KR20190006125A - 표시 소자 및 그 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

표시 소자 및 그 제조 방법이 제공된다. 표시 소자는 베이스, 상기 베이스 상에 배치되며, 상기 베이스의 표면을 노출하는 개구가 정의된 뱅크 및 상기 베이스 상의 상기 개구 내에 배치된 유기막 패턴을 포함하며, 상기 뱅크는 상면 및 상기 상면과 연결되며 상기 상면으로부터 상기 개구 방향으로 하향 경사진 측면을 포함하고, 상기 뱅크는 상기 상면 및 상기 측면에 형성된 복수의 미세홀과 상기 뱅크의 내부에 형성된 복수의 중공을 포함한다.

Description

표시 소자 및 그 제조 방법{DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}
본 발명은 표시 소자 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
표시 소자 중 유기 발광 표시 소자(organic light emitting display)는 대표적인 자발광형 표시 소자로서, 액정 표시 소자(liquid crystal display) 같은 수광형 표시 소자와 달리 백라이트 유닛이 필요하지 않기 때문에, 스마트폰, 초박형 TV 등 박형화가 필요한 다양한 전기/전자 제품에 이용되고 있다.
최근에는, 각 화소 영역에 유기 발광 물질을 포함하는 유기 잉크를 잉크젯 프린팅 등의 용액 도포 방식으로 토출한 후 건조시켜 유기 발광층을 형성하는 기술에 대한 연구가 진행되고 있다.
그러나, 각 화소 영역에 유기 잉크를 토출 또는 분사할 때, 유기 잉크가 원하는 영역에만 위치하지 않고 화소 정의막 상으로 넘치거나 심지어 다른 화소 영역을 침범하는 등의 현상이 발생할 수 있다.
이러한 현상을 방지하기 위해 화소 정의막에 액체가 묻지 않도록 화소 정의막 표면의 발액성(repellant)을 높이는 방법이 제시되었으나, 화소 정의막의 발액성이 충분하지 않아 유기 잉크의 제어가 어려운 실정이다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 화소 정의막 표면의 발액성을 향상시켜 유기 잉크의 넘침 현상 등을 방지할 수 있는 표시 소자 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 소자는 베이스, 상기 베이스 상에 배치되며, 상기 베이스의 표면을 노출하는 개구가 정의된 뱅크 및 상기 베이스 상의 상기 개구 내에 배치된 유기막 패턴을 포함하며, 상기 뱅크는 상면 및 상기 상면과 연결되며 상기 상면으로부터 상기 개구 방향으로 하향 경사진 측면을 포함하고, 상기 뱅크는 상기 상면 및 상기 측면에 형성된 복수의 미세홀과 상기 뱅크의 내부에 형성된 복수의 중공을 포함한다.
상기 복수의 미세홀 중 적어도 하나는 절단면이 원 형상의 일부분을 포함할 수 있다.
상기 뱅크의 표면은 발액성(repellant)을 가질 수 있다.
상기 뱅크는 중공을 갖는 복수의 무기물 입자를 포함할 수 있다.
상기 무기물 입자는 실리카(SiO2), 알루미나(Al2O3) 및 산화아연(ZnO) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 뱅크의 표면은 불소기(Fluoro group)를 포함할 수 있다.
상기 표시 소자는 복수의 화소를 포함하고, 상기 베이스는 기판 및 상기 기판 상의 상기 각 화소마다 배치된 제1 전극을 포함하며, 상기 뱅크는 상기 각 화소를 구분하는 화소 정의막이고, 상기 뱅크의 개구는 상기 각 화소마다 상기 제1 전극의 적어도 일부분을 노출할 수 있다.
상기 유기막 패턴은 유기 발광 물질을 포함할 수 있다.
상기 유기막 패턴 상에 배치된 제2 전극을 더 포함할 수 있다.
상기 다른 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 소자의 제조 방법은 베이스 기판 상에 전극을 형성하는 단계, 상기 베이스 기판 상에 상기 전극의 적어도 일부분을 노출하는 개구가 정의되도록 배치되고, 중공을 갖는 복수의 무기물 입자를 포함하는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계, 및 상기 포토레지스트 패턴의 표면을 불화 가스로 식각하여 상기 포토레지스트 패턴의 표면에 포함된 상기 무기물 입자의 일부를 제거함으로써, 상기 포토레지스트 패턴의 표면에 상기 무기물 입자 내의 중공이 외부로 노출된 복수의 미세홀이 형성되도록 하는 단계를 포함한다.
상기 무기물 입자는 실리카(SiO2), 알루미나(Al2O3) 및 산화아연(ZnO) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 포토레지스트 패턴의 표면은 불소기를 포함할 수 있다.
상기 복수의 미세홀 중 적어도 하나는 절단면이 원 형상의 일부분을 포함할 수 있다.
상기 개구에 의해 노출된 전극 상에 유기 발광 물질을 포함하는 유기 잉크를 토출하는 단계 및 상기 토출된 유기 잉크를 건조하여 유기층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 포토레지스트 패턴을 형성한 후 표면을 불화 가스로 식각하기 전에, 플라즈마 에싱(ashing)을 통해 상기 전극 상에 남아있는 상기 포토레지스트층의 잔사를 제거하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 소자는 베이스, 상기 베이스 상에 배치되며, 상기 베이스의 표면을 노출하는 개구가 정의된 뱅크 및 상기 뱅크 표면에 접하도록 배치된 미세 패턴층을 포함하고, 상기 뱅크와 상기 미세 패턴층이 접한 부분의 면적은 상기 미세 패턴층 중 상기 뱅크에 대향하는 면의 전체 면적보다 작다.
상기 미세 패턴층은 산화규소(SixOy), 질화규소(SixNy) 및 산질화규소(SixOyNz) 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
상기 표시 소자는 복수의 화소를 포함하고, 상기 베이스는 기판 및 상기 기판 상의 상기 각 화소마다 배치된 화소 전극을 포함하며, 상기 뱅크는 상기 각 화소를 구분하는 화소 정의막이고, 상기 뱅크의 개구는 상기 각 화소 전극의 적어도 일부분을 노출할 수 있다.
상기 화소 정의막은 광 투과를 차단하는 색을 가질 수 있다.
상기 개구에 의해 노출된 상기 화소 전극 상에 배치되며, 유기 발광 물질이 포함된 유기층을 더 포함할 수 있다.
