JP2001170442A - 悪臭ガス処理方法 - Google Patents
悪臭ガス処理方法Info
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- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
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- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 悪臭ガスを触媒吸着および酸化によって大気
温度および圧力で経済的かつ効果的に処理する方法を提
供する。 【解決手段】 (a)悪臭化合物を触媒的に吸着するた
めの触媒を含む洗浄水に悪臭ガスを接触すること、
(b)前記悪臭化合物を含む得られた溶液を酸化剤に大
気圧下、0〜100℃の範囲の温度で触媒の存在で接触
させることによって触媒酸化をなすことを備え、前記触
媒はアルカリ、アルカリ土類および遷移金属から選ばれ
る活性金属元素および任意の酸化物支持体材料を含む悪
臭ガスを処理するための方法。
温度および圧力で経済的かつ効果的に処理する方法を提
供する。 【解決手段】 (a)悪臭化合物を触媒的に吸着するた
めの触媒を含む洗浄水に悪臭ガスを接触すること、
(b)前記悪臭化合物を含む得られた溶液を酸化剤に大
気圧下、0〜100℃の範囲の温度で触媒の存在で接触
させることによって触媒酸化をなすことを備え、前記触
媒はアルカリ、アルカリ土類および遷移金属から選ばれ
る活性金属元素および任意の酸化物支持体材料を含む悪
臭ガスを処理するための方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、悪臭ガス処理、特
に触媒吸着の使用および緩慢な条件の酸化方法により雰
囲気中の悪臭化合物を除去するための方法に関する。
に触媒吸着の使用および緩慢な条件の酸化方法により雰
囲気中の悪臭化合物を除去するための方法に関する。
【0002】
【従来の技術】種々の悪臭化合物は、多くの産業プラン
ト、下水集中システム、廃水処理装置、厨芥焼却プラン
ト、埋め立て地現場で発生される。これらの悪臭化合物
は特に密閉された労働空間での大気汚染問題の原因にな
るため、多くの努力はそれらを除去する効率的な方法の
開発に注がれている。
ト、下水集中システム、廃水処理装置、厨芥焼却プラン
ト、埋め立て地現場で発生される。これらの悪臭化合物
は特に密閉された労働空間での大気汚染問題の原因にな
るため、多くの努力はそれらを除去する効率的な方法の
開発に注がれている。
【0003】雰囲気からの悪臭化合物の除去は、吸着、
水吸着、生物学的処理および燃焼方法によってなされて
いる。燃焼方法は、大量かつ高濃度の悪臭化合物の存在
に適用されるが、高コストを要求する。さらに、吸着剤
を用いる吸着方法は脂肪酸、メルカプタン、脂肪族また
は芳香族の炭化水素および有機塩素化合物の処理で充分
な効果を供するが、硫化水素、塩素、ホルムアルデヒ
ド、アンモニアのような低吸着性を有する多量の悪臭化
合物の処理で低効果である。さらにまた、微生物での生
物学的方法は抵効率である。
水吸着、生物学的処理および燃焼方法によってなされて
いる。燃焼方法は、大量かつ高濃度の悪臭化合物の存在
に適用されるが、高コストを要求する。さらに、吸着剤
を用いる吸着方法は脂肪酸、メルカプタン、脂肪族また
は芳香族の炭化水素および有機塩素化合物の処理で充分
な効果を供するが、硫化水素、塩素、ホルムアルデヒ
ド、アンモニアのような低吸着性を有する多量の悪臭化
合物の処理で低効果である。さらにまた、微生物での生
物学的方法は抵効率である。
【0004】一方、水吸着方法は大量の排水を発生し、
したがって追加的処理方法を要求する。二次汚染問題に
対し、特開昭56−31424号公報は悪臭ガスをpH
10〜13のアルカリ洗浄液に接触させ、それから次亜
塩素酸ナトリウムおよび酸の使用によりpH6〜8に維
持された洗浄液と接触することを備えた悪臭、特に塩素
臭気の処理方法を示唆している。しかしながら、この方
法は多様な他の悪臭廃水流に適切に適用することができ
ない。
したがって追加的処理方法を要求する。二次汚染問題に
対し、特開昭56−31424号公報は悪臭ガスをpH
10〜13のアルカリ洗浄液に接触させ、それから次亜
塩素酸ナトリウムおよび酸の使用によりpH6〜8に維
持された洗浄液と接触することを備えた悪臭、特に塩素
臭気の処理方法を示唆している。しかしながら、この方
法は多様な他の悪臭廃水流に適切に適用することができ
ない。
【0005】さらに、1999年9月7日に発行された
