JP2001170437A

JP2001170437A - パーフルオロ化合物分離回収方法およびそれに用いるパーフルオロ化合物分離回収装置

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Publication number: JP2001170437A
Application number: JP36182699A
Authority: JP
Inventors: Fumio Kawasaki; 文男川崎; Ryosuke Matsubayashi; 良祐松林
Original assignee: DAIDO AIR PRODUCTS ELECTRONICS KK; Daido Air Products Electronics Inc
Current assignee: DAIDO AIR PRODUCTS ELECTRONICS KK; Daido Air Products Electronics Inc
Priority date: 1999-12-20
Filing date: 1999-12-20
Publication date: 2001-06-26
Anticipated expiration: 2019-12-20
Also published as: JP4018858B2; EP1184068A4; EP1184068A1; WO2001045826A1; AU1893301A; KR20010089608A; KR100719717B1; US6482251B1

Abstract

(57)【要約】【課題】排気ガスの状態の変動に敏感に対応して回収濃
度を安定させることができるとともに、回収装置のコス
トを低減することができるパーフルオロ化合物分離回収
方法およびそれに用いるパーフルオロ化合物分離回収装
置を提供する。【解決手段】第１膜７の透過側に第４コントロール弁２
１を設けるとともに、その第４コントロール弁２１の上
流側から分岐させてニードル弁２３を通って第１タンク
３に戻る第３ライン２２を設け、第１タンク３の内圧が
所定の一定値となるように第４コントロール弁２１を制
御する。また、第３膜９の透過側に、第４圧力センサー
２４を設けてその下流を第１タンク３に接続し、第４圧
力センサー２４が所定の一定値となるように第１コント
ロール弁１０を制御する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、パーフルオロ化合
物が希釈された希釈混合ガスから、膜を利用して、パー
フルオロ化合物を分離および回収するパーフルオロ化合
物分離回収方法およびそれに用いるパーフルオロ化合物
分離回収装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来から、半導体の製造工程では、エッ
チングやチャンバーの洗浄等にＣＦ₄，Ｃ₂Ｆ₆，Ｃ₃
Ｆ₈，Ｃ₄Ｆ₈，Ｃ₄Ｆ₁₀，ＣＨＦ₃，ＳＦ₆，ＮＦ₃
等のパーフルオロ化合物（以下、単に「ＰＦＣ」とい
う）ガスが、大量のＮ₂ガス等により希釈されて使用さ
れている。また、電気機械の分野では、絶縁ガスとして
ＳＦ₆が同様に使用されている。

【０００３】しかしながら、使用後の排気ガス（希釈混
合ガス）には、未反応（未分解）のＰＦＣガスが含まれ
ており、それが大気中に放出されると、地球のオゾン層
を破壊する等の環境問題が起こる。

【０００４】そこで、従来から、排気ガス中のＰＦＣガ
スを回収することが行なわれている。この回収は、図８
に示すＰＦＣ分離回収装置により行なわれる。このＰＦ
Ｃ分離回収装置は、排気ガスが処理される順番に、前処
理ユニット１，ブロワー２，第１タンク３，圧縮機４，
第２タンク５，熱交換器６，ＰＦＣ分離ユニット５１，
およびＰＦＣ回収ユニット２８が、直列に接続されてい
る。

【０００５】より詳しく説明すると、上記ＰＦＣ分離ユ
ニット５１では、第１膜７，第２膜８，および第３膜９
が直列に配列されている。そして、各膜７，８，９は，
ＰＦＣガスよりもＮ₂ガス等の希釈ガスをより多く透過
させる性質を有しており、各膜７，８，９の材料として
は、ポリスルホン、ポリエールイミド、ポリプロピレ
ン、酢酸セルロース、ポリメチルペンタン、２，２−ビ
ストリフルオロメチル−４，５−ジフルオロ−１，３−
ジオキシソールを基にした無定形コポリマー、ポリビニ
ルトリメチルシラン、ポリイミド、ポリアミド、ポリア
ラミド、またはエチルセルロースポリマー等があげられ
る。また、各膜７，８，９は、上記材料を用いて、中空
繊維，渦巻き，巻き付け，または平坦シートの形状に形
成されている。

【０００６】そして、各膜７，８，９は、それぞれ膜の
前および後の空間が透過側と非透過側とになっており、
第１膜７の透過側は、ニードル弁５２を介して大気と連
通していて透過ガスを大気中に放出するようになってお
り、第１膜７の非透過側は、第２膜８に接続されてい
る。また、第２膜８の透過側は、第１タンク３に戻るよ
うに接続されており、第２膜８の非透過側は、第３膜９
に接続されている。さらに、第３膜９の透過側は、第１
タンク３に戻るように接続されており、第３膜９の非透
過側は、第１コントロール弁１０を介してＰＦＣ回収ユ
ニット２８に接続されている。

【０００７】さらに、上記第１コントロール弁１０とＰ
ＦＣ回収ユニット２８との間から第３非透過ガス流の一
部を取り込んでＰＦＣガスの濃度を測定する濃度分析計
５３が設けられている。また、この濃度分析計５３の出
力値に対応して上記第１コントロール弁１０の開度を制
御できるように制御装置５３ａが設けられている。すな
わち、上記第３非透過ガス流の一部を濃度分析計５３に
取り込み、そのＰＦＣガスの濃度が所定値よりも低いと
判断された場合には、上記制御装置５３ａで第１コント
ロール弁１０の開度を小さくすることにより、第３透過
ガス流を多くする。その結果、非透過側へ流れつつあっ
た希釈ガスが透過側へ流れ、回収濃度（回収されたＰＦ
Ｃガスの濃度）が向上する。このように、第３非透過ガ
ス流の流量を制御することにより、高濃度のＰＦＣガス
を回収することができるようにしている。そして、濃度
分析計５３に取り込んだ第３非透過ガス流の一部は、濃
度測定ののち第１タンク３に戻るように接続されてい
る。

