JP2001198468A - 酢酸合成触媒 - Google Patents
酢酸合成触媒Info
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- Catalysts (AREA)
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Abstract
るのに十分な触媒物性と高活性の酢酸合成触媒を提供す
る。 【解決手段】 パラジウム成分と、酸をアルミ及びマグ
ネシウムを含有するシリカ系組成物の担体に担持し、該
担体の外表面から中心方向に0μmより大きく80μm
未満の範囲にパラジウム成分が担持された層を有するこ
とを特徴とする酢酸合成触媒。
Description
水から酢酸を製造する際に用いる触媒に関するものであ
る。
ーテルと一酸化炭素から貴金属とハロゲン等を用いた液
相反応を、高温、高圧で行う反応が古くから行われ、近
年でも特開平11−23268号に製造方法が報告され
ている。一方、気相反応で、エチレン、酸素、及び水か
ら酢酸を一段で製造する方法が、プロセスの工程が簡単
であること等から経済的に優れるということを記述した
特開平6−293695号、特開平7−89896号が
報告されている。これらは耐食性を有する反応管に触媒
を充填した固定床反応器を採用した気相反応であり、触
媒構造の実施形態は、圧力損失を考慮して数mm径の担
体にパラジウムおよびヘテロポリ酸を担持したものが開
示してある。
の製造を流動床反応器で行うことができれば経済的によ
り有利である。即ち、流動床反応器の設計が多管式の固
定床反応器よりも簡単であり、固定床反応器では避けら
れないホットスポットに基づく失活が生じないため触媒
寿命の向上が期待されるためである。また、触媒の補充
が連続的に行うことができることから、触媒交換を実質
的に排除できる。さらに、相当高い酸素レベルでも、可
燃性混合物の生成なしに反応器中へ安全に供給すること
が可能であり高い生産速度が可能である。その一方で、
流動床反応器の反応に用いる触媒は、その粒子が壁面や
粒子同士で接触することから機械的な摩耗性強度など固
定床反応器では求められなかった触媒物性が必要とされ
るため、現在、活性が高く、且つ十分な触媒物性を備え
た酢酸合成のための触媒は存在しない。
反応器に用いることが可能で、しかも経済的な酢酸を製
造するための触媒は存在していない。
は、流動床反応器で使用可能なパラジウム成分と酸を含
有し、酢酸の製造に有用な酢酸合成触媒の提供にある。
結果本願発明者らは以下の発明を完成した。 1,パラジウム成分と、酸を担体に担持し、該担体の粒
子径が200μm未満、嵩密度が0.7〜1.5g/m
lの範囲の粒子であり、該担体がアルミおよびマグネシ
ウムを含有するシリカ系組成物であって、アルミをAl
2O3として5〜30重量%、マグネシウムをMgOとし
て3〜30重量%、ケイ素をSiO2として40〜92
重量%の範囲で含み、かつ、アルミに対するマグネシウ
ムの原子比(マグネシウム/アルミ)が1/2より大き
く、該担体の外表面から中心方向に0μmより大きく8
0μm未満の範囲にパラジウム成分が担持された層を有
することを特徴とする酢酸合成触媒。 2,当該パラジウム成分がパラジウム金属間化合物であ
ることを特徴とする1記載の酢酸合成触媒。 3,当該パラジウム金属間化合物がパラジウムとX(X
=鉛、ビスマス、タリウム、水銀、テルル)との金属間
化合物であることを特徴とする2記載の酢酸合成触媒。 4,1〜3のいずれかに記載の酢酸合成触媒を用いた流
動床反応器で、エチレンと、酸素および水から酢酸を製
造する方法に関する。
明に用いる担体について説明する。本発明の担体の粒子
寸法(粒径)は200μm未満である。好ましくは、1
50μm未満、さらに好ましくは100μm未満であ
