基（例えば、ドデシル
カルバモイル、フェニルカルバモイル等）、スルファモ
イル基（例えば、トリフルオロメチルスルファモイル、
フェニルスルファモイル、エチルスルファモイル等）等
が挙げられる。中でも、シアノ基、スルホニル基、スル
フィニル基、トリフルオロメチル基、アルキル又はアリ
ールオキシカルボニル基、カルバモイル基及びスルファ
モイル基が好ましく、特に好ましくは、シアノ基及びス
ルホニル基である。

【００４６】一般式（１）中、Ｌで表されるジアゾニウ
ム塩化合物とカップリングした際に離脱可能な置換基と
しては、ハロゲン原子、芳香族アゾ基、酸素・窒素・イ
オウ若しくは炭素原子を介してカップリング部位を結合
するアルキル基、アリール基若しくは複素環基、アルキ
ル若しくはアリールスルホニル基、アリールスルフィニ
ル基、アルキル・アリール若しくは複素環カルボニル基
又は窒素原子でカップリング部位と結合する複素環基等
が挙げられ、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アシルオキシ基、アルキル若しくはア
リールスルホニルオキシ基、アシルアミノ基、アルキル
若しくはアリールスルホンアミド基、アルコキシカルボ
ニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、ア
ルキル・アリール若しくはヘテロ環チオ基、カルバモイ
ルアミノ基、アリールスルフィニル基、アリールスルホ
ニル基、５員若しくは６員の含窒素ヘテロ環基、イミド
基、アリールアゾ基等があり、これらの離脱基に含まれ
るアルキル基若しくは複素環基は、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル
基、アルキルカルボニルオキシ基等の置換基で更に置換
されていてもよく、これらの置換基が２つ以上のときは
同一でも異なっていてもよく、これらの置換基が更に置
換基を有していてもよい。

【００４７】離脱基は、更に詳しくはハロゲン原子（フ
ッ素、臭素、塩素、沃素）、アルコキシ基（例えば、エ
トキシ、ドデシルオキシ、メトキシエチルカルバモイル
メトキシ、カルボキシプロピルオキシ、メチルスルホニ
ルエトキシ、エトキシカルボニルメトキシ）、アリール
オキシ基（例えば、４−メチルフェノキシ、４−クロロ
フェノキシ、４−メトキシフェノキシ、４−カルボキシ
フェノキシ、３−エトキシカルボキシフェノキシ、３−
アセチルアミノフェノキシ、２−カルボキシフェノキ
シ）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ、テトラデ
カノイルオキシ、ベンゾイルオキシ）、アルキル若しく
はアリールスルホニルオキシ基（例えば、メタンスルホ
ニルオキシ、トルエンスルホニルオキシ）、アシルアミ
ノ基（例えば、ジクロロアセチルアミノ、ヘプタフルオ
ロブチリルアミノ）、アルキル若しくはアリールスルホ
ンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド、トリフル
オロメタンスルホンアミノ、ｐ−トルエンスルホニルア
ミノ）、アルコキシカルボニルオキシ基（例えば、エト
キシカルボニルオキシ、ベンジルオキシカルボニルオキ
シ）、アリールオキシカルボニルオキシ（例えば、フェ
ノキシカルボニルオキシ）、アルキル・アリール若しく
はヘテロ環チオ基（例えば、エチルチオ、２−カルボキ
シエチルチオ、ドデシルチオ、１−カルボキシドデシル
チオ、フェニルチオ、２−ブトキシ−ｔ−オクチルフェ
ニルチオ、テトラゾリルチオ）、アリールスルホニル基
（例えば、２−ブトキシ−ｔ−オクチルフェニルスルホ
ニル）、アリールスルフィニル基（例えば、２−ブトキ
シ−ｔ−オクチルフェニルスルフィニル）、カルバモイ
ルアミノ基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイルアミノ、
Ｎ−フェニルカルバモイルアミノ）、５員若しくは６員
の含窒素ヘテロ環基（例えば、イミダゾリル、ピラゾリ
ル、トリアゾリル、テトラゾリル、１，２−ジヒドロ−
２−オキソ−１−ピリジル）、イミド基（例えば、スク
シンイミド、ヒダントイニル）、アリールアゾ基（例え
ば、フェニルアゾ、４−メトキシフェニルアゾ）等であ
る。これらの基は更に置換されてもよい。

【００４８】以下に、本発明におけるカプラーとして用
いる一般式（１）で表される化合物の具体例（Ｋ−１〜
Ｋ−６２）を示すが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。

【００４９】

【表１】

【００５０】

【表２】

【００５１】

【表３】

【００５２】

【表４】

【００５３】

【表５】

【００５４】

【表６】

【００５５】

【表７】

【００５６】

【表８】

【００５７】

【表９】

【００５８】

【表１０】

【００５９】

【表１１】

【００６０】

【表１２】

【００６１】本発明におけるカプラーとして用いる一般
式（１）で表される化合物の感熱記録層中の含有量は、
０．０２〜５ｇ／ｍ²の範囲が好ましく、０．１〜４ｇ
／ｍ²の範囲が更に好ましい。該含有量が０．０２ｇ／
ｍ²より少ないと発色性が不十分となり易く、５ｇ／ｍ²
を超えると塗布適性に問題が生じ易くなる。

【００６２】−乳化分散物− 本発明に用いられるカプラーは、塩基性物質、その他の
発色助剤等とともに、サンドミル等により水溶性高分子
とともに固体分散して用いることもできるが、水に難溶
性又は不溶性の有機溶剤に溶解した後、これを界面活性
剤及び／又は水溶性高分子を保護コロイドとして有する
水相と混合し、乳化分散物とすることが好ましい。乳化
分散を容易にする観点から、界面活性剤を用いることが
好ましい。

【００６３】この場合に使用される有機溶剤は、例え
ば、特開平２−１４１２７９号公報に記載された高沸点
オイルの中から適宜選択することができる。これらの中
でもエステル類を使用することが、乳化分散物の乳化安
定性の観点から好ましく、中でも、リン酸トリクレジル
が特に好ましい。上記のオイル同士、又は他のオイルと
の併用も可能である。

【００６４】上記の有機溶剤に、更に低沸点の溶解助剤
として補助溶剤を加えることもできる。このような補助
溶剤として、例えば、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、
酢酸ブチル及びメチレンクロライド等が特に好ましく挙
げられる。場合により、高沸点オイルを含まず、低沸点
補助溶剤のみを用いることもできる。

【００６５】これらの成分を含有する油相と混合する水
相に、保護コロイドとして含有させる水溶性高分子は、
公知のアニオン性高分子、ノニオン性高分子、両性高分
子の中から適宜選択することができる。好ましい水溶性
高分子としては、例えば、ポリビニルアルコール、ゼラ
チン、セルロース誘導体等が挙げられる。

【００６６】また、水相に含有させる界面活性剤は、ア
ニオン性又はノニオン性の界面活性剤の中から、上記保
護コロイドと作用して沈澱や凝集を起こさないものを適
宜選択して使用することができる。好ましい界面活性剤
としては、アルキルベンゼンスルホン酸ソーダ、アルキ
ル硫酸ナトリウム、スルホコハク酸ジオクチルナトリウ
ム塩、ポリアルキレングリコール（例えば、ポリオキシ
エチレンノニルフェニルエーテル）等が挙げられる。

【００６７】（ジアゾニウム塩化合物）本発明の感熱記
録材料に用いられるジアゾニウム塩化合物は、下記一般
式（Ａ）で表される化合物であり、加熱によりカプラー
とカップリング反応を起こして発色し、また光によって
分解する化合物である。これらはＡｒ部分の置換基の位
置や種類によって、その最大吸収波長を制御することが
可能である。 一般式（Ａ） Ａｒ−Ｎ₂ ⁺・Ｘ^- 一般式（Ａ）中、Ａｒは芳香族部分を表し、Ｘ^-は酸ア
ニオンを表す。

【００６８】塩を形成するジアゾニウム塩化合物の具体
例としては、４−（ｐ−トリルチオ）−２，５−ジブト
キシベンゼンジアゾニウム、４−（４−クロロフェニル
チオ）−２，５−ジブトキシベンゼンジアゾニウム、４
−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンゼンジアゾニウム、
４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ベンゼンジアゾニウ
ム、４−（Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ）ベンゼンジアゾ
ニウム、４−（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジルアミノ）ベン
ゼンジアゾニウム、４−（Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ）
ベンゼンジアゾニウム、４−（Ｎ−エチル−Ｎ−ヒドロ
キシエチルアミノ）ベンゼンジアゾニウム、４−（Ｎ，
Ｎ−ジエチルアミノ）−３−メトキシベンゼンジアゾニ
ウム、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−２−メトキシ
ベンゼンジアゾニウム、４−（Ｎ−ベンゾイルアミノ）
−２，５−ジエトキシベンゼンジアゾニウム、４−モル
ホリノ−２，５−ジブトキシベンゼンジアゾニウム、４
−アニリノベンゼンジアゾニウム、４−〔Ｎ−（４−メ
トキシベンゾイル）アミノ〕−２，５−ジエトキシベン
ゼンジアゾニウム、４−ピロリジノ−３−エチルベンゼ
ンジアゾニウム、４−〔Ｎ−（１−メチル−２−（４−
メトキシフェノキシ）エチル）−Ｎ−ヘキシルアミノ〕
−２−ヘキシルオキシベンゼンジアゾニウム、４−〔Ｎ
−（２−（４−メトキシフェノキシ）エチル）−Ｎ−ヘ
キシルアミノ〕−２−ヘキシルオキシベンゼンジアゾニ
ウム、２−（１−エチルプロピルオキシ）−４−〔ジ−
（ジ−ｎ−ブチルアミノカルボニルメチル）アミノ〕ベ
ンゼンジアゾニウム等が挙げられる。