【０００８】なお、上記ＰＦＣ回収ユニット２８は、第
３タンク１１，昇圧ポンプ１２，および回収容器１３が
直列に配列されている。

【０００９】そして、ＰＦＣガスの分離回収は、上記Ｐ
ＦＣ分離回収装置を用い，つぎのようにして行なわれ
る。すなわち、まず、排気ガスを前処理ユニット１に通
し、圧縮機４や各膜７，８，９に悪影響を及ぼす酸系分
やパーティクル分等を湿式または乾式スクラバーおよび
フィルター等により取り除く。つづいて、その処理した
ガス流をブロワー２により第１タンク３に収容する。つ
いで、第１タンク３からのガス流を圧縮機４により高圧
にして第２タンク５に収容する。つぎに、その第２タン
ク５に収容した排気ガスを熱交換器６により高温にした
のち第１膜７に接触させることにより、希釈ガスに富む
第１透過ガス流とＰＦＣガスに富む第１非透過ガス流と
に分離する。ついで、その第１透過ガス流をニードル弁
５２の開閉により大気中に放出するとともに、上記第１
非透過ガス流を、第２膜８に接触させることにより、さ
らに希釈ガスに富む第２透過ガス流とさらにＰＦＣガス
に富む第２非透過ガス流とに分離する。つづいて、その
第２透過ガス流を第１タンク３に戻すとともに、上記第
２非透過ガス流を、第３膜９に接触させることにより、
希釈ガスが高濃度な第３透過ガス流と、ＰＦＣガスが高
濃度な第３非透過ガス流とに分離する。つぎに、その第
３透過ガス流を第１タンク３に戻すとともに、上記第３
非透過ガス流を第１コントロール弁１０に通して第３タ
ンク１１に収容する。つづいて、第３タンク１１からの
ガス流を昇圧ポンプ１２により回収容器１３に収容す
る。このようにして、ＰＦＣガスを分離して回収するこ
とができる。

【００１０】ところで、上記ＰＦＣ分離回収方法では、
それ自体の安定稼働のため、ブロワー２の上流側ならび
に圧縮機４の上流側（第１タンク３）および下流側（第
２タンク５）の圧力（内圧）を一定に制御している。

【００１１】すなわち、排気ガスをＰＦＣ分離回収装置
に流入させる前の部分（前処理ユニット１の上流側）
に、その部分を流れる排気ガスの圧力を示す第１圧力セ
ンサー１４を設けている。また、上記ブロワー２に、そ
れ自体の作動状態を制御するインバーター２ａを設ける
とともに、このインバーター２ａに、第１圧力センサー
１４の出力値に対応してそれ自体に信号を送る制御装置
１４ａを設けている。そして、上記インバーター２ａ
は、第１圧力センサー１４の出力値が所定の一定値を目
指すように、ブロワー２を作動させるようになってい
る。このようにすることにより、ブロワー２の上流側の
圧力を一定に制御している。また、上記第１圧力センサ
ー１４が示す値は、排気ガスを吸引する強さを示すもの
であり、この値を一定に制御することにより、排気ガス
の流れを詰まらせることなく安定させスムーズにするこ
とができる。

【００１２】また、第１タンク３は、上述したように、
ブロワー２，第２膜８の透過側，第３膜９の透過側，お
よび濃度分析計５３からガス流が流入して圧縮機４に流
出するようになっているが、これらに加えて、外気を取
り込む第１ライン１５および第２タンク５から戻る第２
ライン１６を設けるとともに、第１タンク３の内圧を示
す第２圧力センサー１７を設けている。さらに、上記第
１ライン１５には、第２コントロール弁１８を設けてお
り、この第２コントロール弁１８には、上記第２圧力セ
ンサー１７の出力値に対応してそれ自体の開度を制御で
きる制御装置１７ａを設けている。また、第２タンク５
には、それ自体の内圧を示す第３圧力センサー１９を設
けている。さらに、上記第２ライン１６には、第３コン
トロール弁２０を設けており、この第３コントロール弁
２０には、上記第３圧力センサー１９の出力値に対応し
てそれ自体の開度を制御できる制御装置１９ａを設けて
いる。そして、上記第１ライン１５の第２コントロール
弁１８を制御することにより、第１タンク３の内圧を一
定に制御し、第２ライン１６の第３コントロール弁２０
を制御することにより、第２タンク５の内圧を一定に制
御している。すなわち、ブロワー２から第１タンク３に
流入するガス量が減少した場合には、上記第２コントロ
ール弁１８を徐々に開けて足りない分のガス量を外気で
補うことにより、第１タンク３の内圧を一定に制御して
いる。この制御は、第１タンク３の内圧（第２圧力セン
サー１７の設定圧力）を負圧に制御することにより実現
する。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術では、第１コントロール弁１０の制御に高価な濃
度分析計５３が必要となる。しかも、回収率（排気ガス
量に対する回収されたＰＦＣガス量の割合）が所定値以
上になるように、回収濃度を極限まで上げる微妙な濃度
調整を行なう必要があるため、非常に高精度で高価な濃
度分析計５３が必要となる。しかも、上記濃度分析計５
３による濃度検出には時間を要することから、その出力
は、必然的に断続的となり、排気ガスの状態（排気ガス
の排気タイミング，排気ガスの排風量，排気ガス中のＰ
ＦＣガスの濃度，排気ガス中のＰＦＣガスの種類等）の
時々刻々の変動に対応することが困難である。したがっ
て、所定の回収濃度を目指す制御を行なったとしても、
回収濃度を安定にすることが実質的に不可能となってい
る（図４の点線参照）。

【００１４】また、上記従来技術では、第１タンク３の
内圧を一定にする制御を、外気を取り込むことにより行
なっているため、つぎのような欠点〜がある。外
気を取り込むと排気ガスが希釈されることから、ＰＦＣ
の回収効率が悪くなる。外気を取り込むことにより第
１タンク３の負圧の程度が小さくなる（大気圧に近づ
く）と、第１タンク３の内圧の制御範囲が小さくなり、
排気ガスの流量変動等に対応することが困難となる。そ
の結果、第１タンク３の内圧を一定にする制御が困難と
なる。ブロワー２の上流側の圧力（第１圧力センサー
１４の出力値）は、第１タンク３の内圧（第２圧力セン
サー１７の出力値）が一定である場合に限って、インバ
ーター２ａを利用するブロワー２の制御により、正確な
目標値に制御することができる。しかしながら、上記の
ように、排気ガスの状態の変動により、第１タンク３の
内圧を一定にすることが困難であるため、ブロワー２の
上流側の圧力（第１圧力センサー１４の出力値）を正確
な目標値に制御することが困難となる。第１タンク３
の内圧の制御範囲を大きくするためには、外気を取り込
んでも第１タンク３の負圧の程度が小さくならないよう
に、その負圧の程度を予め大きくする必要がある。この
ように第１タンク３の負圧の程度が大きいと、第１タン
ク３からのガス流を高圧にする圧縮機４の負荷が大きく
なる。したがって、圧縮機４のランニングコストが増加
する。