기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
본 발명의 실시예들에 따르면, 화소 정의막의 표면에 미세홀 또는 미세 패턴을 형성하여 화소 정의막 표면이 초 발액성(super repellant)을 갖도록 함으로써 유기 발광 물질을 포함하는 유기 잉크를 용이하게 제어할 수 있고, 나아가 저농도의 유기 잉크를 활용할 수 있어 공정 원가를 절감할 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 소자의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 소자의 화소 정의막에 대한 평면도이다.
도 3은 도 2의 Ⅲ-Ⅲ' 선을 따라 자른 단면도이다.
도 4는 도 2의 B 부분에 대한 확대도이다.
도 5는 도 4의 Ⅴ-Ⅴ' 선을 따라 자른 단면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 화소 정의막 표면에 유기 잉크가 접촉한 상태를 나타낸 모식도이다.
도 7 내지 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 소자의 화소 정의막 부분에 대한 확대도이다.
도 11 내지 18은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 소자에 대한 제조 방법의 공정 단계별 단면도들이다.
도 19는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 소자의 단면도이다.
도 20은 도 19에 도시된 유기 발광 표시 소자의 화소 정의막 표면에 대한 확대도이다.
도 21은 도 20의 ⅩⅩⅠ-ⅩⅩⅠ' 선을 따라 자른 단면도이다.
도 22 내지 30은 도 19의 유기 발광 표시 소자에 대한 제조 방법의 공정 단계별 단면도들이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
소자(elements) 또는 층이 다른 소자 또는 층의 "위(on)" 또는 "상(on)"으로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있음은 물론이다.
본 명세서에서 표시 소자란 유기 발광 표시 장치를 구성하는 유기 발광 표시 소자를 포함하는 용어이며, 이에 한정되지 않고 본 발명의 실시예들이 적용될 수 있는 다양한 표시 소자들을 지칭할 수도 있다.
이하, 첨부된 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예들에 대해 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 소자의 단면도이다.
도 1을 참조하면, 표시 소자는 베이스(10) 상에 배치된 뱅크(22) 및 뱅크(22) 사이에 배치된 유기막 패턴(23)을 포함한다.
베이스(10)는 뱅크(22)와 유기막 패턴(23)이 배치되는 공간을 제공하여 뱅크(22)와 유기막 패턴(23)을 지지할 수 있다. 예시적인 실시예에서, 베이스(10)는 표시 소자를 구동하기 위한 배선, 전극, 반도체, 절연막 등을 포함하는 지지 기판일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
뱅크(22)는 베이스(10)의 표면을 노출하는 개구(O)가 정의되며, 유기막 패턴(23)은 베이스(10) 상의 개구(O) 내에 배치될 수 있다.
뱅크(22)는 평탄한 면인 상면(22a)과 경사면인 측면(22b)을 포함할 수 있다. 뱅크(22)의 상면(22a)은 베이스(10) 표면과 평행할 수 있다. 뱅크(22)의 측면(22b)은 상면(22a)과 연결되어 상면(22a)으로부터 개구(O) 방향으로 하향 경사지게 형성될 수 있다. 뱅크(22)의 측면(22b)은 상면(22a)과 베이스(10)의 표면을 연결하도록 형성될 수 있다.
뱅크(22)의 상면(22a) 및/또는 측면(22b)은 평탄면일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니며, 적어도 일부분이 곡면을 포함할 수도 있다.
뱅크(22)의 상면(22a)과 측면(22b)은 상대적인 개념으로서, 도 1을 기준으로 상대적으로 높은 측에 위치하는 면은 상면(22a)으로 지칭될 수 있고, 상대적으로 낮은 측에 위치하는 면은 측면(22b)으로 지칭될 수 있다. 상면(22a)과 측면(22b)의 경계는 실제 제조 공정 등에 의해 도출되는 실질적인 뱅크(22)의 형상을 고려하여 상술한 상대적인 기준에 따라 임의로 설정될 수 있다.
예시적인 실시예에서, 뱅크(22)는 단면이 연속적인 곡선으로 이루어진 둔덕 형상을 가질 수 있다. 이 경우 상면(22a)과 측면(22b)의 경계는 임의의 지점으로 설정될 수 있으며, 상기 경계를 기준으로 높은 측에 위치하는 면은 상면(22a)이 될 수 있고, 낮은 측에 위치하는 면은 측면(22b)이 될 수 있다. 다만, 상면(22a)과 측면(22b)의 정의가 이에 제한되는 것은 아니다.
뱅크(22)는 내부에 형성된 복수의 중공(inner hole)과 표면에 형성된 복수의 미세홀(fine hole)을 포함할 수 있다.
중공 및 미세홀의 최대 직경은 약 50~100nm일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
내부의 중공들 중 적어도 하나는 절단면이 원 형상을 가질 수 있고, 표면의 미세홀들 중 적어도 하나는 절단면이 원 형상의 일부분을 포함할 수 있다. 본 명세서에서 '원 형상'이란 원과 동일한 형상뿐만 아니라, 제조 공정 등을 고려할 때 실질적으로 원에 가까운 다각형, 타원, 폐곡선 또는 적어도 하나의 곡선부를 갖는 형상 등을 포함할 수 있다.
뱅크(22)는 아크릴계 화합물, PI(Polyimide), BCB(Benzocyclobutane) 또는 PFCB(Perfluorocyclobutane) 등의 유기물을 포함할 수 있다.
뱅크(22)는 마이크로 또는 나노 스케일의 중공을 갖는 무기물 입자를 더 포함할 수도 있다. 상기 무기물 입자는 전술한 유기물과 혼합되어 있거나 유기물 내부에 분산되어 있을 수 있다.
상기 무기물 입자는 예를 들면, 중공 실리카(SiO2), 중공 알루미나(Al2O3) 및 중공 산화아연(ZnO) 등으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상일 수 있다. 다만 이에 제한되는 것은 아니며, 마이크로 또는 나노 스케일의 중공을 포함하는 입자라면 그 종류에 한정되지 않는다.
뱅크(22)가 마이크로 또는 나노 스케일의 중공을 갖는 무기물 입자를 포함할 경우, 뱅크(22) 내부에 형성된 복수의 중공은 상기 무기물 입자의 중공일 수 있고, 표면에 형성된 복수의 미세홀은 상기 무기물 입자의 일부가 제거되어 무기물 입자 내의 중공이 외부로 노출됨으로써 형성된 것일 수 있다.