【００６９】本発明に用いられるジアゾニウム塩化合物
の最大吸収波長λｍａｘは、４５０ｎｍ以下であること
が効果の点から好ましく、２９０〜４４０ｎｍであるこ
とがより好ましい。ジアゾニウム塩化合物が上記波長領
域よりも長波長側にλｍａｘを有すると生保存性の点
で、短波長側にλｍａｘを有するとカプラーとの組み合
わせにおいて画像定着性、画像保存性の点でいずれも好
ましくない。また、本発明において用いられるジアゾニ
ウム塩化合物は、炭素原子数が１２以上で、水に対する
溶解度が１％以下で、かつ酢酸エチルに対する溶解度が
５％以上であることが好ましい。

【００７０】これらのジアゾニウム塩化合物の中でも、
本発明における特定カプラーとの組み合わせにおいて、
形成される色素の色相、画像耐光性の点で、前記一般式
（２）〜（４）で表されるジアゾニウム塩化合物の少な
くとも１種を用いることがより好ましい。

【００７１】次に、一般式（２）及び（３）で表される
ジアゾニウム塩化合物について詳細に説明する。一般式
（２）及び（３）中、Ｒ¹¹で表されるアルキルスルフェ
ニル基、アリールスルフェニル基には、無置換のアルキ
ルスルフェニル基、アリールスルフェニル基及び置換基
を有するアルキルスルフェニル基、アリールスルフェニ
ル基が含まれる。Ｒ¹¹が置換基を有するアルキルスルフ
ェニル基、アリールスルフェニル基を表す場合、該置換
基としては、例えば、フェニル基、ハロゲン原子、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル
基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、カルバモイル
基、シアノ基、アルキルスルフェニル基、アリールスル
フェニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフ
ィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、スルホンアミド基、スルファモイル基、カルボキシ
基、スルホン酸基、アシル基、ヘテロ環基が好ましい。
特に総炭素数１〜３０のアルキルスルフェニル基（例え
ば、メチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基、ヘキ
シルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基、オクタ
デシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、２−エチルヘキ
シルチオ基、２−（Ｎ，Ｎ−ジオクチルカルバモイル）
エチルチオ基）、アリルチオ基、ベンジルチオ基、総炭
素数６〜３０のアリールスルフェニル基（例えば、フェ
ニルチオ基、４−メトキシフェニルチオ基、４−（２−
エチルヘキシルオキシ）フェニルチオ基、２−ブトキシ
カルボニルフェニルチオ基、２−クロロフェニルチオ
基、４−クロロフェニルチオ基、４−メチルフェニルチ
オ基）が好ましい。

【００７２】一般式（２）及び（３）中、Ｒ¹¹で表され
るアルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基に
は、無置換のアルキルスルフィニル基、アリールスルフ
ィニル基及び置換基を有するアルキルスルフィニル基、
アリールスルフィニル基が含まれる。Ｒ¹¹が置換基を有
するアルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基
を表す場合、該置換基としては、例えば、フェニル基、
ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アル
コキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ
基、カルバモイル基、シアノ基、アルキルスルフェニル
基、アリールスルフェニル基、アルキルスルフィニル
基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、
アリールスルホニル基、スルホンアミド基、スルファモ
イル基、カルボキシ基、スルホン酸基、アシル基、ヘテ
ロ環基が好ましい。特に総炭素数１〜３０のアルキルス
ルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基、エチル
スルフィニル基、ブチルスルフィニル基、ヘキシルスル
フィニル基、オクチルスルフィニル基、ドデシルスルフ
ィニル基、オクタデシルスルフィニル基、シクロヘキシ
ルスルフィニル基、２−エチルヘキシルスルフィニル
基、２−（Ｎ，Ｎ−ジオクチルカルバモイル）エチルス
ルフィニル基）、アリルスルフィニル基、ベンジルスル
フィニル基、総炭素数６〜３０のアリールスルフィニル
基（例えば、フェニルスルフィニル基、４−メトキシフ
ェニルスルフィニル基、４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）フェニルスルフィニル基、２−ブトキシカルボニル
フェニルスルフィニル基、２−クロロフェニルスルフィ
ニル基、４−クロロフェニルスルフィニル基、４−メチ
ルフェニルスルフィニル基）が好ましい。

【００７３】一般式（２）及び（３）中、Ｒ¹¹で表され
るアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基には、
無置換のアルキルスルホニル基、アリールスルホニル基
及び置換基を有するアルキルスルホニル基、アリールス
ルホニル基が含まれる。Ｒ¹¹が置換基を有するアルキル
スルホニル基、アリールスルホニル基を表す場合、該置
換基としては、例えば、フェニル基、ハロゲン原子、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル
基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、カルバモイル
基、シアノ基、アルキルスルフェニル基、アリールスル
フェニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフ
ィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル
基、スルホンアミド基、スルファモイル基、カルボキシ
基、スルホン酸基、アシル基、ヘテロ環基が好ましい。
特に総炭素数１〜３０のアルキルスルホニル基（例え
ば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチル
スルホニル基、ヘキシルスルホニル基、オクチルスルホ
ニル基、ドデシルスルホニル基、オクタデシルスルホニ
ル基、シクロヘキシルスルホニル基、２−エチルヘキシ
ルスルホニル基、２−（Ｎ，Ｎ−ジオクチルカルバモイ
ル）エチルスルホニル基）、アリルスルホニル基、ベン
ジルスルホニル基、総炭素数６〜３０のアリールスルホ
ニル基（例えば、フェニルスルホニル基、４−メトキシ
フェニルスルホニル基、４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）フェニルスルホニル基、２−ブトキシカルボニルフ
ェニルスルホニル基、２−クロロフェニルスルホニル
基、４−クロロフェニルスルホニル基、４−メチルフェ
ニルスルホニル基）が好ましい。

【００７４】一般式（２）及び（３）中、Ｒ¹¹で表され
るスルファモイル基には、無置換のスルファモイル基及
び置換基を有するスルファモイル基が含まれる。Ｒ¹¹で
表されるスルファモイル基は、総炭素数３〜３０のＮ，
Ｎ−ジアルキル（あるいはアリール）スルファモイル基
が好ましく、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジブ
チルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジオクチルスルファモ
イル基、Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）スルファ
モイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−ベンジルスルファモイル
基、Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルスルファモイル基、ピペリ
ジノスルホニル基、ピロリジノスルホニル基、モルホリ
ノスルホニル基、４−オクタノイルピペラジノスルホニ
ル基、ヘキサメチレンイミノスルホニル基が好ましい。

【００７５】一般式（２）及び（３）中、Ｒ¹¹で表され
るアルコキシカルボニル基には、無置換のアルコキシカ
ルボニル基及び置換基を有するアルコキシカルボニル基
が含まれる。Ｒ¹¹が置換基を有するアルコキシカルボニ
ル基を表す場合、該置換基としては、例えば、フェニル
基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、
アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミ
ノ基、カルバモイル基、シアノ基、アルキルスルフェニ
ル基、アリールスルフェニル基、アルキルスルフィニル
基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、
アリールスルホニル基、スルホンアミド基、スルファモ
イル基、カルボキシ基、スルホン酸基、アシル基、ヘテ
ロ環基が好ましい。特に総炭素数２〜３０のアルコキシ
カルボニル基が好ましく、例えば、メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、オ
クチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル
基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、オクタデシル
オキシカルボニル基、２−エトキシエトキシカルボニル
基、２−クロロエトキシカルボニル基、２−フェノキシ
エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基が
好ましい。

【００７６】一般式（２）及び（３）中、Ｒ¹¹で表され
るカルバモイル基には、無置換のカルバモイル基及び置
換基を有するカルバモイル基が含まれる。Ｒ¹¹で表され
るカルバモイル基は、Ｎ，Ｎ−ジアルキル（あるいはア
リール）カルバモイル基が好ましく、このアルキル基
（あるいはアリール基）は無置換でも置換基を有してい
てもよく、該置換基としては例えば、フェニル基、ハロ
ゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキ
シカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、カ
ルバモイル基、シアノ基、アルキルスルフェニル基、ア
リールスルフェニル基、アルキルスルフィニル基、アリ
ールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、スルホンアミド基、スルファモイル基、
カルボキシ基、スルホン酸基、アシル基、ヘテロ環基が
好ましい。特に総炭素数３〜３０のＮ，Ｎ−ジアルキル
（あるいはアリール）カルバモイル基が好ましく、例え
ば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル基、
Ｎ，Ｎ−ジオクチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ビス（２
−エチルヘキシル）カルバモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−
ベンジルカルバモイル基、Ｎ−エチル−Ｎ−ブチルカル
バモイル基、ピペリジノカルボニル基、ピロリジノカル
ボニル基、モルホリノカルボニル基、４−オクタノイル
ピペラジノカルボニル基、ヘキサメチレンイミノカルボ
ニル基が好ましい。

