JPH0878303A - 補正用プリズム機器及びこれを適用した露光装置 - Google Patents
補正用プリズム機器及びこれを適用した露光装置Info
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- JPH0878303A JPH0878303A JP6206800A JP20680094A JPH0878303A JP H0878303 A JPH0878303 A JP H0878303A JP 6206800 A JP6206800 A JP 6206800A JP 20680094 A JP20680094 A JP 20680094A JP H0878303 A JPH0878303 A JP H0878303A
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70258—Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、光軸シフトのみを光学的に補正して
制御系を簡略化できる。 【構成】２つのプリズム(22,23) の各姿勢に応じて平板
硝子(25)の姿勢を制御し、この平板硝子(25)の屈折作用
により２つのプリズム(22,23) からのパターン露光光の
光軸をシフトする。
制御系を簡略化できる。 【構成】２つのプリズム(22,23) の各姿勢に応じて平板
硝子(25)の姿勢を制御し、この平板硝子(25)の屈折作用
により２つのプリズム(22,23) からのパターン露光光の
光軸をシフトする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、反射ミラー型露光装置
等に適用して入射光束に対する出射光束の倍率を補正す
る倍率補正に係わり、この倍率補正したときの入射光束
と出射光束との光軸シフトを補正する補正用プリズム機
器及びこれを適用した露光装置に関する。
等に適用して入射光束に対する出射光束の倍率を補正す
る倍率補正に係わり、この倍率補正したときの入射光束
と出射光束との光軸シフトを補正する補正用プリズム機
器及びこれを適用した露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図４はかかる倍率補正を適用した反射ミ
ラー型露光装置の構成図である。マスク１を通過したパ
ターン露光光は、倍率補正装置２を通過して凹面鏡３及
び凸面鏡４から成るオフナー光学系５に入射する。
ラー型露光装置の構成図である。マスク１を通過したパ
ターン露光光は、倍率補正装置２を通過して凹面鏡３及
び凸面鏡４から成るオフナー光学系５に入射する。
【０００３】このオフナー光学系５では、パターン露光
光は凹面鏡３で反射して凸面鏡４に至り、この凸面鏡４
で反射して再び凹面鏡３に至り、この凹面鏡３で反射す
る。そして、このオフナー光学系５から出射されたパタ
ーン露光光は、被処理体であるプレート６に結像され
る。これにより、マスクパターンがプレート６に転写さ
れる。
光は凹面鏡３で反射して凸面鏡４に至り、この凸面鏡４
で反射して再び凹面鏡３に至り、この凹面鏡３で反射す
る。そして、このオフナー光学系５から出射されたパタ
ーン露光光は、被処理体であるプレート６に結像され
る。これにより、マスクパターンがプレート６に転写さ
れる。
【０００４】上記倍率補正装置２は、２つのプリズム
７、８の各頂点をそれぞれ反対方向に配置し、入射する
パターン露光光に対して出射するパターン露光光の倍率
誤差を補正している。
７、８の各頂点をそれぞれ反対方向に配置し、入射する
パターン露光光に対して出射するパターン露光光の倍率
誤差を補正している。
【０００５】すなわち、この倍率補正装置２の作用は、
図５に示すようにマスク１を通過したパターン露光光
を、プリズム７で屈折してさらにプリズム８で屈折し、
これにより入射パターン露光光に対して出射パターン露
光光の倍率は、Ｍ／Ｎとなる。
図５に示すようにマスク１を通過したパターン露光光
を、プリズム７で屈折してさらにプリズム８で屈折し、
これにより入射パターン露光光に対して出射パターン露
光光の倍率は、Ｍ／Ｎとなる。
【０００６】この場合、２つのプリズム７、８の各角度
ｅ、ｆを姿勢制御することによりパターン露光光の倍率
は変化する。しかしながら、２つのプリズム７、８を組
み合わせて倍率補正する場合、各プリズム７、８を通過
することにより、入射光軸Ｑ１に対して出射光軸Ｑ２が
ｙ方向にシフトしてしまう。
ｅ、ｆを姿勢制御することによりパターン露光光の倍率
は変化する。しかしながら、２つのプリズム７、８を組
み合わせて倍率補正する場合、各プリズム７、８を通過
することにより、入射光軸Ｑ１に対して出射光軸Ｑ２が