뱅크(22)의 표면은 불소기(Fluoro group, F)를 포함할 수 있다. 불소기는 뱅크(22) 표면 중 미세홀이 형성되지 않은 부분에도 포함될 수 있고, 미세홀의 내벽 부분에도 포함될 수 있다. 예시적인 실시예에서, 불소기의 함량은 미세홀이 형성되지 않은 표면이 미세홀의 내벽보다 높을 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
뱅크(22)는 유기 발광 표시 소자에서 복수의 화소를 구획하는 화소 정의막일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
유기막 패턴(23)은 유기물을 포함하는 층으로서, 예를 들면 유기 발광 물질을 포함하는 유기 잉크 또는 용액일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
뱅크(22)는 표면에 형성된 복수의 미세홀과 불소기에 의해 높은 발액성(repellant)을 가질 수 있기 때문에, 뱅크(22) 사이의 개구(O)에 유기막 패턴(23)을 형성하는 것을 용이하게 할 수 있다. 이에 대한 상세한 설명은 후술한다.
이하에서는, 전술한 뱅크(22) 및 유기막 패턴(23)의 구조가 유기 발광 표시 소자에 적용된 실시예에 대해 설명한다. 이 경우, 뱅크(22)는 화소 정의막일 수 있고, 유기막 패턴(23)은 유기 발광 물질을 포함하는 유기층일 수 있다. 다만, 본 발명의 범위가 유기 발광 표시 소자에 한정되는 것은 아니다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광 소자의 화소 정의막(220)에 대한 평면도이다.
도 2를 참조하면, 유기 발광 표시 소자는 평면상 매트릭스 형상으로 배열된 복수의 화소(PX1~PX4)를 포함한다.
화소 정의막(220)은 화소(PX1~PX4) 주변부2에 배치된 막으로서, 화소 정의막(220)에 형성된 개구(O)를 통해 복수의 화소(PX1~PX4)를 정의할 수 있다.
화소 정의막(220)의 표면은 평탄한 면인 상면(220a)과 경사면인 측면(220b)을 포함할 수 있다. 측면(220b)은 개구(O)로부터 상면(220a) 측으로 연장되어 상면(220a)과 연결된 면일 수 있다. 측면(220b)의 경사는 상면(220a) 측이 개구(O) 측보다 높도록 형성될 수 있다. 측면(220b)의 경사의 기울기는 실질적으로 일정할 수 있으나, 이에 제한되지 않는 것은 아니며, 경사의 기울기가 지점에 따라 다를 수도 있다. 측면(220b)은 각 화소(PX1~PX4)를 둘러싸도록 배치될 수 있다.
도 3은 도 2의 Ⅲ-Ⅲ' 선을 따라 자른 단면도이고, 도 4는 도 2의 B 부분에 대한 확대도이며, 도 5는 도 4의 Ⅴ-Ⅴ' 선을 따라 자른 단면도이다. 도 3에는 화소 정의막(220)뿐만 아니라 유기 발광 표시 소자의 다른 구성들도 도시된다.
도 3 내지 5를 참조하면, 유기 발광 표시 소자는 베이스 기판(100), 제1 전극(210), 화소 정의막(220), 유기층(230) 및 제2 전극(240)을 포함한다.
베이스 기판(100)은 유기 발광 표시 소자의 지지 기판으로서, 유기 발광 표시 소자를 구동하기 위한 배선, 전극, 반도체, 절연막 등을 포함할 수 있다.
제1 전극(210)은 베이스 기판(100) 상에 배치될 수 있다. 제1 전극(210)은 화소 정의막(220)의 개구(O)에 의해 정의된 각 화소에 대응되는 영역에 배치될 수 있다. 제1 전극(210)은 유기 발광 표시 소자의 화소 전극 또는 애노드(Anode) 전극이 될 수 있다.
제1 전극(210)은 일함수가 높은 도전성 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 전극(210)은 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), 산화아연(ZnO), 산화인듐(In2O3)등의 투명 도전성 산화물(Transparent Conductive Oxide, TCO)을 포함할 수 있다. 나아가, 제1 전극(210)은 위와 같은 투명 도전성 산화물층과 리튬(Li), 칼슘(Ca), 알루미늄(Al), 은(Ag), 마그네슘(Mg), 금(Au) 등의 반사성 금속 같은 도전성 물질층의 적층막을 포함할 수 있다.
제1 전극(210)의 표면에는 불소 화합물이 잔류할 수 있다. 즉, 제1 전극(210)의 표면은 불소기를 포함할 수 있다. 이에 대한 구체적인 설명은 도 14에 대한 설명에서 후술하도록 한다.
화소 정의막(220)은 베이스 기판 상에 배치된다. 화소 정의막(220)은 전술한 것처럼 유기 발광 표시 소자의 평면상 복수의 화소(PX1~PX4)를 구분하는 역할을 한다. 화소 정의막(220)은 각 화소에 배치된 제1 전극(210)을 둘러싸면서 제1 전극(210)의 적어도 일부를 노출하는 개구(O)가 정의될 수 있다. 화소 정의막(220)은 일 부분이 제1 전극(210)의 일부를 덮도록 배치될 수 있다.
화소 정의막(220)의 표면은 전술한 바와 같이 평탄한 면인 상면(220a)과 경사면인 측면(220b)을 포함할 수 있다. 화소 정의막(220)의 상면(220a)은 베이스 기판(100)의 상면 및/또는 하면과 평행할 수 있고, 제1 전극(210)의 표면보다 수직 방향으로 높게 형성될 수 있다. 화소 정의막(220)의 측면(220b)은 개구(O)로부터 상면(220a) 방향으로 상향 경사지게 형성될 수 있고, 제1 전극(210)의 표면과 화소 정의막(220)의 상면(220a)을 연결하도록 형성될 수 있다.
화소 정의막(220)은 내부에 형성된 복수의 중공(H1)과 표면에 형성된 복수의 미세홀(P1)을 포함한다.
중공(H1) 및 미세홀(P1)의 최대 직경은 약 50~100nm일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
내부의 중공(H1)들 중 적어도 하나는 절단면이 원 형상을 가질 수 있고, 표면의 미세홀(P1)들 중 적어도 하나는 절단면이 원 형상의 일부분을 포함할 수 있다.