【００７７】一般式（２）及び（３）中、Ｒ¹¹で表され
るアシル基は、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、ヘテ
ロ環アシル基が好ましく、これらは無置換でも置換基を
有していてもよく、その置換基としては例えば、フェニ
ル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル
アミノ基、カルバモイル基、シアノ基、アルキルスルフ
ェニル基、アリールスルフェニル基、アルキルスルフィ
ニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、スルホンアミド基、スルフ
ァモイル基、カルボキシ基、スルホン酸基、アシル基、
ヘテロ環基が好ましい。特に総炭素数２〜３０のアシル
基が好ましく、例えば、アセチル基、ブタノイル基、オ
クタノイル基、ベンゾイル基、４−メトキシベンゾイル
基、４−クロロベンゾイル基が好ましい。

【００７８】一般式（２）及び（３）中、Ｒ¹³及びＲ¹⁴
で表されるアルキル基には、無置換のアルキル基及び置
換基を有するアルキル基が含まれる。Ｒ¹³及びＲ¹⁴が置
換基を有するアルキル基を表す場合、該置換基として
は、例えば、フェニル基、ハロゲン原子、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アシ
ルオキシ基、アシルアミノ基、カルバモイル基、シアノ
基、アルキルスルフェニル基、アリールスルフェニル
基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ス
ルホンアミド基、スルファモイル基、カルボキシ基、ス
ルホン酸基、アシル基、ヘテロ環基が好ましい。特に総
炭素数１〜３０のアルキル基が好ましく、例えば、メチ
ル基、エチル基、ブチル基、オクチル基、２−エチルヘ
キシル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、２
−ヒドロキシエチル基、２−ベンゾイルオキシエチル
基、２−（４−ブトキシフェノキシ）エチル基、ベンジ
ル基、４−メトキシベンジル基が好ましい。

【００７９】一般式（２）及び（３）中、Ｒ¹³及びＲ¹⁴
で表わされるアリール基には、無置換のアリール基及び
置換基を有するアリール基が含まれる。Ｒ¹³及びＲ¹⁴が
置換基を有するアリール基を表す場合、該置換基として
は、例えば、フェニル基、ハロゲン原子、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アシ
ルオキシ基、アシルアミノ基、カルバモイル基、シアノ
基、アルキルスルフェニル基、アリールスルフェニル
基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ス
ルホンアミド基、スルファモイル基、カルボキシ基、ス
ルホン酸基、アシル基、ヘテロ環基が好ましい。特に総
炭素数６〜３０のアリール基が好ましく、例えば、フェ
ニル基、４−メトキシフェニル基、４−クロロフェニル
基が好ましい。

【００８０】一般式（２）中、Ｒ¹²、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶で表
されるアルキル基には、無置換のアルキル基及び置換基
を有するアルキル基が含まれる。Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶が置換基
を有するアルキル基を表す場合、該置換基としては、例
えば、フェニル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ
基、アシルアミノ基、カルバモイル基、シアノ基、アル
キルスルフェニル基、アリールスルフェニル基、アルキ
ルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキル
スルホニル基、アリールスルホニル基、スルホンアミド
基、スルファモイル基、カルボキシ基、スルホン酸基、
アシル基、ヘテロ環基が好ましい。特に総炭素数１〜３
０のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ
−ブチル基、ベンジル基、α−メチルベンジル基、クロ
ロエチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル
基が好ましく、メチル基が特に好ましい。

【００８１】一般式（２）中、Ｒ¹²、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶で表
されるアリール基には、無置換のアリール基及び置換基
を有するアリール基が含まれる。Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶が置換基
を有するアリール基を表す場合、該置換基としては、例
えば、フェニル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ
基、アシルアミノ基、カルバモイル基、シアノ基、アル
キルスルフェニル基、アリールスルフェニル基、アルキ
ルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキル
スルホニル基、アリールスルホニル基、スルホンアミド
基、スルファモイル基、カルボキシ基、スルホン酸基、
アシル基、ヘテロ環基が好ましい。特に総炭素数６〜３
０のアリール基が好ましく、例えば、フェニル基、４−
メトキシフェニル基、４−クロロフェニル基が好まし
い。

【００８２】一般式（２）中、Ｒ¹²、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶で表
されるアルコキシ基には、無置換のアルコキシ基及び置
換基を有するアルコキシ基が含まれる。Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶が
置換基を有するアルコキシ基を表す場合、該置換基とし
ては、例えば、フェニル基、ハロゲン原子、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アシ
ルオキシ基、アシルアミノ基、カルバモイル基、シアノ
基、アルキルスルフェニル基、アリールスルフェニル
基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ス
ルホンアミド基、スルファモイル基、カルボキシ基、ス
ルホン酸基、アシル基、ヘテロ環基が好ましい。特に総
炭素数１〜３０のアルコキシ基が好ましく、例えば、メ
トキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、ヘキシルオキシ
基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基、オクタデシル
オキシ基、２−エトキシエトキシ基、２−クロロエトキ
シ基、２−フェノキシエトキシ基が好ましい。

【００８３】一般式（２）中、Ｒ¹²、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶で表
されるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子が好ましく、塩素原子が特に好ましい。

【００８４】尚、Ｒ¹³とＲ¹⁴あるいはＲ¹²とＲ¹³あるい
はＲ¹⁴とＲ¹⁵は、互いに結合して環を形成する場合、５
ないし７員環を形成することが好ましい。また、Ｒ¹³と
Ｒ¹⁴が結合し含窒素複素環を形成する場合、５ないし７
員環を形成することが好ましく、例えば、ピロリジノ
基、ピペリジノ基、モルホリノ基、４−アシルピペラジ
ノ基、４−スルホニルピペラジノ基、ヘキサメチレンイ
ミノ基が好ましい。更に、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ
¹⁵及びＲ¹⁶が置換基としてジアゾニオフェニル基を有し
た置換基であり、ビス体あるいはそれ以上の多量体を形
成していてもよい。

【００８５】一般式（２）及び（３）中、Ｘ^-で表され
る陰イオンとしては、無機陰イオン及び有機陰イオンが
挙げられる。前記無機陰イオンとしては、ヘキサフルオ
ロリン酸イオン、ホウフッ化水素酸イオン、塩化物イオ
ン、硫酸イオンが好ましく、ヘキサフルオロリン酸イオ
ン、ホウフッ化水素酸イオンが特に好ましい。前記有機
陰イオンとしては、ポリフルオロアルキルカルボン酸イ
オン、ポリフルオロアルキルスルホン酸イオン、テトラ
フェニルホウ酸イオン、芳香族カルボン酸イオン、芳香
族スルホン酸イオンが好ましい。

【００８６】以下に、本発明における一般式（２）又は
（３）で表されるジアゾニウム塩化合物の具体例（Ａ−
１〜Ａ−４７）を示すが、本発明は、これらに限定され
るものではない。

【００８７】

【化１４】

【００８８】

【化１５】

【００８９】

【化１６】

【００９０】

【化１７】

【００９１】

【化１８】

【００９２】

【化１９】

【００９３】

【化２０】

【００９４】

【化２１】

【００９５】

【化２２】

【００９６】一般式（２）又は（３）で表されるジアゾ
ニウム塩化合物は、既知の方法で製造することが可能で
ある。即ち、対応するアニリンを酸性溶媒中、亜硝酸ナ
トリウム、ニトロシル硫酸、亜硝酸イソアミル等を用い
てジアゾ化することにより得られる。例として例示化合
物Ａ−１の合成例を以下に示す。

【００９７】［例示化合物Ａ−１の合成例］ （２−ドデシルスルホニル−４−ピロリジノニトロベン
ゼンの合成）２−ドデシルスルホニル−４−クロロニト
ロベンゼン２７．５ｇ、ピロリジン５．５ｇ、炭酸カリ
ウム１３．８ｇ、ジメチルアセトアミド７０ｍｌの混合
物を９０℃で３時間加熱攪拌した。反応混合物に水２１
０ｍｌを添加し、析出した結晶を濾集し、アセトニトリ
ルで再結晶し２−ドデシルスルホニル−４−ピロリジノ
ニトロベンゼン１２．７ｇを得た。

【００９８】（２−ドデシルスルホニル−４−ピロリジ
ノアニリンの合成）鉄粉１９．５ｇ、塩化アンモニウム
２．０ｇ、水３５ｍｌ、イソプロパノール１０５ｍｌを
加熱還流した中に、２−ドデシルスルホニル−４−ピロ
リジノニトロベンゼン２０．７ｇを分割添加した。反応
混合物を３０分加熱還流したのち、室温まで冷却し不溶
物をセライトを用いて濾別した。濾液を濃縮後カラムク
ロマトにより精製し、２−ドデシルスルホニル−４−ピ
ロリジノアニリンを１１．６ｇ得た。