米国特許第5,948,269号明細書には液状または
スラッジ廃水の溶解された硫化水素および他の悪臭化合
物除去のための方法が開示されている。この方法は、水
酸化第1鉄、炭酸第1鉄、重炭酸第1鉄、水素化第1鉄
酸化物および水酸化第2鉄のようなアルカリ鉄製品を添
加することによって特徴づけられる。この方法は、さら
に溶液中の鉄イオンを安定するための高価な配位子、お
よび多量の窒素を含む毒性の廃水を発生する問題を有
し、さらに溶液のpHコントロールが方法の困難な部
分、システムの障害、である。
米国特許第5,948,269号明細書には液状または
スラッジ廃水の溶解された硫化水素および他の悪臭化合
物除去のための方法が開示されている。この方法は、水
酸化第1鉄、炭酸第1鉄、重炭酸第1鉄、水素化第1鉄
酸化物および水酸化第2鉄のようなアルカリ鉄製品を添
加することによって特徴づけられる。この方法は、さら
に溶液中の鉄イオンを安定するための高価な配位子、お
よび多量の窒素を含む毒性の廃水を発生する問題を有
し、さらに溶液のpHコントロールが方法の困難な部
分、システムの障害、である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、悪臭ガ
スの処理にとって効果的な触媒吸着および触媒酸化方法
を開発することを試み、特別の触媒が廃水に溶解した悪
臭ガスの処理にとって有益に使用できることを見出し
た。
スの処理にとって効果的な触媒吸着および触媒酸化方法
を開発することを試み、特別の触媒が廃水に溶解した悪
臭ガスの処理にとって有益に使用できることを見出し
た。
【0007】したがって、本発明の第1目的は悪臭ガス
を処理することに有益な触媒脱臭気化方法を提供するこ
とである。
を処理することに有益な触媒脱臭気化方法を提供するこ
とである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の目標に従って、
(a)悪臭化合物を触媒的に吸着するための触媒を含む
洗浄水に悪臭ガスを接触すること、(b)前記悪臭化合
物を含む得られた溶液を酸化剤に大気圧下、0〜100
℃の範囲の温度で触媒の存在で接触させることによって
触媒酸化をなすことを備え、前記触媒はアルカリ、アル
カリ土類および遷移金属から選ばれる活性金属元素およ
び任意の酸化物支持体材料を含む悪臭ガスを処理するた
めの方法が提供される。
(a)悪臭化合物を触媒的に吸着するための触媒を含む
洗浄水に悪臭ガスを接触すること、(b)前記悪臭化合
物を含む得られた溶液を酸化剤に大気圧下、0〜100
℃の範囲の温度で触媒の存在で接触させることによって
触媒酸化をなすことを備え、前記触媒はアルカリ、アル
カリ土類および遷移金属から選ばれる活性金属元素およ
び任意の酸化物支持体材料を含む悪臭ガスを処理するた
めの方法が提供される。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明に従って、悪臭ガスは緩慢
な条件下、特別の触媒の存在で触媒吸着および酸化方法
によって経済的かつ効率的に処理されることができる。
な条件下、特別の触媒の存在で触媒吸着および酸化方法
によって経済的かつ効率的に処理されることができる。
【0010】前記発明方法は、NH3,(CH3)3Nの
ようなアミン類、メチルメルカプタン(CH3SH)、
ジメチルスルファイド((CH3)2S)およびジメチル
ジスルファイド((CH3)2S2)のような有機硫黄化
合物、硫化水素(H2S)、スチレン(C8H8)、アセ
トアルデヒド(CH3CHO)およびその他を含む種々
の悪臭ガスを処理するのに適している。
ようなアミン類、メチルメルカプタン(CH3SH)、
ジメチルスルファイド((CH3)2S)およびジメチル
ジスルファイド((CH3)2S2)のような有機硫黄化
合物、硫化水素(H2S)、スチレン(C8H8)、アセ
トアルデヒド(CH3CHO)およびその他を含む種々
の悪臭ガスを処理するのに適している。
【0011】殆どの悪臭ガスは、本発明の方法において
水に高溶解性を有するので、悪臭ガスは洗浄水(スクラ
ビング水)に接触され、悪臭成分を含む溶液を供する。
本発明において、前記洗浄水中の本発明に係る特別の触
媒の分散物は吸着速度を驚異的に加速し、全体的な脱臭
気化効率を向上する。この吸着洗浄は、従来の手法、例
えば水塔から悪臭ガスの領域に循環される水流を噴射す
ることによってなされもよい。この時、次の触媒酸化方
法に使用されるべき触媒は前記洗浄水流に導入され、吸
着速度を向上する。
水に高溶解性を有するので、悪臭ガスは洗浄水(スクラ
ビング水)に接触され、悪臭成分を含む溶液を供する。