복수의 미세홀(P1) 중 적어도 일부는 입구의 단면적이 내부의 최대 단면적보다 작은 형상 즉, 입구의 직경(d1)이 미세홀(P1)의 최대 직경(d2)보다 작은 형상을 가질 수 있다.
미세홀(P1)은 화소 정의막(220) 표면 중 상면(220a)과 측면(220b) 모두에 형성될 수 있다. 다만 이에 제한되는 것은 아니며, 상면(220a)과 측면(220b) 중 어느 한 표면에만 복수의 미세홀(P1)이 형성될 수도 있다.
복수의 미세홀(P1)은 일정한 규칙 없이 무작위적으로 배치될 수 있다. 다만, 이에 제한되는 것은 아니며, 복수의 미세홀(P1)이 일정한 규칙에 따라 패턴을 이룰 수도 있다.
화소 정의막(220)은 아크릴계 화합물, PI, BCB 또는 PFCB 등의 유기물을 포함할 수 있다. 특히, 화소 정의막(220)은 포토레지스트 물질이 현상되어 형성된 유기물막일 수 있다.
화소 정의막(220)은 마이크로 또는 나노 스케일의 중공을 갖는 무기물 입자를 더 포함할 수도 있다. 상기 무기물 입자는 전술한 유기물과 혼합되어 있거나 유기물 내부에 분산되어 있을 수 있다.
상기 무기물 입자는 예를 들면, 중공 실리카, 중공 알루미나 및 중공 산화아연 등으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상일 수 있다. 다만 이에 제한되는 것은 아니며, 마이크로 또는 나노 스케일의 중공을 포함하는 입자라면 그 종류에 한정되지 않는다.
화소 정의막(220)이 마이크로 또는 나노 스케일의 중공을 갖는 무기물 입자를 포함할 경우, 화소 정의막(220) 내부에 형성된 복수의 중공(H1)은 상기 무기물 입자의 중공일 수 있고, 표면에 형성된 복수의 미세홀(P1)은 상기 무기물 입자의 일부가 제거되어 무기물 입자 내의 중공이 외부로 노출됨으로써 형성된 것일 수 있다.
화소 정의막(220)은 광 투과를 차단하는 색으로 형성됨으로써 차광층의 기능을 수행할 수도 있다. 구체적으로, 화소 정의막(220)은 흑색, 회색 또는 흰색 등과 같이 가시 광선의 투과를 실질적으로 차단하는 색으로 형성됨으로써 광이 화소 정의막(220)을 투과하여 누출되는 것을 방지할 수 있고, 이를 위해 블랙 계열의 안료, 염료, 도료 등을 더 포함하거나 카본 블랙을 더 포함할 수 있다.
화소 정의막(220)의 표면은 불소기(Fluoro group, F)를 포함할 수 있다. 구체적으로, 화소 정의막(220)은 불포화 결합을 갖는 유기물을 포함할 수 있는데, 화소 정의막(220)의 표면이 플라즈마화된 불화 가스(Fluorinated gas)를 통해 식각될 경우 화소 정의막(220) 표면에 포함된 유기물의 적어도 일부에 불소가 결합될 수 있다. 이에 대한 보다 구체적인 설명은 후술하는 화소 정의막(220)의 제조 공정에서 보충된다.
불소기는 화소 정의막(220) 표면 중 미세홀(P1)이 형성되지 않은 부분에도 포함될 수 있고, 미세홀(P1)의 내벽 부분에도 포함될 수 있다. 예시적인 실시예에서, 불소기의 함량은 미세홀(P1)이 형성되지 않은 표면이 미세홀(P1)의 내벽보다 높을 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
불소기는 제1 전극(210) 표면에도 미량으로 포함될 수 있으나, 화소 정의막(220) 표면은 복수의 미세홀(P1)도 갖기 때문에 제1 전극(210) 표면보다 발액성이 상대적으로 훨씬 클 수 있다.
개구(O)에 의해 노출된 제1 전극(210) 상에는 유기층(230)이 배치될 수 있다. 유기층(230)은 유기 발광 물질을 포함하는 유기 잉크가 잉크젯 프린팅 등의 용액 도포 방식을 통해 개구(O) 내에 토출 및 건조됨으로써 형성될 수 있다.
화소 정의막(220)의 표면에 형성된 복수의 미세홀(P1)은 공기 또는 임의의 기체를 수용할 수 있는데, 이에 따라 화소 정의막(220) 표면과 유기 잉크와의 접촉 면적이 감소됨으로써 화소 정의막(220) 표면의 발액성(repellant)이 향상될 수 있다.
또한, 화소 정의막(220)의 표면에 포함된 불소기는 화소 정의막(220) 표면의 발액성을 보다 향상시켜 초 발액성(super repellant)을 갖게 할 수 있다.
따라서, 제1 전극(210) 상의 개구(O) 내에 토출된 유기 잉크는 화소 정의막(220) 표면으로 넘치거나 다른 화소 영역의 개구(O)를 침범하지 않고 토출된 개구(O) 내에 용이하게 위치할 수 있다.
유기층(230)은 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 수송층 및 전자 주입층 중 하나 이상과 발광층을 포함하는 다중층일 수 있다. 이 경우, 유기층(230) 내의 각 층은 순차적으로 토출 및 건조 과정을 거쳐 형성될 수 있으며, 화소 정의막(220) 표면의 발액성에 의해 원하는 화소 영역의 개구(O) 내에 용이하게 형성될 수 있다.
유기층(230) 상에는 제2 전극(240)이 배치될 수 있다. 제2 전극(240)은 화소 정의막(220) 표면의 일부를 덮을 수도 있고, 전면(全面)을 덮도록 배치될 수도 있다.
제2 전극(240)은 일함수가 낮은 도전성 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제2 전극(240)은 Li, Ca, LiF/Ca, LiF/Al, Al, Mg, Ag, Pt, Pd, Ni, Au Nd, Ir, Cr, BaF, Ba, Yb 또는 이들의 화합물이나 혼합물 등의 금속을 포함할 수 있고, ITO, TCO, IZO, ZnO, In2O3 등의 투명 도전 물질을 포함할 수도 있다.
제2 전극(240)은 유기 발광 표시 소자의 공통 전극 또는 캐소드(Cathode) 전극이 될 수 있다.