【００９９】（例示化合物Ａ−１の合成）０℃に冷却し
た２−ドデシルスルホニル４−ピロリジノアニリン１
１．６ｇ、濃塩酸７．５ｍｌ、メタノール６０ｍｌの混
合物に亜硝酸ナトリウム２．３ｇ、水１２ｍｌの溶液を
滴下した。１０℃で１時間攪拌した後、反応混合物にヘ
キサフルオロリン酸カリウム６．６ｇ、水６０ｍｌを添
加し室温で１時間攪拌した。析出した結晶を濾集し水、
イソプロパノールで順次洗浄後、酢酸エチルとヘキサン
の混合溶媒から再結晶した。乾燥後、例示化合物Ａ−１
を１０．１ｇ得た。メタノール中の紫外可視吸収スペク
トルはλｍａｘ＝３９２ｎｍ，ε＝３．０６×１０⁴で
あった。

【０１００】次に、一般式（４）で表されるジアゾニウ
ム塩化合物について説明する。一般式（４）中、Ａｒで
表されるアリール基には、無置換のアリール基及び置換
基を有するアリール基が含まれる。Ａｒが置換基を有す
るアリール基を表す場合、該置換基としては、アルキル
基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリ
ールオキシ基、アリールチオ基、アシル基、アルコキシ
カルボニル基、カルバモイル基、カルボアミド基、スル
ホニル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、ウレ
イド基、ハロゲン基、アミノ基、ヘテロ環基等が挙げら
れ、これらの置換基は、更に置換されていてもよい。

【０１０１】Ａｒで表されるアリール基としては、炭素
原子数６〜３０のアリール基が好ましく、例えば、フェ
ニル基、２−メチルフェニル基、２−クロロフェニル
基、２−メトキシフェニル基、２−ブトキシフェニル
基、２−（２−エチルヘキシルオキシ）フェニル基、２
−オクチルオキシフェニル基、３−（２，４−ジ−ｔ−
ペンチルフェノキシエトキシ）フェニル基、４−クロロ
フェニル基、２，５−ジクロロフェニル基、２，４，６
−トリメチルフェニル基、３−クロロフェニル基、３−
メチルフェニル基、３−メトキシフェニル基、３−ブト
キシフェニル基、３−シアノフェニル基、３−（２−エ
チルヘキシルオキシ）フェニル基、３，４−ジクロロフ
ェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、３，４−ジメ
トキシフェニル基、３−（ジブチルアミノカルボニルメ
トキシ）フェニル基、４−シアノフェニル基、４−メチ
ルフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−ブトキシ
フェニル基、４−（２−エチルヘキシルオキシ）フェニ
ル基、４−ベンジルフェニル基、４−アミノスルホニル
フェニル基、４−Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノスルホニルフ
ェニル基、４−エトキシカルボニルフェニル基、４−
（２−エチルヘキシルカルボニル）フェニル基、４−フ
ルオロフェニル基、３−アセチルフェニル基、２−アセ
チルアミノフェニル基、４−（４−クロロフェニルチ
オ）フェニル基、４−（４−メチルフェニル）チオ−
２，５−ブトキシフェニル基、４−（Ｎ−ベンジル−Ｎ
−メチルアミノ）−２−ドデシルオキシカルボニルフェ
ニル基等が挙げられるが、特にこれらに限定されるもの
ではない。また、これらの基は、更に、アルキルオキシ
基、アルキルチオ基、置換フェニル基、シアノ基、置換
アミノ基、ハロゲン原子、ヘテロ環基等により置換され
ていてもよい。

【０１０２】一般式（４）中、Ｒ¹⁷及びＲ¹⁸は、各々独
立に、アルキル基又はアリール基を表し、これらには無
置換のもの及び置換基を有するものが含まれる。また、
Ｒ¹⁷及びＲ¹⁸は、同一でもよく、異なっていてもよい。
該置換基としては、アルコキシ基、アルコキシカルボニ
ル基、アルキルスルホニル基、置換アミノ基、置換アミ
ド基、アリール基、アリールオキシ基等が挙げられる
が、これらに限定されるものではない。

【０１０３】Ｒ¹⁷及びＲ¹⁸で表されるアルキル基として
は、炭素原子数１〜１８のアルキル基が好ましく、例え
ば、メチル基、トリフルオロメチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、シク
ロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチ
ル基、ｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル
基、オクタデシル基、ベンジル基、４−メトキシベンジ
ル基、トルフェニルメチル基、エトキシカルボニルメチ
ル基、ブトキシカルボニルメチル基、２−エチルヘキシ
ルオキシカルボニルメチル基、２’，４’−ジイソペン
チルフェニルオキシメチル基、２’，４’−ジ−ｔ−ブ
チルフェニルオキシメチル基、ジベンジルアミノカルボ
ニルメチル基、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニルオキシ
プロピル基、エトキシカルボニルプロピル基、１−
（２’，４’−ジ−ｔ−アミルフェニルオキシ）プロピ
ル基、アセチルアミノエチル基、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアミノ）エチル基、２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）
プロピル基、メタンスルホニルアミノプロピル基、アセ
チルアミノエチル基、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）
エチル基、２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）プロピル基
等が好ましい。

【０１０４】Ｒ¹⁷及びＲ¹⁸で表されるアリール基として
は、炭素原子数６〜３０のアリール基が好ましく、例え
ば、フェニル基、２−メチルフェニル基、２−クロロフ
ェニル基、２−メトキシフェニル基、２−ブトキシフェ
ニル基、２−（２−エチルヘキシルオキシ）フェニル
基、２−オクチルオキシフェニル基、３−（２，４−ジ
−ｔ−ペンチルフェノキシエトキシ）フェニル基、４−
クロロフェニル基、２，５−ジクロロフェニル基、２，
４，６−トリメチルフェニル基、３−クロロフェニル
基、３−メチルフェニル基、３−メトキシフェニル基、
３−ブトキシフェニル基、３−シアノフェニル基、３−
（２−エチルヘキシルオキシ）フェニル基、３，４−ジ
クロロフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、３，
４−ジメトキシフェニル基、３−（ジブチルアミノカル
ボニルメトキシ）フェニル基、４−シアノフェニル基、
４−メチルフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−
ブトキシフェニル基、４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）フェニル基、４−ベンジルフェニル基、４−アミノ
スルホニルフェニル基、４−Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノス
ルホニルフェニル基、４−エトキシカルボニルフェニル
基、４−（２−エチルヘキシルカルボニル）フェニル
基、４−フルオロフェニル基、３−アセチルフェニル
基、２−アセチルアミノフェニル基、４−（４−クロロ
フェニルチオ）フェニル基、４−（４−メチルフェニ
ル）チオ−２，５−ブトキシフェニル基、４−（Ｎ−ベ
ンジル−Ｎ−メチルアミノ）−２−ドデシルオキシカル
ボニルフェニル基等が挙げらるが、特にこれらに限定さ
れるものではない。また、これらの基は、更に、アルキ
ルオキシ基、アルキルチオ基、置換フェニル基、シアノ
基、置換アミノ基、ハロゲン原子、ヘテロ環基等により
置換されていてもよい。

【０１０５】一般式（４）中、Ｘ^-は酸アニオンを表
し、酸アニオンとしては、炭素原子数１〜９のポリフル
オロアルキルカルボン酸、炭素原子数１〜９のポリフル
オロアルキルスルホン酸、四フッ化ホウ素、テトラフェ
ニルホウ素、ヘキサフロロリン酸、芳香族カルボン酸、
芳香族スルホン酸等が挙げられる。結晶性の点で、ヘキ
サフルオロリン酸が好ましい。

【０１０６】以下に、一般式（４）で表されるジアゾニ
ウム塩化合物の具体例（Ａ−４８〜Ａ−５１）を示す
が、本発明はこれらに限定されるものではない。

【０１０７】

【化２３】

【０１０８】一般式（２）〜（４）で表される化合物
は、油状物、結晶状態のいずれであってもよいが、取扱
い性の点で結晶状態のものが好ましい。これらの一般式
（２）〜（４）で表される化合物は、単独で用いてもよ
いし、２種以上併用することもできる。また、一般式
（２）〜（４）で表される化合物を感熱記録材料に用い
る場合、感熱記録層中において０．０２〜５ｇ／ｍ²の
範囲で用いることが好ましいが、発色濃度の点から０．
１〜４ｇ／ｍ²の範囲で用いることが特に好ましい。

【０１０９】上記ジアゾニウム塩化合物の安定化のため
に塩化亜鉛、塩化カドミウム、塩化スズ等を用いて錯化
合物を形成させ、ジアゾニウム塩化合物の安定化を行う
こともできる。これらのジアゾニウム塩化合物は、単独
で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

【０１１０】−マイクロカプセル− 本発明の感熱記録材料は、その使用前の生保存性を良好
とするために、ジアゾニウム塩化合物をマイクロカプセ
ルに内包させることが好ましい。その形成方法は既に公
知の方法を用いることができる。カプセル壁を形成する
高分子物質は常温では不透過性であり、加熱時に透過性
となることが必要であり、特にガラス転移温度が６０〜
２００℃のものが好ましい。これらの例として、ポリウ
レタン、ポリウレア、ポリアミド、ポリエステル、尿素
・ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ポリスチレ
ン、スチレン・メタクリレート共重合体、スチレン・ア
クリレート共重合体及びこれらの混合系が挙げられる。