る。また、粒径の下限の範囲は、粒子の強度、反応性か
らは制限は無いが、粒子が小さいと沈降性が悪く沈降分
離等の簡単で安価なプロセスを使えず、フィルター等の
設備が必要になるなど触媒の分離面からの制約があり好
ましくは10μm以上、さらに好ましくは20μm以上
である。尚、一般的な、サイクロンと呼ばれる分離方法
の場合には平均粒子径が約60μmで20〜100μm
の範囲の粒子が反応性及び分離の両者を満足することか
ら選ばれる。
l/gの範囲のものが選ばれる。嵩密度は0.7ml/
g以下のものでは、強度が低く割れ、欠けの原因となる
ため好ましくない。一方嵩密度が高いことは強度の面か
らは好ましいが1.5ml/g以上の粒子は一般的に多
孔性が低下し、パラジウムの担持性能および反応特性が
低下する傾向が見られることから好ましくない。より好
ましくは嵩密度0.8〜1.3ml/gの範囲の粒子が
強度、多孔性から選ばれる。
シウムを含有するシリカ系組成物(以下、シリカーアル
ミナーマグネシア担体と称する)は、アルミをAl2O3
として5〜30重量%、マグネシウムをMgOとして3
〜30重量%、ケイ素をSiO2として40〜92重量
%の範囲で含み、シリカ−アルミナ結合による電荷バラ
ンスを補償するためのマグネシウムカチオンの量は4価
のシリカと3価のアルミナとの結合であることを考慮す
ると、原子比でアルミの1/2のマグネシウムで可能で
あり、さらに塩基性を発現するためにはアルミに対する
マグネシウムの原子比(マグネシウム/アルミ)が1/
2より大きいことが好ましい。
リカーアルミナ結合によって、比較的強度が高いとされ
るシリカゲルよりも高い摩耗強度の付与と、耐水性を付
与する。さらに塩基性マグネシウムはパラジウムをほぼ
量論反応によって担体に沈着させる機能を含むことか
ら、担体に含有される塩基性マグネシウム量を決定すれ
ばパラジウム量も決定することができる。先記した仕込
み割合において、アルミが5重量%以下ではシリカゲル
の改質効果が小さく、30重量%以上では効果がやや低
下する傾向にある。より好ましくは、アルミが5〜20
重量%である。
ナ結合によって生じる電荷を中性にするための量、及び
塩基成分としての量を確保することが重要である。した
がって、アルミの量、パラジウム担持量等によって最適
な範囲は変化するが一般的に3重量%以下ではパラジウ
ム担持特性が低下し、30重量%以上では、強度の低下
傾向が見られるから好ましくない。次に本発明の担体に
担持されるパラジウム成分について説明する。
粒子外表面に存在しない層の厚みが厚い程、すなわち担
体内部にパラジウム成分が存在する程摩耗によるパラジ
ウム剥離が少ないことが予測される。しかし、担体内部
にパラジウム成分が存在する程、逆に反応基質の細孔内
拡散の抵抗が大きくなり反応速度が低下する。すなわ
ち、パラジウム成分が担体内部に分布する位置は摩耗性
と反応速度から最適な分布位置が選定される。
分が存在しない範囲は、担体の外表面から深さ方向に1
0μm以内、好ましくは5μm以内、さらに好ましくは
2μmである(以下A層と称する)。そして、パラジウ
ム成分の存在する範囲(以下B層と称する)は先記A層
を含めて担体の外表面から80μm以内、好ましくは5
0μm以内、さらに好ましくは30μm以内、より好ま
しくは20μm以内である。パラジウム成分は、一酸化
炭素から求めた担体中のパラジウム金属の比表面積が3
00m2/Pdgより大きい値は反応面からは好ましい
が、調製上の難しさが増大すること、また凝集による粒
子成長が早くなりやく、40m2/Pdg以下では活性
が低くなるために、40〜300m2/Pdgの範囲が
選ばれる。
を添加することを特徴としている。酸としては、リン
酸、硫酸、ヘテロポリ酸類などが挙げられる。ヘテロポ
リ酸類は数多くの構造異性体や組み合わせのものが知ら