도면에 도시되지는 않았으나, 유기 발광 표시 소자는 외부 이물이나 수분이 유기층(230) 내부로 침투하는 것을 방지하기 위한 캡핑층이나 보호층 등을 더 포함할 수 있다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 화소 정의막(220) 표면에 유기 잉크(INK1)가 접촉한 상태를 나타낸 모식도이다.
도 6을 참조하면, 화소 정의막(220) 표면과 유기 잉크(INK1)는 소정의 접촉각(θ)을 갖고 접할 수 있다.
접촉각(θ)은 화소 정의막(220) 표면과 유기 잉크(INK1)의 접선이 이루는 각도로서, 표면의 발액성이 클수록 또는 표면 장력이 작을수록 그 값이 커진다.
본 발명의 화소 정의막(220) 표면은 복수의 미세홀(P1)에 미량의 공기 또는 임의의 기체(g)가 수용될 수 있다. 따라서, 미세홀(P1) 내부는 미량의 유기 잉크(INK2)가 흘러 들어갈 수는 있으나 대부분의 공간이 공기 또는 임의의 기체(g)로 채워질 수 있다. 결과적으로, 화소 정의막(220) 표면과 유기 잉크(INK1)가 접하는 면적이 좁아지기 때문에, 유기 잉크(INK1)에 대한 화소 정의막(220) 표면의 발액성이 증가될 수 있다.
또한, 화소 정의막(220) 표면은 불소기를 통해 표면 장력이 보다 낮아짐으로써 발액성이 더 향상될 수 있기 때문에, 유기 잉크(INK1)와의 접촉각(θ)이 높은 값을 가질 수 있다.
따라서, 화소 정의막(220) 형성 후 잉크젯 노즐 등을 이용하여 특정 화소의 개구(O) 부분에 유기 잉크(INK1)를 분사하면, 유기 잉크(INK1)가 화소 정의막(220) 표면에 묻거나 다른 화소의 개구(O)로 침범하지 않고 해당 화소의 개구(O) 부분에만 위치하도록 할 수 있다.
화소 정의막(220) 표면에 유기 잉크(INK1) 대신 탈이온수(Deionized Water, DIW)를 접촉시킬 경우, 화소 정의막(220) 표면과 탈이온수간의 접촉각(θ)은 120도 이상일 수 있다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 소자의 화소 정의막(221) 부분에 대한 확대도이다.
도 7은 화소 정의막(221)이 복수의 미세홀(P2)과 중공(H2)을 둘러싸는 쉘 (shell)(S)을 더 포함하는 점을 제외하고 도 3의 설명에서 상술한 바와 같다. 이하에서는 중복되는 내용은 생략한다.
도 7을 참조하면, 화소 정의막(221)은 복수의 미세홀(P2)과 중공(H2)을 둘러싸는 쉘(S)을 더 포함할 수 있다. 쉘(S)은 실리카로 이루어진 것일 수 있다.
화소 정의막(221)은 내부에 중공(H2)을 갖는 실리카 입자를 포함할 수 있는데, 이 경우 쉘(S)은 실리카 부분이고, 화소 정의막(221) 내부의 중공(H2)은 실리카 입자의 중공(H2)일 수 있다.
또한, 표면에 형성된 복수의 미세홀(P2)은 실리카 쉘(S)의 일부가 제거되어 쉘(S) 내부의 중공(H2)이 외부로 노출됨으로써 형성된 것일 수 있다. 이 경우, 쉘(S)의 일부가 표면으로 노출될 수 있으며, 미세홀(P2)의 내벽은 쉘(S)로 이루어질 수 있다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 소자의 화소 정의막(222) 부분에 대한 확대도이다.
도 8은 화소 정의막(222)이 미세홀(P1) 또는 중공(H1)을 포함하지 않는 제1 층(222_1)과 복수의 미세홀(P1) 및 중공(H1)을 포함하는 제2 층(222_2)으로 형성된 점을 제외하고 도 3의 설명에서 상술한 바와 같다. 이하에서는 중복되는 내용은 생략한다.
도 8을 참조하면, 화소 정의막(222)은 미세홀(P1) 또는 중공(H1)을 포함하지 않는 제1 층(222_1) 및 상기 제1 층(222_1) 상에 적층되며 복수의 미세홀(P1) 및 중공(H1)을 포함하는 제2 층(222_2)으로 형성될 수 있다. 제1 층(222_1)은 유기물만으로 이루어질 수 있고, 제2 층(222_2)은 도 3에 도시된 화소 정의막(222)과 동일한 것일 수 있다.
도 8과 같이 제1 층(222_1)을 유기물로 형성하고 제2 층(222_2)을 미세홀(P1) 및 중공(H1)을 갖는 층으로 형성함으로써, 화소 정의막(222) 표면의 발액성은 유지하면서도 화소 정의막(222)을 패터닝하여 개구(O)를 형성하는 과정에서 제1 전극(210)이 손상되는 것을 방지할 수 있다.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 소자의 화소 정의막(223) 부분에 대한 확대도이다.
도 9는 화소 정의막(223)의 내부에 중공이 형성되지 않은 점을 제외하고 도 3의 설명에서 상술한 바와 같다. 이하에서는 중복되는 내용은 생략한다.
도 9를 참조하면, 화소 정의막(223)은 표면에만 복수의 미세홀(P3)이 형성되고, 내부에는 중공이 형성되지 않을 수 있다. 이 경우, 화소 정의막(223) 내부의 밀도를 높일 수 있어 공기나 수분이 침투하는 것을 방지할 수 있다.
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 소자의 화소 정의막(224) 부분에 대한 확대도이다.
도 10은 화소 정의막(224)의 표면에 동일한 크기 및 형상의 미세홀(P4)들이 형성된 점을 제외하고 도 9의 설명에서 상술한 바와 같다. 이하에서는 중복되는 내용은 생략한다.
도 10을 참조하면, 복수의 미세홀(P4)은 동일한 크기 및 형상을 가질 수 있으며, 특히 입구의 직경(d1)이 미세홀(P4)의 최대 직경(d2)보다 작은 형상을 가질 수 있다. 이 경우, 미세홀(P4)의 내부에 공기 또는 임의의 기체가 효과적으로 수용될 수 있다.
