JP2001155861A - 有機ｅｌ用塗液及び有機ｅｌ素子並びにその製造方法。 - Google Patents
有機ｅｌ用塗液及び有機ｅｌ素子並びにその製造方法。Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 有機ＥＬ素子のパターン形成における有機Ｅ
Ｌ層の成膜を良好に行うための塗液並びに有機ＥＬ素子
及びその製造方法を提案する。 【解決手段】 有機ＥＬ素子中の少なくとも１層の有機
ＥＬ層を印刷法で形成する際に使用される有機ＥＬ用塗
液であって、蒸気圧が５００Ｐａ以下である溶媒を少な
くとも１種類含んでいることを特徴とする有機ＥＬ用塗
液及びそれを用いて形成した有機ＥＬ素子並びにその製
造方法。
Ｌ層の成膜を良好に行うための塗液並びに有機ＥＬ素子
及びその製造方法を提案する。 【解決手段】 有機ＥＬ素子中の少なくとも１層の有機
ＥＬ層を印刷法で形成する際に使用される有機ＥＬ用塗
液であって、蒸気圧が５００Ｐａ以下である溶媒を少な
くとも１種類含んでいることを特徴とする有機ＥＬ用塗
液及びそれを用いて形成した有機ＥＬ素子並びにその製
造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フルカラー表示可
能な有機ＥＬ素子を製造するための有機ＥＬ用塗液及び
有機ＥＬ素子並びにその製造方法に関する。
能な有機ＥＬ素子を製造するための有機ＥＬ用塗液及び
有機ＥＬ素子並びにその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、高度情報化に伴い、薄型、低消費
電力、軽量の表示素子への要望が高まる中、低電圧駆
動、高輝度な有機ＥＬディスプレイが、注目を集めてい
る。特に、近年の研究開発によって有機系材料を用いた
有機ＥＬ素子の発光効率の向上は著しく、有機ＥＬディ
スプレイへの実用化が始まっている。しかしながら、有
機ＥＬディスプレイを製造するにあたって、特に、高分
子材料は塗布により成膜を行うことが可能である事から
低コスト化が見込まれており、カラー化に向けての発光
層のパターニング方法が重要な研究目的の１つとなって
いる。
電力、軽量の表示素子への要望が高まる中、低電圧駆
動、高輝度な有機ＥＬディスプレイが、注目を集めてい
る。特に、近年の研究開発によって有機系材料を用いた
有機ＥＬ素子の発光効率の向上は著しく、有機ＥＬディ
スプレイへの実用化が始まっている。しかしながら、有
機ＥＬディスプレイを製造するにあたって、特に、高分
子材料は塗布により成膜を行うことが可能である事から
低コスト化が見込まれており、カラー化に向けての発光
層のパターニング方法が重要な研究目的の１つとなって
いる。
【０００３】具体的なパターニング方法としては、電着
法による方法（特開平９‐７７６８号公報）やインクジ
ェット法による方法（特開平１０‐１２３７７号公
報）、印刷法（特開平３‐２６９９９５号公報、特開平
１０−７７４６７号公報、特開平１１−２７３８５９号
公報）が現在開示されている。
法による方法（特開平９‐７７６８号公報）やインクジ
ェット法による方法（特開平１０‐１２３７７号公
報）、印刷法（特開平３‐２６９９９５号公報、特開平
１０−７７４６７号公報、特開平１１−２７３８５９号
公報）が現在開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、電着法
による方法では、良好な膜質の膜が得られないと言った
問題、あるいは用いることができる材料が限定されると
言った問題がある。また、インクジェット法では、膜の
表面形状が良好な膜が得られないと言った問題がある。
また、印刷法では、膜質、及び、表面形状が良好な膜が
得られる。しかし、有機ＥＬ素子の場合のように１μｍ
以下の薄膜を形成しようとした場合、ウエット状態での
膜厚も通常の印刷に比べて遥かに薄くする必要が生じ
る。しかし、実際上記印刷法でパターニングした特許で
例示されている、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロ
ロエタン、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレンと
いう溶剤を用いた場合、ウエット状態での膜厚が薄いと
ロール上、または、転写基板上で塗液が乾燥してしま
い、基板に所望の膜を形成することが不可能であると言
った問題が生じる。また、特開平１０−７７４６７号公
報、特開平１１−２７３８５９号公報で示されているマ
イクログラビアコータでは、薄膜を得るために、基板の
送り方向と基板に塗液を転写するローラーが逆回転させ
ており、その結果、パターン化された膜を形成すること
が不可能である。
による方法では、良好な膜質の膜が得られないと言った
問題、あるいは用いることができる材料が限定されると
言った問題がある。また、インクジェット法では、膜の
表面形状が良好な膜が得られないと言った問題がある。
また、印刷法では、膜質、及び、表面形状が良好な膜が
得られる。しかし、有機ＥＬ素子の場合のように１μｍ
以下の薄膜を形成しようとした場合、ウエット状態での
膜厚も通常の印刷に比べて遥かに薄くする必要が生じ
る。しかし、実際上記印刷法でパターニングした特許で
例示されている、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロ
ロエタン、テトラヒドロフラン、トルエン、キシレンと
いう溶剤を用いた場合、ウエット状態での膜厚が薄いと
ロール上、または、転写基板上で塗液が乾燥してしま
い、基板に所望の膜を形成することが不可能であると言
った問題が生じる。また、特開平１０−７７４６７号公
報、特開平１１−２７３８５９号公報で示されているマ
イクログラビアコータでは、薄膜を得るために、基板の
送り方向と基板に塗液を転写するローラーが逆回転させ
ており、その結果、パターン化された膜を形成すること
が不可能である。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題を鑑
み成されたのもであり、印刷工程中で生じる塗液の乾燥
が起こる原因が、用いる溶剤の蒸気圧に密接に関係して
いることを見出し、溶媒として低蒸気圧のものを少なく
とも１種類含有させることで上記課題が解消できること
を見出し、本発明を完成するに至った。
み成されたのもであり、印刷工程中で生じる塗液の乾燥
が起こる原因が、用いる溶剤の蒸気圧に密接に関係して
いることを見出し、溶媒として低蒸気圧のものを少なく
とも１種類含有させることで上記課題が解消できること
を見出し、本発明を完成するに至った。
【０００６】本発明の有機ＥＬ用塗液は、有機ＥＬ素子
中の少なくとも１層の有機ＥＬ層を印刷法で形成する際
に使用される有機ＥＬ用塗液であって、蒸気圧が５００
Ｐａ以下である溶媒を少なくとも１種類含んでいること
を特徴とする。
中の少なくとも１層の有機ＥＬ層を印刷法で形成する際
に使用される有機ＥＬ用塗液であって、蒸気圧が５００
Ｐａ以下である溶媒を少なくとも１種類含んでいること
を特徴とする。
【０００７】前記有機ＥＬ用塗液は、ジエチルベンゼ
ン、トリメチルベンゼン、トリエチルベンゼン、ニトロ
