JP2008084740A - 有機el素子およびその製造方法 - Google Patents
有機el素子およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008084740A JP2008084740A JP2006264617A JP2006264617A JP2008084740A JP 2008084740 A JP2008084740 A JP 2008084740A JP 2006264617 A JP2006264617 A JP 2006264617A JP 2006264617 A JP2006264617 A JP 2006264617A JP 2008084740 A JP2008084740 A JP 2008084740A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- organic
- partition wall
- organic light
- polymer
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 53
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 40
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 36
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 24
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 17
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 86
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 56
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 36
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 22
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 16
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 15
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 17
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 12
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 abstract description 8
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 abstract description 6
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 14
- -1 tris (8-quinolinol) aluminum Chemical compound 0.000 description 13
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 12
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 7
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 7
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 6
- 238000007774 anilox coating Methods 0.000 description 6
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 6
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 5
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 5
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 4
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 3
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 3
- 229920005575 poly(amic acid) Chemical group 0.000 description 3
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]methyl]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1CC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLMBNEVGYRXFNA-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-2,3-dimethylbenzene Chemical compound COC1=CC=CC(C)=C1C BLMBNEVGYRXFNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTFKRVXLBCAIOZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylanisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1C DTFKRVXLBCAIOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical group C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 2
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical group CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N methyl benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229940043265 methyl isobutyl ketone Drugs 0.000 description 2
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 2