本発明において、前記洗浄水中の本発明に係る特別の触
媒の分散物は吸着速度を驚異的に加速し、全体的な脱臭
気化効率を向上する。この吸着洗浄は、従来の手法、例
えば水塔から悪臭ガスの領域に循環される水流を噴射す
ることによってなされもよい。この時、次の触媒酸化方
法に使用されるべき触媒は前記洗浄水流に導入され、吸
着速度を向上する。
【0012】次いで、前記水洗浄方法によって生成した
溶液は本発明に係わる触媒の存在で酸化剤と接触する。
溶液は本発明に係わる触媒の存在で酸化剤と接触する。
【0013】本発明で用いられる前記酸化剤の例は、過
酸化水素、オゾン、酸素、空気、N xOy(x=1〜3,
y=1〜4)、NaOClおよび任意の光照射でのそれ
らの組み合わせを含み、これらの中で空気および酸素が
好ましい。
酸化水素、オゾン、酸素、空気、N xOy(x=1〜3,
y=1〜4)、NaOClおよび任意の光照射でのそれ
らの組み合わせを含み、これらの中で空気および酸素が
好ましい。
【0014】本発明の触媒吸着および酸化において、異
種または同種の触媒が使用されてもよい。
種または同種の触媒が使用されてもよい。
【0015】前記発明の異種触媒は、活性金属元素およ
び支持体材料を備える。前記支持体材料は、Al,G
a,In,Si,Ge,Sn,Pb,As,Sb,B
i,Se,Zn,Cd,Fe,Mn,Cr,Mo,W,
V,Nb,Ti,Zr,Hf,Ta,Mg,Ca,S
r,Ba,ランタニド元素、アクチノイド元素またはそ
れらの混合物から選ばれる酸化物であってもよい。好ま
しくは、前記支持体はCaO,BaO,MnO,鉄酸化
物、TiO2,SnO2,MgOまたはPbO2である。
び支持体材料を備える。前記支持体材料は、Al,G
a,In,Si,Ge,Sn,Pb,As,Sb,B
i,Se,Zn,Cd,Fe,Mn,Cr,Mo,W,
V,Nb,Ti,Zr,Hf,Ta,Mg,Ca,S
r,Ba,ランタニド元素、アクチノイド元素またはそ
れらの混合物から選ばれる酸化物であってもよい。好ま
しくは、前記支持体はCaO,BaO,MnO,鉄酸化
物、TiO2,SnO2,MgOまたはPbO2である。
【0016】前記発明の異種触媒の調製において使用に
適する前記活性金属元素は、アルカリ金属、アルカリ土
類金属および遷移金属であってもよい。Li,Naおよ
びKのようなIA属元素、Ru,Co,Fe,Pd,N
iおよびRhのようなVIII属元素、MnのようなVII属
元素、CuのようなIB属元素およびそれらの混合物が
好ましく、Ru,Co,Fe,Cu,Mn,Niおよび
それらの混合物がより好ましい。
適する前記活性金属元素は、アルカリ金属、アルカリ土
類金属および遷移金属であってもよい。Li,Naおよ
びKのようなIA属元素、Ru,Co,Fe,Pd,N
iおよびRhのようなVIII属元素、MnのようなVII属
元素、CuのようなIB属元素およびそれらの混合物が
好ましく、Ru,Co,Fe,Cu,Mn,Niおよび
それらの混合物がより好ましい。
【0017】好ましい異種触媒は、MgOまたはPbO
2に担持された遷移金属触媒である。
2に担持された遷移金属触媒である。
【0018】本発明の異種触媒は、金属元素、例えば塩
素、窒素または硫黄の溶解形態、使用されるべき前記支
持体材料の量に対して0.0001〜100重量%、よ
り好ましくは0.01〜50重量%、最も好ましくは
0.1〜10重量%の量で含む水または有機の溶液で支
持体材料に含浸し、乾燥し、さらに前記含浸支持体材料
を200〜600℃の範囲の温度、より好ましくは約4
00℃で、0.1〜24時間、より好ましくは2〜4時
間の範囲の期間で焼成することによって調製されてもよ
い。択一的に、前記金属元素は従来の手法で、低減され
た圧力下、有機金属化合物の蒸気を含むガスを用いて前
記支持体材料に含浸してもよい。得られた触媒は、粉
末、ペレットまたは顆粒の形態であってもよい。
素、窒素または硫黄の溶解形態、使用されるべき前記支
持体材料の量に対して0.0001〜100重量%、よ
り好ましくは0.01〜50重量%、最も好ましくは
0.1〜10重量%の量で含む水または有機の溶液で支
持体材料に含浸し、乾燥し、さらに前記含浸支持体材料
を200〜600℃の範囲の温度、より好ましくは約4
00℃で、0.1〜24時間、より好ましくは2〜4時
間の範囲の期間で焼成することによって調製されてもよ
い。択一的に、前記金属元素は従来の手法で、低減され
た圧力下、有機金属化合物の蒸気を含むガスを用いて前
記支持体材料に含浸してもよい。得られた触媒は、粉
末、ペレットまたは顆粒の形態であってもよい。
【0019】本発明に従って、前記異種触媒は前記支持
体材料の電気化学的性質を改善することができる第3元