ベンゼンのいずれかを含むことを特徴とする。
ン、トリメチルベンゼン、トリエチルベンゼン、ニトロ
ベンゼンのいずれかを含むことを特徴とする。
【０００８】本発明の有機ＥＬ素子は、前述の有機ＥＬ
用塗液を用いて少なくとも１層の有機ＥＬ層を形成した
ことを特徴とする。
用塗液を用いて少なくとも１層の有機ＥＬ層を形成した
ことを特徴とする。
【０００９】また、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法
は、有機ＥＬ素子中の少なくとも１層の有機ＥＬ層を印
刷法で形成する有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記
有機ＥＬ層を形成時の温度での蒸気圧が５００Ｐａ以下
である溶媒を少なくとも１種類含んでいる有機ＥＬ用塗
液を用いて、印刷装置で前記有機ＥＬ層を形成すること
を特徴とする。
は、有機ＥＬ素子中の少なくとも１層の有機ＥＬ層を印
刷法で形成する有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記
有機ＥＬ層を形成時の温度での蒸気圧が５００Ｐａ以下
である溶媒を少なくとも１種類含んでいる有機ＥＬ用塗
液を用いて、印刷装置で前記有機ＥＬ層を形成すること
を特徴とする。
【００１０】さらに、前記印刷法で形成する有機ＥＬ用
塗液の接する部分の温度が、前記溶媒の蒸気圧を５００
Ｐａ以下とすることを特徴とする。前記溶媒の蒸気圧を
５００Ｐａ以下に保つために、前記印刷装置が恒温槽中
に保たれることを特徴とする。あるいは、前記印刷装置
は、少なくともロール部及び基板を固定するステージを
有し、前記ロール部と前記ステージに冷却機構を有し、
前記冷却機構によって前記有機ＥＬ用塗液の接する部分
の温度を、前記溶媒の蒸気圧を５００Ｐａ以下となる温
度に保つことを特徴とする。
塗液の接する部分の温度が、前記溶媒の蒸気圧を５００
Ｐａ以下とすることを特徴とする。前記溶媒の蒸気圧を
５００Ｐａ以下に保つために、前記印刷装置が恒温槽中
に保たれることを特徴とする。あるいは、前記印刷装置
は、少なくともロール部及び基板を固定するステージを
有し、前記ロール部と前記ステージに冷却機構を有し、
前記冷却機構によって前記有機ＥＬ用塗液の接する部分
の温度を、前記溶媒の蒸気圧を５００Ｐａ以下となる温
度に保つことを特徴とする。
【００１１】また、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法
は、前記印刷法を行う印刷装置で用いる転写基板の表面
が凹凸状にパターン化されている、あるいは親塗液部分
と疎塗液部分にパターン化されていることを特徴とす
る。
は、前記印刷法を行う印刷装置で用いる転写基板の表面
が凹凸状にパターン化されている、あるいは親塗液部分
と疎塗液部分にパターン化されていることを特徴とす
る。
【００１２】さらには、前記印刷法が凸版印刷法である
ことを特徴とする。
ことを特徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
について図面を参照して説明する。
について図面を参照して説明する。
【００１４】有機ＥＬ素子としては、図１に示すよう
に、少なくとも基板１上に第１電極２、有機ＥＬ層３と
第２電極４の構成からなり、有機ＥＬ層３と第２電極４
の側壁には隔壁５が設けられている。また、コントラス
トの観点から、基板１の外側には、偏光板７が設けられ
ていることが好ましく、また、信頼性の観点からは、有
機ＥＬ素子の第２電極４上には、封止膜又は封止基板６
を設けることが好ましい。本発明で説明する溶媒は、有
機ＥＬ層３の形成時に使用されるものである。
に、少なくとも基板１上に第１電極２、有機ＥＬ層３と
第２電極４の構成からなり、有機ＥＬ層３と第２電極４
の側壁には隔壁５が設けられている。また、コントラス
トの観点から、基板１の外側には、偏光板７が設けられ
ていることが好ましく、また、信頼性の観点からは、有
機ＥＬ素子の第２電極４上には、封止膜又は封止基板６
を設けることが好ましい。本発明で説明する溶媒は、有
機ＥＬ層３の形成時に使用されるものである。
【００１５】基板１としては、石英基板、ガラス基板等
の無機材料基板、ポリエチレンテレフタレート基板、ポ
リエーテルサルフォン基板、ポリイミド基板等の樹脂基
板が使用可能であるが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。
の無機材料基板、ポリエチレンテレフタレート基板、ポ
リエーテルサルフォン基板、ポリイミド基板等の樹脂基
板が使用可能であるが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。
【００１６】ここで、有機ＥＬ層３は、少なくとも１層
の有機発光層を有する構造で、有機発光層の単層構造、
あるいは、電荷輸送層と有機発光層との多層構造であっ
ても良い。ここで、電荷輸送層、有機発光層はそれぞれ
多層構造であっても良い。また、必要に応じて発光層と
電極の間にバッファー層を設けても良い。
の有機発光層を有する構造で、有機発光層の単層構造、
あるいは、電荷輸送層と有機発光層との多層構造であっ
ても良い。ここで、電荷輸送層、有機発光層はそれぞれ
多層構造であっても良い。また、必要に応じて発光層と
電極の間にバッファー層を設けても良い。
【００１７】また、有機ＥＬ層としては、少なくとも１
層が、本発明による有機ＥＬ用塗液を用いて印刷法によ
り形成されることが必要であるが、他の層は本発明の方
法により作製しても良いし、また、従来の方法（例え
ば、真空蒸着法等のドライプロセスや、ディップコート
法、スピンコート法、インクジェット法等のウエットプ
ロセス）により作製しても良い。
層が、本発明による有機ＥＬ用塗液を用いて印刷法によ
り形成されることが必要であるが、他の層は本発明の方
法により作製しても良いし、また、従来の方法（例え
ば、真空蒸着法等のドライプロセスや、ディップコート
法、スピンコート法、インクジェット法等のウエットプ
ロセス）により作製しても良い。
【００１８】次に、本発明による印刷法で用いる有機Ｅ
Ｌ用塗液について説明する。本発明による有機ＥＬ用塗
液としては、発光層形成用塗液と電荷輸送層形成用塗液
に大別できる。
Ｌ用塗液について説明する。本発明による有機ＥＬ用塗
液としては、発光層形成用塗液と電荷輸送層形成用塗液
に大別できる。
【００１９】ここで、発光層形成用塗液としては、有機
ＥＬ素子形成に用いられる公知な低分子発光材料、ある
いは高分子発光材料、高分子発光材料の前駆体、又は、
有機ＥＬ素子形成に用いられる低分子発光材料と高分子
発光材料とを両方含んだ材料を、少なくとも印刷法で膜
を形成する工程時での温度における蒸気圧が５００Ｐａ
以下である溶媒を少なくとも１種類含む溶媒に溶解もし
くは分散させた塗液を用いることができる。
ＥＬ素子形成に用いられる公知な低分子発光材料、ある
いは高分子発光材料、高分子発光材料の前駆体、又は、
有機ＥＬ素子形成に用いられる低分子発光材料と高分子
発光材料とを両方含んだ材料を、少なくとも印刷法で膜
を形成する工程時での温度における蒸気圧が５００Ｐａ