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- FYRCDEARNUVZRG-UHFFFAOYSA-N 1,1,5-trimethyl-3,3-bis(2-methylpentan-2-ylperoxy)cyclohexane Chemical compound CCCC(C)(C)OOC1(OOC(C)(C)CCC)CC(C)CC(C)(C)C1 FYRCDEARNUVZRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UICXTANXZJJIBC-UHFFFAOYSA-N 1-(1-hydroperoxycyclohexyl)peroxycyclohexan-1-ol Chemical compound C1CCCCC1(O)OOC1(OO)CCCCC1 UICXTANXZJJIBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJRVZIYCCJCRD-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenoxy]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XOJRVZIYCCJCRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroperoxy-2-(2-hydroperoxybutan-2-ylperoxy)butane Chemical compound CCC(C)(OO)OOC(C)(CC)OO WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGADZUXDNSDTHW-UHFFFAOYSA-N 2H-pyran Chemical compound C1OC=CC=C1 MGADZUXDNSDTHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGGKVJMNFFSDEV-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-n-[4-[4-(n-(3-methylphenyl)anilino)phenyl]phenyl]-n-phenylaniline Chemical compound CC1=CC=CC(N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=C(C)C=CC=2)=C1 OGGKVJMNFFSDEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSDBTLHMCVFQMS-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1 SSDBTLHMCVFQMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017073 AlLi Inorganic materials 0.000 description 1
- ROMCRKSGDFOTBY-UHFFFAOYSA-N CCC[SiH2]C Chemical group CCC[SiH2]C ROMCRKSGDFOTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Chemical group 0.000 description 1
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Chemical group 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N anthrone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3CC2=C1 RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- XJHABGPPCLHLLV-UHFFFAOYSA-N benzo[de]isoquinoline-1,3-dione Chemical class C1=CC(C(=O)NC2=O)=C3C2=CC=CC3=C1 XJHABGPPCLHLLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- WPANFJAIKCFQOH-UHFFFAOYSA-N chloromethyl-methyl-phenylsilane Chemical group ClC[SiH](C)C1=CC=CC=C1 WPANFJAIKCFQOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- OPHUWKNKFYBPDR-UHFFFAOYSA-N copper lithium Chemical compound [Li].[Cu] OPHUWKNKFYBPDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- KFDXCXLJBAVJMR-UHFFFAOYSA-N dibutylsilane Chemical group CCCC[SiH2]CCCC KFDXCXLJBAVJMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCLZNAGACFNEX-UHFFFAOYSA-N dihexylsilane Chemical group CCCCCC[SiH2]CCCCCC RWCLZNAGACFNEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- VDCSGNNYCFPWFK-UHFFFAOYSA-N diphenylsilane Chemical group C=1C=CC=CC=1[SiH2]C1=CC=CC=C1 VDCSGNNYCFPWFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- AHAREKHAZNPPMI-UHFFFAOYSA-N hexa-1,3-diene Chemical group CCC=CC=C AHAREKHAZNPPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPWMFDFZVVRFEG-UHFFFAOYSA-N indium;propan-2-one Chemical compound [In].CC(C)=O YPWMFDFZVVRFEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical group 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000007644 letterpress printing Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229940095102 methyl benzoate Drugs 0.000 description 1
- QRLBICHXRCOJDU-UHFFFAOYSA-N methyl(phenyl)silane Chemical group C[SiH2]C1=CC=CC=C1 QRLBICHXRCOJDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N methylsilane Chemical group [SiH3]C UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(n-naphthalen-1-ylanilino)phenyl]phenyl]-n-phenylnaphthalen-1-amine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)C=C1 IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- AHLBNYSZXLDEJQ-FWEHEUNISA-N orlistat Chemical compound CCCCCCCCCCC[C@H](OC(=O)[C@H](CC(C)C)NC=O)C[C@@H]1OC(=O)[C@H]1CCCCCC AHLBNYSZXLDEJQ-FWEHEUNISA-N 0.000 description 1
- UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-dien-3-one Chemical group C=CC(=O)C=C UCUUFSAXZMGPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N phenylsilane Chemical group [SiH3]C1=CC=CC=C1 PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- ZWLUXSQADUDCSB-UHFFFAOYSA-N phthalaldehyde Chemical group O=CC1=CC=CC=C1C=O ZWLUXSQADUDCSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920005735 poly(methyl vinyl ketone) Polymers 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002589 poly(vinylethylene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Chemical group 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Chemical group 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole Chemical class C1=NC2=CC=NC2=C1 RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylammonium Chemical compound C[N+](C)(C)C QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
高沸点の溶剤を含む塗布液を用いた場合、基板に対して有機発光媒体層を形成後、有機発光媒体層中の溶媒の除去を十分に行うことができず、溶剤の残留による素子劣化と、熱処理による素子劣化のいずれも解消することが困難となる問題が生じていた。
そこで本発明は、湿式法を用いて有機発光媒体層を形成する際に上記熱処理による素子劣化の問題を生ずることなく、残留する溶剤の除去を十分に行うことを課題とする。
【解決手段】
少なくとも基板と、前記基板上にパターン状に形成された第1電極と、前記基板上の前記透明電極の間に形成された隔壁と、前記隔壁に区切られた領域に設けられた有機発光媒体層とを含む有機EL素子において、前記隔壁が溶媒吸収能を有することを特徴とする有機EL素子。
【選択図】図1
Description
(第1の発明)
少なくとも基板と、前記基板上にパターン状に形成された第1電極と、前記基板上の前記透明電極の間に形成された隔壁と、前記隔壁に区切られた領域に設けられた有機発光媒体層とを含む有機EL素子において、前記隔壁が溶媒吸収能を有することを特徴とする有機EL素子である。第1の発明によれば、隔壁が溶媒吸収能を有することにより、有機EL素子の有機発光層に残留する溶剤が僅少となる。このため、有機EL素子の画素の一部が不良・劣化する割合が少なく、高品質の画像を提供することができた。
上記において、前記隔壁が連続する貫通孔を有する多孔質体から成ることを特徴とする有機EL素子である。第2の発明によれば、隔壁が貫通孔を有する多孔質からなるため、隔壁側面から吸収された塗布液に含まれる溶剤が、隔壁の上面から放出され、より有機EL素子の有機発光媒体層に残留する溶剤が僅少となる。このため、有機EL素子の画素の一部が不良・劣化する割合がさらに少なく、高品質の画像を提供することができた。
上記において、前記隔壁を構成する多孔質体は空孔径が5〜100nmであることを特徴とする有機EL素子である。第3の発明によれば、上記の発明の作用効果を奏する上、隔壁中の孔を通じて、色の異なる有機発光材料が混合する可能性が低くなるため、混色の問題が発生せず、より高画質の有機EL素子を提供することができた。また、第3の発明によれば、溶媒分子が隔壁に出入りしやすく、隔壁中の空孔内へ有機発光媒体材料が入ることもないため、十分な乾燥効果を得ることが出来た。
上記において、少なくとも、(a)基板上に第1電極をパターン状に形成する工程と、
(b)前記基板上の前記透明電極の間に隔壁を形成する工程と、(c)前記隔壁に区切られた領域に有機発光媒体材料を含むインクを付与する工程とを含む有機EL素子の製造方法において、前記(b)前記基板上の前記第1電極の間に隔壁を形成する工程が、溶媒吸収能を有する隔壁を形成する工程であることを特徴とする有機EL素子の製造方法である。
第4の発明によれば、有機発光媒体層に残留する溶剤を従来よりも低減した状態で、有機EL素子を製造することができる。このため、残溶剤による素子劣化や、熱処理による素子劣化の少ない有機EL素子の製造方法を提供することができた。また、蒸気圧が従来よりも高くても残留溶剤の問題が発生し難いため、従来よりも有機EL用塗布液に用いる溶剤の種類の幅を広げることができた。
上記において、前記(c)前記隔壁に区切られた領域に有機発光媒体材料を含むインクを付与する工程が、凸版印刷法であることを特徴とする有機EL素子の製造方法である。第5の発明によれば、同様のパターンを有する有機EL素子を多数製造する場合において、単位素子当たりの製造時間を短縮し、塗布液の無駄を少量におさえ、効率よく有機EL素子を提供することができた。
上記に於いて、前記(c)前記隔壁に区切られた領域に有機発光媒体材料を含むインクを付与する工程が、インクジェット法であることを特徴とする有機EL素子の製造方法である。第6の発明によれば、特に3色以上の多色の有機EL素子を製造する場合において、塗布液の無駄を少量におさえ、効率よく有機EL素子を提供することができた。
上記において、前記(c)前記隔壁に区切られた領域に有機発光媒体材料を含むインクを付与する工程が、塗布法であることを特徴とする有機EL素子の製造方法である。第7の発明によれば、特に大面積の基板に有機EL素子を製造する場合において、短時間で効率よく有機EL素子を提供することができた。
上記において、前記(b)前記基板上の前記第1電極の間に隔壁を形成する工程が、(b1)連続する貫通孔を有する多孔質体から成る隔壁を形成する工程であることを特徴とする有機EL素子の製造方法である。第8の発明によれば、隔壁を貫通孔を有する多孔質とするため、隔壁側面から吸収された塗布液に含まれる溶剤が、隔壁の上面から放出される。このため、有機EL素子の有機発光媒体層に残留する溶剤が少なくして有機EL素子を製造することが可能となった。