【００１５】本発明は、このような事情に鑑みなされた
もので、排気ガスの状態の変動に敏感に対応して回収濃
度を安定させることができるとともに、分離回収装置の
コストを低減することができるパーフルオロ化合物分離
回収方法およびそれに用いるパーフルオロ化合物分離回
収装置の提供をその目的とする。

【００１６】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は、パーフルオロ化合物ガスと希釈ガスとか
らなる希釈混合ガスを高圧にしたのち、パーフルオロ化
合物ガスよりも希釈ガスの透過率の高い膜に接触させる
ことによりパーフルオロ化合物ガスを分離して回収する
パーフルオロ化合物分離回収方法であって、高圧にした
のちの希釈混合ガスを上記膜に接触させることにより希
釈ガスに富む透過ガス流とパーフルオロ化合物ガスに富
む非透過ガス流とに分離する工程と、上記非透過ガス流
を上記膜と同様の機能をもつ他の膜に接触させることに
より他の透過ガス流と他の非透過ガス流とに再度分離す
る工程と、上記他の透過ガス流の圧力または流量を検出
する工程と、その圧力または流量を一定にするように上
記他の非透過ガス流の流量を制御する工程と、上記他の
非透過ガス流を回収する工程とを備えているパーフルオ
ロ化合物分離回収方法を第１の要旨とし、パーフルオロ
化合物ガスと希釈ガスとからなる希釈混合ガスを高圧に
する手段と、高圧にしたのちの希釈混合ガスを希釈ガス
に富む透過ガス流とパーフルオロ化合物ガスに富む非透
過ガス流とに分離する膜を備えたパーフルオロ化合物分
離回収装置であって、上記非透過ガス流を他の透過ガス
流と他の非透過ガス流とに分離する他の膜と、上記他の
透過ガス流の圧力または流量を検出する手段と、上記他
の非透過ガス流の流量を制御する手段と、上記他の非透
過ガス流を回収する手段とを備えているパーフルオロ化
合物分離回収装置を第２要旨とする。

【００１７】本発明者らは、パーフルオロ化合物分離回
収方法およびそれに用いるパーフルオロ化合物分離回収
装置について鋭意研究を重ねた。その結果、前記他の透
過ガス（最初の膜で分離されたＰＦＣガスに富む非透過
ガス流を再度他の膜で分離して得られた希釈ガスに富む
ガス）の圧力または流量を一定にすると、処理対象とな
る希釈混合ガス中のＰＦＣガス濃度にばらつきがあって
も、処理後得られるＰＦＣガス濃度のばらつきが殆どな
いことを見いだし本発明に到達した。

【００１８】すなわち、本発明のパーフルオロ化合物分
離回収方法では、上記他の透過ガス流の圧力または流量
を検出する工程と、その圧力または流量を一定にするよ
うに上記他の非透過ガス流の流量を制御する工程とを備
えているため、希釈混合ガス中のＰＦＣガス濃度の変動
があっても処理後得られるＰＦＣガス濃度を略一定に保
つことができる。

【００１９】また、本発明のパーフルオロ化合物分離回
収方法において、上記透過ガス流の適宜な量を上記高圧
になる前の希釈混合ガスに戻すことによりその高圧にな
る前の希釈混合ガスの圧力を所定の一定値に制御する工
程を設け、この工程における上記制御を外気を取り込ま
ずに行なう場合には、希釈混合ガスが外気で希釈されな
いため、ＰＦＣの回収効率がよくなる。また、上記のよ
うに、高圧にされる前の希釈混合ガスの圧力を一定に制
御する際に、外気を取り込まないため、高圧にされる前
の希釈混合ガスの圧力の制御範囲が小さくなることがな
い。したがって、希釈混合ガスの状態が変動していて
も、簡単にその変動に対応することができる。しかも、
上記のように、外気を取り込まないことから、希釈混合
ガスを高圧にする際の負荷を小さくすることができる。

【００２０】また、本発明のパーフルオロ化合物分離回
収装置では、上記他の透過ガス流の圧力または流量を検
出する手段を備えているため、高価な濃度分析計が不要
となり、コストを低減することができる。さらに、圧力
または流量は、連続的に検出できるため、排気ガスの状
態の時々刻々の変動に対応することでき、処理後得られ
るＰＦＣガス濃度を略一定に保つことができる。

【００２１】

【発明の実施の形態】つぎに、本発明の実施の形態を図
面にもとづいて詳しく説明する。

【００２２】図１は、本発明のパーフルオロ化合物分離
回収方法およびそれに用いるパーフルオロ化合物分離回
収装置の一実施の形態を示している。この実施の形態で
は、図８に示す従来技術と異なる部分について主に説明
し、同様の部分には同じ符号を付してその詳しい説明を
省略する。

【００２３】すなわち、このパーフルオロ化合物（ＰＦ
Ｃ）分離回収装置は、図８に示す従来技術における第１
膜７の透過側のニードル弁５２に代えて第４コントロー
ル弁２１を設けるとともに、その第４コントロール弁２
１の上流側から分岐させて第１タンク３に戻る第３ライ
ン２２を設けている。そして、この第３ライン２２に、
ニードル弁２３を設け、上記第４コントロール弁２１
に、第２圧力センサー１７の出力値に対応してそれ自体
の開度を制御できる制御装置１７ｂを設けている。さら
に、この実施の形態のＰＦＣ分離回収装置は、図８に示
す従来技術における濃度分析計５３に代えて第４圧力セ
ンサー２４を第３膜９の透過側に設けている。そして、
第４圧力センサー２４の出力値が常に安定して所定の一
定値を示すように第１コントロール弁１０の開度をフィ
ードバック制御する制御装置２４ａを設けている。ま
た、第３膜９の非透過側には、第１コントロール弁１０
との間に、順番に第１減圧弁２５および第２オートプレ
ッシャーコントロール式減圧弁２６が直列に配列されて
いる。それ以外の部分は、図８に示す従来のＰＦＣ分離
回収装置と同様である。