れており、例えばケギン構造の12モリブドリン酸、1
2タングストリン酸、12モリブドケイ酸、12タング
ストケイ酸、ドウソン構造の18モリブド二リン酸、1
8タングスト二リン酸、その他としてホウモリブデン
酸、ホウタングステン酸あるいはモリブデンやタングス
テンの一部他の金属(Fe、Re等)に置換した構造の
ものを用いることができる。また、ヘテロポリ酸の中で
も触媒寿命などの安定性等から特にケギン構造の12−
モリブドリン酸、12タングストリン酸、12タングス
トケイ酸、ドウソン構造の、18タングスト二リン酸類
が好ましく、さらに好ましくは、熱的にも安定な18タ
ングスト二リン酸である。また、ヘテロポリ酸の一部が
塩のものも用いることができる。中でもナトリウム、カ
リウム、セシウム、マグネシウム、バリウム、タリウム
の塩が好ましい。
よっても異なるが、担体重量に対して5〜100重量
%、好ましくは7〜80重量%の範囲内である。次に本
発明の担体であるシリカーアルミナーマグネシア担体の
合成について具体例を用いて示す。シリカ源としてシリ
カゾル溶液、アルコキシド類を用い、アルミ源としてア
ルミナゾル、硝酸アルミ、酢酸アルミを用い、マグネシ
ウム源として硝酸マグネシウム、酢酸マグネシウム等を
用いて混合する。この混合溶液を110〜280℃、好
ましくは130〜240℃で噴霧乾燥し、次いで噴霧乾
燥された粒子を好ましくは500〜700℃、好ましく
は600〜660℃の温度で焼成して担体を形成させる
ことにより製造される。この場合、焼成して得られる担
体の嵩密度が0.7〜1.5g/mlとなるようにスラ
リーの固形分濃度やスラリー粘度を調整する。あるいは
嵩密度の調整剤として上記焼成条件でガス状に分解する
無機化合物、有機物、ポリマー等を添加することもでき
る。
測定で、10〜700m2/gの物が使用されるが、好
適には20〜350m2/g、さらに好適には50〜3
00m2/gの物が使用される。比表面積が10m2/g
以下では、パラジウム成分を担持しにくく、または担持
しても剥離しやすいので好ましくない。また、得られる
触媒の反応活性も低い。触媒調製上からは、担体の比表
面積が大きいことは特に問題はない。しかしながら、比
表面積が大きい場合には機械的強度、および耐腐食性が
低下する傾向が見られる。このため、最も好ましくは比
表面積が50〜250m2/gの範囲から選ばれる。本
発明において、シリカーアルミナーマグネシアは触媒調
製の前段階および調製段階で上記比表面積となるように
好適な温度で焼成して使用することが好ましい。
触媒の製造について一般的な方法を以下に説明する。本
発明の方法は、予め塩基性マグネシウムを含有するシリ
カーアルミナーマグネシア担体の微粒子とパラジウム含
有溶液を反応させ、担体内部に固定する方法である。原
理に不明な点はあるが例えば塩化パラジウム含有溶液に
塩化アルミ溶液を共存させてシリカーアルミナーマグネ
シア担体と反応させると、パラジウム成分を担体の外表
面に担持させないことができる。そして加える塩化アル
ミの量を変化させることでパラジウム成分の存在しない
A層の厚みが制御できる。これはアルミがパラジウムよ
り担体中の塩基性マグネシウムと選択的に反応するため
と思われ、担体の外表面の塩基性マグネシウムから先に
アルミと反応して消費されるため、担体の内部表面に残
存する塩基性マグネシウムとパラジウムとが反応して担
体内部にパラジウム成分が固定されたB層ができるもの
と推定される。したがって、本発明の方法を用いると、
担体の塩基性マグネシウムの量、担持するパラジウムの
量、添加するアルミの量によって、粒子内のパラジウム
成分の分布が制御できることがわかる。
ジウムは、水酸化物として担体内部の細孔内部に沈積す
ると考えられる。水酸化パラジウムは溶解度が極めて低
いため塩基性マグネシウムとの反応で位置が固定される