以下である溶媒を少なくとも１種類含む溶媒に溶解もし
くは分散させた塗液を用いることができる。
【００２０】有機ＥＬ用の公知の低分子発光材料とし
て、例えば、トリフェニルブタジエン、クマリン、ナイ
ルレッド、オキサジアゾール誘導体等があるが、本発明
は特にこれらに限定されるものではない。もしくは、有
機ＥＬ用の公知の高分子発光材料としては、例えば、ポ
リ（２−デシルオキシ−１，４−フェニレン）（ＤＯ−
ＰＰＰ）、ポリ［２，５−ビス［２−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−ト
リエチルアンモニウム）エトキシ］−１，４−フェニレ
ン−アルト−１，４−フェニレン］ジブロマイド（ＰＰ
Ｐ−ＮＥｔ3 +）、ポリ［２−（２’−エチルヘキシルオ
キシ）−５−メトキシ−１，４−フェニレンビニレン］
（ＭＥＨ−ＰＰＶ）、ポリ（５−メトキシ−（２−プロ
パノキシサルフォニド）−１，４−フェニレンビニレ
ン）（ＭＰＳ−ＰＰＶ）、ポリ［２，５−ビス（ヘキシ
ルオキシ−１，４−フェニレン）−（１−シアノビニレ
ン）］（ＣＮ−ＰＰＶ）、ポリ［２−（２’−エチルヘ
キシルオキシ）−５−メトキシ−１，４−フェニレン−
（１−シアノビニレン）］（ＭＥＨ−ＣＮ−ＰＰＶ）及
び、ポリ（ジオクチルフルオレン）（ＰＤＦ）等がある
が、本発明は特にこれらに限定されるものではない。あ
るいは、有機ＥＬ用の公知の高分子発光材料の前駆体と
して、例えば、ポリ（ｐ−フェニレン）前駆体（Ｐｒｅ
−ＰＰＰ）、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）前駆体
（Ｐｒｅ−ＰＰＶ）、ポリ（ｐ−ナフタレンビニレン）
前駆体（Ｐｒｅ−ＰＮＶ）等があるが、本発明は特にこ
れらに限定されるものではない。また、有機ＥＬ用の公
知の前述した低分子発光材料と、公知の高分子材料、例
えば、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリ
レート（ＰＭＭＡ）、ポリカルバゾール（ＰＶＣｚ）等
とがあるが、本発明は特にこれらに限定されるものでは
ない。上述したような発光材料を、少なくとも印刷法で
膜を形成する際の温度における蒸気圧で５００Ｐａ以下
である溶媒を少なくとも１種類含む溶媒に溶解もしくは
分散させた塗液を用いることができる。更に好ましく
は、膜の表面性の観点から、２５０Ｐａ以下が好まし
い。また、好ましくは、異なる２種類以上の溶媒の混合
溶媒を用いる場合は、印刷法で膜を形成する際の温度に
おける蒸気圧が５００Ｐａ以下である溶媒が５０ｗｔ％
以上含有されていることが好ましい。
て、例えば、トリフェニルブタジエン、クマリン、ナイ
ルレッド、オキサジアゾール誘導体等があるが、本発明
は特にこれらに限定されるものではない。もしくは、有
機ＥＬ用の公知の高分子発光材料としては、例えば、ポ
リ（２−デシルオキシ−１，４−フェニレン）（ＤＯ−
ＰＰＰ）、ポリ［２，５−ビス［２−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−ト
リエチルアンモニウム）エトキシ］−１，４−フェニレ
ン−アルト−１，４−フェニレン］ジブロマイド（ＰＰ
Ｐ−ＮＥｔ3 +）、ポリ［２−（２’−エチルヘキシルオ
キシ）−５−メトキシ−１，４−フェニレンビニレン］
（ＭＥＨ−ＰＰＶ）、ポリ（５−メトキシ−（２−プロ
パノキシサルフォニド）−１，４−フェニレンビニレ
ン）（ＭＰＳ−ＰＰＶ）、ポリ［２，５−ビス（ヘキシ
ルオキシ−１，４−フェニレン）−（１−シアノビニレ
ン）］（ＣＮ−ＰＰＶ）、ポリ［２−（２’−エチルヘ
キシルオキシ）−５−メトキシ−１，４−フェニレン−
（１−シアノビニレン）］（ＭＥＨ−ＣＮ−ＰＰＶ）及
び、ポリ（ジオクチルフルオレン）（ＰＤＦ）等がある
が、本発明は特にこれらに限定されるものではない。あ
るいは、有機ＥＬ用の公知の高分子発光材料の前駆体と
して、例えば、ポリ（ｐ−フェニレン）前駆体（Ｐｒｅ
−ＰＰＰ）、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）前駆体
（Ｐｒｅ−ＰＰＶ）、ポリ（ｐ−ナフタレンビニレン）
前駆体（Ｐｒｅ−ＰＮＶ）等があるが、本発明は特にこ
れらに限定されるものではない。また、有機ＥＬ用の公
知の前述した低分子発光材料と、公知の高分子材料、例
えば、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリ
レート（ＰＭＭＡ）、ポリカルバゾール（ＰＶＣｚ）等
とがあるが、本発明は特にこれらに限定されるものでは
ない。上述したような発光材料を、少なくとも印刷法で
膜を形成する際の温度における蒸気圧で５００Ｐａ以下
である溶媒を少なくとも１種類含む溶媒に溶解もしくは
分散させた塗液を用いることができる。更に好ましく
は、膜の表面性の観点から、２５０Ｐａ以下が好まし
い。また、好ましくは、異なる２種類以上の溶媒の混合
溶媒を用いる場合は、印刷法で膜を形成する際の温度に
おける蒸気圧が５００Ｐａ以下である溶媒が５０ｗｔ％
以上含有されていることが好ましい。
【００２１】また、これらの液に、必要に応じて粘度調
整用の添加剤、有機ＥＬ用、有機光導電体用の公知のホ
ール輸送材料（例えば、Ｎ，Ｎ−ビス−（３−メチルフ
ェニル）−Ｎ，Ｎ'−ビス−（フェニル）−ベンジジン
（ＴＰＤ）、Ｎ，Ｎ'−ジ（ナフタレン−１−イル）−
Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＤ）等がある
が、本発明は特にこれらに限定されるものではな
い。）、または、電子輸送材料、（３−（４−ビフェニ
ルイル）−４−フェニレン−５−ｔ−ブチルフェニル−
１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）、トリス（８−ヒ
ドロキシナト）アルミニウム（Ａｌｑ3）等のなどがあ
るが、これらに限定されるものではない）、アクセプタ
ー、ドナー等のドーパント等を添加しても良い。
整用の添加剤、有機ＥＬ用、有機光導電体用の公知のホ
ール輸送材料（例えば、Ｎ，Ｎ−ビス−（３−メチルフ
ェニル）−Ｎ，Ｎ'−ビス−（フェニル）−ベンジジン
（ＴＰＤ）、Ｎ，Ｎ'−ジ（ナフタレン−１−イル）−
Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＤ）等がある
が、本発明は特にこれらに限定されるものではな
い。）、または、電子輸送材料、（３−（４−ビフェニ
ルイル）−４−フェニレン−５−ｔ−ブチルフェニル−
１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）、トリス（８−ヒ
ドロキシナト）アルミニウム（Ａｌｑ3）等のなどがあ
るが、これらに限定されるものではない）、アクセプタ
ー、ドナー等のドーパント等を添加しても良い。
【００２２】電荷輸送層形成用塗液としては、公知な低
分子電荷輸送材料、あるいは高分子電荷輸送材料、高分
子電荷輸送材料の前駆体、又は、公知の低分子材料と高
分子材料とを両方含んだ材料を、少なくとも印刷法で膜
を形成する工程時での温度における蒸気圧が５００Ｐａ