ｙ方向にシフトしてしまう。
【０００７】そのうえ、この光軸シフト量は、パターン
露光光の倍率によって変化する。このような光軸シフト
が生じると、パターン転写に対して当然ながら誤差が生
じるので、これに対処するために２つのプリズム７、８
の姿勢に同期してプレート６をプレートステージによっ
てｙ方向に移動している。
露光光の倍率によって変化する。このような光軸シフト
が生じると、パターン転写に対して当然ながら誤差が生
じるので、これに対処するために２つのプリズム７、８
の姿勢に同期してプレート６をプレートステージによっ
てｙ方向に移動している。
【０００８】さらに、パターン露光光の倍率誤差とＤＲ
（Distortion Rectangular）誤差とが同時に発生した場
合、２つのプリズム７、８の姿勢から光軸シフト量を算
出し、この光軸シフト量にアライメント系で測定したＤ
Ｒ誤差量を加算し、この合計の誤差量によってプレート
ステージを駆動しなければならない。このため、これら
誤差量の処理はソフトウエア上で行う必要があり、制御
系の処理が複雑化してしまう。
（Distortion Rectangular）誤差とが同時に発生した場
合、２つのプリズム７、８の姿勢から光軸シフト量を算
出し、この光軸シフト量にアライメント系で測定したＤ
Ｒ誤差量を加算し、この合計の誤差量によってプレート
ステージを駆動しなければならない。このため、これら
誤差量の処理はソフトウエア上で行う必要があり、制御
系の処理が複雑化してしまう。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】以上のように倍率補正
装置２によりパターン露光光の倍率誤差を補正する場
合、この倍率誤差とＤＲ誤差とが同時に発生すると、こ
れら誤差を補正するために制御系の処理が複雑化してし
まう。
装置２によりパターン露光光の倍率誤差を補正する場
合、この倍率誤差とＤＲ誤差とが同時に発生すると、こ
れら誤差を補正するために制御系の処理が複雑化してし
まう。
【００１０】そこで本発明は、光軸シフトのみを光学的
に補正して制御系を簡略化できる補正用プリズム機器を
提供することを目的とする。又、本発明は、光軸シフト
のみを光学的に補正して制御系を簡略化し高精度な露光
処理ができる露光装置を提供することを目的とする。
に補正して制御系を簡略化できる補正用プリズム機器を
提供することを目的とする。又、本発明は、光軸シフト
のみを光学的に補正して制御系を簡略化し高精度な露光
処理ができる露光装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】請求項１によれば、入射
光束に対する出射光束の倍率を補正する少なくとも２つ
のプリズムと、各プリズムの各姿勢を認識する姿勢認識
手段と、各プリズムの入射側又は出射側の少くともいず
れか一方に配置された光透過性板と、姿勢認識手段によ
り認識された各プリズムの各姿勢に応じて光透過性板の
姿勢を制御し入射光束と出射光束との光軸を合わせる姿
勢制御手段と、を備えて上記目的を達成しようとする補
正用プリズム機器である。
光束に対する出射光束の倍率を補正する少なくとも２つ
のプリズムと、各プリズムの各姿勢を認識する姿勢認識
手段と、各プリズムの入射側又は出射側の少くともいず
れか一方に配置された光透過性板と、姿勢認識手段によ
り認識された各プリズムの各姿勢に応じて光透過性板の
姿勢を制御し入射光束と出射光束との光軸を合わせる姿
勢制御手段と、を備えて上記目的を達成しようとする補
正用プリズム機器である。
【００１２】請求項２によれば、姿勢認識手段は、各プ
リズムの角度姿勢を変位センサにより検出する。請求項
３によれば、姿勢制御手段は、各プリズムの角度姿勢か
ら入射光束に対する出射光束の光軸シフト量を求め、こ
の光軸シフト量を無くすように光透過性板の光軸に対す
る角度姿勢を制御する。
リズムの角度姿勢を変位センサにより検出する。請求項
３によれば、姿勢制御手段は、各プリズムの角度姿勢か
ら入射光束に対する出射光束の光軸シフト量を求め、こ
の光軸シフト量を無くすように光透過性板の光軸に対す
る角度姿勢を制御する。
【００１３】請求項４によれば、マスクを通過したパタ
ーン露光光を凹面鏡及び凸面鏡から成る結像光学系を通
して被処理体に結像する露光装置において、マスクから
結像光学系を通して被処理体に至る光路に配置された少
くとも２つのプリズムを組み合わせてパターン露光光の
倍率を変化する倍率補正系と、各プリズムの各姿勢を認
識する姿勢認識手段と、各プリズムの入射側又は出射側
の少くともいずれか一方に配置された光透過性板と、こ
の姿勢認識手段により認識された各プリズムの各姿勢に
応じて光透過性板の姿勢を制御する姿勢制御手段と、を