【００２４】そして、図１に示すＰＦＣ分離回収装置で
は、第３透過ガス流の圧力（第４圧力センサー２４の出
力値）と回収率および回収濃度との関係は図２に示すよ
うになる。図２では、ＰＦＣガスとしてＣ₂Ｆ₆および
ＣＦ₄がそれぞれ異なる濃度で含有された排気ガスを用
いている。ここで、図２において、回収率および回収濃
度がともに９５％以上を目標にする場合について説明す
る。

【００２５】排気ガス中のＰＦＣガスの濃度が高濃度の
場合には、回収率（Ａカーブ）は、第３透過ガス流の圧
力がどの値であれ９５％以上であり、回収濃度（ａカー
ブ）は、第３透過ガス流の圧力が１．４１ｋＰａ以下の
範囲で９５％以上である。

【００２６】排気ガス中のＰＦＣガスの濃度が中濃度の
場合には、回収率（Ｂカーブ）は、第３透過ガス流の圧
力が０．９５ｋＰａ以上の範囲で９５％以上であり、回
収濃度（ｂカーブ）は、第３透過ガス流の圧力が１．４
３ｋＰａ以下の範囲で９５％以上である。

【００２７】排気ガス中のＰＦＣガスの濃度が低濃度の
場合には、回収率（Ｃカーブ）は、第３透過ガス流の圧
力が１．３９ｋＰａ以上の範囲で９５％以上であり、回
収濃度（ｃカーブ）は、第３透過ガス流の圧力が１．４
９ｋＰａ以下の範囲で９５％以上である。

【００２８】したがって、上記回収率および回収濃度が
ともに９５％以上となるのは、第３透過ガス流の圧力が
１．３９〜１．４１ｋＰａの範囲である。このことか
ら、第３透過ガス流の圧力が常に約１．４０ｋＰａを維
持するようにコントロールバルブを制御すると、回収率
および回収濃度をともに９５％以上とすることができ
る。

【００２９】また、上記実施の形態では、高回収率また
は高回収濃度のいずれを優先させるかを判断して制御す
ることができる。すなわち、図２において、Ａ，ａ，
Ｂ，ｂ，Ｃ，ｃカーブがそれぞれ個別に回収率および回
収濃度をともに９５％以上とするには、第３透過ガス流
の圧力の範囲は、０．９５〜１．４９ｋＰａとなる。そ
こで、この範囲内の１．４０ｋＰａを常に維持するよう
に（図中の１点鎖線参照）コントロールバルブを制御す
ると、排気ガス中のＰＦＣガス濃度が高濃度の場合
（Ａ，ａカーブ）には、回収濃度は低い（点Ｐ₁）が、
回収率は高く（点Ｐ₂）なる。また、排気ガス中のＰＦ
Ｃガス濃度が低濃度の場合（Ｃ，ｃカーブ）には、回収
率は低い（点Ｐ₃）が、回収濃度は高く（点Ｐ₄）な
る。

【００３０】さらに、排気ガス中のＰＦＣガスの構成が
変化した場合（図３参照）でも、図２と同様の関係を示
し、第３透過ガス流の圧力が常に上記１．４０ｋＰａを
維持するように（図中の１点鎖線参照）コントロールバ
ルブを制御すると、排気ガス中のＰＦＣガス濃度が高濃
度の場合（Ａ’，ａ’カーブ）には、回収濃度は低い
（点Ｐ₅）が、回収率は高く（点Ｐ₆）なる。また、排
気ガス中のＰＦＣガス濃度が低濃度の場合（Ｃ’，ｃ’
カーブ）には、回収率は低い（点Ｐ₇）が、回収濃度は
高く（点Ｐ₈）なる。そして、その構成独自の結果範囲
（回収率が９５．３〜９７．８％、回収濃度が９１．３
〜９７．８％）を示す。

【００３１】一般に、膜を利用したＰＦＣ分離回収方法
では、回収率を高めようと制御すると、回収濃度が下が
り、逆に、回収濃度を高めようと制御すると、回収率が
下がる。また、上記従来技術では、ＰＦＣガスの回収濃
度を制御しているものの、回収率を制御しておらず、Ｐ
ＦＣ分離回収装置に流入する排気ガスの上記状態を具体
的に判断できるようにもなっていない。このため、回収
濃度を高める制御のみを行なっていると、たとえ回収率
が下がる状態に排気ガスが変化したとしても、そのよう
に判断することができず、そのまま上記制御が続けられ
るという問題があった。また、ＰＦＣガスには、回収率
と回収濃度とがともに高い値を期待できる種類とそれら
が全般的に低い種類とがあるため、上記従来技術のよう
に所定の回収濃度を目指す制御を行なっていても、排気
ガス中のＰＦＣガスの構成（種類）が、ある時点で、高
い回収率を得られる構成から低い回収率しか得られない
構成に変化すれば、回収率を満足させることができな
い。

【００３２】しかしながら、上記実施の形態のように、
第３透過ガス流の圧力（第４圧力センサー２４の出力
値）を一定にすると、排気ガスの状態が変動しても、高
回収率または高回収濃度のいずれを優先させるかを判断
して、優先させていない方も最低基準以上になるように
することができる。

【００３３】ところで、上記実施の形態においても、ブ
ロワー２の上流側ならびに圧縮機４の上流側（第１タン
ク３）および下流側（第２タンク５）の圧力を一定に制
御しているが、図８に示す従来技術とは、圧縮機４の上
流側（第１タンク３）の圧力（内圧）の制御が異なる。
すなわち、第１タンク３は、上述したように、ブロワー
２，第１ライン１５（外気），第２ライン１６（第２タ
ンク５），第３ライン２２（第１膜７の透過側から分岐
したライン），第２膜８の透過側，および第３膜９の透
過側（第４圧力センサー２４）からガス流が流入して圧
縮機４に流出するようになっている。そして、上記第１
膜７の透過側の第４コントロール弁２１を制御するとと
もに第３ライン２２のニードル弁２３の開度を調整する
ことにより、第１タンク３の内圧を一定に制御してい
る。すなわち、ブロワー２から第１タンク３に流入する
ガス量が減少した場合には、第１ライン１５から外気を
取り込まずに、上記第４コントロール弁２１の開度を制
御するとともに第３ライン２２のニードル弁２３の開度
を調整して、第１透過ガス流の一部を第３ライン２２か
ら取り込むことにより、足りない分のガス量を補い、第
１タンク３の圧力を一定に制御している。しかしなが
ら、上記のようにしても足りない分のガス量を補うこと
ができないような場合には、第１ライン１５の第２コン
トロール弁１８を用い、外気を取り入れる。すなわち、
第２コントロール弁１８の用途は、図８に示す従来技術
と異なり、通常運転時は用いず、緊急用として用いる。