도 10에는 미세홀(P4)의 절단면이 원 형상의 일부분을 포함하는 경우가 도시되었으나 이에 한정되는 것은 아니며, 단면이 화소 정의막(224) 내측으로 갈수록 넓어지는 다각형 형상일 수도 있다. 본 명세서에서 '다각형 형상'이란 다각형과 동일한 형상뿐만 아니라, 제조 공정 등을 고려할 때 실질적으로 다각형에 가까운 폐곡선, 적어도 하나의 곡선부를 갖는 형상 등을 포함할 수 있다.
도 11 내지 18은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 소자에 대한 제조 방법의 공정 단계별 단면도들이다. 도 11 내지 18에는 설명의 편의를 위해 도 3에 도시된 유기 발광 표시 소자에 대한 제조 과정이 도시되나, 본 발명의 범위가 이에 한정되는 것은 아니다.
도 11을 참조하면, 먼저 베이스 기판(100) 상의 각 화소에 제1 전극(210)을 형성한다.
도 12를 참조하면, 다음으로 베이스 기판(100) 상에 제1 포토레지스트층(CL1)을 형성한다. 제1 포토레지스트층(CL1)은 베이스 기판(100) 상의 전면(全面)에 제1 전극(210)을 완전히 덮도록 형성할 수 있다. 제1 포토레지스트층(CL1)은 마이크로 또는 나노 스케일의 중공을 갖는 무기물 입자를 포함할 수 있다.
도 13을 참조하면, 다음으로 제1 포토레지스트층(CL1)을 패터닝하여 제1 전극(210)을 노출하는 개구(O)가 정의된 제1 포토레지스트 패턴(CL2)을 형성한다. 이때, 플라즈마 에싱(ashing)을 통해 제1 전극(210) 상에 남아있는 제1 포토레지스트층(CL1)의 잔사를 제거할 수 있다.
도 14 및 15를 참조하면, 다음으로 제1 포토레지스트 패턴(CL2) 표면을 플라즈마화된 불화 가스(PS)로 식각하여 표면에 복수의 미세홀(P1)이 형성된 화소 정의막(220)을 형성한다.
제1 포토레지스트 패턴(CL2)의 표면층이 식각됨으로써 표면과 근접해 있던 무기물 입자의 일부가 제거될 수 있고, 이에 따라 무기물 입자 내의 중공(H1)이 외부로 노출됨으로써 화소 정의막(220)의 표면에 복수의 미세홀(P1)이 형성될 수 있다.
또한, 제1 포토레지스트 패턴(CL2) 또는 화소 정의막(220)의 표면에 포함된 불포화 결합을 갖는 탄소화합물 중 적어도 일부는 불소 원자와 결합될 수 있으며, 이에 따라 결과적으로 화소 정의막(220) 표면에 불소기가 포함될 수 있다.
제1 포토레지스트 패턴(CL2)을 식각하기 위해 도입한 불화 가스(PS)는 제1 전극(210)의 표면도 일부 식각할 수 있다. 이에 따라, 제1 전극(210) 표면에도 불소 화합물이 잔류할 수 있다. 즉, 제1 전극(210)의 표면은 불소기를 포함할 수 있다. 이에 따라, 제1 전극(210) 표면의 발액성이 증가할 수 있다. 그러나 화소 정의막(220) 표면의 발액성이 상대적으로 훨씬 크기 때문에, 유기 발광 잉크(INK)는 화소 정의막(220) 보다는 제1 전극(210) 상에 위치하려는 경향성을 갖는다.
도 16을 참조하면, 다음으로 각 화소 개구(O) 내부의 제1 전극(210) 상에 유기 잉크(INK)를 토출한다. 이때, 화소 정의막(220) 표면에 발생된 발액성 때문에 유기 잉크(INK)는 화소 정의막(220) 위로 흘러 넘치지 않을 수 있다.
도 17을 참조하면, 다음으로 유기 잉크(INK)를 건조하여 유기층(230)을 형성한다. 구체적으로, 유기 잉크(INK)에 포함된 용매를 증발시켜 유기 발광 물질만이 남도록 할 수 있다. 유기 잉크(INK)는 건조되면서 제1 전극(210)으로 밀착된 형상을 가질 수 있다.
도 17에서는 유기층(230)을 단일층으로 형성하는 경우를 도시하였으나, 유기층(230)을 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 수송층 및 전자 주입층 중 하나 이상과 발광층을 포함하는 다중층으로 형성할 수도 있다. 이 경우, 각 층에 해당하는 잉크를 순차적으로 토출 및 건조시켜 형성할 수 있다.
도 18을 참조하면, 다음으로 유기층(230) 및 화소 정의막(220) 상에 제2 전극(240)을 형성하여 도 3에 도시된 유기 발광 표시 소자를 제조할 수 있다.
도 19는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광 표시 소자의 단면도이고, 도 20은 도 19에 도시된 유기 발광 표시 소자의 화소 정의막(225) 표면에 대한 확대도이며, 도 21은 도 20의 ⅩⅩⅠ-ⅩⅩⅠ' 선을 따라 자른 단면도이다.
도 19 내지 21에서는 설명의 편의를 위해 본 발명의 다른 실시예에 따른 뱅크 및 유기막 패턴 구조가 유기 발광 표시 소자에 적용된 경우를 도시하나, 본 발명의 범위가 이에 한정되는 것은 아니다.
도 19 내지 21은 화소 정의막(225) 내부에 중공이 형성되지 않고 화소 정의막(225) 표면에 미세 패턴층(PT)이 배치된 점을 제외하고 도 3 내지 5의 설명에서 상술한 바와 같다. 이하에서는 중복되는 내용은 생략한다.
도 19 내지 21을 참조하면, 유기 발광 표시 소자는 화소 정의막(225) 상에 화소 정의막(225) 표면과 접하도록 배치된 미세 패턴층(PT)을 더 포함한다.
미세 패턴층(PT)은 마이크로 또는 나노 스케일의 패턴들이 소정 간격을 두고 규칙적으로 배열된 층일 수 있다. 미세 패턴층(PT)은 도 20에 도시된 것처럼 미세 패턴(PT)들이 평면상 매트릭스 형상, 스트라이프 형상 등으로 배열될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
화소 정의막(225) 표면은 미세 패턴층(PT)과 접하는 동시에 미세홀(P5)을 포함할 수 있다. 미세홀(P5)은 인접한 미세 패턴(PT)들 사이를 가로지르는 골(valley) 형상을 가질 수 있다.