備えて上記目的を達成しようとする露光装置である。
ーン露光光を凹面鏡及び凸面鏡から成る結像光学系を通
して被処理体に結像する露光装置において、マスクから
結像光学系を通して被処理体に至る光路に配置された少
くとも２つのプリズムを組み合わせてパターン露光光の
倍率を変化する倍率補正系と、各プリズムの各姿勢を認
識する姿勢認識手段と、各プリズムの入射側又は出射側
の少くともいずれか一方に配置された光透過性板と、こ
の姿勢認識手段により認識された各プリズムの各姿勢に
応じて光透過性板の姿勢を制御する姿勢制御手段と、を
備えて上記目的を達成しようとする露光装置である。
【００１４】請求項５によれば、姿勢制御手段は、各プ
リズムの角度姿勢から入射光束に対する出射光束の光軸
シフト量を求め、この光軸シフト量を無くすように光透
過性板の光軸に対する角度姿勢を制御する。
リズムの角度姿勢から入射光束に対する出射光束の光軸
シフト量を求め、この光軸シフト量を無くすように光透
過性板の光軸に対する角度姿勢を制御する。
【００１５】
【作用】請求項１によれば、各プリズムの各姿勢を姿勢
認識手段により認識し、これら姿勢に応じて光透過性板
の姿勢を姿勢制御手段により姿勢制御する。これにより
光透過性板の屈折作用により光軸はシフトし、少くとも
２つのプリズムによる光軸シフト量は補正される。
認識手段により認識し、これら姿勢に応じて光透過性板
の姿勢を姿勢制御手段により姿勢制御する。これにより
光透過性板の屈折作用により光軸はシフトし、少くとも
２つのプリズムによる光軸シフト量は補正される。
【００１６】請求項２によれば、各プリズムの角度姿勢
は変位センサにより検出される。請求項３によれば、光
透過性板の姿勢制御は、各プリズムの角度姿勢から入射
光束に対する出射光束の光軸シフト量を求め、この光軸
シフト量を無くすように光透過性板の光軸に対する角度
を制御する。
は変位センサにより検出される。請求項３によれば、光
透過性板の姿勢制御は、各プリズムの角度姿勢から入射
光束に対する出射光束の光軸シフト量を求め、この光軸
シフト量を無くすように光透過性板の光軸に対する角度
を制御する。
【００１７】請求項４によれば、マスクを通過したパタ
ーン露光光を凹面鏡及び凸面鏡から成る結像光学系を通
して被処理体に結像して露光処理する場合、例えばマス
クと結像光学系との間の光路上に、少なくとも２つのプ
リズムを組み合わせた倍率補正系を配置して倍率補正を
行う。
ーン露光光を凹面鏡及び凸面鏡から成る結像光学系を通
して被処理体に結像して露光処理する場合、例えばマス
クと結像光学系との間の光路上に、少なくとも２つのプ
リズムを組み合わせた倍率補正系を配置して倍率補正を
行う。
【００１８】このとき、各プリズムの各姿勢を認識し、
これら姿勢に応じて光透過性板の姿勢を制御する。これ
により光透過性板の屈折作用により光軸はシフトし、少
くとも２つのプリズムによる光軸シフト量は補正され
る。
これら姿勢に応じて光透過性板の姿勢を制御する。これ
により光透過性板の屈折作用により光軸はシフトし、少
くとも２つのプリズムによる光軸シフト量は補正され
る。
【００１９】請求項５によれば、各プリズムの角度姿勢
から入射光束に対する出射光束の光軸シフト量を求め、
この光軸シフト量を無くすように光透過性板の光軸に対
する角度姿勢を制御する。
から入射光束に対する出射光束の光軸シフト量を求め、
この光軸シフト量を無くすように光透過性板の光軸に対
する角度姿勢を制御する。
【００２０】
【実施例】以下、本発明の一実施例について図面を参照
して説明する。図１は補正用プリズム機器を適用した反
射投影光学系の露光装置の構成図である。
して説明する。図１は補正用プリズム機器を適用した反
射投影光学系の露光装置の構成図である。
【００２１】光源２０から放射される露光用光の光路上
２０ａには、所定パターンの形成されたマスク２１、及
びペアのプリズム２２、２３から成る倍率補正系２４が
配置されている。
２０ａには、所定パターンの形成されたマスク２１、及
びペアのプリズム２２、２３から成る倍率補正系２４が
配置されている。
【００２２】さらに、この倍率補正系２４に続いて光透
過性板としての平板硝子２５が配置されている。又、光
源２０の光路上２０ａには台形ミラー２６が配置され、
この台形ミラー２６の反射光路上に反射投影光学系２７
が配置されている。
過性板としての平板硝子２５が配置されている。又、光
源２０の光路上２０ａには台形ミラー２６が配置され、
この台形ミラー２６の反射光路上に反射投影光学系２７
が配置されている。
【００２３】この反射投影光学系２７は、凹面鏡２８と
凸面鏡２９との光軸を一致させて配置したもので、台形
ミラー２６で反射した露光用光を凹面鏡２８で反射して