素をさらに含んでもよい。そのような元素は、アルカリ
金属、前記活性金属元素と異なるアルカリ土類金属、
P,B,F,As,Ga,Geまたはそれらの混合物で
あってもよい。前記第3元素は、前記触媒の重量に対し
て0.0001〜90重量%の範囲、より好ましくは
0.01〜20重量%、最も好ましくは0.1〜5重量
%の量で使用してもよい。
体材料の電気化学的性質を改善することができる第3元
素をさらに含んでもよい。そのような元素は、アルカリ
金属、前記活性金属元素と異なるアルカリ土類金属、
P,B,F,As,Ga,Geまたはそれらの混合物で
あってもよい。前記第3元素は、前記触媒の重量に対し
て0.0001〜90重量%の範囲、より好ましくは
0.01〜20重量%、最も好ましくは0.1〜5重量
%の量で使用してもよい。
【0020】一方、同種触媒の場合、例えば可溶化され
たFe(NO3)2は約10ppm〜約5重量%、好まし
くは100ppm〜1重量%、より好ましくは1000
ppm〜5000ppの範囲の量で支持体材料なしで、
それを添加してもよいが、用いられる。
たFe(NO3)2は約10ppm〜約5重量%、好まし
くは100ppm〜1重量%、より好ましくは1000
ppm〜5000ppの範囲の量で支持体材料なしで、
それを添加してもよいが、用いられる。
【0021】本発明の触媒の効率は、前記触媒系が例え
ば日光またはUV光で照射される時に増加される。さら
に、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)のような錯生
成剤は前記触媒の安定性および反応性を増すために導入
してもよい。
ば日光またはUV光で照射される時に増加される。さら
に、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)のような錯生
成剤は前記触媒の安定性および反応性を増すために導入
してもよい。
【0022】本発明に従って、還元剤は前記触媒の活性
金属元素の酸化−還元反応を支援する目的で前記触媒と
共に任意に使用してもよい。前記還元剤は、前記支持体
材料に支持された金属元素の部分的な還元によって活性
酸素を供するように機能する。水溶性還元剤は、好適に
用いられ、かつそれらの例はアスコルビン酸、ヒドロキ
ノン、ホルマリン、メタノール、トリアルキルオルソエ
ーテル、アセタールを含む。
金属元素の酸化−還元反応を支援する目的で前記触媒と
共に任意に使用してもよい。前記還元剤は、前記支持体
材料に支持された金属元素の部分的な還元によって活性
酸素を供するように機能する。水溶性還元剤は、好適に
用いられ、かつそれらの例はアスコルビン酸、ヒドロキ
ノン、ホルマリン、メタノール、トリアルキルオルソエ
ーテル、アセタールを含む。
【0023】さらに、本発明の前記触媒系は酸化によっ
て生成される酸素活性のより効果的な使用のために活性
転移剤を用いてもよい。前記活性転移剤の適切な例は、
Br 2,Br-,BrO-およびBrO3 -である。
て生成される酸素活性のより効果的な使用のために活性
転移剤を用いてもよい。前記活性転移剤の適切な例は、
Br 2,Br-,BrO-およびBrO3 -である。
【0024】異種触媒が使用される場合において、前記
触媒反応系は公知の反応器系、例えば固定床反応器、流
動床反応器、スラリー反応器およびその他を用いて実行
されてもよい。もし必要であれば、使用済み触媒は前記
反応器から回収され、乾燥および焼成によって再生さ
れ、再使用されてもよい。
触媒反応系は公知の反応器系、例えば固定床反応器、流
動床反応器、スラリー反応器およびその他を用いて実行
されてもよい。もし必要であれば、使用済み触媒は前記
反応器から回収され、乾燥および焼成によって再生さ
れ、再使用されてもよい。
【0025】前記触媒の活性要素は、強酸条件で離脱さ
れるので、その系のpHは好ましくは3またはそれ以
上、より好ましくは6またはそれ以上に調節されいもよ
い。さらに、硫化水素の処理は硫化水素が酸であるから
塩基条件でなされることが好ましい。
れるので、その系のpHは好ましくは3またはそれ以
上、より好ましくは6またはそれ以上に調節されいもよ
い。さらに、硫化水素の処理は硫化水素が酸であるから
塩基条件でなされることが好ましい。
【0026】この発明の悪臭ガスの触媒吸着および酸化
は、大気温度および圧力で効果的になすことができる
が、許されるならより高い温度でより効果的に遂行して
もよい。この発明の方法は、0〜100℃の範囲の温度
でなされることが好ましい。
は、大気温度および圧力で効果的になすことができる
が、許されるならより高い温度でより効果的に遂行して
もよい。この発明の方法は、0〜100℃の範囲の温度
でなされることが好ましい。
【0027】この発明の方法による悪臭ガスの処理は、
悪臭成分が反応生成物流にもはや残っていない場合にお
いて有益さを有し、単なる吸着方法によって完全に処理
することが困難である硫化水素を触媒吸着および酸化に
よって完全に除去でき、かつその処理は燃焼方法に比べ
て大きなスケールでなすことができる。
悪臭成分が反応生成物流にもはや残っていない場合にお
いて有益さを有し、単なる吸着方法によって完全に処理
することが困難である硫化水素を触媒吸着および酸化に
よって完全に除去でき、かつその処理は燃焼方法に比べ
て大きなスケールでなすことができる。
【0028】
【実施例】次の例は、例示のみを目的として与えられ、
本発明の範囲を制限するものではない。
本発明の範囲を制限するものではない。
【0029】調製1:触媒の調製 Fe/MgO触媒は、1Lの水に100gのFeSO4
を溶解し、得られた溶液で1kgのMgO(325メッ
シュ)に含浸し、得られた材料を室温で完全に乾燥し、
乾燥材料を400℃、3時間焼成し、触媒の総重量に対
して1重量%を担持したFeを有する触媒を得ることに
よって調製された。
を溶解し、得られた溶液で1kgのMgO(325メッ
シュ)に含浸し、得られた材料を室温で完全に乾燥し、
乾燥材料を400℃、3時間焼成し、触媒の総重量に対
して1重量%を担持したFeを有する触媒を得ることに
よって調製された。
【0030】同様な手順は、適切な金属酸化物と共に他
の金属塩化物、金属窒化物、または金属硫化物を用いて
反復され、Cu/TiO2,Mn/MgO,Ni/Mg
O,Pb/MgO,Fe/TiO2,Ru/PbO2およ
びPb/MgOの触媒をそれぞれ調製した。
の金属塩化物、金属窒化物、または金属硫化物を用いて
反復され、Cu/TiO2,Mn/MgO,Ni/Mg
O,Pb/MgO,Fe/TiO2,Ru/PbO2およ
びPb/MgOの触媒をそれぞれ調製した。
【0031】調製2:触媒の調製 Fe/MgO触媒は、121gのFe3(CO)12を1
kgのMgO(325メッシュ)と混合し、得られた混
合物を鉄化合物を酸化の進行から防ぐために還元雰囲気
下、100℃以下で加熱し、得られた材料を400℃、
3時間焼成し、触媒の総重量に対して1重量%を担持し
たFeを有する触媒を得ることによって調製された。
kgのMgO(325メッシュ)と混合し、得られた混
合物を鉄化合物を酸化の進行から防ぐために還元雰囲気
下、100℃以下で加熱し、得られた材料を400℃、
3時間焼成し、触媒の総重量に対して1重量%を担持し
たFeを有する触媒を得ることによって調製された。
【0032】調製3:触媒の調製 Fe/P/MgO触媒は、1kgのMgO(325メッ
シュ)に1Lの水に20gのP2O5を溶解することによ
り得られた溶液で含浸し、得られたリン含有MgO支持
体を用いて調製1の手順を反復し、触媒の総重量に対し
て1重量%を担持したFeおよび3重量%担持したPを
有する触媒を得ることによって調製された。
シュ)に1Lの水に20gのP2O5を溶解することによ
り得られた溶液で含浸し、得られたリン含有MgO支持
体を用いて調製1の手順を反復し、触媒の総重量に対し
て1重量%を担持したFeおよび3重量%担持したPを
有する触媒を得ることによって調製された。
【0033】同様な手順は、適切なLi化合物と共に他
の金属塩化物、金属窒化物、または金属硫化物を用いて
反復され、Co/Li/MgOおよびFe/Li/Mg
Oの触媒をそれぞれ調製した。
の金属塩化物、金属窒化物、または金属硫化物を用いて
反復され、Co/Li/MgOおよびFe/Li/Mg
Oの触媒をそれぞれ調製した。
【0034】例1:有機硫黄化合物の処理 ジメチルスルファイドおよびジメチルジスルファイド
は、空気と混合され、標準悪臭ガスを調製し、この悪臭
ガスは次ぎに水洗浄方法を通して調製3で調製されたF
e/P/MgO触媒を含む水で処理され、その悪臭ガス
を前記水に溶解した。
は、空気と混合され、標準悪臭ガスを調製し、この悪臭
ガスは次ぎに水洗浄方法を通して調製3で調製されたF
e/P/MgO触媒を含む水で処理され、その悪臭ガス
を前記水に溶解した。
【0035】流動床反応器において、前記硫化物成分を
含む溶液は酸素で前記Fe/P/MgO触媒の存在、室
温、1気圧にて30分間処理された。
含む溶液は酸素で前記Fe/P/MgO触媒の存在、室
温、1気圧にて30分間処理された。
【0036】前記処理前後における前記溶液中の各悪臭
成分の量は、ガスクロマトグラフィにより決定され、か
つその結果は表1に示される。
成分の量は、ガスクロマトグラフィにより決定され、か
つその結果は表1に示される。
【0037】
【表1】
【0038】例2:各種触媒での処理 例1に述べられた手順は、前記各調製で調製された他の
種々の触媒を用いて反復された。
種々の触媒を用いて反復された。
【0039】COD値および硫黄含有化合物の量は、処
理前後に測定され、かつその結果は表2に示される。
理前後に測定され、かつその結果は表2に示される。
【0040】
【表2】
【0041】例3:硫化水素の処理 38ppm,28ppm,26ppmおよび22ppm
の濃度で硫化水素を含む悪臭ガスは、5.8m3/分,
7.8m3/分,8.5m3/分および10m3/分の流
速で調製1または2で調製されたFe/MgO触媒を含
む洗浄水が置かれる洗浄槽(洗浄槽の内径:50cm,
洗浄槽の高さ:80cm、充填材料は2つのステージに
充填され、曇り止めが付設されている)をそれぞれ通過
された。次いで、悪臭成分を含む得られた溶液は例1と
同様、酸素でFe/MgO触媒の存在、室温、1気圧、
30分間処理された。
の濃度で硫化水素を含む悪臭ガスは、5.8m3/分,
7.8m3/分,8.5m3/分および10m3/分の流
速で調製1または2で調製されたFe/MgO触媒を含
む洗浄水が置かれる洗浄槽(洗浄槽の内径:50cm,
洗浄槽の高さ:80cm、充填材料は2つのステージに
充填され、曇り止めが付設されている)をそれぞれ通過
された。次いで、悪臭成分を含む得られた溶液は例1と
同様、酸素でFe/MgO触媒の存在、室温、1気圧、
30分間処理された。
【0042】硫化水素の量は、ガスクロマトグラフィに
より処理前後に分析され、悪臭ガス中の硫化水素の除去
率は図1に示される。
より処理前後に分析され、悪臭ガス中の硫化水素の除去
率は図1に示される。
【0043】さらに、前記手順は流速が6.2m3/
分,17.7m3/分および22m3/分、高さ200c
mを有し、ポールリングで充填された洗浄槽が使用され
た以外、反復され、悪臭ガス中の硫化水素の除去効率は
図2に示される。
分,17.7m3/分および22m3/分、高さ200c
mを有し、ポールリングで充填された洗浄槽が使用され
た以外、反復され、悪臭ガス中の硫化水素の除去効率は
図2に示される。
【0044】例4:種々の酸化剤での処理 例1の手順は、酸化剤としての過酸化水素、NaOCl
およびオゾンを用いて反復された。過酸化水素およびN
aOClは、500ppmの量で使用され、オゾンは過
剰量で使用された。
およびオゾンを用いて反復された。過酸化水素およびN
aOClは、500ppmの量で使用され、オゾンは過
剰量で使用された。
【0045】COD値および硫黄化合物の量は、処理前
後に測定され、かつその結果は表3に示される。
後に測定され、かつその結果は表3に示される。
【0046】
【表3】
【0047】例5:Br-の添加効果 例1で述べられた手順は、オゾンが酸化剤として使用さ
れ、かつ300ppmのBr-が添加された以外、反復
された。
れ、かつ300ppmのBr-が添加された以外、反復
された。
【0048】COD値および硫黄化合物の量は、処理前
後に測定され、かつその結果は表4に示される。
後に測定され、かつその結果は表4に示される。
【0049】
【表4】
【0050】例6:還元剤の添加効果 例1で述べられた手順は、還元剤としての5mモルのア
スコルビン酸が導入された以外、反復された。
スコルビン酸が導入された以外、反復された。
【0051】COD値および硫黄化合物の量は、処理前
後に測定され、かつその結果は表5に示される。
後に測定され、かつその結果は表5に示される。
【0052】
【表5】
【0053】例7:同種触媒での処理 例1で述べられた手順は、水性Fe(NO3)2溶液が1
000ppmFeイオンのレベルで前記洗浄水に添加さ
れ、洗浄水のpHが4に維持された以外、反復された。
この触媒酸化において、廃水流は中圧水銀陰極線管で照
射された。
000ppmFeイオンのレベルで前記洗浄水に添加さ
れ、洗浄水のpHが4に維持された以外、反復された。
この触媒酸化において、廃水流は中圧水銀陰極線管で照
射された。
【0054】廃水の硫黄化合物の量は、処理前後に測定
され、かつその結果は表6に示される。
され、かつその結果は表6に示される。
【0055】
【表6】
【0056】前記から明らかなように本発明に従って、
種々の悪臭材料は大気条件下、特別の触媒の存在での触
媒吸着および酸化によって効果的に処理することができ
る。
種々の悪臭材料は大気条件下、特別の触媒の存在での触
媒吸着および酸化によって効果的に処理することができ
る。
【0057】この発明は、前記特別の例に関連して述べ
たが、種々の変更および変化は添えられた請求の範囲に