と考えられる。最終的に、触媒として作用するパラジウ
ム金属に変換するには、還元剤をもちいて還元操作によ
ってパラジウム金属とする。パラジウム溶液が担体中の
塩基性マグネシウムと接触して反応する温度は、担持す
るパラジウムの量によっても異なるが、60℃以上の場
合にパラジウム成分の担体外表面から深さ方向への分布
巾が狭くなる。好ましくは80℃以上、さらに好ましく
は90℃以上である。100℃以上でも実施は可能であ
るが一般的に効果は90℃とあまり差がない。操作に安
全な温度である100℃までの温度で実施される。
パラジウムの重量割合は0.1〜5.0重量%、好まし
くは0.2〜4.0重量%、特に好ましくは0.3〜
2.0重量%である。本発明のパラジウム成分の担持に
用いられるパラジウム化合物は、水や有機溶媒などの溶
媒に溶解するパラジウム化合物であればよく、塩化パラ
ジウム、硝酸パラジウム、酢酸パラジウム、が挙げられ
るが溶解度が高く工業的に利用しやすい塩化パラジウム
が好ましい。また、本発明においては、パラジウム成分
がパラジウムと他の金属とからなるパラジウム金属間化
合物を形成させる場合であっても構わない。パラジウム
金属間化合物は具体的にはパラジウム−X(X=鉛、ビ
スマス、タリウム、水銀、テルル)であることが好まし
い。
は、例えばパラジウムと鉛とからなるパラジウム金属間
化合物(Pd−Pb)は、先記したように、担体粒子に
パラジウム溶液を含浸担持させた後、還元する前に酢酸
鉛や硝酸鉛のような水溶液に含浸させて鉛を添加し、そ
の後還元することでPd−Pbの金属間化合物を形成さ
せる。パラジウムと金属間化合物を形成する金属でも水
溶液として存在しにくいビスマスなどは有機溶剤を用い
ることも可能である。調製に有用な溶剤は具体的には、
水および以下のような揮発性有機溶剤をあげることがで
きる。4個もしくはそれ以下の炭素を有するカルボン
酸、アルコー ル、エーテル、エステルおよび芳香族物
質である。
ジウムと量論的な組み合わせによって規定される。例え
ば、Pd3Pb1、Pd3Tl1、Pd4Te1、Pd5H
g3、Pd5Bi2などを形成させる比率によって概ねの
値を決めることができる。触媒構造にとって、パラジウ
ム金属に比べ、触媒性能を変化させるばかりでなく、パ
ラジウム金属間化合物は酸化や還元によって結晶子の成
長がしにくいなど、反応条件で安定であり触媒寿命の面
からも好ましい。上記Xを添加するための概略のXの仕
込量としては、担体に対して0より大きく5.0重量%
以下、好ましくは0.1重量%以上4.0重量%以下、
特に好ましくは0.1重量%以上3.0重量%以下であ
る。
した酸を添加することを特徴としている。以下にその添
加方法について説明する。酸成分の添加は、例えばヘテ
ロポリ酸等の酸を水または有機溶媒に所定量を溶解させ
パラジウム成分を担持した担体に含浸させ、溶媒成分を
乾燥等によって除去する方法が好ましく、より好ましく
はパラジウム成分を担持した担体の細孔容積と等しいか
あるいはやや少な目の水または有機溶媒にヘテロポリ酸
等の酸を溶解させたものを吸収、含浸後、乾燥する方
法、あるいは、パラジウム成分を担持した担体を80℃
の温度でかき混ぜながら所定のヘテロポリ酸等をスプレ
ーする方法である。乾燥温度は溶媒の水や有機溶媒が除
けれは室温以下の温度〜150℃の範囲で実施できる。
通常常圧で実施する場合には、60℃〜150℃、好ま
しくは70℃〜120℃の範囲で乾燥される。
とが可能となる。次に本発明の触媒を用いた酢酸の製造
条件について説明する。先ず、図1に本発明の触媒を用
いた酢酸の製造工程を模式的に表した概念図の一例を示
した。以下に図1に基づき本発明の酢酸製造工程を説明
する。ガス分散スパージャーを備えた原料供給ライン1
を用いて酸素、水と不活性ガス、そして原料供給ライン