上記において、前記多孔質体から成る隔壁は、空孔径が5〜100nmの孔を多数含むことを特徴とする有機EL素子の製造方法である。第9の発明によれば、上記の発明の作用効果を奏する上、隔壁中の孔を通じて、色の異なる有機発光材料が混合する可能性が低くなるため、製造プロセス中に混色の問題が発生せず、修正等を行う必要がないため、より短時間に高品質の有機EL素子を提供することができた。また、第9の発明によれば、溶媒分子が隔壁に出入りしやすく、隔壁中の空孔内へ有機発光媒体材料が入ることもないため、十分な乾燥効果を得ることが出来た。
上記において、前記(b1)連続する貫通孔を有する多孔質体から成る隔壁を形成する工程が、(b2)熱分解能の異なる複数種類のポリマー鎖を含むポリマーを、ガラス転移点より高温に加熱する工程と、(b3)前記ポリマーを除冷する工程と、(b4)前記ポリマーを熱分解能の高いポリマー鎖が分解する温度で加熱する工程とを含むことを特徴とする有機EL素子の製造方法である。第10の発明によれば、熱分解能の異なる複数種類のポリマー鎖を有するブロックコポリマー又はグラフトコポリマーの自己組織化ミクロ相分離構造を利用して、貫通孔を有する多孔質体から成る隔壁を形成するから、ポリマーの混合割合を変えるにより、所定の孔径及び数の貫通孔を有する隔壁を確実に形成することができた。
上記において、前記(b1)連続する貫通孔を有する多孔質体から成る隔壁を形成する工程が、(b5)放射線分解能の異なる複数種類のポリマー鎖を含むポリマーを、ガラス転移点より恒温に加熱する工程と、(b6)前記ポリマーを除冷する工程と、(b7)前記ポリマーに放射線分解能の高いポリマー鎖が分解する量の放射線を放射する工程とを含むことを特徴とする有機EL素子の製造方法である。第11の発明によれば、放射線分解能の異なる複数種類のポリマー鎖を有するブロックコポリマー又はグラフトコポリマーの自己組織化ミクロ相分離構造を利用して、貫通孔を有する多孔質体から成る隔壁を形成するから、ポリマーの混合割合を変えるにより、所定の孔径及び数の貫通孔を有する隔壁を確実に形成することができた。
また、前記ブロックコポリマー又はグラフトコポリマーの溶液をゆっくりキャストさせることで同様のミクロ相分離構造を生成させることができる。
フォトリソグラフィー法により隔壁を形成する場合には、隔壁形成用のポリマーは感光性を有する感光性材料であることが必要となる。感光性材料としてはポジ型、ネガ型のどちらであっても良いが、絶縁性を有する必要がある。隔壁の絶縁性が不十分な場合、隔壁を通じて隣り合う画素に電流が流れてしまい表示不良が発生する。具体的にはポリイミド系、アクリル樹脂系、ノボラック樹脂系、フルオレン系といった物が挙げられるがこれに限定されるものではない。また、有機EL素子の表示品位を上げる目的で、カーボンブラック等の黒色顔料を含む遮光性の材料を感光性材料に含有させても良い。
実施例1における有機EL素子の説明図を図4に示した。
図4へ示す様に、厚さ0.7mm、100mm四方のガラス基板を透光性基板401とし、800μピッチ(L/S=700/100)のITOラインを透明電極402として設けた。
比較例1においては隔壁に多孔質ポリイミドを用いずに、通常の隔壁に用いられるポジ型感光性ポリイミドをフォトリソグラフィー法によりパターニングし、高さ1.5μmの隔壁とした。
それ以外の工程は実施例1と同様の方法で有機ELディスプレイを作製し、パネルの点灯表示確認、発光状態のチェックを行った結果、画素のシュリンクやダークスポットなどの発光不良を確認した。また、初期輝度400cd/m2における輝度半減時間は800時間であった。
102:透明電極
103:多孔質体から成る隔壁
104:有機発光媒体層
104a:正孔輸送層
104b:有機発光層
105:対向電極
106:ガラスキャップ
107:接着剤
301:インキタンク
302:インキチャンバー
303:アニロックスロール
304:インキ層
305:版
306:版胴
307:平台
308:被印刷基板
401:透光性基板
402:透明電極
403:多孔質体から成る隔壁
404:有機発光媒体層
404a:正孔輸送層
404b:有機発光層
405:対向電極
406:ガラスキャップ
407:接着剤
Claims (11)
- 少なくとも基板と、前記基板上にパターン状に形成された第1電極と、前記基板上の前記透明電極の間に形成された隔壁と、前記隔壁に区切られた領域に設けられた有機発光媒体層とを含む有機EL素子において、
前記隔壁が溶媒吸収能を有することを特徴とする有機EL素子。 - 前記隔壁が連続する貫通孔を有する多孔質体から成ることを特徴とする請求項1へ記載の有機EL素子。
- 前記隔壁を構成する多孔質体は空孔径が5〜100nmであることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機EL素子。
- 少なくとも、
(a)基板上に第1電極をパターン状に形成する工程と、
(b)前記基板上の前記透明電極の間に隔壁を形成する工程と、
(c)前記隔壁に区切られた領域に有機発光媒体材料を含むインクを付与する工程とを含む有機EL素子の製造方法において、
前記(b)前記基板上の前記第1電極の間に隔壁を形成する工程が、溶媒吸収能を有する隔壁を形成する工程であることを特徴とする有機EL素子の製造方法。 - 前記(c)前記隔壁に区切られた領域に有機発光媒体材料を含むインクを付与する工程が、凸版印刷法であることを特徴とする請求項4に記載の有機EL素子の製造方法。
- 前記(c)前記隔壁に区切られた領域に有機発光媒体材料を含むインクを付与する工程が、インクジェット法であることを特徴とする請求項4に記載の有機EL素子の製造方法。
- 前記(c)前記隔壁に区切られた領域に有機発光媒体材料を含むインクを付与する工程が、塗布法であることを特徴とする請求項4に記載の有機EL素子の製造方法。
- 前記(b)前記基板上の前記第1電極の間に隔壁を形成する工程が、(b1)連続する貫通孔を有する多孔質体から成る隔壁を形成する工程であることを特徴とする請求項4乃至7のいずれかに記載に有機EL素子の製造方法。
- 前記多孔質体から成る隔壁は、空孔径が5〜100nmの孔を多数含むことを特徴とする請求項8に記載の有機EL素子の製造方法。
- 前記(b1)連続する貫通孔を有する多孔質体から成る隔壁を形成する工程が、
(b2)熱分解能の異なる複数種類のポリマー鎖を含むポリマーを、ガラス転移点より高温に加熱する工程と、
(b3)前記ポリマーを除冷する工程と、
(b4)前記ポリマーを熱分解能の高いポリマー鎖が分解する温度で加熱する工程と、を含むことを特徴とする請求項8又は9に記載の有機EL素子の製造方法。 - 前記(b1)連続する貫通孔を有する多孔質体から成る隔壁を形成する工程が、
(b5)放射線分解能の異なる複数種類のポリマー鎖を含むポリマーを、ガラス転移点より恒温に加熱する工程と、
(b6)前記ポリマーを除冷する工程と、
(b7)前記ポリマーに放射線分解能の高いポリマー鎖が分解する量の放射線を放射する工程と、を含むことを特徴とする請求項8又は9に記載の有機EL素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006264617A JP4978133B2 (ja) | 2006-09-28 | 2006-09-28 | 有機el素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006264617A JP4978133B2 (ja) | 2006-09-28 | 2006-09-28 | 有機el素子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008084740A true JP2008084740A (ja) | 2008-04-10 |