よって規定される本発明の範囲から外れずに、当業者に
よって本発明をなしてもよい。
たが、種々の変更および変化は添えられた請求の範囲に
よって規定される本発明の範囲から外れずに、当業者に
よって本発明をなしてもよい。
【図1】この発明の触媒−吸着および酸化方法で処理さ
れた硫化水素を含む悪臭ガスとしての硫化水素の除去効
率を示す。
れた硫化水素を含む悪臭ガスとしての硫化水素の除去効
率を示す。
【図2】この発明の触媒−吸着および酸化方法で処理さ
れた硫化水素を含む悪臭ガスとしての硫化水素の除去効
率を示す。
れた硫化水素を含む悪臭ガスとしての硫化水素の除去効
率を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B01J 23/62 B01J 23/78 M 23/72 ZAB 27/185 M 23/78 C02F 1/70 Z 27/185 1/72 Z C02F 1/70 101 1/72 1/74 Z 101 1/76 Z 1/74 1/78 1/76 B01D 53/34 116D 1/78 (72)発明者 クヮン−ドグ・ジュン 大韓民国、ソウル 137−130、ソチョ− グ、ジャムウォン−ドン、ナンバー51、ハ ンシン・ファミリー・アパートメント 2 −1505 (72)発明者 オー−シム・ジョー 大韓民国、ソウル 136−141、ソンブク− グ、ジャングイ−1−ドン、ナンバー− 233−42、チャンキュン・ビラ 206 (72)発明者 ソン−ホーン・チョ 大韓民国、ソウル 136−086、ソンブク− グ、ボモーン−ドン 6−ガ、ナンバー54 (72)発明者 ジュン−ウー・オー 大韓民国、ソウル 142−090、カンブク− グ、ウイ−ドン、ナンバー163−11、デ ホ・ビラ 301
Claims (12)
- 【請求項1】 (a)悪臭化合物を触媒的に吸着するた
めの触媒を含む洗浄水に悪臭ガスを接触すること、
(b)前記悪臭化合物を含む得られた溶液を酸化剤に大
気圧下、0〜100℃の範囲の温度で触媒の存在で接触
させることによって触媒酸化をなすことを備え、前記触
媒はアルカリ、アルカリ土類および遷移金属から選ばれ
る活性金属元素および任意の酸化物支持体材料を含む悪
臭ガスを処理するための方法。 - 【請求項2】 前記酸化剤は、空気、過酸化水素、オゾ
ン、酸素、NxOy(x=1〜3,y=1〜4)、NaO
Clおよび任意の光照射でのそれらの組み合わせからな
る群から選ばれる請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 前記支持体材料は、Al,Ga,In,
Si,Ge,Sn,Pb,As,Sb,Bi,Se,Z
n,Cd,Fe,Mn,Cr,Mo,W,V,Nb,T
i,Zr,Hf,Ta,Mg,Ca,Sr,Ba,ラン
タニド元素、アクチノイド元素またはそれらの混合物か
ら選ばれる酸化物である請求項1記載の方法。 - 【請求項4】 前記支持体材料は、CaO,BaO,M
nO,鉄酸化物、TiO2,SnO2,MgOまたはPb
O2である請求項3記載の方法。 - 【請求項5】 前記金属元素は、遷移金属である請求項
1記載の方法。 - 【請求項6】 前記触媒は、アルカリ金属、前記活性金
属元素と異なるアルカリ土類金属、P,B,F,As,
Ga,Geおよびそれらの混合物からなる群から選ばれ
る第3元素をさらに含む請求項1記載の方法。 - 【請求項7】 前記触媒系は、日光またはUV光で照射
される請求項1記載の方法。 - 【請求項8】 錯生成剤は、前記触媒と共に追加的に使
用される請求項1記載の方法。 - 【請求項9】 前記錯生成剤は、エチレンジアミン四酢
酸(EDTA)である請求項8記載の方法。 - 【請求項10】 還元剤は、前記触媒と共に追加的に使
用される請求項1記載の方法。 - 【請求項11】 前記還元剤は、アスコルビン酸、ヒド
ロキノン、ホルマリン、メタノール、トリアルキルオル
ソエーテル、アセタールおよびそれらの混合物からなる
群から選ばれる請求項10記載の方法。 - 【請求項12】 Br2,Br-,BrO-およびBrO3
-からなる群から選ばれる活性転移剤は、さらに前記触
媒と共に使用される請求項1記載の方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019990043008A KR100347845B1 (ko) | 1999-10-06 | 1999-10-06 | 수중 접촉 산화에 의한 악취 제거 방법 |
KR1999-43008 | 1999-10-06 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001170442A true JP2001170442A (ja) | 2001-06-26 |