2を用いてエチレンを冷却コイルを反応器内部に備えた
流動床反応器7に送入する。流動床反応器7内で反応し
た原料は(以下、反応ガスと称する)触媒粒子を一部含
むため、サイクロンまたはフィルター等の触媒分離器8
で触媒粒子を分離する。分離された触媒粒子は触媒リサ
イクルライン4を経由して再び流動床反応器7に戻され
る。
応生成物分離器9に送入され、そこで酢酸5と未反応物
質(エチレン、不活性ガス)、副反応物(二酸化炭素)
とに分離される。未反応物質と副反応物は未反応物質リ
サイクルライン3に送入された後、一部は途中で不活性
ガス分離器10によって未反応物質に含まれる不活性ガ
スと副反応物6をエチレンと分離した後、エチレンだけ
が再び未反応物質リサイクルライン3へ戻され、最終的
には原料供給ライン2に合流する。
8から抜き出す事が可能であり、性能の高い触媒を触媒
リサイクルライン4に供給することで断続的に酢酸の製
造が可能となる。尚、酢酸は引き続き精製工程に導かれ
る。次に、製造条件を詳細に説明する。流動床反応器内
の反応温度は100〜250℃であるが、好ましくは1
40〜200℃であることが実用上有利である。また、
反応圧力は設備の点から0.1〜3MPaあることが実
用上有利であるが、更に好ましくは0.1〜1.5MP
aの範囲である。
チレン、酸素、および水を気相状態で反応させる気相反
応であるが、必要に応じて窒素、二酸化炭素または希ガ
スなどを希釈剤として使用することもできる。かかる供
給原料に対して、エチレンは3〜80容量%、好ましく
は8〜50容量%の割合となる量で、酸素は1〜15容
量%、好ましくは3〜10容量%の割合となる量で、水
は1〜50容量%、好ましくは3〜30容量%で反応系
に供給される。
のものを用いるのが有利であるが、メタン、エタン、プ
ロパン等の低級飽和炭化水素が若干混入しても差し支え
ない。また酸素は、窒素、炭酸ガス等の不活性ガスで希
釈されたもの、例えば空気の形でも供給できるが、反応
ガスを循環させる場合には一般に高濃度、好適には99
%以上の酸素を用いるほうが有利である。流動床反応器
内のガス速度は、触媒が流動状態を形成する速度以上で
あれば実施できる。最適な速度は、反応器の直径、触媒
分離用サイクロンの能力によって最適な範囲を選定する
ことができる。通常は線速度0.1m/sec〜2.0
m/sec、の範囲から選定される。好ましくは一般に
0.2〜1.5m/secの範囲で行われる。
的に説明する。尚、本発明では反応器による触媒活性の
評価試験、摩耗性試験は以下の方法にて測定した。 (反応器による触媒活性評価試験)50gの触媒を底部
に目開き10μmのSUS製の焼結フィルターを設置
し、上部にも触媒と反応ガスを分離することを目的とし
た底部と、同様の目開き10μmのSUS焼結フィルタ
ーを備えた直径1インチのSUS製の流動床反応器に投
入し、底部のフィルター側から反応原料ガスを供給して
触媒活性の評価試験を行う。標準的には触媒層と反応原
料ガスの接触時間は3秒となるように反応原料ガスを供
給する。
マトグラフィーによって分析する。ガス反応器流出物を
オンラインで、熱伝導度検出器(TCD)および燃焼イ
オン検出器(FID)が装着された島津14B型ガスク
ロマトグラフ装置を用いて分析した。酸素と窒素とエチ
レンと二酸化炭素はモレキュラシーブ(13X)と担体
の粒子径が80/100メッシュのクロモソルブ101
を用いTCDにより定量する。酢酸はガスクロパックー
56で分離し、FIDにより定量する。そして、反応器
圧力を制御し、配管は全て180℃程度に維持して、液
体供給物もしくは生成物の凝縮を防止する。
常の流動接触触媒(FCC)の試験方法を用いる。即
ち、底部に1/64インチの3つのオリフィスを有する
孔明円板を備えた、内径1.5インチの垂直チューブに
粒子50gを正確に秤量、投入し孔の部位で音速となる