JP4978133B2 JP4978133B2 (ja) | 2012-07-18 |
Family
ID=39355369
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006264617A Expired - Fee Related JP4978133B2 (ja) | 2006-09-28 | 2006-09-28 | 有機el素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4978133B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013179355A1 (ja) * | 2012-05-31 | 2013-12-05 | パナソニック株式会社 | 発光素子、トランジスタおよび隔壁 |
WO2014203385A1 (ja) * | 2013-06-21 | 2014-12-24 | 株式会社 日立製作所 | 有機エレクトロニクス用基板、および有機エレクトロニクスの製造方法 |
JP2015156371A (ja) * | 2014-01-14 | 2015-08-27 | パナソニック株式会社 | 積層基板、発光装置および発光装置の製造方法 |
CN106163438A (zh) * | 2014-04-17 | 2016-11-23 | 奥林巴斯株式会社 | 超声波治疗装置 |
KR20170003803A (ko) * | 2015-06-30 | 2017-01-10 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기전계발광표시장치 및 이의 제조방법 |
KR101900501B1 (ko) * | 2012-03-05 | 2018-09-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기발광표시장치 및 이의 제조방법 |
KR20190006125A (ko) * | 2017-07-06 | 2019-01-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 소자 및 그 제조 방법 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101802029B1 (ko) * | 2015-08-05 | 2017-11-28 | 희성전자 주식회사 | 배면발광형 표시장치 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001155861A (ja) * | 1999-11-24 | 2001-06-08 | Sharp Corp | 有機el用塗液及び有機el素子並びにその製造方法。 |
JP2001351781A (ja) * | 2000-06-06 | 2001-12-21 | Denso Corp | 有機el表示素子及びその修理方法 |
JP2006113568A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-04-27 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 表示装置、及び表示装置の作製方法 |
-
2006
- 2006-09-28 JP JP2006264617A patent/JP4978133B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001155861A (ja) * | 1999-11-24 | 2001-06-08 | Sharp Corp | 有機el用塗液及び有機el素子並びにその製造方法。 |
JP2001351781A (ja) * | 2000-06-06 | 2001-12-21 | Denso Corp | 有機el表示素子及びその修理方法 |
JP2006113568A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-04-27 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 表示装置、及び表示装置の作製方法 |
Cited By (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101900501B1 (ko) * | 2012-03-05 | 2018-09-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기발광표시장치 및 이의 제조방법 |
JPWO2013179355A1 (ja) * | 2012-05-31 | 2016-01-14 | 株式会社Joled | 発光素子およびトランジスタ |
CN103583084A (zh) * | 2012-05-31 | 2014-02-12 | 松下电器产业株式会社 | 发光元件、晶体管及分隔壁 |
US9000475B2 (en) | 2012-05-31 | 2015-04-07 | Panasonic Corporation | Light-emitter and transistor |
WO2013179355A1 (ja) * | 2012-05-31 | 2013-12-05 | パナソニック株式会社 | 発光素子、トランジスタおよび隔壁 |
CN103583084B (zh) * | 2012-05-31 | 2016-08-10 | 株式会社日本有机雷特显示器 | 发光元件以及晶体管 |
TWI560921B (ja) * | 2012-05-31 | 2016-12-01 | Joled Inc | |
WO2014203385A1 (ja) * | 2013-06-21 | 2014-12-24 | 株式会社 日立製作所 | 有機エレクトロニクス用基板、および有機エレクトロニクスの製造方法 |
JP2015156371A (ja) * | 2014-01-14 | 2015-08-27 | パナソニック株式会社 | 積層基板、発光装置および発光装置の製造方法 |
CN106163438A (zh) * | 2014-04-17 | 2016-11-23 | 奥林巴斯株式会社 | 超声波治疗装置 |
CN106163438B (zh) * | 2014-04-17 | 2019-05-14 | 奥林巴斯株式会社 | 超声波治疗装置 |
KR20170003803A (ko) * | 2015-06-30 | 2017-01-10 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기전계발광표시장치 및 이의 제조방법 |
KR102598922B1 (ko) | 2015-06-30 | 2023-11-06 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기전계발광표시장치 및 이의 제조방법 |
EP3699961A3 (en) * | 2017-07-06 | 2020-12-16 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device and method of manufacturing the same |
CN109256408A (zh) * | 2017-07-06 | 2019-01-22 | 三星显示有限公司 | 显示装置、制造该显示装置的方法和像素 |
