JP2001185478A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2001185478A5
JP2001185478A5 JP1999370884A JP37088499A JP2001185478A5 JP 2001185478 A5 JP2001185478 A5 JP 2001185478A5 JP 1999370884 A JP1999370884 A JP 1999370884A JP 37088499 A JP37088499 A JP 37088499A JP 2001185478 A5 JP2001185478 A5 JP 2001185478A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exposure apparatus
optical member
exposure
measuring means
optical system
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1999370884A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4521912B2 (ja
JP2001185478A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP37088499A priority Critical patent/JP4521912B2/ja
Priority claimed from JP37088499A external-priority patent/JP4521912B2/ja
Publication of JP2001185478A publication Critical patent/JP2001185478A/ja
Publication of JP2001185478A5 publication Critical patent/JP2001185478A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4521912B2 publication Critical patent/JP4521912B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

【特許請求の範囲】
【請求項1】 原版に形成されたパターンをプレートに結像する結像光学系を有する露光装置において、該結像光学系中の少なくとも1個の光学部材の姿勢を測定する測定手段を有し、
該測定手段の測定結果に基づいて原版、光学部材およびプレートのうちの少なくともいずれかの駆動を行うことを特徴とする露光装置。
【請求項2】 前記駆動を露光中に行うことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
【請求項3】 前記光学部材は台形鏡であることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
【請求項4】 請求項1乃至3のいずれかに記載の露光装置を用いてウエハを露光するステップと、該露光されたウエハを現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
本発明の目的は、このような光学部材の姿勢変動による転写像のずれを低減させることにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため本発明の露光装置は、原版に形成されたパターンをプレートに結像する結像光学系を有する露光装置において、該結像光学系中の少なくとも1個の光学部材の姿勢を測定する測定手段を有し、該測定手段の測定結果に基づいて原版、光学部材およびプレートのうちの少なくともいずれかの駆動を行うことを特徴とする。
【0018】
【発明の効果】
以上説明したように本発明は、光学部材の姿勢変動による転写像のずれを低減させることができる。
JP37088499A 1999-12-27 1999-12-27 露光装置 Expired - Fee Related JP4521912B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP37088499A JP4521912B2 (ja) 1999-12-27 1999-12-27 露光装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP37088499A JP4521912B2 (ja) 1999-12-27 1999-12-27 露光装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2001185478A JP2001185478A (ja) 2001-07-06
JP2001185478A5 true JP2001185478A5 (ja) 2007-03-01
JP4521912B2 JP4521912B2 (ja) 2010-08-11

Family

ID=18497768

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP37088499A Expired - Fee Related JP4521912B2 (ja) 1999-12-27 1999-12-27 露光装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4521912B2 (ja)

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61251030A (ja) * 1985-04-30 1986-11-08 Canon Inc 投影露光装置
JP3429783B2 (ja) * 1992-01-07 2003-07-22 株式会社日立製作所 パターン露光方法およびその装置
JPH0878303A (ja) * 1994-08-31 1996-03-22 Toshiba Corp 補正用プリズム機器及びこれを適用した露光装置
JPH08181063A (ja) * 1994-12-26 1996-07-12 Nikon Corp 露光装置
JPH11325821A (ja) * 1998-05-19 1999-11-26 Nikon Corp ステージ制御方法および露光装置
TW490598B (en) * 1999-11-30 2002-06-11 Asm Lithography Bv Lithographic projection apparatus and method of manufacturing a device using a lithographic projection apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1544681A3 (en) Exposure apparatus
WO2001050523A3 (en) Method to measure alignment using latent image grating structures
JP2009088264A (ja) 微細加工装置およびデバイス製造方法
TW200840988A (en) A method of measurement, an inspection apparatus and a lithographic apparatus
EP1014199A3 (en) Stage control apparatus and exposure apparatus
SG138616A1 (en) Focus test mask, focus measurement method and exposure apparatus
WO2005106592A3 (en) High resolution in-situ illumination source measurement in projection imaging systems
JP2001185478A5 (ja)
JPH07220989A (ja) 露光装置及びこれを用いたデバイス製造方法
KR910008768A (ko) 노광방법 및 노광장치
KR960015096A (ko) 노광 방법 및 노광 장치
JP2008004596A5 (ja)
TW200510959A (en) Lithographic apparatus and integrated circuit manufacturing method
JP4734376B2 (ja) 加熱装置の評価方法とパターン形成方法及び加熱装置の制御方法
EP1480083A3 (en) Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2005116779A5 (ja)
US5552251A (en) Reticle and method for measuring rotation error of reticle by use of the reticle
JP4459683B2 (ja) マスクレス露光装置
JP2005175383A5 (ja)
KR100801844B1 (ko) 핫 플레이트 및 그를 이용한 임계치수의 균일도 향상방법
JP2005243710A5 (ja)
JP2005109333A5 (ja)
JPH06224099A (ja) 半導体装置の製造方法
JP3828063B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JPH06236838A (ja) 半導体露光装置