凸面鏡２９に送り、この凸面鏡２９で反射した露光用光
を再び凹面鏡２８に送って反射し、この反射光を台形ミ
ラー２６の他方の面に送るものとなっている。
凸面鏡２９との光軸を一致させて配置したもので、台形
ミラー２６で反射した露光用光を凹面鏡２８で反射して
凸面鏡２９に送り、この凸面鏡２９で反射した露光用光
を再び凹面鏡２８に送って反射し、この反射光を台形ミ
ラー２６の他方の面に送るものとなっている。
【００２４】そして、この台形ミラー２６の他方面の反
射光路上には、半導体ウエハ３０が配置されるようにな
っている。一方、光源２０の光路上２０ａには、ビーム
スプリッタ３１が配置され、このビームスプリッタ３１
の分岐光路上にＴＶカメラ３２が設けられている。
射光路上には、半導体ウエハ３０が配置されるようにな
っている。一方、光源２０の光路上２０ａには、ビーム
スプリッタ３１が配置され、このビームスプリッタ３１
の分岐光路上にＴＶカメラ３２が設けられている。
【００２５】このＴＶカメラ３２は、反射投影光学系２
７を通して半導体ウエハ３０に形成されているマーク
「＋」を撮像してその画像信号を出力するものとなって
いる。又、姿勢制御装置３３は、ＴＶカメラ３２からの
画像信号を半導体ウエハ３０の位置情報として入力し、
この位置情報に基づいて２つのプリズム２２、２３の各
配置角度つまり倍率Ｇ、及びこれらプリズム１、２の間
隔つまりビームシフトを制御し、かつこのビームシフト
量に応じて半導体ウエハ３０を載置するＸＹテーブルを
移動する機能を有している。
７を通して半導体ウエハ３０に形成されているマーク
「＋」を撮像してその画像信号を出力するものとなって
いる。又、姿勢制御装置３３は、ＴＶカメラ３２からの
画像信号を半導体ウエハ３０の位置情報として入力し、
この位置情報に基づいて２つのプリズム２２、２３の各
配置角度つまり倍率Ｇ、及びこれらプリズム１、２の間
隔つまりビームシフトを制御し、かつこのビームシフト
量に応じて半導体ウエハ３０を載置するＸＹテーブルを
移動する機能を有している。
【００２６】又、この姿勢制御装置３３は、２つのプリ
ズム２２、２３の角度姿勢から入射光束に対する出射光
束の光軸シフト量を求め、この光軸シフト量を無くすよ
うに平板硝子２５の光軸に対する角度姿勢を制御する機
能を有している。
ズム２２、２３の角度姿勢から入射光束に対する出射光
束の光軸シフト量を求め、この光軸シフト量を無くすよ
うに平板硝子２５の光軸に対する角度姿勢を制御する機
能を有している。
【００２７】次に２つのプリズム２２、３及び平板硝子
２５の姿勢制御系の構成について図２を参照して説明す
る。２つのプリズム２２、２３は、それぞれモータ４
０、４１に連結している。これらモータ４０、４１は、
それぞれモータドライバ４２、４３より回転駆動され
る。
２５の姿勢制御系の構成について図２を参照して説明す
る。２つのプリズム２２、２３は、それぞれモータ４
０、４１に連結している。これらモータ４０、４１は、
それぞれモータドライバ４２、４３より回転駆動され
る。
【００２８】従って、２つのプリズム２２、２３は、各
モータ４０、４１の駆動により角度姿勢を制御され、こ
のうちプリズム２２は底面を中心に矢印（イ）方向に回
動し、プリズム２３は頂点を中心に矢印（ロ）方向に回
動する。
モータ４０、４１の駆動により角度姿勢を制御され、こ
のうちプリズム２２は底面を中心に矢印（イ）方向に回
動し、プリズム２３は頂点を中心に矢印（ロ）方向に回
動する。
【００２９】又、各変位センサ４４、４５は、それぞれ
２つのプリズム２２、２３の角度姿勢を検出し、これら
角度姿勢に応じた各姿勢信号を出力する機能を有してい
る。一方、光透過性板としての平板硝子２５が、上記の
如く２つのプリズム２２、２３と台形ミラー２６との間
の光路上に配置されている。
２つのプリズム２２、２３の角度姿勢を検出し、これら
角度姿勢に応じた各姿勢信号を出力する機能を有してい
る。一方、光透過性板としての平板硝子２５が、上記の
如く２つのプリズム２２、２３と台形ミラー２６との間
の光路上に配置されている。
【００３０】この平板硝子２５は、厚みＬに形成され、
２つのプリズム２２、２３により生じる光軸シフトを補
正するものである。この平板硝子２５には、モータ４６
が連結し、モータドライバ４７より回転駆動される。
２つのプリズム２２、２３により生じる光軸シフトを補
正するものである。この平板硝子２５には、モータ４６
が連結し、モータドライバ４７より回転駆動される。
【００３１】従って、平板硝子２５は、モータ４６の駆
動により矢印（ハ）方向に回動して角度姿勢が制御され
る。又、変位センサ４８は、平板硝子２５の角度姿勢を
検出し、この角度姿勢に応じた姿勢信号を出力する機能
を有している。