速度で空気を流し粒子を激しく稼働させた。触媒粒子の
摩耗強度は、5〜20時間の間に微細化して垂直チュー
ブの上部から逸散した粒子の初期投入量に対する割合と
して求めた。 <参考製造例>シリカゾル水溶液として日産化学社製ス
ノーテックスN−30(SiO2分:30重量%)に硝
酸アルミ、硝酸マグネシウムをそれぞれAl/Si+A
l=10モル%、Mg/Si+Mg=10モル%となる
ように加え固形分濃度26重量%の溶液を調整した。1
30℃の温度に設定した噴霧乾燥機で噴霧乾燥して乾燥
粒子を得た。乾燥した粒子は空気を吹き込みながら、室
温から400℃まで2時間かけて昇温し1時間保持さら
に600℃まで1時間で昇温し600℃で2時間焼成
し、150μm以上、20μm以下は篩い分けて除き平
均粒子径60μmの球状シリカ−アルミナ−マグネシア
担体を得た。嵩密度を測定したところ0.91g/ml
であった。
ネシア担体100重量部当たりパラジウムとして2.0
重量部、アルミとして0.35重量部となるように塩化
パラジウムナトリウム塩(Na2PdCl4)、硝酸アル
ミを溶解した15重量%水溶液を90℃に加温し撹拌し
ながら準備しておく。つぎに担体100重量部を乾燥状
態で瞬時に投入し90℃でさらに60分間撹拌する。溶
液中のパラジウムを完全に吸着させた後に、液をデカン
トしパラジウムを担持した担体を数回蒸留水で洗浄し
た。
て6倍モル量加えた水溶液に、上記のパラジウム担持体
を投入し撹拌した。温度を60℃に加温しつぎにPd/
Pb=3/1.3(モル比)相当の酢酸鉛溶液を加え3
0分間保持する。つぎに、パラジウムに対し4倍モル量
のヒドラジン水溶液をかき混ぜながら約30分間かけて
ゆっくりと滴下して、還元処理を3時間行った。つぎに
蒸留水で、塩素イオンが検出されなくなるまで約10回
洗浄した。洗浄終了後触媒を強制通気オーブン内で60
℃にて24時間乾燥して冷却し、次いで担体100重量
部に対して15重量部の18タングスト二リン酸水溶液
を加え、できるだけ均一に分散担持されるように混合物
を回動させながら含浸した。次いで再びステンレス鋼ス
クリーン上で強制通気オーブン内にて60℃で乾燥し触
媒を得た。
粒子断面を形成させ、日本電子製JXA−8800R、
X線マクロアナライザー(EPMA)を用いて測定し
た。加速電圧15KV、電子ビーム直径0.1μm、分
光結晶はPd=PETH、Pb=PETH、Si=TA
Pを用いて行った。粒子断面の画像解析から、粒子外表
面から深さ方向2μmにはパラジウムは存在せず、表面
から10μm以内にほぼ100%分散担持されているこ
とが観測された。一酸化炭素の吸着より求めたパラジウ
ム金属の比表面積(MSA)は103m 2/Pdgの値
が得られた。触媒の摩耗強度を測定したところ、5〜2
0時間の重量減少は1.2%であった。また、摩耗強度
測定後の試料を王水に溶解しパラジウムの減少率を測定
したところ0.1%以下であった。
1で製造した触媒50gを充填し5.9×105Paお
よび150℃にて触媒活性の評価試験を行なった。触媒
の前処理として、触媒を窒素気流中160℃で3時間、
次いでエチレン気流中150℃で10分間、圧力5.9
×105Paで加熱した。次いで150℃を維持した状
態で酸素、ヘリウム、水の混合ガスを除々にエチレンに
添加し最終的には、エチレン、酸素、水、ヘリウムの比
率が60:4:30:6の割合で、触媒との接触時間が
3秒となる流速にて流動床反応器に導入し反応を行っ
た。この状態で8時間維持した。
ラフィーにて分析したところ、酢酸の選択率80.2
%、炭酸ガス(二酸化炭素)の選択率12.5%、エチ
レンの転化率は17.7%であった。本発明における選
択率は反応生成物中の酢酸と炭酸ガスを生成する為に必
要なエチレンに換算し直して、その割合から算出したも
のである。
