KR910008768A - 노광방법 및 노광장치 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제6도는 본 발명의 한 구체적 실시예에 곤한 노광장치를 나타낸 사시도.
제7도는 제6도의 장치의 촬상장치를 나타낸 도면.
제8도는 본 발명의 방법에 이용되는 얼라인먼트 패턴의 한예를 나타낸 도면.
Claims (11)
- 양면에 감광제(3)가 피복된 피노광체(1)를 각각 제1마스크패턴을 가진 제1마스크 플레이트(6)와 제2마스크패턴을 가진 제2마스크 플레이트(7)의 사이에 밀착시켜서 끼우고 양면에서 노광하는 노광 방법에 있어서, 제1마스크플레이트(6)와 제2마스크 플레이트(7)의 각각의 피노광체를 밀착시켜서 지지하지 않은 부분에 형성된 제1얼라인먼트패턴과 제2얼라인먼트 패턴(16)(18)을 동시에 촬상하여 화상신호를 얻는 공정 (제1얼라인먼트 패턴(15)(17)과 제2얼라인먼트패턴(16)(18)은 제1마스프 플레이트(6)와 제2마스크플레이트(7)가 정확하게 얼라인되어 있는 경우에는 소정의 대응된 위치관계에 있다): 전술한 화상 신호를 처리하여 제1얼라인먼트 패턴(15)(17)과 제2얼라인먼트 패턴(16)(18)의 전술한 소정의 대응된 위치로 관계로 부터의 어긋남의 양을 산출하는 공정; 전술한 산출된 어긋남의 양에 의거해서 제1마스크 플레이트(6)및 제2마스크플레이트(7)의 어느한쪽을 다른쪽에 대하여 상대적인면의 방향으로 이동시켜서 제1얼라인트먼트 패턴(15)(17)과 제2얼라인트먼트 패턴(16)(18)을 소정의 대응된 위치 관계로 수정하는 공정을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 노광방법.
- 제1항에 있어서, 전술한 제1및 제2얼라인먼트 패턴(15)(16)은 다수 배열된 원형 마스크(42)(43)로 되어 있으며 제1얼라인먼트 패턴(15)의 원형 마스크(42)(43)와 제2얼라인먼트 패턴(16)의 원형 마스크(43)는 사이즈및 피치가 다르며 소정 간격의 제1얼라인먼트 패턴(15)의 원형 마스크(42)와 제2얼라인먼트 패턴(16)의 원형 마스크(43)가 촬상되는 것을 특징으로 하는 노광방법.
- 제1항에 있어서, 전술한 제1얼라인먼트 패턴(17)은 상하로 배열된 한쌍의 원형 마스크(17)로 이루어지며 전술한 제2얼라인먼트 패턴(18)은 좌우로 배열된 한쌍의 원형 마스크(18)로 이루어지며 이러한 두쌍의 원형 마스크(17)(18)가 촬상되는것을 특징으로 하는 노광방법.
- 제1항에 있어서, 전술한 노광은 전술한 촬상공정후 수정 공정전에 행하는 것을 특징으로 하는 노광방법.
- 제1항에 있어서, 전술한 피노광체를 전술한 제1마스크 플레이트(6)와 제2마스크 플레이트(7)의 사이에 밀착시켜 끼운후 이러한 제1마스크 플레이트(6)와 제2마스크 플레이트(7)의 사이를 진공상태로 하여 피노광체(1)와 제1마스크 플레이트 및 제2마스크 플레이트를 밀착시켜 계속해서 전술한 촬상공정이 행해지는 것을 특징으로 하는 노광방법.
- 제1항에 있어서, 전술한 제1마스크 플레이트(6)와 제2마스크플레이트(7)의 어느 한쪽의 이동은 전술한 피노광체로 부터 분리시킨 상태에서 행하는 것을 특징으로하는 노광방법.
- 양면에 감광제(3)가 피복된 피노광체(1)를 각각 제1마스크 패턴을 가진 제1마스크 플레이트(6)와 제2마스크패턴을 가진 제2마스크 플레이트(7)에 사이에 밀착시켜 끼우고 양면에서 노광하는 노광장치에 있어서,제1마스크 플레이트(6)와 제2마스크 플레이트 (7)의 각각의 피노광체(1)를 밀착시켜 끼우지 않은 부분에 형성된 제1얼라인먼트 패턴(15)(17)과 제2얼라인먼트 패턴(16)(18)을 동시에 촬상하여 화상 신호를 얻는 촬상장치(20)(21)(22)(23) 제1얼라인먼트(15)(17)과 제2얼라인먼트 패턴(16)(17)은 제1마스크플레이트(6)와 제2마스크플레이트(17)가 정확하게 얼라인 되어있는 경우에는 소정의 대응된 위치관계에 있다); 전술한 화상신호를 처리하여 제1얼라인먼트 패턴(15)(17)과 제2얼라인먼트 패턴(16)(18)과의 전술한 소정의 대응된 위치관계로부터 어긋난 량을 산출하는 연산장치(24); 전술한 산출된 어긋남의 양에 의거해서 제1마스크 플레이트(6)및 제2마스크플레이트(7)의 어느 한쪽을 다른쪽에 대하여 상대적인 면의 방향으로 이동시켜서 제1얼라인먼트 패턴(15)(17)과 제2얼라인먼트 패턴(16)(18)을 전술한 소정의 대응된 위치관계로 하는 수정장치를 구비하고 있는것을 특징으로 하는 노광 장치.