【０１１１】マイクロカプセル形成法としては、界面重
合法及び内部重合法が適している。カプセル形成方法の
詳細及びリアクタントの具体例については、米国特許第
３，７２６，８０４号、同第３，７９６，６６９号等の
明細書に記載がある。例えば、ポリウレア、ポリウレタ
ンをカプセル壁材として用いる場合は、ポリイソシアネ
ート及びそれと反応してカプセル壁を形成する第２物質
（例えば、ポリオール、ポリアミン）を水性媒体又はカ
プセル化すべき油性媒体中に混合し、水中でこれらを乳
化分散し、次に加温することにより油滴界面で高分子形
成反応を起こしマイクロカプセル壁を形成する。尚、上
記第２物質の添加を省略した場合もポリウレアが生成す
る。本発明においては、マイクロカプセル壁を形成する
高分子物質は、ポリウレタンやポリウレアの中から選ば
れる少なくとも１種であることが好ましい。以下に、本
発明におけるジアゾニウム塩化合物内包マイクロカプセ
ル（ポリウレア・ポリウレタン壁）の製造方法について
述べる。

【０１１２】まず、ジアゾニウム塩化合物はカプセルの
芯となる疎水性の有機溶媒に溶解又は分散させる。この
場合の有機溶媒としては、沸点１００〜３００℃の有機
溶媒が好ましい。芯溶媒中には、更に、多価イソシアネ
ートが壁材として添加される（油相）。

【０１１３】一方、水相としては、ポリビニルアルコー
ル、ゼラチン等の水溶性高分子を溶解した水溶液を用意
し、次いで前記油相を投入し、ホモジナイザー等の手段
により乳化分散を行う。このとき水溶性高分子は乳化分
散の安定化剤として作用する。乳化分散を更に安定に行
うために、油相あるいは水相の少なくとも一方に界面活
性剤を添加してもよい。

【０１１４】多価イソシアネートの使用量は、マイクロ
カプセルの平均粒径が０．３〜１２μｍで、壁厚みが
０．０１〜０．３μｍとなるように決定される。分散粒
子径は０．２〜１０μｍ程度が一般的である。乳化分散
液中では、油相と水相の界面において多価イソシアネー
トの重合反応が生じてポリウレア壁が形成される。

【０１１５】水相中にポリオールを添加しておけば、多
価イソシアネートとポリオールが反応してポリウレタン
壁を形成することもできる。反応速度を速めるために反
応温度を高く保ち、あるいは適当な重合触媒を添加する
ことが好ましい。多価イソシアネート、ポリオール、反
応触媒、あるいは、壁剤の一部を形成させるためのポリ
アミン等については成書に詳しい（岩田敬治編 ポリウ
レタンハンドブック日刊工業新聞社（１９８７））。

【０１１６】マイクロカプセル壁の原料として用いる多
価イソシアネート化合物としては、３官能以上のイソシ
アネート基を有する化合物が好ましいが、２官能のイソ
シアネート化合物を併用してもよい。具体的には、キシ
レンジイソシアネート及びその水添物、ヘキサメチレン
ジイソシアネート、トリレンジイソシアネート及びその
水添物、イソホロンジイソシアネート等のジイソシアネ
ートを主原料とし、これらの２量体あるいは３量体（ビ
ューレットあるいはイソシヌレート）の他、トリメチロ
ールプロパン等のポリオールとキシリレンジイソシアネ
ート等の２官能イソシアネートとのアダクト体として多
官能としたもの、トリメチロールプロパン等のポリオー
ルとキシリレンジイソシアネート等の２官能イソシアネ
ートとのアダクト体にポリエチレンオキシド等の活性水
素を有するポリエーテル等の高分子量化合物を導入した
化合物、ベンゼンイソシアネートのホルマリン縮合物等
が挙げられる。特開昭６２−２１２１９０号公報、特開
平４−２６１８９号公報、特開平５−３１７６９４号公
報、特願平８−２６８７２１号公報等に記載の化合物が
好ましい。

【０１１７】更に、ポリオール又はポリアミンを、芯と
なる疎水性溶媒中又は分散媒となる水溶性高分子溶液中
に添加しておき、マイクロカプセル壁の原料の一つとし
て用いることもできる。これらのポリオール又はポリア
ミンの具体例としては、プロピレングリコール、グリセ
リン、トリメチロールプロパン、トリエタノールアミ
ン、ソルビトール、ヘキサメチレンジアミン等が挙げら
れる。ポリオールを添加した場合には、ポリウレタン壁
が形成される。

【０１１８】前記ジアゾニウム塩化合物を溶解し、マイ
クロカプセルの芯を形成するときの疎水性有機溶媒とし
ては、沸点１００〜３００℃の有機溶媒が好ましく、具
体的には、アルキルナフタレン、アルキルジフェニルエ
タン、アルキルジフェニルメタン、アルキルビフェニ
ル、アルキルターフェニル、塩素化パラフィン、リン酸
エステル類、マレイン酸エステル類、アジピン酸エステ
ル類、フタル酸エステル類、安息香酸エステル類、炭酸
エステル類、エーテル類、硫酸エステル類、スルホン酸
エステル類等が挙げられる。これらは２種以上混合して
用いてもよい。

【０１１９】カプセル化しようとするジアゾニウム塩化
合物のこれらの溶媒に対する溶解性が劣る場合には、用
いようとするジアゾ化合物の溶解性の高い低沸点溶媒を
補助的に併用することもできる。具体的には、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、メチレンクロライド、テトラヒドロフ
ラン、アセトニトリル、アセトン等が挙げられる。この
ため、ジアゾニウム塩化合物はこれら高沸点疎水性有機
溶媒、低沸点補助溶媒に対する適当な溶解度を有してい
ることが好ましく、具体的には該溶媒に５％以上の溶解
度を有していることが好ましい。水に対する溶解度は１
％以下が好ましい。

【０１２０】このようにして調製されたカプセルの油相
を分散する水溶性高分子水溶液に用いる水溶性高分子
は、乳化しようとする温度における水に対する溶解度が
５％以上の水溶性高分子が好ましく、その具体例として
は、ポリビニルアルコール及びその変成物、ポリアクリ
ル酸アミド及びその誘導体、エチレン−酢酸ビニル共重
合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、エチレン−
無水マレイン酸共重合体、イソブチレン−無水マレイン
酸共重合体、ポリビニルピロリドン、エチレン−アクリ
ル酸共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体、カル
ボキシメチルセルロース、メチルセルロース、カゼイ
ン、ゼラチン、澱粉誘導体、アラビヤゴム、アルギン酸
ナトリウム等が挙げられる。

【０１２１】これらの水溶性高分子は、イソシアネート
化合物との反応性がないか、低いことが好ましく、例え
ば、ゼラチンのように分子鎖中に反応性のアミノ基を有
するものは、予め変成する等して反応性をなくしておく
ことが必要である。また、界面活性剤を添加する場合に
は、界面活性剤の添加量は、油相の重量に対して０．１
〜５重量％、特に０．５〜２重量％であることが好まし
い。

【０１２２】乳化は、ホモジナイザー、マントンゴーリ
ー、超音波分散機、ディゾルバー、ケディーミル等、公
知の乳化装置を用いることができる。乳化後は、カプセ
ル壁形成反応を促進させるために乳化物を３０〜７０℃
に加温することが行われる。また反応中はカプセル同士
の凝集を防止するために、加水してカプセル同士の衝突
確率を下げたり、充分な攪拌を行う等の必要がある。

【０１２３】また、反応中に改めて凝集防止用の分散物
を添加してもよい。重合反応の進行に伴って炭酸ガスの
発生が観測され、その終息をもっておよそのカプセル壁
形成反応の終点とみなすことができる。通常、数時間反
応させることにより、目的のジアゾニウム塩化合物内包
マイクロカプセルを得ることができる。

【０１２４】（その他の成分）本発明においては、ジア
ゾニウム塩化合物とカプラーとのカップリング反応を促
進する目的で有機塩基を加えることもできる。これらの
有機塩基は、単独で用いても２種以上併用してもよい。
塩基性物質としては、第３級アミン類、ピペリジン類、
ピペラジン類、アミジン類、ホルムアミジン類、ピリジ
ン類、グアニジン類、モルホリン類等の含窒素化合物が
挙げられる。特公昭５２−４６８０６号公報、特開昭６
２−７００８２号公報、特開昭５７−１６９７４５号公
報、特開昭６０−９４３８１号公報、特開昭５７−１２
３０８６号公報、特開昭５８−１３４７９０１号公報、
特開昭６０−４９９９１号公報、特公平２−２４９１６
号公報、特公平２−２８４７９号公報、特開昭６０−１
６５２８８号公報、特開昭５７−１８５４３０号公報、
特願平１１−５０５９４明細書に記載のものを使用でき
る。