【００３４】ここで、上記第３ライン２２のニードル弁
２３の機能について説明すると、このニードル弁２３
は、第３ライン２２のガス流に抵抗を発生させて第４コ
ントロール弁２１が制御できる流量を調整する役割をす
る。すなわち、例えば、第１タンク３の内圧を大気圧に
制御するとともに、ニードル弁２３の開度を１００％に
した場合において、第４コントロール弁２１の下流部
（放出先）が負圧の状態では、第４コントロール弁２１
の開度を１００％とすると、第１透過ガス流の略全量を
放出することができる。しかしながら、第４コントロー
ル弁２１の下流部（放出先）が正圧や大気圧の状態で
は、第４コントロール弁２１の開度を１００％にして
も、第１透過ガス流の全量を放出することができず、第
１タンク３（第３ライン２２）へ自然に流れる。そこ
で、この状態（第４コントロール弁２１の下流部が正圧
や大気圧であり、第４コントロール弁２１の開度が１０
０％である状態）で、ニードル弁２３の開度を０％にす
ると、第１タンク３の内圧にかかわらず、ニードル弁２
３は、第１透過ガス流の略全量を放出するように作用す
る。すなわち、ニードル弁２３の開度を絞って第３ライ
ン２２のガス流への抵抗を大きくするほど、第４コント
ロール弁２１が制御することができる流量の範囲が広く
なる。このように、ニードル弁２３の開度を調整するこ
とにより、第４コントロール弁２１の下流部の圧力状態
に応じて、第４コントロール弁２１の流量制御範囲を変
化させる。そして、第４コントロール弁２１の開度を制
御することにより、放出したり第１タンク３に戻したり
する第１透過ガス流の流量を上記流量制御範囲内で制御
している。

【００３５】また、ＰＦＣ分離ユニット２７では、第３
膜９で分離された第３透過ガス流を第４圧力センサー２
４に通して第１タンク３に戻すとともに、第３非透過ガ
ス流を第１減圧弁２５，第２オートプレッシャーコント
ロール式減圧弁２６，および第１コントロール弁１０の
順番に通して第３タンク１１に収容する。

【００３６】ここで、上記第１減圧弁２５，第２オート
プレッシャーコントロール式減圧弁２６，第１コントロ
ール弁１０，および第３タンク１１の機能について説明
する。

【００３７】上記第１減圧弁２５は、第１コントロール
弁１０の流量制御性能を向上させるため、第１コントロ
ール弁１０にかかる圧力を低い値にすることを目的とし
ている。

【００３８】上記第２オートプレッシャーコントロール
式減圧弁２６は、下流に接続されている第１コントロー
ル弁１０がいかなる開度状態であろうとも、その第１コ
ントロール弁１０の入口圧力を常に一定値に調圧して、
第１コントロール弁１０の流量制御性能を瞬時に最大限
に発揮させることを目的としている。この第２オートプ
レッシャーコントロール式減圧弁２６は、下流側の圧力
を常に監視し、設定した圧力と現在の圧力との差を認識
し、上記設定した圧力へ復旧するようそれ自体のスプリ
ングの押し具合を調整して一定の設定圧力を維持できる
機能がある。上記第１減圧弁２５とともに直列に接続し
ている目的は、第２オートプレッシャーコントロール式
減圧弁２６自体の調圧性能を限りなく発揮できるよう
に、それ自体の上流側と下流側との差圧を小さくするた
めである。

【００３９】上記第１コントロール弁１０は、第３透過
ガス流の量と第３非透過ガス流の量の割合を調整する役
割をし、この調整が回収率と回収濃度とを決定する。す
なわち、第１コントロール弁１０が閉まる方向に動作す
ると、非透過側への抵抗が大きくなり、回収されつつあ
ったＰＦＣガスが透過側へ流れる。その結果、回収率が
低下する。しかしながら、非透過側へ流れつつあった希
釈ガスも透過側へ流れるため、回収濃度は向上する。逆
に、第１コントロール弁１０が開く方向に動作すると、
非透過側への抵抗が小さくなり、透過側へ流れつつあっ
たＰＦＣガスが非透過側へ流れる。その結果、回収率が
向上する。しかしながら、透過側へ流れつつあった希釈
ガスも非透過側へ流れるため、回収濃度は低下する。

【００４０】上記第３タンク１１は、第１コントロール
弁１０の流量制御性能を充分に発揮させることを目的と
している。すなわち、もし、第３タンク１１が設けられ
ずに、第１コントロール弁１０を通った第３非透過ガス
流が直接昇圧ポンプ１２に接続されているとすると、第
１コントロール弁１０で調整した第３非透過ガス流の量
とは異なる量（昇圧ポンプ１２の処理能力の量）を昇圧
ポンプ１２は処理するため、第１コントロール弁１０の
下流側の圧力が変動する。ところが、第１コントロール
弁１０の流量制御性能は、それ自体の上流側と下流側と
の差圧に左右される。したがって、第３タンク１１を設
けることにより、第１コントロール弁１０の下流側の圧
力を一定に保つようにしている。

【００４１】つぎに、ＰＦＣ分離回収装置に流入してく
る排気ガス中のＰＦＣガス濃度（ここでは、非透過性質
度合い）を確認する方法について説明する。

【００４２】第１膜７，第２膜８，第３膜９を透過でき
る透過ガス流の絶対量は、各膜７，８，９がおかれてい
る温度，圧力，流入してくる排気ガス中の非透過ガス濃
度（この場合には、数種のＰＦＣガスの全体排気ガスに
対する濃度や混合構成内容等）に影響を与える。