m)を用い、4wt%のマグネシウム量の酢酸マグネシ
ウムを含浸させ、600℃で焼成した。担体100重量
部当たりパラジウムとして2.0重量部となるように塩
化パラジウムナトリウム塩(Na2PdCl4)、15重
量%水溶液を室温で撹拌しながら準備し、つぎに担体1
00重量部を乾燥状態で瞬時に投入し室温でさらに12
0分間撹拌する。溶液中のパラジウムを完全に吸着させ
た後に、液をデカントしパラジウムを担持した担体を数
回蒸留水で洗浄した。つぎに酢酸ナトリウムをパラジウ
ムに対して6倍モル量加えた水溶液に、上記のパラジウ
ム担持体を投入し撹拌した。温度を60℃に加温しつぎ
にPd/Pb=3/1.3(モル比)相当の酢酸鉛溶液
を加え30分間保持する。
ドラジン水溶液をかき混ぜながら約30分間かけてゆっ
くりと滴下して、還元処理を3時間行った。引き続き、
蒸留水で、塩素イオンが検出されなくなるまで約10回
洗浄した。洗浄終了後触媒を強制通気オーブン内で60
℃にて1晩乾燥し、冷却し、次いで担体100重量部に
対して15重量部の18タングスト二リン酸の水溶液を
加え、できるだけ均一に分散担持されるように混合物を
回動させながら含浸した。次いで再びステンレス鋼スク
リーン上で強制通気オーブン内にて60℃で乾燥しシリ
カゲルを担体とした触媒を得た。得られた触媒を実施例
1と同様に画像解析を行った。
外表面から深さ方向に均一にパラジウムは存在している
ことが判明した。また、鉛もパラジウムと同一の分布を
示した。得られた触媒を用いて、実施例2と同様の評価
をおこなったところ、酢酸の選択率81.2%、炭酸ガ
スの選択率17.5%、エチレンの転化率は6.3%で
あった。触媒の摩耗強度を測定したところ、5〜20時
間の重量減少は5.8%であり、摩耗強度測定後の試料
を王水に溶解しパラジウムの減少率を測定したところ
7.8%であった。
ネシア担体100重量部当たりパラジウムとして1.8
重量部、アルミとして0.35重量部となるように塩化
パラジウムナトリウム塩(Na2PdCl4)、硝酸アル
ミを溶解した15重量%水溶液を90℃に加温し撹拌し
ながら準備しておく。つぎに担体100重量部を乾燥状
態で瞬時に投入し90℃でさらに60分間撹拌する。溶
液中のパラジウムを完全に吸着させた後に、液をデカン
トしパラジウムを担持した担体を数回蒸留水で洗浄し
た。
液に置換し、酢酸ナトリウムをパラジウムに対して6倍
モル量加えた。90℃に加温しつぎにPd/Bi=5/
2.5(モル比)相当のトリフェニルビスマス/1−プ
ロパノール溶液をかき混ぜながら滴下し30分間保持す
る。つぎに、パラジウムに対し4倍モル量のヒドラジン
水溶液をかき混ぜながら約30分間かけてゆっくりと滴
下して、還元処理を6時間行った。つぎに蒸留水で、塩
素イオンが検出されなくなるまで約10回洗浄した。洗
浄終了後触媒を強制通気オーブン内で60℃にて1晩乾
燥し、冷却した。
部の12タングストリン酸水溶液を加え、できるだけ均
一に分散担持されるように混合物を回動させながら含浸
した。次いで再びステンレス鋼スクリーン上で強制通気
オーブン内にて60℃で乾燥し触媒を得た。得られた触
媒を実施例1と同様に画像解析を行った。その結果、粒
子外表面から深さ方向2μmにはパラジウムは存在せ
ず、外表面から10μm以内にほぼ100%分散担持さ
れていることが観測された。ビスマスの分布もパラジウ
ムと同一の分布を示した。この触媒を用いて実施例2と
同様の評価を行ったところ、酢酸の選択率81.3%、
炭酸ガスの選択率15.1%、エチレンの転化率は1
5.9%であった。
硝酸アルミを添加しなかった以外は同様の操作で触媒を
調製した。実施例1と同様の処理をして画像解析を行っ
た結果パラジウムは全て粒子の外表面から10μm以内
に担持されていた。実施例2と同様に行った評価結果
は、酢酸の選択率81.4%、炭酸ガスの選択率13.