화소 정의막(225)과 미세 패턴층(PT)이 접한 부분의 면적(a1)은 미세 패턴층(PT) 중 화소 정의막(225)에 대향하는 면의 전체 면적(a2)보다 작을 수 있다. 이에 따라, 미세홀(P5)의 일부 공간(G)이 미세 패턴(PT)과 중첩되는 영역이 발생할 수 있다.
이 경우에도 마찬가지로 미세홀(P5)의 입구가 좁은 형상을 갖기 때문에 미세홀(P5)에 공기 또는 임의의 기체가 효과적으로 수용될 수 있다.
미세 패턴층(PT)은 무기물을 포함할 수 있다. 구체적으로, 미세 패턴층(PT)은 산화규소(SixOy), 질화규소(SixNy) 및 산질화규소(SixOyNz) 중 하나 이상을 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 x, y 및 z는 양의 정수로서, 산화규소, 질화규소 및 산질화규소가 화학적으로 성립 가능한 화학식을 갖도록 하는 값을 가질 수 있다.
도 22 내지 30은 도 19의 유기 발광 표시 소자에 대한 제조 방법의 공정 단계별 단면도들이다.
도 22를 참조하면, 도 11과 동일한 방식으로 베이스 기판(100) 및 제1 전극(210)을 형성한 후, 베이스 기판(100) 상에 제2 포토레지스트층(CL3)을 형성한다.
제2 포토레지스트층(CL3)은 도 11의 제1 포토레지스트층(CL1)과 같이 제1 전극(210)을 완전히 덮도록 형성할 수 있다. 다만, 제1 포토레지스트층(CL1)과 달리 제2 포토레지스트층(CL3)은 마이크로 또는 나노 스케일의 중공을 갖는 무기물 입자를 포함하지 않을 수 있다.
도 23을 참조하면, 다음으로 제2 포토레지스트층(CL3) 상의 전면(全面)에 무기물층(310)을 형성한다. 무기물층(310)은 무기물을 포함하는 층으로서 산화규소, 질화규소 및 산질화규소 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 상기 무기물은 광 투과성을 갖기 때문에 무기물층(310)이 투명하게 형성되도록 할 수 있다.
도 24를 참조하면, 다음으로 무기물층(310) 상의 전면에 제3 포토레지스트층(320)을 형성한다.
도 25를 참조하면, 다음으로 차광 패턴을 갖는 마스크(M)를 통해 제3 포토레지스트층(320)을 노광한다.
마스크(M)는 제1 전극(210)과 대응되는 제1 영역(R1)과 그 주변 영역인 제2 영역(R2)을 포함할 수 있다. 제1 영역(R1)은 차광부(B)를 포함하지 않으며, 제2 영역(R2)은 소정 패턴으로 형성된 차광부(B) 및 차광부(B)가 형성되지 않은 부분인 슬릿(SL)을 포함할 수 있다. 이에 따라, 제1 영역(R1)으로 입사된 광은 제1 영역(R1)을 그대로 투과하며, 제2 영역(R2)으로 입사된 광은 슬릿(SL)만을 투과할 수 있다.
제1 영역(R1)을 투과한 광은 제3 포토레지스트층(320) 중 제1 영역(R1) 전체와 대응되는 면적을 노광하며, 제2 영역(R2)을 투과한 광은 제3 포토레지스트층(320) 중 제2 영역(R2)의 슬릿(SL)과 대응되는 면적을 노광한다.
무기물층(310)은 광 투과성을 갖기 때문에 제3 포토레지스트층(320)을 투과한 광은 무기물층(310) 하부의 제2 포토레지스트층(CL3)까지 도달할 수 있다. 이때, 제2 영역(R2)의 슬릿(SL)을 하프톤(half-tone)으로 제조함으로써 광의 투과 정도를 낮출 수 있으며, 이에 따라 후술할 제2 포토레지스트층(CL3)의 현상 단계에서 제2 포토레지스트층(CL3) 중 슬릿(SL)과 대응되는 부분이 제거되는 것을 방지할 수 있다.
제2 영역(R2)의 차광부(B)는 평면상 바둑판 또는 매트릭스 형태의 패턴을 가질 수 있으며, 이에 따라 후술할 미세 패턴(PT)이 매트릭스 형태로 배열될 수 있다. 다만, 차광부(B) 패턴의 형태가 이에 제한되는 것은 아니며, 차광부(B) 패턴은 스트라이프 형태 등을 가질 수도 있다.
도 26을 참조하면, 다음으로 제3 포토레지스트층(320)을 현상하여 제3 포토레지스트 패턴(321)을 형성한다. 제3 포토레지스트 패턴(321)은 마스크(M)의 차광부(B)에 대응되는 패턴을 가질 수 있다.
도 27을 참조하면, 다음으로 무기물층(310)을 식각(etching)하여 미세 패턴(PT)을 형성한다. 이때, 미세 패턴(PT) 사이의 틈을 통과한 식각 가스에 의해 제2 포토레지스트층(CL3) 표면도 일부 식각되어 미세홀(P5)이 형성될 수 있다.
제2 포토레지스트층(CL3)은 미세 패턴(PT) 대비 식각되는 정도가 더 클 수 있다. 이에 따라, 도 21에 도시된 바와 같이 미세홀(P5)이 미세 패턴(PT) 대비 내측으로 더 파고들어간 형상, 즉 화소 정의막(225)과 미세 패턴층(PT)이 접한 부분의 면적(a1)이 미세 패턴층(PT) 중 화소 정의막(225)에 대향하는 면의 전체 면적(a2)보다 작은 형상으로 형성될 수 있다.
미세 패턴(PT)은 마스크(M)의 차광부(B) 및 제3 포토레지스트 패턴(321)에 대응되는 패턴을 가질 수 있다.
식각 방법으로서 건식각(dry etching)을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
도 28을 참조하면, 다음으로 제3 포토레지스트 패턴(321)을 박리(strip)하여 제거한다. 제3 포토레지스트 패턴(321)은 박리액(stripper)을 사용하여 리프트오프(lift-off)하는 방식으로 제거할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
도 29를 참조하면, 다음으로 제2 포토레지스트층(CL3)을 현상하여 화소 정의막(225)을 형성한다. 제2 포토레지스트층(CL3)은 제3 포토레지스트층(320)의 노광 단계에서 투명한 무기물층(310)을 투과한 광에 의해 함께 노광되었기 때문에, 추가적인 노광 없이 현상할 수 있다.