【００４３】そこで、上記第１コントロール弁１０の開
度を一定にしている（第１コントロール弁１０でのガス
流のながれ易さを一定にしている）場合、分離したいＰ
ＦＣガス量が希釈ガスに対して大きい濃度でＰＦＣ分離
回収装置に流入すればするほど（小さい濃度で流入する
ときと比較して）、各膜７，８，９の中に滞在するＰＦ
Ｃガスの絶対量が多い。このことから、ＰＦＣガス濃度
が濃い状態の排気ガスがＰＦＣ分離回収装置に流入して
いる場合は、自ずと、第１〜第３透過ガス流の流量は少
なくなる。しかも、第１膜７から第３膜９へかけて順番
にそれぞれの第１〜第３透過ガス流の流量が（流入して
くる排気ガス中のＰＦＣガス濃度が一定のときでも）減
少する比率は大きくなり、第３透過ガス流ではこの現象
が顕著に表れる。言い換えると、第３透過ガス流の圧力
は減少する。逆に、ＰＦＣガス濃度が薄い状態の排気ガ
スがＰＦＣ分離回収装置に流入している場合は、上記と
反対のことが言え、第３透過ガス流の圧力は上昇する。

【００４４】このようにして、第３透過ガス流の圧力
（第４圧力センサー２４の出力値）は、ＰＦＣ分離回収
装置に流入してくる排気ガス中のＰＦＣガス濃度（非透
過性質度合い）を判断するパラメーターとして利用する
ことができる。したがって、第３透過ガス流の圧力が排
気ガス中のＰＦＣガス濃度（非透過性質度合い）とどの
ような関係であるかを事前に調査すれば、それぞれの相
関関係がわかる。

【００４５】つぎに、排気ガス中のＰＦＣガス濃度（非
透過性質度合い）状況を判断するだけでなく、第３透過
ガス流の圧力を強制的に一定に制御〔排気ガス中のＰＦ
Ｃガス濃度（非透過性質度合い）が低濃度のときであり
ながらも、それが高濃度のときと同じ圧力に調整〕した
場合とする。そのときは、第３膜９の中に滞在するＰＦ
Ｃガスの存在率も一定に制御されているといえる。

【００４６】したがって、第３透過ガス流の圧力は、第
３膜９の中に滞在するＰＦＣガスの存在率を示している
ことと等しく、第３透過ガス流の圧力を一定に制御する
ことは、第３膜９がもつＰＦＣガスの回収性能を決定す
ることを意味するといえる。

【００４７】排気ガス中のＰＦＣガスを濃縮して回収す
る工程において重要なのは、排気ガス中のＰＦＣガス
が、回収率と回収濃度とがともに高い値を期待できる物
質であるか否かであり、その具体的な物質名や濃度や混
合割合の数値ではない。ＰＦＣガスを効率よく（回収率
と回収濃度とがともに高く）回収できるか否かは、見か
け上一種のＰＦＣガスが第３膜９を透過する際にどれだ
け透過しづらいかを示す非透過性が判断できれば充分で
ある。

【００４８】つぎに、実施例について従来例および比較
例と併せて説明する。

【００４９】

【実施例１】上記実施の形態によりＰＦＣガスを回収し
た際の回収濃度を図４に実線で示した。その結果、回収
濃度は安定して高い値を示した。

【００５０】

【従来例】上記従来技術によりＰＦＣガスを回収した際
の回収濃度を図４に点線で示した。その結果、回収濃度
は不安定であり、非常に低い値を示すことがある。

【００５１】図４から、実施例１では、排気ガスの状態
の変動に容易に対応することができるが、従来例では、
その対応が困難であることがわかる。

【００５２】

【実施例２】上記実施の形態において、ＰＦＣ分離回収
装置に流入する排気ガスの流量を変動させた場合におけ
る、ブロワー２の上流側の圧力（第１圧力センサー１４
の出力値）ならびに圧縮機４の上流側（第１タンク３）
の内圧（第２圧力センサー１７の出力値）および圧縮機
４の下流側（第２タンク５）の内圧（第３圧力センサー
１９の出力値）を図５に示すとともに、第２圧力センサ
ー１７の設定値を−０．５０ｋＰａから大気圧近辺に変
更した場合における第１〜第３圧力センサー１９の出力
値を図５に示した。

【００５３】図５から、排気ガスの流量が変動しても、
第１タンク３の内圧（第２圧力センサー１７の出力値）
は、常に設定値を持続して略一定値を示していることが
わかる。また、第２圧力センサー１７の設定値を変更し
ても、変更後の設定値を一定に持続することがわかる。
このように、第１タンク３の内圧が一定に持続されるた
め、ブロワー２の上流側の圧力も圧縮機４の下流側の圧
力も、影響を受けることなく一定に持続することができ
る。

【００５４】

【実施例３】上記実施の形態において、ＰＦＣ分離回収
装置に流入する排気ガスの流量を変動させるとともに、
長時間にわたって実験した場合における、第１〜第４圧
力センサー１４，１７，１９，２４の出力値を図６に示
した。

【００５５】図６から、第４圧力センサー２４の出力値
（第３透過ガス流の圧力）も一定に持続することができ
ることがわかる。したがって、第３透過ガス流に第４圧
力センサー２４を設けてその下流を第１タンク３に接続
させた、上記実施の形態におけるＰＦＣ分離回収方法が
可能となる。

【００５６】

【比較例】上記実施の形態において、第２圧力センサー
１７による圧力一定制御をすることなく、ＰＦＣ分離回
収装置に流入する排気ガスの流量を変動させた場合にお
ける、第１〜第３圧力センサー１４，１７，１９の出力
値を図７に示した。

【００５７】図７から、第１圧力センサー１４の出力値
（ブロワー２の上流側の圧力）は、第２圧力センサー１
７の出力値（第１タンク３の内圧）の影響を受けて同様
の波形になっていることがわかる。このように、微圧制
御となるブロワー２の上流側の圧力は、他の影響に非常
に左右され易いことがわかる。また、第３圧力センサー
１９による制御圧力は、第２圧力センサー１７による制
御圧力に対して３桁違うため、あまり影響を受けていな
いように見える。

【００５８】このように、上記実施の形態によれば、第
３膜９の透過側に第４圧力センサー２４を設け、第３膜
９の非透過側に第１コントロール弁１０を設け、第４圧
力センサー２４の出力値が常に安定して所定の一定値を
示すように、第１コントロール弁１０の開度を制御装置
２４ａによりフィードバック制御しているため、高回収
率または高回収濃度のいずれを優先させるかを判断して
制御することができる。しかも、優先させていない方も
最低基準以上になるように制御することができる。した
がって、回収される第３非透過ガス流に含有している希
釈ガスが少なくなる。その結果、回収する際に用いる昇
圧ポンプ１２の作動の省エネルギー化を図ることができ
るとともに、回収容器１３の数を減らすことができる。