動により矢印（ハ）方向に回動して角度姿勢が制御され
る。又、変位センサ４８は、平板硝子２５の角度姿勢を
検出し、この角度姿勢に応じた姿勢信号を出力する機能
を有している。
【００３２】上記姿勢制御装置３３は、具体的に次の各
機能を有している。すなわち、外部から倍率補正量Ｇが
入力すると、この倍率補正量Ｇを達成するための２つの
プリズム２２、２３の各角度姿勢に対する各モータ４
０、４１の各駆動量Ｐ１、Ｐ２を算出し、これら駆動量
Ｐ１、Ｐ２をそれぞれ各モータドライバ４２、４３に送
出するプリズム姿勢機能、このプリズム姿勢機能により
算出された各駆動量に応じた２つのプリズム２２、２３
の各角度姿勢に基づき、２つのプリズム２２、２３によ
り生じる光軸シフト量を補正する平板硝子２５の角度姿
勢、つまりモータ４６の駆動量Ｆを算出し、この駆動量
Ｆをモータドライバ４７に送出する光軸シフト補正機能
を有している。
機能を有している。すなわち、外部から倍率補正量Ｇが
入力すると、この倍率補正量Ｇを達成するための２つの
プリズム２２、２３の各角度姿勢に対する各モータ４
０、４１の各駆動量Ｐ１、Ｐ２を算出し、これら駆動量
Ｐ１、Ｐ２をそれぞれ各モータドライバ４２、４３に送
出するプリズム姿勢機能、このプリズム姿勢機能により
算出された各駆動量に応じた２つのプリズム２２、２３
の各角度姿勢に基づき、２つのプリズム２２、２３によ
り生じる光軸シフト量を補正する平板硝子２５の角度姿
勢、つまりモータ４６の駆動量Ｆを算出し、この駆動量
Ｆをモータドライバ４７に送出する光軸シフト補正機能
を有している。
【００３３】すなわち、図３に示すようにプリズム２２
の入射面における入射角をφ１、同入射面における屈折
角をφ２、プリズム２２の出射面における屈折角をθ
２、プリズム２３の入射面における入射角をφ２´、２
つのプリズム２、２３の頂点の各角度をα、プリズム２
２の出射面とプリズム２３の出射面とのなす角度をδ、
さらにプリズム２２内における光路長ＡＢをａ、２つの
プリズム２２、２３との間の光路長ＢＣをｂ、プリズム
２３内における光路長ＣＤをｃとすると、光軸シフト量
Ｓは、 Ｓ＝ａ・ sin（φ１−φ２）＋ｂ・ sin（φ１−θ２−α） ＋ｃ・ sin（φ１−φ２´−δ−α） …(1) により表される。
の入射面における入射角をφ１、同入射面における屈折
角をφ２、プリズム２２の出射面における屈折角をθ
２、プリズム２３の入射面における入射角をφ２´、２
つのプリズム２、２３の頂点の各角度をα、プリズム２
２の出射面とプリズム２３の出射面とのなす角度をδ、
さらにプリズム２２内における光路長ＡＢをａ、２つの
プリズム２２、２３との間の光路長ＢＣをｂ、プリズム
２３内における光路長ＣＤをｃとすると、光軸シフト量
Ｓは、 Ｓ＝ａ・ sin（φ１−φ２）＋ｂ・ sin（φ１−θ２−α） ＋ｃ・ sin（φ１−φ２´−δ−α） …(1) により表される。
【００３４】一方、平板硝子２５の入射面における入射
角をφ３、同入射面における屈折角をφ４とすると、光
軸シフトＳ´は、 Ｓ´＝｛ sin（φ３−φ４）／ cosφ４｝×Ｌ …(2) により表される。
角をφ３、同入射面における屈折角をφ４とすると、光
軸シフトＳ´は、 Ｓ´＝｛ sin（φ３−φ４）／ cosφ４｝×Ｌ …(2) により表される。
【００３５】従って、光軸シフト量Ｓと光軸シフトＳ´
とが Ｓ＋Ｓ´＝０ …(3) となるように平板硝子２５の角度姿勢、つまり平板硝子
２５の入射面における入射角φ３及び屈折角φ４を求め
る。
とが Ｓ＋Ｓ´＝０ …(3) となるように平板硝子２５の角度姿勢、つまり平板硝子
２５の入射面における入射角φ３及び屈折角φ４を求め
る。
【００３６】又、姿勢制御装置３３は、２つのプリズム
２２、２３及び平板硝子２５の姿勢制御を行う場合、各
変位センサ４４、４５及び４８からの各姿勢信号を受
け、２つのプリズム２２、２３及び平板硝子２５の各姿
勢が目標値と一致するようにフィードバック制御する機
能を有している。
２２、２３及び平板硝子２５の姿勢制御を行う場合、各
変位センサ４４、４５及び４８からの各姿勢信号を受
け、２つのプリズム２２、２３及び平板硝子２５の各姿
勢が目標値と一致するようにフィードバック制御する機
能を有している。
【００３７】次に上記の如く構成された装置の作用につ
いて説明する。外部から倍率補正量Ｇが姿勢制御装置３
３に入力すると、この姿勢制御装置３３は、この倍率補
正量Ｇを達成するための２つのプリズム２２、２３の各
角度姿勢に対する各モータ４０、４１の各駆動量Ｐ１、
Ｐ２を算出し、これら駆動量Ｐ１、Ｐ２をそれぞれモー
タドライバ４２、４３に送出する。
いて説明する。外部から倍率補正量Ｇが姿勢制御装置３