以下である溶媒を少なくとも１種類含む溶媒に溶解もし
くは分散させた塗液を用いることができる。
分子電荷輸送材料、あるいは高分子電荷輸送材料、高分
子電荷輸送材料の前駆体、又は、公知の低分子材料と高
分子材料とを両方含んだ材料を、少なくとも印刷法で膜
を形成する工程時での温度における蒸気圧が５００Ｐａ
以下である溶媒を少なくとも１種類含む溶媒に溶解もし
くは分散させた塗液を用いることができる。
【００２３】有機ＥＬ用、有機光導電体用の公知の低分
子電荷輸送材料として、例えば、ＴＰＤ、ＮＰＤ、オキ
サジアゾール誘導体等があるが、本発明は特にこれらに
限定されるものではない。もしくは、公知の高分子電荷
輸送材料として、例えば、ポリアニリン（ＰＡＮＩ）、
３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯ
Ｔ）、ポリカルバゾール（ＰＶＣｚ）、ポリ（トリフェ
ニルアミン誘導体）（Ｐｏｌｙ−ＴＰＤ）、ポリ（オキ
サジアゾール誘導体）（Ｐｏｌｙ−ＯＸＺ）等がある
が、本発明は特にこれらに限定されるものではない。も
しくは、有機ＥＬ用、有機光導電体用の公知の高分子電
荷輸送材料の前駆体として、例えば、Ｐｒｅ−ＰＰＶ、
Ｐｒｅ−ＰＮＶ等があるが、本発明は特にこれらに限定
されるものではない。もしくは、有機ＥＬ用、有機光導
電体用の前述の低分子電荷輸送材料と公知の高分子材料
（例えば、ＰＣ、ＰＭＭＡ、ＰＶＣｚ等があるが、本発
明は特にこれらに限定されるものではない。）からなる
塗液を用いることができる。
子電荷輸送材料として、例えば、ＴＰＤ、ＮＰＤ、オキ
サジアゾール誘導体等があるが、本発明は特にこれらに
限定されるものではない。もしくは、公知の高分子電荷
輸送材料として、例えば、ポリアニリン（ＰＡＮＩ）、
３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯ
Ｔ）、ポリカルバゾール（ＰＶＣｚ）、ポリ（トリフェ
ニルアミン誘導体）（Ｐｏｌｙ−ＴＰＤ）、ポリ（オキ
サジアゾール誘導体）（Ｐｏｌｙ−ＯＸＺ）等がある
が、本発明は特にこれらに限定されるものではない。も
しくは、有機ＥＬ用、有機光導電体用の公知の高分子電
荷輸送材料の前駆体として、例えば、Ｐｒｅ−ＰＰＶ、
Ｐｒｅ−ＰＮＶ等があるが、本発明は特にこれらに限定
されるものではない。もしくは、有機ＥＬ用、有機光導
電体用の前述の低分子電荷輸送材料と公知の高分子材料
（例えば、ＰＣ、ＰＭＭＡ、ＰＶＣｚ等があるが、本発
明は特にこれらに限定されるものではない。）からなる
塗液を用いることができる。
【００２４】上述したような電荷輸送材料を、少なくと
も印刷法で膜を形成する際の温度における蒸気圧で５０
０Ｐａ以下である溶媒を少なくとも１種類含む溶媒に溶
解もしくは分散させた塗液を用いることができる。更に
好ましくは、膜の表面性の観点、有機ＥＬ素子として適
した膜厚を実現するためには、２５０Ｐａ以下が好まし
い。また、好ましくは、異なる２種類以上の溶媒の混合
溶媒を用いる場合は、印刷法で膜を形成する際の温度に
おける蒸気圧が５００Ｐａ以下である溶媒が５０ｗｔ％
以上含有されていることが好ましい。また、これらの液
に、必要に応じて、粘度調整用、アクセプター、ドナー
等のドーパント等を添加しても良い。
も印刷法で膜を形成する際の温度における蒸気圧で５０
０Ｐａ以下である溶媒を少なくとも１種類含む溶媒に溶
解もしくは分散させた塗液を用いることができる。更に
好ましくは、膜の表面性の観点、有機ＥＬ素子として適
した膜厚を実現するためには、２５０Ｐａ以下が好まし
い。また、好ましくは、異なる２種類以上の溶媒の混合
溶媒を用いる場合は、印刷法で膜を形成する際の温度に
おける蒸気圧が５００Ｐａ以下である溶媒が５０ｗｔ％
以上含有されていることが好ましい。また、これらの液
に、必要に応じて、粘度調整用、アクセプター、ドナー
等のドーパント等を添加しても良い。
【００２５】また、従来の方法で使用できる有機発光材
料としては、公知の有機ＥＬ用の発光材料が使用可能で
あり、有機発光層は前記した有機発光材料のみから構成
されても良いし、添加剤等を含有しても良い。
料としては、公知の有機ＥＬ用の発光材料が使用可能で
あり、有機発光層は前記した有機発光材料のみから構成
されても良いし、添加剤等を含有しても良い。
【００２６】また、従来の方法で使用できる電荷輸送材
料としては、公知の有機ＥＬ用、有機光導電体用の公知
の材料が使用可能であり、電荷輸送層は、前記した電荷
輸送材料のみから構成されても良いし、添加剤等を含有
しても良い。しかし、本発明は特にこれらに限定される
ものではない。
料としては、公知の有機ＥＬ用、有機光導電体用の公知
の材料が使用可能であり、電荷輸送層は、前記した電荷
輸送材料のみから構成されても良いし、添加剤等を含有
しても良い。しかし、本発明は特にこれらに限定される
ものではない。
【００２７】また、印刷法で膜を形成する工程での温度
における蒸気圧が５００Ｐａ以下である溶剤としては、
例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、
トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル、エチレングリコールモエチルエーテル、ト
リエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレ
ングリコールモエチルエーテル、グリセリン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、
シクロヘキサノン、１−プロパノール、オクタン、ノナ
ン、デカン、キシレン、ジエチルベンゼン、トリメチル
ベンゼン、ニトロベンゼン等があるが、本発明は特にこ
れらに限定されるものではない。
における蒸気圧が５００Ｐａ以下である溶剤としては、
例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、
トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル、エチレングリコールモエチルエーテル、ト
リエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレ
ングリコールモエチルエーテル、グリセリン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、
シクロヘキサノン、１−プロパノール、オクタン、ノナ
ン、デカン、キシレン、ジエチルベンゼン、トリメチル
ベンゼン、ニトロベンゼン等があるが、本発明は特にこ
れらに限定されるものではない。
【００２８】また、多層積層膜からなる有機ＥＬディス
プレイを作製する場合には、接する膜間での材料の混同
を防ぐ為、後に作製する層に使用する溶媒は先に形成し
てある層を溶解させないものが好ましい。
プレイを作製する場合には、接する膜間での材料の混同
を防ぐ為、後に作製する層に使用する溶媒は先に形成し
てある層を溶解させないものが好ましい。
【００２９】次に、前記有機ＥＬ層３を挟持する第１電
極２と第２電極４としては、有機ＥＬ素子において、基