【００５９】また、第３膜９の透過側に第４圧力センサ
ー２４を設け、この第４圧力センサー２４の出力値が常
に安定して所定の一定値を示すように制御しているた
め、高価な濃度分析計５３が不要となる。その結果、上
記実施の形態および実施例１〜３では、コストを低減す
ることができる。さらに、第４圧力センサー２４は、連
続的に出力するため、排気ガスの状態の変動に容易に対
応することができる。したがって、制御精度が向上し、
回収濃度が安定したものとなる（図４の実線参照）。

【００６０】一方、第１タンク３の内圧を一定に制御す
る際には、第１ライン１５から外気を取り込まずに、上
記第４コントロール弁２１の開度を制御するとともに第
３ライン２２のニードル弁２３の開度を調整して、第１
透過ガス流の一部を第３ライン２２から取り込んでい
る。したがって、排気ガスが希釈されないため、ＰＦＣ
の回収効率がよくなる。

【００６１】また、上記のように、第１タンク３の内圧
を一定に制御する際に、図８に示す従来技術と異なり、
外気を取り込まないため、第１タンク３の内圧の制御範
囲が小さくなることがない。したがって、排気ガスの状
態が変動していても、簡単にその変動に対応することが
でき、第１タンク３の内圧を一定に制御することができ
る。しかも、上記のように、外気を取り込まず、第１タ
ンク３の内圧の制御範囲が小さくなることがないため、
第１タンク３の負圧の程度を大きくする必要がない。し
たがって、第１タンク３からのガス流を高圧にする圧縮
機４の負荷を小さくすることができ、圧縮機４のランニ
ングコストを低減することができる。そして、第１タン
ク３および第２タンク５は、圧力が一定となるように、
バッファーの役目をすることができる。

【００６２】また、上記のように、排気ガスの状態が変
動していても、簡単にその変動に対応して、第１タンク
３の内圧を一定に制御することができるため、第３透過
ガス流に第４圧力センサー２４を設けてその下流を第１
タンク３に接続させたＰＦＣ分離回収方法では、排気ガ
スの状態が変動していても、第４圧力センサー２４が正
確な所定の一定値を示すように制御することができる。

【００６３】さらに、上記のように、排気ガスの状態が
変動していても、第１タンク３の内圧を一定に制御する
ことができるため、ブロワー２の上流側の圧力（第１圧
力センサー１４の出力値）は、インバーター２ａを利用
するブロワー２の制御により、正確な目標値に制御する
ことができる。

【００６４】しかも、上記のように、排気ガスの状態が
変動していても、第１タンク３の内圧を一定に制御する
ことができるため、透過側と非透過側とに分離する膜の
数を増やし、それらの透過側を第１タンク３に戻して循
環させる工程を増やしても、それに対応することができ
る。このように循環させる透過側のガス流の数を増やす
ことは、ＰＦＣガスの回収効率を向上させることにな
る。

【００６５】なお、上記実施の形態では、第３膜９の透
過側に第４圧力センサー２４を設けたが、第２膜８の透
過側に設けてもよいし、膜の数を増やして第４膜（図示
せず）以降の透過側に設けてもよい。そして、最も好ま
しいのは、最後の膜の透過側に設けることである。ま
た、上記第４圧力センサー２４に代えて、ＰＦＣガス濃
度に影響を受けない流量センサーを用い、第３膜９の透
過側の流量を検出し、その流量を一定にするように制御
してもよい。

【００６６】また、上記実施の形態では、第４コントロ
ール弁２１から放出されるガスを回収することにより、
ＰＦＣガスを殆ど含まない希釈ガス（Ｎ₂ガス等）を排
気ガスから回収することもできる。また、上記実施の形
態において、第４コントロール弁２１と第３ライン２２
のニードル弁２３との配置は、逆でもよい。さらに、ニ
ードル弁２３に代えてコントロール弁を設け、このコン
トロール弁と上記第４コントロール弁２１とを制御する
ようにして制御精度を向上させてもよい。

【００６７】また、上記実施の形態では、３つの膜を用
い、第３膜９の非透過側に３つの弁を用いたが、これら
の数は特に限定されるものではない。

【００６８】

【発明の効果】以上のように、本発明のパーフルオロ化
合物分離回収方法は、パーフルオロ化合物ガスと希釈ガ
スとからなる希釈混合ガスを高圧にしたのち、パーフル
オロ化合物ガスよりも希釈ガスの透過率の高い膜に接触
させることによりパーフルオロ化合物ガスを分離して回
収するパーフルオロ化合物分離回収方法であって、高圧
にしたのちの希釈混合ガスを上記膜に接触させることに
より希釈ガスに富む透過ガス流とパーフルオロ化合物ガ
スに富む非透過ガス流とに分離する工程と、上記非透過
ガス流を上記膜と同様の機能をもつ他の膜に接触させる
ことにより他の透過ガス流と他の非透過ガス流とに再度
分離する工程と、上記他の透過ガス流の圧力または流量
を検出する工程と、その圧力または流量を一定にするよ
うに上記他の非透過ガス流の流量を制御する工程とを備
えている。このため、希釈混合ガス中のＰＦＣガス濃度
の変動があっても処理後得られるＰＦＣガス濃度を略一
定に保つことができる。

【００６９】また、本発明のパーフルオロ化合物分離回
収方法において、上記透過ガス流の適宜な量を上記高圧
になる前の希釈混合ガスに戻すことによりその高圧にな
る前の希釈混合ガスの圧力を所定の一定値に制御する工
程を設け、この工程における上記制御を外気を取り込ま
ずに行なう場合には、希釈混合ガスが外気で希釈されな
いため、ＰＦＣの回収効率がよくなる。また、上記のよ
うに、高圧にされる前の希釈混合ガスの圧力を一定に制
御する際に、外気を取り込まないため、高圧にされる前
の希釈混合ガスの圧力の制御範囲が小さくなることがな
い。したがって、希釈混合ガスの状態が変動していて
も、簡単にその変動に対応することができる。しかも、
上記のように、外気を取り込まないことから、希釈混合
ガスを高圧にする際の負荷を小さくすることができる。