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ID=19614166
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000307903A Pending JP2001170442A (ja) | 1999-10-06 | 2000-10-06 | 悪臭ガス処理方法 |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001170442A (ja) |
KR (1) | KR100347845B1 (ja) |
DE (1) | DE10049545A1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009072782A (ja) * | 2008-11-18 | 2009-04-09 | Daigo Kogyo Kk | N2oの湿式常温処理システムおよび湿式常温処理方法 |
CN105967309A (zh) * | 2016-05-25 | 2016-09-28 | 安徽普氏生态环境工程有限公司 | 一种Fenton氧化与UV氧化联用污水处理方法 |
CN106311270A (zh) * | 2016-08-17 | 2017-01-11 | 中蓝连海设计研究院 | 一种臭氧氧化催化剂的制备方法 |
CN116462305A (zh) * | 2023-05-30 | 2023-07-21 | 湖南科美洁环保科技有限公司 | 一种芬顿法处理渗滤液污水的方法 |
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KR101009162B1 (ko) * | 2010-09-03 | 2011-01-17 | (주)세종이엔지 | 가스 탈취장치 |
KR101031130B1 (ko) * | 2011-01-13 | 2011-04-27 | (주)세종이엔지 | 탈취용 필터 메디아 조성물 및 이를 이용한 탈취기 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09206559A (ja) * | 1996-02-02 | 1997-08-12 | Sekiyu Sangyo Kasseika Center | 窒素酸化物の接触還元方法 |
JPH09220440A (ja) * | 1996-02-16 | 1997-08-26 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 排ガス浄化方法 |
JP3024573B2 (ja) * | 1996-10-21 | 2000-03-21 | 日新電機株式会社 | 脱臭処理方法及び脱臭処理装置 |
JPH11137964A (ja) * | 1997-11-06 | 1999-05-25 | Nec Corp | 悪臭物質の除去方法及び脱臭装置 |
-
1999
- 1999-10-06 KR KR1019990043008A patent/KR100347845B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2000
- 2000-10-06 DE DE2000149545 patent/DE10049545A1/de not_active Withdrawn
- 2000-10-06 JP JP2000307903A patent/JP2001170442A/ja active Pending
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JP2009072782A (ja) * | 2008-11-18 | 2009-04-09 | Daigo Kogyo Kk | N2oの湿式常温処理システムおよび湿式常温処理方法 |
CN105967309A (zh) * | 2016-05-25 | 2016-09-28 | 安徽普氏生态环境工程有限公司 | 一种Fenton氧化与UV氧化联用污水处理方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR100347845B1 (ko) | 2002-08-07 |
KR20010036138A (ko) | 2001-05-07 |
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