- 제7항에 있어서, 전술한 촬상장치(20)(21)는 전술한 제1얼라인먼트패턴(15)(17)과 제2얼라인먼트패턴(16)(18)을 사이에 끼워넣을 수 있도록 제1마스크 플레이트(6)및 제2마스크 플레이트(7)의 외측에 배치된 두쌍의 촬상 카메라(20)(21)와 광원으로 되어있는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제7항에 있어서, 전술한 제1마스크플레이트(6)및 제2마스크 플레이트(7)는 그 바깥 둘레가 제1플레임(11)및 제2프레임(12)으로 지지되어 있으며 전술한 수정장치(28)(29)(31)는 이동하는 마스크 플레이트(6)를 지지하는 제1프레임(11)의 하부에 부착한 모터(26)(27)에 의해 구동되는 제1 오인쇄 보정 메카니즘(28)(29)과 측부에 부착한 모터(30)에 의해 구동되는 제2오인쇄보정 메카니즘(31)으로 되어있는 것을 특징으로하는 노광장치.
- 제7항에 있어서, 전술한 제1오인쇄보정 메카니즘(28)(29)에 대항하여 제1프레임(11)의 상부에 부착한 프레임의 좌우의 이동량을 측정하기 위한 제1보정량 측정 메카니즘(34)(35)과 제2오인쇄보정 메카니즘(31)에 대향하여 제1프레임(11)의 측부에 부착한 프레임의 상하의 이동량을 측정하기 위한 제2보정량측정 메카니즘(36)을 구비하고 있는것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제10항에 있어서, 전숴한 제1프레임은 고정프레임부(61)와 가동프레임(62)으로 되어있으며 전술한 고정프레임부(61)에 전술한 가동프레임(62)을 잠그기 위한 록크 메카니즘(63)(64)이 설치되며 진술한 가동프레임(62)은 전술한 오인쇄 보정 메카니즘(28)(29)(31)에 의해 이동하는 것을 특징으로 하는 노광장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Cited By (1)
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Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2703558B1 (fr) * | 1993-03-31 | 1995-06-30 | Automa Tech Sa | Installation d'exposition à la lumière d'une plaque de circuit imprimé double face à travers les clichés. |
EP0709227B1 (en) * | 1994-10-24 | 1997-10-01 | Agfa-Gevaert N.V. | Method for the formation of an improved image |
US5814826A (en) * | 1996-08-26 | 1998-09-29 | Demminer Maschinen Technik Gmbh | Method and apparatus for aligning photoprinting plates in a production line |
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US6215548B1 (en) | 1999-03-11 | 2001-04-10 | Olec Corporation | Nested glass exposure tool registration device |
JP2001027813A (ja) * | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Toshiba Corp | 露光方法およびその装置 |
JP6055130B2 (ja) * | 2015-03-06 | 2016-12-27 | 株式会社タイカ | 詰め物及びこれを用いたクッション又はマットレス |
JP7412872B2 (ja) * | 2017-10-31 | 2024-01-15 | 株式会社アドテックエンジニアリング | 両面露光装置 |
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Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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IT1077420B (it) * | 1976-08-02 | 1985-05-04 | Rca Corp | Metodo di controllo delle aperture ottenute,mediante attacco,in un foglio di metallo |
US4448522A (en) * | 1982-10-22 | 1984-05-15 | Rca Corporation | Device for supporting and aligning photographic masters |
US4656107A (en) * | 1983-06-24 | 1987-04-07 | Rca Corporation | Photographic printing plate for use in a vacuum printing frame |
JPS62211657A (ja) * | 1986-03-13 | 1987-09-17 | Oak Seisakusho:Kk | プリント基板の焼付け方法 |
JPS63285842A (ja) * | 1987-05-19 | 1988-11-22 | Toshiba Corp | ブラウン管シャドウマスクの両面露光用フォトマスク |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100651819B1 (ko) * | 1999-07-16 | 2006-11-30 | 삼성테크윈 주식회사 | 노광장치 |
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