【０１２５】これらの中でも、特に、Ｎ，Ｎ′−ビス
（３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル）ピペラジ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（ｐ−メチルフェノキシ）−
２−ヒドロキシプロピル〕ピペラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス
〔３−（ｐ−メトキシフェノキシ）−２−ヒドロキシプ
ロピル〕ピペラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−フェニルチ
オ−２−ヒドロキシプロピル）ピペラジン、Ｎ，Ｎ′−
ビス〔３−（β−ナフトキシ）−２−ヒドロキシプロピ
ル〕ピペラジン、Ｎ−３−（β−ナフトキシ）−２−ヒ
ドロキシプロピル−Ｎ′−メチルピペラジン、１，４−
ビス｛〔３−（Ｎ−メチルピペラジノ）−２−ヒドロキ
シ〕プロピルオキシ｝ベンゼン等のピペラジン類、Ｎ−
〔３−（β−ナフトキシ）−２−ヒドロキシ〕プロピル
モルホリン、１，４−ビス（３−モルホリノ−２−ヒド
ロキシ−プロピルオキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３
−モルホリノ−２−ヒドロキシ−プロピルオキシ）ベン
ゼン等のモルホリン類、Ｎ−（３−フェノキシ−２−ヒ
ドロキシプロピル）ピペリジン、Ｎ−ドデシルピペリジ
ン等のピペリジン類、トリフェニルグアニジン、トリシ
クロヘキシルグアニジン、ジシクロヘキシルフェニルグ
アニジン等のグアニジン類等が好ましい。

【０１２６】本発明においては、ジアゾニウム塩化合物
１重量部に対するカプラー及び塩基性物質の使用量は、
それぞれ０．１〜３０重量部であることが好ましい。

【０１２７】本発明においては、上記した有機塩基の他
にも、発色反応を促進させる目的で発色助剤を加えるこ
とができる。発色助剤とは、加熱記録時の発色濃度を高
くする、もしくは最低発色温度を低くする物質であり、
カプラー、塩基性物質、もしくはジアゾニウム塩化合物
等の融解点を下げたり、カプセル壁の軟化点を低下せし
める作用により、ジアゾニウム塩化合物、塩基性物質、
カプラー等が反応しやすい状況を作るためのものであ
る。

【０１２８】本発明に用いられる発色助剤として、例え
ば、低エネルギーで迅速かつ完全に熱印画が行われるよ
うに、感熱記録層中にフェノール誘導体、ナフトール誘
導体、アルコキシ置換ベンゼン類、アルコキシ置換ナフ
タレン類、芳香族エーテル、チオエーテル、エステル、
アミド、ウレイド、ウレタン、スルホンアミド化合物ヒ
ドロキシ化合物等を加えることができる。

【０１２９】本発明において、前記一般式（１）におけ
るＬが、水素原子以外の置換基であり、ジアゾニウム塩
化合物とカップリングした際に離脱可能な置換基を表す
場合、還元剤や水素供与体を併用することが好ましい。
前記還元剤や水素供与体としては、一般的なものを使用
することができるが、なかでも以下の化合物が好ましく
挙げられる。

【０１３０】

【化２４】

【０１３１】本発明の感熱記録材料においては、熱発色
画像の光及び熱に対する堅牢性を向上させ、又は、定着
後の未印字部分の光による黄変を軽減する目的で、以下
に示す公知の酸化防止剤等を用いることが好ましい。上
記の酸化防止剤については、例えば、ヨーロッパ公開特
許、同第２２３７３９号公報、同３０９４０１号公報、
同第３０９４０２号公報、同第３１０５５１号公報、同
第３１０５５２号公報、同第４５９４１６号公報、ドイ
ツ公開特許第３４３５４４３号公報、特開昭５４−４８
５３５号公報、同６２−２６２０４７号公報、同６３−
１１３５３６号公報、同６３−１６３３５１号公報、特
開平２−２６２６５４号公報、特開平２−７１２６２号
公報、特開平３−１２１４４９号公報、特開平５−６１
１６６号公報、特開平５−１１９４４９号公報、アメリ
カ特許第４８１４２６２号、アメリカ特許第４９８０２
７５号等に記載されている。

【０１３２】更に、本発明においては、感熱記録材料や
感圧記録材料において既に用いられている公知の各種添
加剤を用いることも有効である。これらの各種添加剤の
具体例としては、特開昭６０−１０７３８４号公報、同
６０−１０７３８３号公報、同６０−１２５４７０号公
報、同６０−１２５４７１号公報、同６０−１２５４７
２号公報、同６０−２８７４８５号公報、同６０−２８
７４８６号公報、同６０−２８７４８７号公報、同６０
−２８７４８８号公報、同６１−１６０２８７号公報、
同６１−１８５４８３号公報、同６１−２１１０７９号
公報、同６２−１４６６７８号公報、同６２−１４６６
８０号公報、同６２−１４６６７９号公報、同６２−２
８２８８５号公報、同６３−０５１１７４号公報、同６
３−８９８７７号公報、同６３−８８３８０号公報、同
６３−０８８３８１号公報、同６３−２０３３７２号公
報、同６３−２２４９８９号公報、同６３−２５１２８
２号公報、同６３−２６７５９４号公報、同６３−１８
２４８４号公報、特開平１−２３９２８２号公報、同４
−２９１６８５号公報、同４−２９１６８４号公報、同
５−１８８６８７号公報、同５−１８８６８６号公報、
同５−１１０４９０号公報、同５−１１０８４３７号公
報、同５−１７０３６１号公報、特公昭４８−０４３２
９４号公報、同４８−０３３２１２号公報等に記載され
ている化合物が挙げられる。

【０１３３】具体的には、６−エトキシ−１−フェニル
−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリ
ン、６−エトキシ−１−オクチル−２，２，４−トリメ
チル−１，２−ジヒドロキノリン、６−エトキシ−１−
フェニル−２，２，４−トリメチル−１，２，３，４−
テトラヒドロキノリン、６−エトキシ−１−オクチル−
２，２，４−トリメチル−１，２，３，４−テトラヒド
ロキノリン、シクロヘキサン酸ニッケル、２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−２−エチルヘキサン、２
−メチル−４−メトキシ−ジフェニルアミン、１−メチ
ル−２−フェニルインドール等が挙げられる。

【０１３４】これらの酸化防止剤及び各種添加剤の添加
量は、ジアゾニウム塩化合物１重量部に対して０．０５
〜１００重量部の割合であることが好ましく、特に０．
２〜３０重量部であることが好ましい。このような公知
の酸化防止剤及び各種添加剤は、ジアゾニウム塩化合物
と共にマイクロカプセル中に含有させて用いることも、
あるいはカプラーや塩基性物質、その他の発色助剤と共
に、固体分散物として、もしくは適当な乳化助剤と共に
乳化物にして用いることも、あるいはその両方の形態で
用いることもできる。また酸化防止剤及び各種添加剤を
単独又は複数併用することができるのは勿論である。ま
た、保護層に添加又は存在させることもできる。

【０１３５】これらの酸化防止剤及び各種添加剤は同一
層に添加しなくてもよい。更に、これらの酸化防止剤及
び各種添加剤を組み合わせて複数用いる場合には、アニ
リン類、アルコキシベンゼン類、ヒンダードフェノール
類、ヒンダードアミン類、ハイドロキノン誘導体、りん
化合物、硫黄化合物のように構造的に分類し、互いに異
なる構造のものを組み合わせてもよいし、同一のものを
複数組み合わせることもできる。

【０１３６】本発明の感熱記録材料には、記録後の地肌
部の黄着色を軽減する目的で、光重合性組成物等に用い
られる遊離基発生剤（光照射により遊離基を発生する化
合物）を加えることができる。遊離基発生剤としては、
芳香族ケトン類、キノン類、ベンゾイン、ベンゾインエ
ーテル類、アゾ化合物、有機ジスルフィド類、アシルオ
キシムエステル類等が挙げられる。添加する量は、ジア
ゾニウム塩化合物１重量部に対して、遊離基発生剤０．
０１〜５重量部が好ましい。

【０１３７】また同様に黄着色を軽減する目的で、エチ
レン性不飽和結合を有する重合可能な化合物（以下、
「ビニルモノマー」と呼ぶ）を用いることができる。ビ
ニルモノマーとは、その化学構造中に少なくとも１個の
エチレン性不飽和結合（ビニル基、ビニリデン基等）を
有する化合物であって、モノマーやプレポリマーの化学
形態を持つものである。これらの例として、不飽和カル
ボン酸及びその塩、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アル
コールとのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価ア
ミン化合物とのアミド等が挙げられる。ビニルモノマー
はジアゾニウム塩化合物１重量部に対して０．２〜２０
重量部の割合で用いる。前記遊離基発生剤やビニルモノ
マーは、ジアゾニウム塩化合物と共にマイクロカプセル
中に含有して用いることもできる。

【０１３８】本発明では、以上の素材の他に酸安定剤と
してクエン酸、酒石酸、シュウ酸、ホウ酸、リン酸、ピ
ロリン酸等を添加することができる。

【０１３９】本発明の感熱記録材料は、ジアゾニウム塩
化合物を含有したマイクロカプセル、カプラー、及び有
機塩基、その他の添加物を含有した塗布液を調製し、紙
や合成樹脂フィルム等の支持体の上にバー塗布、ブレー
ド塗布、エアナイフ塗布、グラビア塗布、ロールコーテ
ィング塗布、スプレー塗布、ディップ塗布、カーテン塗
布等の塗布方法により塗布乾燥して、固形分２．５〜３
０ｇ／ｍ²の感熱記録層を設けることが好ましい。本発
明の感熱記録材料においては、マイクロカプセル、カッ
プリング成分、塩基等が同一層に含まれていてもよい
が、別層に含まれるような積層型の構成をとることもで
きる。また、支持体の上に特願昭５９−１７７６６９号
明細書等に記載されているような中間層を設けた後、感
熱記録層を形成することもできる。