３に入力すると、この姿勢制御装置３３は、この倍率補
正量Ｇを達成するための２つのプリズム２２、２３の各
角度姿勢に対する各モータ４０、４１の各駆動量Ｐ１、
Ｐ２を算出し、これら駆動量Ｐ１、Ｐ２をそれぞれモー
タドライバ４２、４３に送出する。
【００３８】これらモータドライバ４２、４３は、それ
ぞれ各モータ４０、４１を駆動し、これら駆動によって
２つのプリズム２２、２３は、それぞれ矢印（イ）、
（ロ）方向に回動し、倍率補正量Ｇを達成する各姿勢に
制御される。
ぞれ各モータ４０、４１を駆動し、これら駆動によって
２つのプリズム２２、２３は、それぞれ矢印（イ）、
（ロ）方向に回動し、倍率補正量Ｇを達成する各姿勢に
制御される。
【００３９】又、姿勢制御装置３３は、これら駆動量Ｐ
１、Ｐ２に応じた２つのプリズム２２、２３の角度姿勢
に基づき、２つのプリズム２２、２３により生じる光軸
シフト量Ｓを補正する平板硝子２５の角度姿勢を達成す
るためのモータ４６の駆動量Ｆを算出し、この駆動量Ｆ
をモータドライバ４７に送出する。
１、Ｐ２に応じた２つのプリズム２２、２３の角度姿勢
に基づき、２つのプリズム２２、２３により生じる光軸
シフト量Ｓを補正する平板硝子２５の角度姿勢を達成す
るためのモータ４６の駆動量Ｆを算出し、この駆動量Ｆ
をモータドライバ４７に送出する。
【００４０】すなわち、光軸シフト量Ｓを補正する平板
硝子２５の姿勢、つまり平板硝子２５の入射面における
入射角φ３及び屈折角φ４に姿勢制御するためのモータ
４６の駆動量Ｆを算出し、この駆動量Ｆをモータドライ
バ４７に送出する。
硝子２５の姿勢、つまり平板硝子２５の入射面における
入射角φ３及び屈折角φ４に姿勢制御するためのモータ
４６の駆動量Ｆを算出し、この駆動量Ｆをモータドライ
バ４７に送出する。
【００４１】このモータドライバ４７は、モータ４６を
駆動し、この駆動によって平板硝子２５は、矢印（ハ）
方向に回動し、上記姿勢に制御される。このような平板
硝子２５の姿勢制御が行われると、マスク２１を通過し
たパターン露光光は、２つのプリズム２２、２３を通過
することにより倍率補正され、平板硝子２５に入射す
る。
駆動し、この駆動によって平板硝子２５は、矢印（ハ）
方向に回動し、上記姿勢に制御される。このような平板
硝子２５の姿勢制御が行われると、マスク２１を通過し
たパターン露光光は、２つのプリズム２２、２３を通過
することにより倍率補正され、平板硝子２５に入射す
る。
【００４２】このとき、パターン露光光は、２つのプリ
ズム２２、２３を通過することにより光軸シフト量Ｓが
生じる。ところが、この平板硝子２５に入射したパター
ン露光光は、その境界面で屈折することにより、光軸シ
フトＳ´が生じる。
ズム２２、２３を通過することにより光軸シフト量Ｓが
生じる。ところが、この平板硝子２５に入射したパター
ン露光光は、その境界面で屈折することにより、光軸シ
フトＳ´が生じる。
【００４３】この結果、平板硝子２５を透過したパター
ン露光光の光軸は、マスク２１を通過したパターン露光
光の光軸と一致する。この後、パターン露光光は、台形
ミラー２６を介して凹面鏡２８及び凸面鏡２９から成る
反射投影光学系２７に入射し、この反射投影光学系２７
において凹面鏡２８で反射して凸面鏡２９に至り、次に
この凸面鏡２９で反射して再び凹面鏡２８に至り、この
凹面鏡２８から台形ミラー２６で反射して結像される。
ン露光光の光軸は、マスク２１を通過したパターン露光
光の光軸と一致する。この後、パターン露光光は、台形
ミラー２６を介して凹面鏡２８及び凸面鏡２９から成る
反射投影光学系２７に入射し、この反射投影光学系２７
において凹面鏡２８で反射して凸面鏡２９に至り、次に
この凸面鏡２９で反射して再び凹面鏡２８に至り、この
凹面鏡２８から台形ミラー２６で反射して結像される。
【００４４】そして、この反射投影光学系２７から出射
されたパターン露光光は、被処理体である半導体ウエハ
３０に結像される。これにより、マスクパターンが半導
体ウエハ３０に転写される。
されたパターン露光光は、被処理体である半導体ウエハ
３０に結像される。これにより、マスクパターンが半導
体ウエハ３０に転写される。
【００４５】なお、姿勢制御装置３３は、各変位センサ
４４、４５及び４８からの各姿勢信号を受け、２つのプ
リズム２２、２３及び平板硝子２５の各姿勢が目標とす
る各姿勢一致するようにフィードバック制御する。
４４、４５及び４８からの各姿勢信号を受け、２つのプ
リズム２２、２３及び平板硝子２５の各姿勢が目標とす
る各姿勢一致するようにフィードバック制御する。
【００４６】このように上記一実施例においては、２つ
のプリズム２２、２３の各姿勢に応じて平板硝子２５の
姿勢を制御し、この平板硝子２５の屈折作用により２つ