板及び第１電極が透明である場合は、有機ＥＬ層３から
の発光は、基板側から放出されるので、発光効率を高め
る為、第２電極が反射電極であること、もしくは、第２
電極上に反射膜を有することが好ましい。逆に、第２電
極を透明材料で構成して、有機ＥＬ層からの発光を第２
電極側から放出させることもできる。この場合には、第
１電極が反射電極であること、もしくは、第１電極と基
板との間に反射膜を有することが好ましい。ここで、透
明電極としては、ＣｕＩ、ＩＴＯ、ＳｎＯ2、ＺｎＯ等
の透明電極が使用可能で、反射電極としては、アルミニ
ウム、カルシウム等の金属、マクネシウム‐銀、リチウ
ム‐アルミニウム等の合金、カルシウム／銀、マグネシ
ウム／銀等の金属同士の積層膜、フッ化リチウム／アル
ミニウム等の絶縁体と金属との積層膜等が使用可能であ
るが、本発明は特にこれらに限定されるものではない。
極２と第２電極４としては、有機ＥＬ素子において、基
板及び第１電極が透明である場合は、有機ＥＬ層３から
の発光は、基板側から放出されるので、発光効率を高め
る為、第２電極が反射電極であること、もしくは、第２
電極上に反射膜を有することが好ましい。逆に、第２電
極を透明材料で構成して、有機ＥＬ層からの発光を第２
電極側から放出させることもできる。この場合には、第
１電極が反射電極であること、もしくは、第１電極と基
板との間に反射膜を有することが好ましい。ここで、透
明電極としては、ＣｕＩ、ＩＴＯ、ＳｎＯ2、ＺｎＯ等
の透明電極が使用可能で、反射電極としては、アルミニ
ウム、カルシウム等の金属、マクネシウム‐銀、リチウ
ム‐アルミニウム等の合金、カルシウム／銀、マグネシ
ウム／銀等の金属同士の積層膜、フッ化リチウム／アル
ミニウム等の絶縁体と金属との積層膜等が使用可能であ
るが、本発明は特にこれらに限定されるものではない。
【００３０】又、これらの材料を基板上もしくは有機Ｅ
Ｌ層上にスパッタ、ＥＢ蒸着、抵抗加熱蒸着等のドライ
プロセスで成膜することが可能であるが、本発明は特に
これらに限定されるものではない。また、上記材料を結
着樹脂中に分散して印刷法、インクジェット法等のウエ
ットプロセスで成膜することが可能であるが、本発明は
特にこれらに限定されるものではない。
Ｌ層上にスパッタ、ＥＢ蒸着、抵抗加熱蒸着等のドライ
プロセスで成膜することが可能であるが、本発明は特に
これらに限定されるものではない。また、上記材料を結
着樹脂中に分散して印刷法、インクジェット法等のウエ
ットプロセスで成膜することが可能であるが、本発明は
特にこれらに限定されるものではない。
【００３１】次に、複数の有機ＥＬ素子から構成される
有機ＥＬディスプレイについて説明する。
有機ＥＬディスプレイについて説明する。
【００３２】まず、有機ＥＬディスプレイの各発光画素
の配置について説明する。本発明の有機ＥＬディスプレ
イは、図２（ａ）に示すように、ディスプレイの各部分
が異なる発光色を持つエリアから構成されていても良い
し、図３（ａ）に示すように、有機ＥＬ層が、マトリッ
クス状に配置され構造をもっており、そのマトリックス
状に配置された有機ＥＬ層は、好ましくは、各々が赤色
（Ｒ）発光画素８、緑色（Ｇ）発光画素９、青色（Ｂ）
発光画素１０から構成されていても良い。また、このス
トライプ配列の代わりに、図３（ｂ）、図３（ｃ）に示
すような配列でも良い。また、図３（ｄ）に示されるよ
うに赤色（Ｒ）発光画素、緑色（Ｇ）発光画素、青色
（Ｂ）発光画素の割合は、必ずしも、１：１：１の比で
無くとも良い。また、各画素の発光面積は同一であって
も良いが、異なっていても良い。
の配置について説明する。本発明の有機ＥＬディスプレ
イは、図２（ａ）に示すように、ディスプレイの各部分
が異なる発光色を持つエリアから構成されていても良い
し、図３（ａ）に示すように、有機ＥＬ層が、マトリッ
クス状に配置され構造をもっており、そのマトリックス
状に配置された有機ＥＬ層は、好ましくは、各々が赤色
（Ｒ）発光画素８、緑色（Ｇ）発光画素９、青色（Ｂ）
発光画素１０から構成されていても良い。また、このス
トライプ配列の代わりに、図３（ｂ）、図３（ｃ）に示
すような配列でも良い。また、図３（ｄ）に示されるよ
うに赤色（Ｒ）発光画素、緑色（Ｇ）発光画素、青色
（Ｂ）発光画素の割合は、必ずしも、１：１：１の比で
無くとも良い。また、各画素の発光面積は同一であって
も良いが、異なっていても良い。
【００３３】ここで、各画素間には、異なる発光色を持
つ発光画素間には発光層の混ざりを防止する為、隔壁を
設けることが好ましい。
つ発光画素間には発光層の混ざりを防止する為、隔壁を
設けることが好ましい。
【００３４】隔壁としては、単層構造であっても良い
し、多層構造であっても良い。また、隔壁の材質として
は、本発明の有機ＥＬ用塗液に対して、不溶もしくは難
溶であることが好ましい。また、より好ましくは、ディ
スプレイとしての表示品位を上げる目的で、ブラックマ
トリックス用の材料を用いることが良い。
し、多層構造であっても良い。また、隔壁の材質として
は、本発明の有機ＥＬ用塗液に対して、不溶もしくは難
溶であることが好ましい。また、より好ましくは、ディ
スプレイとしての表示品位を上げる目的で、ブラックマ
トリックス用の材料を用いることが良い。
【００３５】次に、各画素に対応した第１電極間と第２
電極間の接続方法について説明する。図４に示すように
少なくとも第１電極若しくは第２電極がそれぞれの画素
に独立の電極にしても良いし、図５に示すように、前記
有機ＥＬ層に対応した第１電極と第２電極が共通の基板
上で互いに直交するストライプ状の電極に成るように構
成されても良いし、また、図６に示すように、第１電極
もしくは第２電極が薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を、介
して共通の電極（ソースバスライン、ゲートバスライ
ン）に接続していても良い。ここで、１画素に対応する
ＴＦＴは、１つでも良いし、複数個でも良い。上記図
３、４、５に示す符号は、図１と同じである。
電極間の接続方法について説明する。図４に示すように
少なくとも第１電極若しくは第２電極がそれぞれの画素
に独立の電極にしても良いし、図５に示すように、前記
有機ＥＬ層に対応した第１電極と第２電極が共通の基板
上で互いに直交するストライプ状の電極に成るように構
成されても良いし、また、図６に示すように、第１電極
もしくは第２電極が薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を、介
して共通の電極（ソースバスライン、ゲートバスライ
ン）に接続していても良い。ここで、１画素に対応する
ＴＦＴは、１つでも良いし、複数個でも良い。上記図
３、４、５に示す符号は、図１と同じである。
【００３６】次に、本発明による有機層の形成法につい
て説明する。本発明の有機層の形成は、印刷法により発
光層形成用塗液を成膜することで、第１電極上もしくは
電荷輸送層上に形成する。または、本発明の電荷輸送層
の形成は、印刷法により電荷輸送層形成用塗液を成膜す
ることで、第１電極上、電荷輸送層上もしくは発光層上
に形成する。
て説明する。本発明の有機層の形成は、印刷法により発
光層形成用塗液を成膜することで、第１電極上もしくは