【０１４０】本発明の感熱記録材料において使用される
バインダーとしては、公知の水溶性高分子化合物やラテ
ックス類等を使用することができる。水溶性高分子化合
物としては、メチルセルロース、カルボキシメチルセル
ロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロ
ピルセルロース、デンプン誘導体、カゼイン、アラビア
ゴム、ゼラチン、エチレン−無水マレイン酸共重合体、
スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコ
ール、エピクロルヒドリン変成ポリアミド、イソブチレ
ン−無水マレインサリチル酸共重合体、ポリアクリル
酸、ポリアクリル酸アミド等及びこれらの変成物等が挙
げられ、ラテックス類としては、スチレン−ブタジエン
ゴムラテックス、アクリル酸メチル−ブタジエンゴムラ
テックス、酢酸ビニルエマルジョン等が挙げられる。

【０１４１】本発明の感熱記録材料に使用できる顔料と
しては、有機、無機を問わず公知のものを使用すること
ができる。具体的には、カオリン、焼成カオリン、タル
ク、ロウ石、ケイソウ土、炭酸カルシウム、水酸化アル
ミニウム、水酸化マグネシウム、酸化亜鉛、リトポン、
非晶質シリカ、コロイダルシリカ、焼成石コウ、シリ
カ、炭酸マグネシウム、酸化チタン、アルミナ、炭酸バ
リウム、硫酸バリウム、マイカ、マイクロバルーン、尿
素−ホルマリンフィラー、ポリエステルパーティクル、
セルロースフィラー等が挙げられる。

【０１４２】本発明の感熱記録材料においてはその必要
に応じて、公知のワックス、帯電防止剤、消泡剤、導電
剤、蛍光染料、界面活性剤、紫外線吸収剤及びその前駆
体等各種添加剤を使用することができる。

【０１４３】［その他の層］ （保護層）本発明の感熱記録材料には、必要に応じて感
熱記録層の表面に保護層を設けてもよい。保護層は必要
に応じて二層以上積層してもよい。保護層に用いる材料
としては、ポリビニルアルコール、カルボキシ変成ポリ
ビニルアルコール、酢酸ビニル−アクリルアミド共重合
体、珪素変性ポリビニルアルコール、澱粉、変性澱粉、
メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒド
ロキシメチルセルロース、ゼラチン類、アラビアゴム、
カゼイン、スチレン−マレイン酸共重合体加水分解物、
スチレン−マレイン酸共重合物ハーフエステル加水分解
物、イソブチレン−無水マレイン酸共重合体加水分解
物、ポリアクリルアミド誘導体、ポリビニルピロリド
ン、ポリスチレンスルホン酸ソーダ、アルギン酸ソーダ
等の水溶性高分子化合物、及びスチレン−ブタジエンゴ
ムラテックス、アクリロニトリル−ブタジエンゴムラテ
ックス、アクリル酸メチル−ブタジエンゴムラテック
ス、酢酸ビニルエマルジョン等のラテックス類が挙げら
れる。

【０１４４】保護層の水溶性高分子化合物を架橋して、
より一層保存安定性を向上させることもでき、その架橋
剤としては公知の架橋剤を使用することができる。具体
的には、Ｎ−メチロール尿素、Ｎ−メチロールメラミ
ン、尿素−ホルマリン等の水溶性初期縮合物、グリオキ
ザール、グルタルアルデヒド等のジアルデヒド化合物
類、硼酸、硼砂等の無機系架橋剤、ポリアミドエピクロ
ルヒドリン等が挙げられる。保護層には、更に公知の顔
料、金属石鹸、ワックス、界面活性剤等を使用すること
もできる。保護層の塗布量は０．２〜５ｇ／ｍ²が好ま
しく、更には０．５〜２ｇ／ｍ²が好ましい。またその
層厚は０．２〜５μｍが好ましく、特に０．５〜２μｍ
が好ましい。本発明の感熱記録材料に保護層を設ける場
合、保護層中に公知の紫外線吸収剤やその前駆体を含有
してもよい。

【０１４５】［支持体］本発明における支持体として
は、通常の感圧紙や感熱紙、乾式や湿式のジアゾ複写紙
等に用いられる紙支持体はいずれも使用することができ
る他、酸性紙、中性紙、コート紙、プラスチックフィル
ムラミネート紙、合成紙、プラスチックフィルム等を使
用することができる。支持体のカールバランスを補正す
るため或いは、裏面からの耐薬品性を向上させる目的
で、バックコート層を設けてもよく、また裏面に接着剤
層を介して剥離紙を組み合わせてラベルの形態にしても
よい。このバックコート層についても上記保護層と同様
にして設けることができる。

【０１４６】本発明の感熱記録材料の記録面にサーマル
ヘッド等で加熱すると、ポリウレア及び／又はポリウレ
タンのカプセル壁が軟化し、カプセル外のカプラーと塩
基化合物がカプセル内に進入して発色する。発色後はジ
アゾニウム塩化合物の吸収波長の光を照射することによ
り、ジアゾニウム塩化合物が分解しカプラーとの反応性
を失うため画像の定着が行われる。

【０１４７】定着光源としては、種々の蛍光灯、キセノ
ンランプ、水銀灯等が用いられ、この発光スペクトルが
感熱記録材料で用いたジアゾニウム塩化合物の吸収スペ
クトルにほぼ一致していることが効率よく定着でき好ま
しい。本発明においては、発光中心波長が３６０〜４４
０ｎｍの定着光源が特に好ましい。

【０１４８】本発明では、光分解波長が異なる光分解性
ジアゾニウム塩化合物を別層に用いることにより多色記
録材料とすることもできる。本発明の感熱記録材料を多
層多色感熱記録材料とした場合には、感熱記録層相互の
混色を防ぐため、中間層を設けることもできる。この中
間層はゼラチン、フタル化ゼラチン、ポリビニルアルコ
ール、ポリビニルピロリドン等の水溶性高分子化合物か
らなり、適宜各種添加剤を含んでいてもよい。

【０１４９】

【実施例】以下、本発明を実施例によって更に詳述する
が、本発明はこれらによって制限されるものではない。
尚、特に断りのない限り、「部」は『重量部』を意味す
る。

【０１５０】（実施例１） ［ジアゾニウム塩含有マイクロカプセル液Ａの調製］酢
酸エチル１９部に上記に示したジアゾニウム塩化合物
（Ａ−４６）２．８部、トリクレジルホスフェート１０
部を添加して均一に混合した。次いでこの混合液に壁材
としてタケネートＤ１１０Ｎ（武田薬品工業製）７．６
部を加え混合しＩ液を得た。次に、フタル化ゼラチンの
８％水溶液４６部、水１７．５部、ドデシルベンゼンス
ルホン酸ソーダの１０％水溶液２部の混合液に上記Ｉ液
を添加し、ホモジナイザーを使用して４０℃、１０００
０ｒｐｍで１０分間乳化分散した。得られた乳化物に水
２０部を加えて均一化した後、攪拌しながら４０℃で３
時間カプセル化反応を行い、マイクロカプセル液Ａを得
た。マイクロカプセルの粒径は０．７〜０．８μｍであ
った。

【０１５１】［カプラー乳化液Ｂの調製］酢酸エチル１
０．５部に上記に示したカプラー（Ｋ−８）３部、トリ
フェニルグアニジン３部、トリクレジルホスフェート
０．５部、マレイン酸ジエチル０．２４部を溶解しII液
を得た。次に、石灰処理ゼラチンの１５％水溶液４９
部、ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダの１０％水溶液
９．５部、水３５部を４０℃で均一に混合した中に上記
II液を添加し、ホモジナイザーを使用して４０℃、１０
０００ｒｐｍで１０分間乳化分散した。得られた乳化物
を４０℃で２時間攪拌して酢酸エチルを除去後、蒸発し
た酢酸エチルと水の量を加水により補い、カプラー乳化
液Ｂを得た。

【０１５２】［感熱記録層塗布液Ｃの調製］マイクロカ
プセル液Ａ３．６部、水３．３部、カプラー乳化液Ｂ
９．５部を混合し、感熱記録層塗布液Ｃを得た。

【０１５３】［保護層塗布液Ｄの調製］イタコン酸変性
ポリビニルアルコール（ＫＬ−３１８；商品名、クラレ
株式会社製）６％水溶液１００部とエポキシ変性ポリア
ミド（ＦＬ−７１；商品名、東邦化学株式会社製）３０
％の分散液１０部とを混合した液に、ステアリン酸亜鉛
４０％の分散液（ハイドリンＺ；商品名、中京油脂株式
会社製）１５部を均一に混合し保護層塗布液Ｄを得た。

【０１５４】［塗布］上質紙にポリエチレンをラミネー
トした印画紙用支持体上に、ワイヤーバーで感熱記録層
塗布液Ｃ、保護層塗布液Ｄの順に順次塗布と５０℃での
乾燥を行い、目的の感熱記録材料を得た。固形分として
の塗布量は、各々８．０ｇ／ｍ²、１．２ｇ／ｍ²であっ
た。