【００７０】また、本発明のパーフルオロ化合物分離回
収装置は、パーフルオロ化合物ガスと希釈ガスとからな
る希釈混合ガスを高圧にする手段と、高圧にしたのちの
希釈混合ガスを希釈ガスに富む透過ガス流とパーフルオ
ロ化合物ガスに富む非透過ガス流とに分離する膜を備え
たパーフルオロ化合物分離回収装置であって、上記非透
過ガス流を他の透過ガス流と他の非透過ガス流とに分離
する他の膜と、上記他の透過ガス流の圧力または流量を
検出する手段と、上記他の非透過ガス流の流量を制御す
る手段とを備えている。このため、高価な濃度分析計が
不要となり、コストを低減することができる。さらに、
圧力または流量は、連続的に検出できるため、排気ガス
の状態の時々刻々の変動に対応することでき、処理後得
られるＰＦＣガス濃度を略一定に保つことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のＰＦＣ分離回収方法およびそれに用い
るＰＦＣ分離回収装置の一実施の形態を示す説明図であ
る。

【図２】上記ＰＦＣ分離回収方法およびそれに用いるＰ
ＦＣ分離回収装置において、第３透過ガス流の圧力と回
収率および回収濃度との関係を示すグラフである。

【図３】上記第３透過ガス流の圧力と回収率および回収
濃度との関係において、排気ガス中のＰＦＣガスの構成
が変化した場合の上記関係を示すグラフである。

【図４】上記ＰＦＣ分離回収方法およびそれに用いるＰ
ＦＣ分離回収装置によりＰＦＣガスを回収した際の回収
濃度ならびに従来技術によりＰＦＣガスを回収した際の
回収濃度を示すグラフである。

【図５】上記ＰＦＣ分離回収方法およびそれに用いるＰ
ＦＣ分離回収装置において、排気ガスの流量を変動させ
た場合の第１〜第３圧力センサーの出力値を示すグラフ
である。

【図６】上記ＰＦＣ分離回収方法およびそれに用いるＰ
ＦＣ分離回収装置において、排気ガスの流量を変動させ
るとともに長時間にわたって実験した場合の第１〜第４
圧力センサーの出力値を示すグラフである。

【図７】上記ＰＦＣ分離回収方法およびそれに用いるＰ
ＦＣ分離回収装置において、第２圧力センサーによる圧
力一定制御をすることなく排気ガスの流量を変動させた
場合の第１〜第３圧力センサーの出力値を示すグラフで
ある。

【図８】従来のＰＦＣ分離回収方法およびそれに用いる
ＰＦＣ分離回収装置を示す説明図である。

【符号の説明】

３第１タンク７第１膜９第３膜１０第１コントロール弁２１第４コントロール弁２２第３ライン２３ニードル弁２４第４圧力センサー

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成１２年１月７日（２０００．１．７）

【手続補正１】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】全図

【補正方法】変更

【補正内容】

【図１】

【図２】

【図８】

【図３】

【図４】

【図５】

【図６】

【図７】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 4D006 GA41 JA65A KA02 KA16 KA53 KA54 KA63 KB14 KE02Q KE03Q KE07Q KE08Q KE14P MA01 MA03 MC18 MC19 MC23 MC28 MC54 MC58 MC59 MC62 MC65 PA04 PB19 PB70 PC01

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】パーフルオロ化合物ガスと希釈ガスとか
らなる希釈混合ガスを高圧にしたのち、パーフルオロ化
合物ガスよりも希釈ガスの透過率の高い膜に接触させる
ことによりパーフルオロ化合物ガスを分離して回収する
パーフルオロ化合物分離回収方法であって、高圧にした
のちの希釈混合ガスを上記膜に接触させることにより希
釈ガスに富む透過ガス流とパーフルオロ化合物ガスに富
む非透過ガス流とに分離する工程と、上記非透過ガス流
を上記膜と同様の機能をもつ他の膜に接触させることに
より他の透過ガス流と他の非透過ガス流とに再度分離す
る工程と、上記他の透過ガス流の圧力または流量を検出
する工程と、その圧力または流量を一定にするように上
記他の非透過ガス流の流量を制御する工程と、上記他の
非透過ガス流を回収する工程とを備えていることを特徴
とするパーフルオロ化合物分離回収方法。
【請求項２】上記透過ガス流の適宜な量を上記高圧に
なる前の希釈混合ガスに戻すことによりその高圧になる
前の希釈混合ガスの圧力を所定の一定値に制御する工程
を設け、この工程における上記制御を外気を取り込まず
に行なう請求項１記載のパーフルオロ化合物分離回収方
法。
【請求項３】上記他の膜を直列に１つ以上接続させ、
最後の他の膜以外の各膜で分離した他の非透過ガス流を
順次つぎの他の膜に接触させ、上記他の膜で分離した他
の透過ガス流のいずれかの圧力または流量を検出し、そ
の圧力または流量を一定にするように上記他の膜で分離
した他の非透過ガス流の流量を制御し、上記最後の膜で
分離した最後の他の非透過ガス流を回収する請求項１ま
たは２記載のパーフルオロ化合物分離回収方法。
【請求項４】パーフルオロ化合物ガスと希釈ガスとか
らなる希釈混合ガスを高圧にする手段と、高圧にしたの
ちの希釈混合ガスを希釈ガスに富む透過ガス流とパーフ
ルオロ化合物ガスに富む非透過ガス流とに分離する膜を
備えたパーフルオロ化合物分離回収装置であって、上記
非透過ガス流を他の透過ガス流と他の非透過ガス流とに
分離する他の膜と、上記他の透過ガス流の圧力または流
量を検出する手段と、上記他の非透過ガス流の流量を制
御する手段と、上記他の非透過ガス流を回収する手段と
を備えていることを特徴とするパーフルオロ化合物分離
回収装置。
【請求項５】上記透過ガス流の適宜な量を上記高圧に
なる前の希釈混合ガスに戻す手段と、その高圧になる前
の希釈混合ガスの圧力を所定の一定値に制御する手段を
備えている請求項４記載のパーフルオロ化合物分離回収
装置。
【請求項６】上記他の膜を直列に１つ以上接続させ、
最後の他の膜以外の各膜で分離した他の非透過ガス流を
順次つぎの他の膜に接触させ、上記他の膜で分離した他
の透過ガス流のいずれかの圧力または流量を検出する手
段と、上記他の膜で分離した他の非透過ガス流の流量を
制御する手段と、上記最後の膜で分離した最後の他の非
透過ガス流を回収する手段とを備えている請求項４また
は５記載のパーフルオロ化合物分離回収装置。