電荷輸送層上に形成する。または、本発明の電荷輸送層
の形成は、印刷法により電荷輸送層形成用塗液を成膜す
ることで、第１電極上、電荷輸送層上もしくは発光層上
に形成する。
【００３７】また、本発明の印刷法としては、転写基板
に有機ＥＬ用塗液をつけ、有機ＥＬ用塗液を、基板に移
す方法で、例えば、凸版印刷、凹版印刷、平版印刷、オ
フセット印刷等が挙げられるが本発明は特にこれらに限
定される物ではない、しかし、膜厚１μｍ以下の薄膜を
均一に形成する為には凸版印刷、凹版印刷、平版印刷が
良い。さらに１０００Å以下の薄膜を均一に形成する為
には、凸版印刷が好ましい。
に有機ＥＬ用塗液をつけ、有機ＥＬ用塗液を、基板に移
す方法で、例えば、凸版印刷、凹版印刷、平版印刷、オ
フセット印刷等が挙げられるが本発明は特にこれらに限
定される物ではない、しかし、膜厚１μｍ以下の薄膜を
均一に形成する為には凸版印刷、凹版印刷、平版印刷が
良い。さらに１０００Å以下の薄膜を均一に形成する為
には、凸版印刷が好ましい。
【００３８】また、印刷機の構造としては、図７に示す
ように、転写基板を固定するロール部１７に固定されて
いる転写基板１６に、塗液投入口１４から投入され、ブ
レード１５を介して直接塗液１８を塗布し、ステージ１
９上に設置された基板１上の第1電極２へ転写しても良
いが、基板に形成される膜の膜厚の均一性の観点から図
８に示すように塗液１８をまず塗液を一時保持するロー
ル部２０に塗布し、そのロール部２０を別のロール部１
７に固定されている転写基板１６に転写し、その後、第
１電極２上に転写するほうが良い。更に、図９に示すよ
うに塗液１８をまず塗液を一時保持するロール部２０に
塗布し、そのロール部２０を別のロール部２１に固定さ
れている転写基板１６に転写し、更にその後、塗液１８
をもう一度ロール部２１に転写し、その後、第１電極２
上に転写することも可能である。
ように、転写基板を固定するロール部１７に固定されて
いる転写基板１６に、塗液投入口１４から投入され、ブ
レード１５を介して直接塗液１８を塗布し、ステージ１
９上に設置された基板１上の第1電極２へ転写しても良
いが、基板に形成される膜の膜厚の均一性の観点から図
８に示すように塗液１８をまず塗液を一時保持するロー
ル部２０に塗布し、そのロール部２０を別のロール部１
７に固定されている転写基板１６に転写し、その後、第
１電極２上に転写するほうが良い。更に、図９に示すよ
うに塗液１８をまず塗液を一時保持するロール部２０に
塗布し、そのロール部２０を別のロール部２１に固定さ
れている転写基板１６に転写し、更にその後、塗液１８
をもう一度ロール部２１に転写し、その後、第１電極２
上に転写することも可能である。
【００３９】次に、ロール部に固定する転写基板につい
て説明する。転写基板の材質としては、基板として樹脂
基板を用いる場合には、金属材料でも樹脂材料でも良い
が、基板として無機材料基板を用いる場合には、基板へ
のダメージを考えると樹脂材料が良く、例えば、金属材
料としては、銅版等が有り、樹脂材料としては、ＡＰＲ
（旭化成製）、富士トレリーフ（富士フィルム製）が挙
げられるが、本発明は特にこれらに限定される物ではな
い。また、転写基板のパターンとしては、単純に凹凸の
パターンが形成されていても良いし（凸版、凹版）、塗
液に対して、親塗液部分と疎塗液部分のパターン化され
ていてもよい。（平版でも可）。
て説明する。転写基板の材質としては、基板として樹脂
基板を用いる場合には、金属材料でも樹脂材料でも良い
が、基板として無機材料基板を用いる場合には、基板へ
のダメージを考えると樹脂材料が良く、例えば、金属材
料としては、銅版等が有り、樹脂材料としては、ＡＰＲ
（旭化成製）、富士トレリーフ（富士フィルム製）が挙
げられるが、本発明は特にこれらに限定される物ではな
い。また、転写基板のパターンとしては、単純に凹凸の
パターンが形成されていても良いし（凸版、凹版）、塗
液に対して、親塗液部分と疎塗液部分のパターン化され
ていてもよい。（平版でも可）。
【００４０】また、本発明の蒸気圧を満たす為に、室温
で５００Ｐａ以下の溶媒を少なくとも含有する有機ＥＬ
用塗液を用いて室温で膜を形成しても良いし、印刷装置
を、恒温層若しくは恒温室に設置して、有機ＥＬ用塗液
を印刷機で成膜する工程の温度を低温で行うことで有機
ＥＬ用塗液中の溶媒の蒸気圧を５００Ｐａ以下に抑えて
も良い。
で５００Ｐａ以下の溶媒を少なくとも含有する有機ＥＬ
用塗液を用いて室温で膜を形成しても良いし、印刷装置
を、恒温層若しくは恒温室に設置して、有機ＥＬ用塗液
を印刷機で成膜する工程の温度を低温で行うことで有機
ＥＬ用塗液中の溶媒の蒸気圧を５００Ｐａ以下に抑えて
も良い。
【００４１】また、有機ＥＬ用塗液が触れる部分、例え
ば、塗液を一時保持するロール部、転写基板を固定する
ロール部及び基板を固定するステージに冷却機構（例え
ば、冷却水の循環機構、ペルチェ素子等）を取りつけ
て、膜形成時の温度での有機ＥＬ用塗液中の溶媒の蒸気
圧を５００Ｐａ以下に抑えても良い。また、印刷機の環
境は特に限定される物ではないが、膜の吸湿、材料の変
質を考えると不活性ガス中で行うことが好ましい。
ば、塗液を一時保持するロール部、転写基板を固定する
ロール部及び基板を固定するステージに冷却機構（例え
ば、冷却水の循環機構、ペルチェ素子等）を取りつけ
て、膜形成時の温度での有機ＥＬ用塗液中の溶媒の蒸気
圧を５００Ｐａ以下に抑えても良い。また、印刷機の環
境は特に限定される物ではないが、膜の吸湿、材料の変
質を考えると不活性ガス中で行うことが好ましい。
【００４２】また、本発明の記載の方法により膜を形成
した後に、残留溶媒を除去する目的で、加熱乾燥を行っ
たほうが良い。乾燥を行う環境は特に限定される物では
ないが、用いた有機材料の変質を防止する観点で、不活
性ガス中で行うことが好ましい。更に、好ましくは減圧
下で行う方が良い。
した後に、残留溶媒を除去する目的で、加熱乾燥を行っ
たほうが良い。乾燥を行う環境は特に限定される物では
ないが、用いた有機材料の変質を防止する観点で、不活
性ガス中で行うことが好ましい。更に、好ましくは減圧
下で行う方が良い。
【００４３】本発明を実施例により更に具体的に説明す
るが、これらの実施例に本発明が限定される物ではな
い。
るが、これらの実施例に本発明が限定される物ではな
い。
【００４４】＜印刷機による成膜テスト＞ （実施例１）２ｍｍ幅のパターン形成したＩＴＯ付きの
ガラス基板上をフォトリソグラフィー法により作製し
た。次に、このＩＴＯ付きガラス基板を、例えばイソプ
ロピルアルコール、アセトン、純水を用いた従来のウエ
ットプロセスのよる洗浄法とＵＶオゾン処理、プラズマ
処理等の従来のドライプロセスにより洗浄する。
ガラス基板上をフォトリソグラフィー法により作製し
た。次に、このＩＴＯ付きガラス基板を、例えばイソプ
ロピルアルコール、アセトン、純水を用いた従来のウエ
ットプロセスのよる洗浄法とＵＶオゾン処理、プラズマ
処理等の従来のドライプロセスにより洗浄する。
【００４５】次に、ＰＤＦをｏ−キシレン溶媒に溶か
し、青色発光層形成用塗液とした。次に、市販の凸版印
刷機を改造した印刷装置Ａ（図７参照）あるいは印刷装