【０１５５】＜発色試験＞京セラ株式会社製サーマルヘ
ッド（ＫＳＴ型）を用い、単位面積あたりの記録エネル
ギーが５０ｍＪ／ｍｍ²となるように、サーマルヘッド
に対する印画電力及びパルス幅を決め、感熱記録材料に
熱印画し画像を得た。次いで、発光中心波長４２０ｎ
ｍ、出力４０Ｗの紫外線ランプ下に１０秒間曝した。得
られた発色画像から、可視域における吸収極大波長と半
値幅（吸収極大の吸収度を１．０と規格化した時の吸光
度０．５での吸収波長域の値）を測定した。

【０１５６】＜画像耐光性の試験＞京セラ株式会社製サ
ーマルヘッド（ＫＳＴ型）を用いて発色させた画像部を
蛍光灯耐光性試験機を用い、３００００ルックスで８時
間連続で光照射した後、画像部の濃度残存率（％）を測
定した。光照射後の画像部の濃度残存率（％）が高い方
が、画像耐光性に優れている。

【０１５７】（実施例２）実施例１において、カプラー
（Ｋ−８）の代わりにカプラー（Ｋ−１２）を用いた以
外は、実施例１と同様にして感熱記録材料を作製し、同
様の評価を行った。

【０１５８】（実施例３）実施例１において、カプラー
（Ｋ−８）の代わりにカプラー（Ｋ−２１）を用いた以
外は、実施例１と同様にして感熱記録材料を作製し、同
様の評価を行った。

【０１５９】（実施例４）実施例１において、カプラー
（Ｋ−８）の代わりにカプラー（Ｋ−２５）を用いた以
外は、実施例１と同様にして感熱記録材料を作製し、同
様の評価を行った。

【０１６０】（実施例５）実施例１において、カプラー
（Ｋ−８）の代わりにカプラー（Ｋ−３２）を用いた以
外は、実施例１と同様にして感熱記録材料を作製し、同
様の評価を行った。

【０１６１】（実施例６）実施例１において、カプラー
（Ｋ−８）の代わりにカプラー（Ｋ−１２）を用い、ジ
アゾニウム塩化合物（Ａ−４６）の代わりにジアゾニウ
ム塩化合物（Ａ−４８）を用いた以外は、実施例１と同
様にして感熱記録材料を作製し、同様の評価を行った。

【０１６２】（実施例７）実施例１において、［カプラ
ー乳化液Ｂの調製］を以下のように変更した以外は、実
施例１と同様にして感熱記録材料を作製し、同様の評価
を行った。 ［カプラー乳化液Ｂの調製］酢酸エチル１０．５部に、
上記に示したカプラー（Ｋ−４７）３部、トリフェニル
グアニジン３部、上記に示した還元剤であるフェノール
化合物（Ｒ−１）２部、トリクレジルホスフェート０．
７５部を溶解しII液を得た。次に、石灰処理ゼラチンの
１５％水溶液４９部、ドデシルベンゼンスルホン酸ソー
ダの１０％水溶液９．５部、水３５部を４０℃で均一に
混合した中に上記II液を添加し、ホモジナイザーを使用
して４０℃、１００００ｒｐｍで１０分間乳化分散し
た。得られた乳化物を４０℃で２時間攪拌して酢酸エチ
ルを除去後、蒸発した酢酸エチルと水の量を加水により
補い、カプラー乳化液Ｂを得た。

【０１６３】（実施例８）実施例７において、カプラー
（Ｋ−４７）の代わりにカプラー（Ｋ−６１）を用いた
以外は、実施例７と同様にして感熱記録材料を作製し、
同様の評価を行った。

【０１６４】（比較例１）実施例１において、カプラー
（Ｋ−８）の代わりに下記構造式で表されるカプラー
（化合物（Ｂ））を用いた以外は、実施例１と同様にし
て感熱記録材料を作製し、同様の評価を行った。

【０１６５】

【化２５】

【０１６６】（比較例２）実施例１において、カプラー
（Ｋ−８）の代わりに下記構造式で表されるカプラー
（化合物（Ｃ））を用いた以外は、実施例１と同様にし
て感熱記録材料を作製し、同様の評価を行った。

【０１６７】

【化２６】

【０１６８】実施例１〜８及び比較例１、２の結果を下
記表に示す。

【０１６９】

【表１３】

【０１７０】上記表の結果より、本発明の感熱記録材料
は、極めてシャープな吸収特性を有する発色画像が得ら
れることがわかる。また、蛍光灯での光照射の後も、画
像部の濃度低下の割合が少なく、画像耐光性に優れてい
ることがわかる。

【０１７１】

【発明の効果】本発明によれば、４２０ｎｍ前後の波長
で定着が可能なジアゾニウム塩化合物を用いて、色相の
良好なマゼンタ色素を与え、かつ、画像耐光性に優れた
新規な赤〜マゼンタ〜紫発色型のジアゾ感熱記録材料を
提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤田 明徳 静岡県富士宮市大中里200番地 富士写真 フイルム株式会社内 (72)発明者 松下 哲規 静岡県富士宮市大中里200番地 富士写真 フイルム株式会社内 (72)発明者 池田 貴美 静岡県富士宮市大中里200番地 富士写真 フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 2H026 AA07 AA14 AA28 BB42 BB43 FF05 FF08

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に、ジアゾニウム塩化合物と、
   該ジアゾニウム塩化合物と熱時反応して発色するカプラ
   ーとを含有する感熱記録層を設けた感熱記録材料におい
   て、該カプラーとして、下記一般式（１）で表される化
   合物を少なくとも１種含有することを特徴とする感熱記
   録材料。 【化１】 （一般式（１）中、Ｒ¹は、水素原子、アリール基、ア
   ルキル基、ヘテロ環基、アシル基、カルバモイル基、ア
   ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
   スルファモイル基、アルキルスルホニル基、又はアリー
   ルスルホニル基を表す。Ｒ²は、水素原子、アリール
   基、アルキル基、ヘテロ環基、アシル基、カルバモイル
   基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
   ル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリ
   ールスルホニル基、アシルオキシ基、アルコキシ基、ア
   リールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ア
   ミノ基、又は−ＯＨを表す。Ｒ³は、−ＮＨＲ⁴又は−Ｃ
   Ｈ（Ｒ⁵）（Ｒ⁶）を表す。Ｒ⁴は、水素原子、アリール
   基、アルキル基、ヘテロ環基、アシル基、カルバモイル
   基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
   ル基、スルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリ
   ールスルホニル基、−ＣＮ、アルキルホスホリル基、又
   はアリールホスホリル基を表す。Ｒ⁵及びＲ⁶の一方は、
   Ｈａｍｍｅｔの置換基定数σ_pが０．３〜１．５の置換
   基を表し、Ｒ⁵及びＲ⁶の他方は、水素原子、アリール
   基、ヘテロ環基、又はＨａｍｍｅｔの置換基定数σ_pが
   ０．３〜１．５の置換基を表す。Ｌは、水素原子、又は
   ジアゾニウム塩化合物とカップリングした際に離脱可能
   な置換基を表す。）
2. 【請求項２】 前記一般式（１）におけるＲ¹が、水素
   原子を表す請求項１に記載の感熱記録材料。
3. 【請求項３】 前記一般式（１）におけるＲ³が、−Ｃ
   Ｈ（Ｒ⁵）（Ｒ⁶）を表す請求項１又は２に記載の感熱記
   録材料。
4. 【請求項４】 前記ジアゾニウム塩化合物が、下記一般
   式（２）で表される化合物である請求項１から３のいず
   れかに記載の感熱記録材料。 【化２】 （一般式（２）中、Ｒ¹¹は、アルキルスルフェニル基、
   アリールスルフェニル基、アルキルスルフィニル基、ア
   リールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリー
   ルスルホニル基、スルファモイル基、アルコキシカルボ
   ニル基、カルバモイル基、カルボキシル基、アシル基又
   はシアノ基を表す。Ｒ¹³及びＲ¹⁴は、各々独立に、水素
   原子、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ¹²、Ｒ¹⁵及
   びＲ¹⁶は、各々独立に、水素原子、アリール基、アルキ
   ル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を表す。Ｘ^-は陰
   イオンを表す。Ｒ¹³とＲ¹⁴、Ｒ¹²とＲ¹³、及びＲ¹⁴とＲ
   ¹⁵は、互いに結合して環を形成していてもよい。）
5. 【請求項５】 前記ジアゾニウム塩化合物が、下記一般
   式（３）で表される化合物である請求項１から３のいず
   れかに記載の感熱記録材料。 【化３】 （一般式（３）中、Ｒ¹¹は、アルキルスルフェニル基、
   アリールスルフェニル基、アルキルスルフィニル基、ア
   リールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリー
   ルスルホニル基、スルファモイル基、アルコキシカルボ
   ニル基、カルバモイル基、アシル基又はシアノ基を表
   す。Ｒ¹³及びＲ¹⁴は、各々独立に、水素原子、アルキル
   基又はアリール基を表す。Ｘ^-は陰イオンを表す。Ｒ¹³
   とＲ¹⁴は、互いに結合して環を形成していてもよい。）
6. 【請求項６】 前記ジアゾニウム塩化合物が、下記一般
   式（４）で表される化合物である請求項１から３のいず
   れかに記載の感熱記録材料。 【化４】 （一般式（４）中、Ａｒはアリール基を表す。Ｒ¹⁷及び
   Ｒ¹⁸は、各々独立に、アルキル基又はアリール基を表
   す。Ｘ^-は、酸アニオンを表す。）