のプリズム２２、２３からのパターン露光光の光軸をシ
フトするようにしたので、倍率補正のための２つのプリ
ズム２２、２３により生じる光軸シフトを光学系により
補正できる。
のプリズム２２、２３の各姿勢に応じて平板硝子２５の
姿勢を制御し、この平板硝子２５の屈折作用により２つ
のプリズム２２、２３からのパターン露光光の光軸をシ
フトするようにしたので、倍率補正のための２つのプリ
ズム２２、２３により生じる光軸シフトを光学系により
補正できる。
【００４７】従って、このような平板硝子２５を姿勢制
御して光軸シフトを補正する装置を露光装置に適用すれ
ば、露光制御系である姿勢制御装置３３の処理を簡素化
できるとともに半導体ウエハ３０を移動させることもな
く、高精度にパターン転写ができる。
御して光軸シフトを補正する装置を露光装置に適用すれ
ば、露光制御系である姿勢制御装置３３の処理を簡素化
できるとともに半導体ウエハ３０を移動させることもな
く、高精度にパターン転写ができる。
【００４８】又、２つのプリズム２２、２３及び平板硝
子２５の各姿勢をフィードバック制御するので、これら
の姿勢を高精度に制御できる。なお、本発明は、上記一
実施例に限定されるものでなく次の通りに変形してもよ
い。
子２５の各姿勢をフィードバック制御するので、これら
の姿勢を高精度に制御できる。なお、本発明は、上記一
実施例に限定されるものでなく次の通りに変形してもよ
い。
【００４９】例えば、姿勢制御装置３３は、２つのプリ
ズム２２、２３の各姿勢に基づいて平板硝子２５の姿勢
を求めるのに限らず、予め２つのプリズム２２、２３の
各姿勢に対応した平板硝子２５の姿勢をテーブル化して
記憶し、２つのプリズム２２、２３の各姿勢を受けて平
板硝子２５の姿勢を読み出すようにしてもよい。
ズム２２、２３の各姿勢に基づいて平板硝子２５の姿勢
を求めるのに限らず、予め２つのプリズム２２、２３の
各姿勢に対応した平板硝子２５の姿勢をテーブル化して
記憶し、２つのプリズム２２、２３の各姿勢を受けて平
板硝子２５の姿勢を読み出すようにしてもよい。
【００５０】又、平板硝子２５は、２つのプリズム２
２、２３の出射側に配置しているが、これらプリズム２
２、２３の入射側、又は反射投影光学系２７と半導体ウ
エハ３０との間の光路上に配置してもよい。
２、２３の出射側に配置しているが、これらプリズム２
２、２３の入射側、又は反射投影光学系２７と半導体ウ
エハ３０との間の光路上に配置してもよい。
【００５１】又、この平板硝子２５は、光透過性のもの
であればよく、例えば平板硝子を複数枚重ね合わせた構
成でもよい。さらに、倍率補正のプリズムは複数枚組み
合わせた構成でもよく、又光軸シフトの補正の平板硝子
も複数枚に配置するようにしてもよい。又、光軸シフト
の補正は、露光装置に限らず、他の光学系の光軸シフト
の補正にも適用可能である。
であればよく、例えば平板硝子を複数枚重ね合わせた構
成でもよい。さらに、倍率補正のプリズムは複数枚組み
合わせた構成でもよく、又光軸シフトの補正の平板硝子
も複数枚に配置するようにしてもよい。又、光軸シフト
の補正は、露光装置に限らず、他の光学系の光軸シフト
の補正にも適用可能である。
【００５２】
【発明の効果】以上詳記したように本発明によれば、光
軸シフトのみを光学的に補正して制御系を簡略化できる
補正用プリズム機器を提供できる。又、本発明によれ
ば、光軸シフトのみを光学的に補正して制御系を簡略化
し高精度な露光処理ができる露光装置を提供できる。
軸シフトのみを光学的に補正して制御系を簡略化できる
補正用プリズム機器を提供できる。又、本発明によれ
ば、光軸シフトのみを光学的に補正して制御系を簡略化
し高精度な露光処理ができる露光装置を提供できる。
【図１】本発明に係わる補正用プリズム装置を適用した
露光装置の一実施例を示す構成図。
露光装置の一実施例を示す構成図。
【図２】補正用プリズム装置の具体的な構成図。
【図３】同装置による光軸シフト補正の作用を示す図。
【図４】従来の反射ミラー型露光装置の構成図。
【図５】同装置における２つのプリズムによる光軸シフ
トを示す図。
トを示す図。
２０…光源、 ２２，２３…プリズム、 ２５…平板硝子、 ２６…台形ミラー、 ２８…凹面鏡、 ２９…凸面鏡、 ３３…姿勢制御装置、 ４０，４１，４６…モータ、 ４２，４３，４７…モータドライバ、 ４４，４５，４８…変位センサ。
Claims (5)
- 【請求項１】 入射光束に対する出射光束の倍率を補正
する少なくとも２つのプリズムと、 前記各プリズムの各姿勢を認識する姿勢認識手段と、 前記各プリズムの入射側又は出射側の少くともいずれか
一方に配置された光透過性板と、 前記姿勢認識手段により認識された前記各プリズムの各
姿勢に応じて前記光透過性板の姿勢を制御し前記入射光