置Ｂ（図８参照）を恒温層中に入れ、塗工環境温度を２
０℃環境にし、上記塗液のＩＴＯ付きガラス基板への転
写を行った。このとき転写基板としてはＡＰＲ（ショア
Ａ硬度 ５５）を用いた。また、印圧を０．１ｍｍとし
た。ここで、印刷装置Ｂは、アニロックスロールとして
３００線／ｉｎｃｈのものを用いた。
し、青色発光層形成用塗液とした。次に、市販の凸版印
刷機を改造した印刷装置Ａ（図７参照）あるいは印刷装
置Ｂ（図８参照）を恒温層中に入れ、塗工環境温度を２
０℃環境にし、上記塗液のＩＴＯ付きガラス基板への転
写を行った。このとき転写基板としてはＡＰＲ（ショア
Ａ硬度 ５５）を用いた。また、印圧を０．１ｍｍとし
た。ここで、印刷装置Ｂは、アニロックスロールとして
３００線／ｉｎｃｈのものを用いた。
【００４６】次に、この基板に先ほどのＩＴＯとは直交
する向きに２ｍｍ×１００ｍｍ幅の穴の空いたシャドウ
マスクを固定し、真空蒸着装置にいれ、１×１０-6Ｔｏ
ｒｒの真空下でＣａを５０ｎｍ、Ａｇを２００ｎｍ真空
蒸着し、電極とした。 （実施例２） ｏ−キシレンをトルエンにしたこと以外
は実施例１と同様にした。 （実施例３） ｏ−キシレンをイソプロピルベンゼンに
したこと以外は実施例１と同様にした。 （実施例４） ｏ−キシレンをトリメチルベンゼンにし
たこと以外は実施例１と同様にした。 （実施例５） ｏ−キシレンをｏ−キシレンとニトロベ
ンゼンの４：６混合溶媒にしたこと以外は実施例１と同
様にした。 （実施例６） 塗工環境温度を０℃としたこと以外は実
施例１と同様にした。 （実施例７） 青色発光層形成用塗液の代わりに、Ｐｒ
ｅ−ＰＰＶをメタノール溶媒に溶かした緑色発光層形成
用塗液を用いたこと以外は実施例１と同様である。 （実施例８） メタノールをメタノールとエチレングリ
コールの４：６混合溶媒にしたこと以外は実施例７と同
様にした。 （実施例９） 青色発光層形成用塗液の代わりに、ＭＥ
Ｈ−ＣＮ−ＰＰＶをトルエン溶媒に溶かした赤色発光層
形成用塗液を用いたこと以外は実施例１と同様である。 （実施例１０） トルエンをｏ−キシレンとニトロベン
ゼンの４：６混合溶媒にしたこと以外は実施例９と同様
にした。
する向きに２ｍｍ×１００ｍｍ幅の穴の空いたシャドウ
マスクを固定し、真空蒸着装置にいれ、１×１０-6Ｔｏ
ｒｒの真空下でＣａを５０ｎｍ、Ａｇを２００ｎｍ真空
蒸着し、電極とした。 （実施例２） ｏ−キシレンをトルエンにしたこと以外
は実施例１と同様にした。 （実施例３） ｏ−キシレンをイソプロピルベンゼンに
したこと以外は実施例１と同様にした。 （実施例４） ｏ−キシレンをトリメチルベンゼンにし
たこと以外は実施例１と同様にした。 （実施例５） ｏ−キシレンをｏ−キシレンとニトロベ
ンゼンの４：６混合溶媒にしたこと以外は実施例１と同
様にした。 （実施例６） 塗工環境温度を０℃としたこと以外は実
施例１と同様にした。 （実施例７） 青色発光層形成用塗液の代わりに、Ｐｒ
ｅ−ＰＰＶをメタノール溶媒に溶かした緑色発光層形成
用塗液を用いたこと以外は実施例１と同様である。 （実施例８） メタノールをメタノールとエチレングリ
コールの４：６混合溶媒にしたこと以外は実施例７と同
様にした。 （実施例９） 青色発光層形成用塗液の代わりに、ＭＥ
Ｈ−ＣＮ−ＰＰＶをトルエン溶媒に溶かした赤色発光層
形成用塗液を用いたこと以外は実施例１と同様である。 （実施例１０） トルエンをｏ−キシレンとニトロベン
ゼンの４：６混合溶媒にしたこと以外は実施例９と同様
にした。
【００４７】上記の実施例１〜１０のようにして作製し
た素子を、顕微鏡とＵＶランプを用い基板上に膜が形成
されているかの転写テストを行い、基板上に膜が形成さ
れていた素子に関しては、直流電圧を印加することで発
光テストを行った。その結果を下記表１に示す。
た素子を、顕微鏡とＵＶランプを用い基板上に膜が形成
されているかの転写テストを行い、基板上に膜が形成さ
れていた素子に関しては、直流電圧を印加することで発
光テストを行った。その結果を下記表１に示す。
【００４８】
【表１】
【００４９】実施例６において、蒸気圧４３０Ｐａ以下
で成膜できたことが示されたが、さらに、成膜温度を変
化させて実験を行ったところ、キシレン溶媒で蒸気圧５
００ｐａ以下となる温度で成膜することによって成膜が
確認され、蒸気圧５００Ｐａを超える温度では成膜でき
ない場合も生じ、蒸気圧６００ｐａ以上にすると成膜で
きなかった。 （実施例１１） １３０ｎｍの膜厚を持つＩＴＯ付きガ
ラス基板を、フォトリソグラフィ法により第１電極とし
て１３０μｍピッチで１００μｍ幅のＩＴＯ透明ストラ
イプ電極を作製する。
で成膜できたことが示されたが、さらに、成膜温度を変
化させて実験を行ったところ、キシレン溶媒で蒸気圧５
００ｐａ以下となる温度で成膜することによって成膜が
確認され、蒸気圧５００Ｐａを超える温度では成膜でき
ない場合も生じ、蒸気圧６００ｐａ以上にすると成膜で
きなかった。 （実施例１１） １３０ｎｍの膜厚を持つＩＴＯ付きガ
ラス基板を、フォトリソグラフィ法により第１電極とし
て１３０μｍピッチで１００μｍ幅のＩＴＯ透明ストラ
イプ電極を作製する。
【００５０】次に、ＩＴＯ付きガラス基板を、例えばイ
ソプロピルアルコール、アセトン、純水を用いた従来の
ウエットプロセスのよる洗浄法とＵＶオゾン処理、プラ
ズマ処理等の従来のドライプロセスにより洗浄する。
ソプロピルアルコール、アセトン、純水を用いた従来の
ウエットプロセスのよる洗浄法とＵＶオゾン処理、プラ
ズマ処理等の従来のドライプロセスにより洗浄する。
【００５１】次に、この基板上にポリイミドからなるレ
ジストをスピンコート法により膜厚３０μｍのレジスト
膜を形成する。次に、マスクを用いて露光し、レジスト
の残さを洗い流し、ＩＴＯと平行の方向には１３０μｍ
ピッチで４０μｍ幅の第１隔壁を作製する。
ジストをスピンコート法により膜厚３０μｍのレジスト
膜を形成する。次に、マスクを用いて露光し、レジスト
の残さを洗い流し、ＩＴＯと平行の方向には１３０μｍ
ピッチで４０μｍ幅の第１隔壁を作製する。
【００５２】次に、この基板上にスピンコーターにより
ＰＥＤＯＴ水溶液を用い、厚さ１００ｎｍの正孔注入層
を形成する。
ＰＥＤＯＴ水溶液を用い、厚さ１００ｎｍの正孔注入層
を形成する。
【００５３】次に、市販の凸版印刷機（日本写真印刷株
式会社製）を改造したもの（位置合せ機構を設けた。）
を恒温槽に入れ、塗工環境温度を２０℃環境にし、恒温
槽をＮ2で置換し、実施例５、実施例８、実施例１０で
用いた青色発光層形成用塗液、緑色発光層形成用塗液、
赤色発光層形成用塗液を用いて図１０に示すような２７
０μｍピッチで１２０μｍ幅のパターンを持つＡＰＲ樹
脂転写基板を用いて、各塗液に対してＸ−Ｙステージの
マイクロメーターを利用し、基板を１３０μｍづつづら
しながらそれぞれ転写を繰り返すことで青色、緑色、赤
色の各１００ｎｍの膜厚の発光層を形成した。
式会社製）を改造したもの（位置合せ機構を設けた。）
を恒温槽に入れ、塗工環境温度を２０℃環境にし、恒温
槽をＮ2で置換し、実施例５、実施例８、実施例１０で
用いた青色発光層形成用塗液、緑色発光層形成用塗液、
赤色発光層形成用塗液を用いて図１０に示すような２７
０μｍピッチで１２０μｍ幅のパターンを持つＡＰＲ樹
脂転写基板を用いて、各塗液に対してＸ−Ｙステージの
マイクロメーターを利用し、基板を１３０μｍづつづら
しながらそれぞれ転写を繰り返すことで青色、緑色、赤
色の各１００ｎｍの膜厚の発光層を形成した。
【００５４】ただし、ここでまずはじめに緑色発光層形
成用塗液を用いて緑色発光層を形成した後、Ａｒ雰囲気
下で１５０℃で６時間、加熱処理を行うことで、前駆体
をポリフェニレンビニレンに変換した。次に、青色発光
層、赤色発光層を形成した後、１×１０-3Ｔｏｒｒの減
圧下で１００℃で１時間加熱乾燥を行った。
成用塗液を用いて緑色発光層を形成した後、Ａｒ雰囲気
下で１５０℃で６時間、加熱処理を行うことで、前駆体
をポリフェニレンビニレンに変換した。次に、青色発光
層、赤色発光層を形成した後、１×１０-3Ｔｏｒｒの減
圧下で１００℃で１時間加熱乾燥を行った。
【００５５】次に、第２電極として、厚さ０．２μｍ、
幅３１０μｍ、ピッチ３４０μｍのシャドウマスクを用
いて、ＡｌとＬｉを共蒸着することにより第２電極とし
て、ＡｌＬｉ合金電極を形成する。最後にエポキシ樹脂
を用いて封止を行う。
幅３１０μｍ、ピッチ３４０μｍのシャドウマスクを用
いて、ＡｌとＬｉを共蒸着することにより第２電極とし
て、ＡｌＬｉ合金電極を形成する。最後にエポキシ樹脂
を用いて封止を行う。
【００５６】以上のようにして作製した有機ＬＥＤディ
スプレイは、第１電極と第２電極間、第１電極間及び第
２電極間でのショートは発生せず、また、発光層及び電
荷輸送層の膜厚の不均一に伴う画素部のエッジからの不
均一発光は見られなかった。また、このディスプレイに
３０Ｖのパルス電圧を印加することで、すべての画素か
ら、発光が得られた。
スプレイは、第１電極と第２電極間、第１電極間及び第
２電極間でのショートは発生せず、また、発光層及び電
荷輸送層の膜厚の不均一に伴う画素部のエッジからの不
均一発光は見られなかった。また、このディスプレイに
３０Ｖのパルス電圧を印加することで、すべての画素か
ら、発光が得られた。
【００５７】
【発明の効果】本発明によれば、基板への塗液の転写を
効率良く行うことができ、その結果、１μｍ以下の膜厚
で有機ＥＬ層を均一に形成することが可能となり、効率
の優れたカラー表示可能な有機ＥＬ素子、有機ＥＬディ
スプレイを安価に製造することが可能となる。
効率良く行うことができ、その結果、１μｍ以下の膜厚
で有機ＥＬ層を均一に形成することが可能となり、効率
の優れたカラー表示可能な有機ＥＬ素子、有機ＥＬディ
スプレイを安価に製造することが可能となる。
【図１】本発明の有機ＥＬ素子の概略断面図である。
【図２】本発明の有機ＥＬディスプレイの発光層の配置
の概略部分平面図である。
の概略部分平面図である。
【図３】本発明の有機ＥＬディスプレイの電極の配置の
概略部分平面図である。
概略部分平面図である。
【図４】本発明の有機ＥＬディスプレイの電極の配置の
概略部分平面図である。
概略部分平面図である。
【図５】本発明の有機ＥＬディスプレイの電極の配置の
概略部分平面図である。
概略部分平面図である。
【図６】本発明の有機ＥＬディスプレイの電極の配置の
概略部分平面図である。
概略部分平面図である。
【図７】本発明の有機ＥＬディスプレイの印刷装置の概
略部分断面図である。
略部分断面図である。
【図８】本発明の有機ＥＬディスプレイの印刷装置の概
略部分断面図である。
略部分断面図である。
【図９】本発明の有機ＥＬディスプレイの印刷装置の概
略部分断面図である。
略部分断面図である。
【図１０】本発明の実施例のＡＰＲ樹脂のパターンの概
略部分平面図である。
略部分平面図である。
１． 基板 ２． 第１電極 ３． 有機ＥＬ層 ４． 第２電極 ５． 隔壁 ６． 封止基板、封止膜 ７． 偏光板 ８． 赤色（Ｒ）発光画素 ９． 緑色（Ｇ）発光画素 １０． 青色（Ｂ）発光画素 １１． 薄膜トランジスタ（ＴＦＴ） １２． ソースバスライン １３． ゲートバスライン １４． 塗液投入口 １５． ブレード １６． 転写基板 １７． 転写基板を固定するロール部 １８． 塗液 １９． Ｘ−Ｙステージ ２０． 塗液を一時保持するロール部（アニロックスロ
ール） ２１． ロール部
ール） ２１． ロール部
Claims (9)
- 【請求項１】 有機ＥＬ素子中の少なくとも１層の有機
ＥＬ層を印刷法で形成する際に使用される有機ＥＬ用塗
液であって、蒸気圧が５００Ｐａ以下である溶媒を少な
くとも１種類含んでいることを特徴とする有機ＥＬ用塗
液。 - 【請求項２】 前記有機ＥＬ用塗液は、ジエチルベンゼ
ン、トリメチルベンゼン、トリエチルベンゼン、ニトロ
ベンゼンのいずれかを含むことを特徴とする請求項１に
記載の有機ＥＬ用塗液。 - 【請求項３】 請求項１又は２に記載の有機ＥＬ用塗液
を用いて少なくとも１層の有機ＥＬ層を形成したことを
特徴とする有機ＥＬ素子。 - 【請求項４】 有機ＥＬ素子中の少なくとも１層の有機
ＥＬ層を印刷法で形成する有機ＥＬ素子の製造方法であ
って、前記有機ＥＬ層を形成時の温度での蒸気圧が５０
０Ｐａ以下である溶媒を少なくとも１種類含んでいる有
機ＥＬ用塗液を用いて、印刷装置で前記有機ＥＬ層を形
成することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。 - 【請求項５】 前記印刷法で形成する有機ＥＬ用塗液の
接する部分の温度が、前記溶媒の蒸気圧を５００Ｐａ以
下とすることを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬ素
子の製造方法。 - 【請求項６】 前記印刷装置が恒温槽中に保たれること
によって、前記溶媒の蒸気圧を５００Ｐａ以下に保つこ
とを特徴とする請求項４又は５に記載の有機ＥＬ素子の
製造方法。 - 【請求項７】 前記印刷装置は、少なくともロール部及
び基板を固定するステージを有し、前記ロール部と前記
ステージに冷却機構を有し、前記冷却機構によって前記
有機ＥＬ用塗液の接する部分の温度を、前記溶媒の蒸気
圧を５００Ｐａ以下となる温度に保つことを特徴とする
請求項４に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。 - 【請求項８】 前記印刷法を行う印刷装置で用いる転写
基板の表面が凹凸状にパターン化されている、あるいは
親塗液部分と疎塗液部分にパターン化されていることを
特徴とする請求項３乃至７のいずれかに記載の有機ＥＬ
素子の製造方法。 - 【請求項９】 前記印刷法が凸版印刷法であることを特
徴とする請求項４乃至７のいずれかに記載の有機ＥＬ素
子の製造方法。
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|---|---|---|---|
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- 1999-11-24 JP JP33227799A patent/JP3836282B2/ja not_active Expired - Fee Related
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