9%、エチレンの転化率は16.7%であった。摩耗強
度を評価したところ5〜20時間の重量減少は1.3%
であった。また、摩耗強度評価後のこの試料を王水に溶
解しパラジウムの減少率を測定したところ5.5%の高
い値を示した。
ネシア担体100重量部当たりパラジウムとして1.5
重量部、アルミとして0.35重量部となるように塩化
パラジウムナトリウム塩(Na2PdCl4)、硝酸アル
ミを溶解した15重量%水溶液を90℃に加温し撹拌し
ながら準備しておく。つぎに担体100重量部を乾燥状
態で瞬時に投入し90℃でさらに60分間撹拌する。溶
液中のパラジウムを完全に吸着させた後に、液をデカン
トしパラジウムを担持した担体を数回蒸留水で洗浄し
た。つぎに酢酸ナトリウムをパラジウムに対して6倍モ
ル量加えた水溶液に、上記のパラジウム担持体を投入し
撹拌した。温度を60℃に加温しパラジウムに対し3倍
モル量のヒドラジン水溶液をかき混ぜながら約30分間
かけてゆっくりと滴下して、還元処理を3時間行った。
くなるまで約10回洗浄した。洗浄終了後触媒を強制通
気オーブン内で60℃にて24時間乾燥して冷却し、次
いで担体100重量部に対して13重量部の11−モリ
ブド1バナジウムリン酸水溶液を加え、できるだけ均一
に分散担持されるように混合物を回動させながら含浸し
た。次いで再びステンレス鋼スクリーン上で強制通気オ
ーブン内にて60℃で乾燥し触媒を得た。
を行った。その結果、粒子断面の画像解析の結果から、
粒子外表面から深さ方向2μmにはパラジウムは存在せ
ず、粒子外表面から10μm以内にほぼ100%分散担
持されていることが観測された。得られた触媒を用いて
実施例2と同様の評価を行ったところ、酢酸の選択率7
8.3%、炭酸ガスの選択率18.6%、エチレンの転
化率は14.7%であった。触媒の摩耗強度を測定した
ところ5〜20時間の重量減少は1.1%であり、摩耗
強度測定後の試料を王水に溶解しパラジウムの減少率を
測定したところ0.1%以下であった。
で使用するのに十分な触媒物性を達成し、かつ高活性を
達成せしめたことにより、高い効率で酢酸を製造するこ
とが可能となった。しかも前記触媒物性による触媒寿命
の向上により、工業生産性においても極めて有用なもの
となった。
の模式図。
Claims (4)
- 【請求項1】 パラジウム成分と、酸を担体に担持し、
該担体の粒子径が200μm未満、嵩密度が0.7〜
1.5g/mlの範囲の粒子であり、該担体がアルミお
よびマグネシウムを含有するシリカ系組成物であって、
アルミをAl2O3として5〜30重量%、マグネシウム
をMgOとして3〜30重量%、ケイ素をSiO2とし
て40〜92重量%の範囲で含み、かつ、アルミに対す
るマグネシウムの原子比(マグネシウム/アルミ)が1
/2より大きく、該担体の外表面から中心方向に0μm
より大きく80μm未満の範囲にパラジウム成分が担持
された層を有することを特徴とする酢酸合成触媒。 - 【請求項2】 当該パラジウム成分がパラジウム金属間
化合物であることを特徴とする請求項1記載の酢酸合成
触媒。 - 【請求項3】 当該パラジウム金属間化合物がパラジウ
ムとX(X=鉛、ビスマス、タリウム、水銀、テルル)
との金属間化合物であることを特徴とする請求項2記載
の酢酸合成触媒。 - 【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載の酢酸合
成触媒を用いた流動床反応器でエチレンと、酸素および
水から酢酸を製造する方法。
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---|---|---|---|
JP2000007452A JP4489222B2 (ja) | 2000-01-17 | 2000-01-17 | 酢酸合成触媒 |
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JP2000007452A JP4489222B2 (ja) | 2000-01-17 | 2000-01-17 | 酢酸合成触媒 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009526055A (ja) * | 2006-02-07 | 2009-07-16 | セラニーズ・インターナショナル・コーポレーション | エタンの酢酸/エチレンへの酸化方法における予備脱水塔の使用 |
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- 2000-01-17 JP JP2000007452A patent/JP4489222B2/ja not_active Expired - Lifetime
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