束と前記出射光束との光軸を合わせる姿勢制御手段と、
を具備したことを特徴とする補正用プリズム機器。 - 【請求項２】 姿勢認識手段は、各プリズムの角度姿勢
を変位センサにより検出することを特徴とする請求項１
記載の補正用プリズム機器。 - 【請求項３】 姿勢制御手段は、各プリズムの角度姿勢
から入射光束に対する出射光束の光軸シフト量を求め、
この光軸シフト量を無くすように光透過性板の光軸に対
する角度姿勢を制御することを特徴とする請求項１記載
の補正用プリズム機器。 - 【請求項４】 マスクを通過したパターン露光光を凹面
鏡及び凸面鏡から成る結像光学系を通して被処理体に結
像する露光装置において、 前記マスクから前記結像光学系を通して前記被処理体に
至る光路に配置された少くとも２つのプリズムを組み合
わせて前記パターン露光光の倍率を変化する倍率補正系
と、 前記各プリズムの各姿勢を認識する姿勢認識手段と、 前記各プリズムの入射側又は出射側の少くともいずれか
一方に配置された光透過性板と、 前記姿勢認識手段により認識された前記各プリズムの各
姿勢に応じて前記光透過性板の姿勢を制御する姿勢制御
手段と、を具備したことを特徴とする露光装置。 - 【請求項５】 姿勢制御手段は、各プリズムの角度姿勢
から入射光束に対する出射光束の光軸シフト量を求め、
この光軸シフト量を無くすように光透過性板の光軸に対
する角度姿勢を制御することを特徴とする請求項４記載
の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6206800A JPH0878303A (ja) | 1994-08-31 | 1994-08-31 | 補正用プリズム機器及びこれを適用した露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6206800A JPH0878303A (ja) | 1994-08-31 | 1994-08-31 | 補正用プリズム機器及びこれを適用した露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0878303A true JPH0878303A (ja) | 1996-03-22 |
Family
ID=16529310
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6206800A Pending JPH0878303A (ja) | 1994-08-31 | 1994-08-31 | 補正用プリズム機器及びこれを適用した露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0878303A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001185478A (ja) * | 1999-12-27 | 2001-07-06 | Canon Inc | 露光装置 |
| EP1139173A2 (de) * | 2000-03-31 | 2001-10-04 | Carl Zeiss | Mikrolithographisches Beleuchtungssystem und damit versehene mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
-
1994
- 1994-08-31 JP JP6206800A patent/JPH0878303A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001185478A (ja) * | 1999-12-27 | 2001-07-06 | Canon Inc | 露光装置 |
| EP1139173A2 (de) * | 2000-03-31 | 2001-10-04 | Carl Zeiss | Mikrolithographisches Beleuchtungssystem und damit versehene mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
| EP1139173A3 (de) * | 2000-03-31 | 2005-03-23 | Carl Zeiss SMT AG | Mikrolithographisches Beleuchtungssystem und damit versehene mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
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