또한, 전술한 바와 같이 제3 포토레지스트층(320) 노광 단계에서 마스크(M)의 슬릿(SL)을 하프톤(half-tone)으로 제조할 경우, 제2 포토레지스트층(CL3) 중 슬릿(SL)과 대응되는 부분이 제거되는 것을 방지할 수 있다.
도 30을 참조하면, 다음으로 각 화소 개구(O) 내부의 제1 전극(210) 상에 유기 잉크를 토출한 후 건조하여 유기층(230)을 형성하고, 이어서 유기층(230) 및 화소 정의막(225) 상에 제2 전극(240)을 형성하여 도 19에 도시된 유기 발광 표시 소자를 제조할 수 있다. 이에 대한 설명은 전술한 바와 같으므로 생략한다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
10: 베이스
22: 뱅크
23: 유기막 패턴
O: 개구

Claims (20)

  1. 베이스;
    상기 베이스 상에 배치되며, 상기 베이스의 표면을 노출하는 개구가 정의된 뱅크; 및
    상기 베이스 상의 상기 개구 내에 배치된 유기막 패턴을 포함하며,
    상기 뱅크는 상면 및 상기 상면과 연결되며 상기 상면으로부터 상기 개구 방향으로 하향 경사진 측면을 포함하고,
    상기 뱅크는 상기 상면 및 상기 측면에 형성된 복수의 미세홀과 상기 뱅크의 내부에 형성된 복수의 중공을 포함하는 표시 소자.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 복수의 미세홀 중 적어도 하나는 절단면이 원 형상의 일부분을 포함하는 표시 소자.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 뱅크의 표면은 발액성(repellant)을 갖는 표시 소자.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 뱅크는 중공을 갖는 복수의 무기물 입자를 포함하는 표시 소자.
  5. 제4 항에 있어서,
    상기 무기물 입자는 실리카(SiO2), 알루미나(Al2O3) 및 산화아연(ZnO) 중 적어도 하나를 포함하는 표시 소자.
  6. 제1 항에 있어서,
    상기 뱅크의 표면은 불소기(Fluoro group)를 포함하는 표시 소자.
  7. 제1 항에 있어서,
    상기 표시 소자는 복수의 화소를 포함하고,
    상기 베이스는 기판 및 상기 기판 상의 상기 각 화소마다 배치된 제1 전극을 포함하며,
    상기 뱅크는 상기 각 화소를 구분하는 화소 정의막이고,
    상기 뱅크의 개구는 상기 각 화소마다 상기 제1 전극의 적어도 일부분을 노출하는 표시 소자.
  8. 제7 항에 있어서,
    상기 유기막 패턴은 유기 발광 물질을 포함하는 표시 소자.
  9. 제7 항에 있어서, 상기 유기막 패턴 상에 배치된 제2 전극을 더 포함하는 표시 소자.
  10. 베이스 기판 상에 전극을 형성하는 단계;
    상기 베이스 기판 상에 상기 전극의 적어도 일부분을 노출하는 개구가 정의되도록 배치되고, 중공을 갖는 복수의 무기물 입자를 포함하는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 및
    상기 포토레지스트 패턴의 표면을 불화 가스로 식각하여 상기 포토레지스트 패턴의 표면에 포함된 상기 무기물 입자의 일부를 제거함으로써, 상기 포토레지스트 패턴의 표면에 상기 무기물 입자 내의 중공이 외부로 노출된 복수의 미세홀이 형성되도록 하는 단계를 포함하는 표시 소자의 제조 방법.
  11. 제10 항에 있어서,
    상기 무기물 입자는 실리카(SiO2), 알루미나(Al2O3) 및 산화아연(ZnO) 중 적어도 하나를 포함하는 표시 소자의 제조 방법.
  12. 제10 항에 있어서,
    상기 포토레지스트 패턴의 표면은 불소기를 포함하는 표시 소자의 제조 방법.
  13. 제10 항에 있어서,
    상기 복수의 미세홀 중 적어도 하나는 절단면이 원 형상의 일부분을 포함하는 표시 소자의 제조 방법.
  14. 제10 항에 있어서,
    상기 개구에 의해 노출된 전극 상에 유기 발광 물질을 포함하는 유기 잉크를 토출하는 단계; 및
    상기 토출된 유기 잉크를 건조하여 유기층을 형성하는 단계를 더 포함하는 표시 소자의 제조 방법.
  15. 제10 항에 있어서,
    상기 포토레지스트 패턴을 형성한 후 표면을 불화 가스로 식각하기 전에, 플라즈마 에싱(ashing)을 통해 상기 전극 상에 남아있는 상기 포토레지스트층의 잔사를 제거하는 단계를 더 포함하는 표시 소자의 제조 방법.
  16. 베이스;
    상기 베이스 상에 배치되며, 상기 베이스의 표면을 노출하는 개구가 정의된 뱅크; 및
    상기 뱅크 표면에 접하도록 배치된 미세 패턴층을 포함하고,
    상기 뱅크와 상기 미세 패턴층이 접한 부분의 면적은 상기 미세 패턴층 중 상기 뱅크에 대향하는 면의 전체 면적보다 작은 표시 소자.
  17. 제16 항에 있어서,
    상기 미세 패턴층은 산화규소(SixOy), 질화규소(SixNy) 및 산질화규소(SixOyNz) 중 하나 이상을 포함하는 표시 소자.
  18. 제16 항에 있어서,
    상기 표시 소자는 복수의 화소를 포함하고,
    상기 베이스는 기판 및 상기 기판 상의 상기 각 화소마다 배치된 화소 전극을 포함하며,
    상기 뱅크는 상기 각 화소를 구분하는 화소 정의막이고,
    상기 뱅크의 개구는 상기 각 화소 전극의 적어도 일부분을 노출하는 표시 소자.
  19. 제18 항에 있어서,
    상기 화소 정의막은 광 투과를 차단하는 색을 갖는 표시 소자.
  20. 제18 항에 있어서,
    상기 개구에 의해 노출된 상기 화소 전극 상에 배치되며, 유기 발광 물질이 포함된 유기층을 더 포함하는 표시 소자.
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