US10770523B2 (en) | 2017-07-06 | 2020-09-08 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device including a layer with fine holes and method of manufacturing the same |
EP3425669A3 (en) * | 2017-07-06 | 2019-02-20 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device and method of manufacturing the same |
US11335747B2 (en) | 2017-07-06 | 2022-05-17 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device and method of manufacturing the same |
KR102525822B1 (ko) * | 2017-07-06 | 2023-04-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 소자 및 그 제조 방법 |
CN109256408B (zh) * | 2017-07-06 | 2023-09-19 | 三星显示有限公司 | 显示装置、制造该显示装置的方法和像素 |
US11991902B2 (en) | 2017-07-06 | 2024-05-21 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device and method of manufacturing the same |
EP4297551A3 (en) * | 2017-07-06 | 2024-03-20 | Samsung Display Co., Ltd. | Display device |
KR20190006125A (ko) * | 2017-07-06 | 2019-01-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 소자 및 그 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4978133B2 (ja) | 2012-07-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4882508B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 | |
JP4978133B2 (ja) | 有機el素子の製造方法 | |
JP4682701B2 (ja) | 有機el素子用インキおよび有機el素子の製造方法 | |
JP2007095343A (ja) | 印刷物の製造方法および印刷物 | |
JP5092485B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ及びその製造方法 | |
JP5239189B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法 | |
JP2009141077A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子、その製造方法および表示装置 | |
JP4706845B2 (ja) | 有機el素子の製造方法 | |
JP2009230956A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法 | |
JP2002280174A (ja) | ドナーフィルムおよびそれを用いて製造された有機led表示パネル | |
JP2012204202A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンスパネル及びその製造方法 | |
JP2007250718A (ja) | エレクトロルミネッセント素子およびその製造方法 | |
WO2011118654A1 (ja) | 発光装置の製造方法 | |
JP4998008B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 | |
JP2007242816A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンスデバイス及びその製造方法 | |
JP4961694B2 (ja) | 有機el素子の製造方法 | |
JP2006286244A (ja) | 有機elディスプレイパネルとその製造方法 | |
JP2008130355A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 | |
JP2009129567A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法および有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
JP2009078501A (ja) | 凸版印刷によるパターン形成方法、および有機機能性素子の製造方法 | |
JP2010080269A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 | |
JP2008186766A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 | |
JP2008078447A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 | |
JP4775118B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 | |
JP2007220426A (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090825 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100825 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110427 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110510 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110708 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111101 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111227 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120321 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120403 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150427 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |