JP2001133466A

JP2001133466A - 自動分析装置

Info

Publication number: JP2001133466A
Application number: JP31597399A
Authority: JP
Inventors: Yoshiaki Shimizu; 慶昭清水
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1999-11-05
Filing date: 1999-11-05
Publication date: 2001-05-18

Abstract

(57)【要約】【課題】プローブの汚れを効果的に除去する。【解決手段】洗浄槽２０のサンプリングプローブ１６
の挿入位置に、該サンプリングプローブ１６を取り囲む
ように洗浄水誘導パイプ２３を設けると共に、この洗浄
水誘導パイプ２３を介して外気を吸引する真空ポンプに
接続された真空バルブ２７を設ける。そして、サンプリ
ングプローブ１６に洗浄水を吐出すると共に、真空ポン
プで外気を吸引する。これにより、洗浄水誘導パイプ２
３内が乱流状態となり、サンプリングプローブ１６に付
着した被検試料を水流及び気流によりきれいに、しかも
効果的に洗い流すことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、被検試料の成分分
析を自動的に行う自動分析装置におけるプローブ洗浄に
関する。

【０００２】

【従来の技術】病院検査室などで用いられる自動分析装
置は、反応セルに被検試料と試薬を分注してこれらを反
応させた後、反応によって生じる色調の変化を光測定す
ることにより検体中の被測定物質又は酵素の濃度や活性
を測定する。被検試料の分注にはサンプリングプローブ
が用いられるが、被検試料間の汚染を防ぐためには、被
検試料を交換する毎にサンプリングプローブの内外を洗
浄することが必要である。

【０００３】このため、従来から自動分析装置には、デ
ィスクサンプラと反応管との間に、洗浄水を溜めるよう
に構成された洗浄槽、或いは流水状態を作り出すように
構成された洗浄槽が設けられており、この洗浄槽内にサ
ンプリングプローブを浸けることによって、サンプリン
グ動作ごとにサンプリングプローブ洗浄を行うようにな
っている。

【０００４】また、近年の病院検査室においては、２４
時間、迅速検査体制及び検査室の効率化の流れが一般化
している。その流れに伴い、ランダムアクセス機能を有
する自動分析装置が主流を占めるようになってきている
ため、１つの試薬用プローブを複数項目の試薬秤量に用
いるピペッティング方式の試薬分注方式が用いられる場
合が多い。この場合も、試薬庫と反応管との間に、前記
サンプリングプローブ用の洗浄槽と同様の洗浄槽が設け
られており、この洗浄槽内に試薬プローブを浸けること
によって、試薬の分注動作毎に試薬プローブ洗浄を行う
ようになっている。

【０００５】一例として、図８に示す前記ディスクサン
プラと反応管との間に設けられた洗浄槽の断面図を示を
用いてサンプリングプローブの洗浄動作を説明する。サ
ンプリングプローブ１０５が洗浄槽１０８の所定の位置
まで下方移動し停止すると、図示しないプローブ内洗浄
ポンプからサンプリングプローブ１０５内に洗浄水が送
水され、サンプリングプローブ１０５の内部が洗浄され
る。また、これと同時に、洗浄槽１０８の内周壁を貫通
するように設けられた洗浄水パイプ１１２から、サンプ
リングプローブ１０５の先端部に対して洗浄水が連続的
に噴水され、サンプリングプローブ１０５の外部が洗浄
される。このサンプリングプローブ１０５の内外の洗浄
に用いられた洗浄水は、洗浄槽１０８の底部に設けられ
たドレイン１１１を介して排水される。

【０００６】なお、サンプリングサイクルの中の洗浄に
割り当てられた所定の時間が経過すると、サンプリング
プローブ１０５の内外を洗浄するための洗浄水の供給は
停止されるのであるが、サンプリングプローブ１０５の
外部に対して行われる洗浄水の噴水は、サンプリングプ
ローブ１０５が上方移動して洗浄槽１０８から離れるま
で継続される。これにより、サンプリングプローブ１０
５の上方移動と、このサンプリングプローブ１０５の移
動方向とは反対の方向に流れる洗浄水の流水作用を利用
して、サンプリングプローブ１０５の外部に残存する洗
浄水を少なくすることができる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の自動分
析装置は、サンプリングプローブ１０５の外側に洗浄水
を噴水することで、サンプリングプローブ１０５の外側
に付着した被検試料が自然に洗い流される、いわば自然
拡散現象を用いてサンプリングプローブ１０５の洗浄を
行うようになっていたため、被検試料が強固に付着して
いる場合等に被検試料の洗い残しが発生する問題があっ
た。

【０００８】また、洗浄後のプローブ引上げ時に、サン
プリングプローブ１０５の上方移動と、このサンプリン
グプローブ１０５の移動方向とは反対の方向に流れる洗
浄水の流水作用を利用して、サンプリングプローブ１０
５の外側に残存する洗浄水を少なくする工夫をしている
のであるが、例えばプローブ先端部に水滴状の洗浄水が
残存することもあり、プローブに洗浄水が残存する不都
合を完全には防止することができない問題があった。プ
ローブに洗浄水が残存したまま試料検査を行うと、この
残存している洗浄水が次に測定しようとする被検試料内
に混入して被検試料が希釈され、正確な測定値を得るこ
とが出来ない問題を生ずる。

【０００９】特に、近年の自動分析装置は、処理速度の
向上を図るためにサンプリングのサイクル時間が短縮化
され、これに伴いプローブ洗浄時間も短く設定されてい
る。このため、前述の洗い残しが発生する問題、及びプ
ローブに洗浄水が残存する問題は、より顕著なものとな
っている。

【００１０】なお、プローブに残存した洗浄水により被
検試料が希釈化される不都合を防止するために、同じ被
検試料を複数回サンプリングする場合には、サンプリン
グプローブのサイクル毎の洗浄は行わない等の工夫がな
されている自動分析装置も知られているが、この装置の
場合、被検試料が希釈化されない反面、連続したサンプ
リング動作によりサンプリングプローブに付着した被検
試料が固着してしまい、前述の洗い残しを発生する確率
が高くなっている。

【００１１】本発明は、上述の課題に鑑みてなされたも
のであり、プローブの汚れを効果的に除去すると共に、
プローブに残存する洗浄水を極力少なくして被検試料等
が希釈化される不都合を防止することができるような自
動分析装置の提供を目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明に係る自動分析装
置は上述の課題を解決するための手段として、試薬或い
は被検試料を吸引吐出するためのプローブと、前記プロ
ーブの移動制御を行う移動制御手段と、前記プローブを
洗浄するための洗浄槽と、前記移動制御手段により前記
洗浄槽に挿入されたプローブに対して洗浄水が当たるよ
うに該洗浄水を供給する供給手段と、前記洗浄槽内に前
記プローブに沿って空気の流れを形成する形成手段とを
有する。

【００１３】また、本発明に係る自動分析装置は上述の
課題を解決するための手段として、前記洗浄槽に挿入さ
れたプローブの先端付近を取り囲むように前記洗浄槽に
設けられ、前記洗浄水を前記プローブの先端方向に導く
誘導手段を有する。

【００１４】また、本発明に係る自動分析装置は上述の
課題を解決するために、前記誘導手段に対して、前記プ
ローブに面した部分に誘導片を設ける。

【００１５】また、本発明に係る自動分析装置は上述の
課題を解決するために、前記誘導片を、前記プローブの
先端方向に対して螺旋形状に形成する。

【００１６】また、本発明に係る自動分析装置は上述の
課題を解決するための手段として、前記供給手段及び前
記形成手段の動作タイミングを制御する動作制御手段を
有する。そして、前記動作制御手段が、前記供給手段と
前記形成手段とを同時に動作させるように制御する。

【００１７】また、本発明に係る自動分析装置は上述の
課題を解決するために、前記動作制御手段が、前記供給
手段と前記形成手段とを所定時間同時に動作させた後、
前記供給手段の動作を停止させる。

【００１８】また、本発明に係る自動分析装置は上述の
課題を解決するために、前記移動制御手段により前記洗
浄槽に挿入された前記プローブを上昇させると同時に、
前記動作制御手段により前記形成手段のみを動作させ
る。

【００１９】また、本発明に係る自動分析装置は上述の
課題を解決するために、前記供給手段の動作の停止後、
前記移動制御手段は前記洗浄槽に挿入された前記プロー
ブを上昇させる。

【００２０】

【発明の実施の形態】本発明を適用した第１の実施の形
態の自動分析装置の構成を図１〜図２を参照して説明す
る。まず、図１は、この第１の実施の形態の自動分析装
置の全体構成を示す斜視図である。この自動分析装置
は、被検試料の各種成分と反応する試薬を納めた複数の
試薬ボトルを収納した試薬ラック１を設置可能な試薬庫
２及び３と、円周上に複数の反応管４を配置した反応デ
ィスク５と、被検試料が納められた被検試料容器がセッ
トされるディスクサンプラ６とを有している。試薬庫
２，３、反応ディスク５及びディスクサンプラ６は、そ
れぞれ駆動装置により回動されるようになっている。測
定に必要な試薬は、試薬庫２或いは試薬庫３の試薬ラッ
ク１に収納されている試薬ボトル７から、それぞれ分注
アーム８或いは分注アーム９を用いて反応ディスク５上
の反応管４に分注される。

【００２１】また、ディスクサンプラ６上に配置されて
いる被検試料容器１７に納められた被検試料は、サンプ
リングアーム１０を用いて反応ディスク５上の反応管４
に分注される。被検試料と試薬を分注された反応管４
は、反応ディスク５の回動により撹拌位置まで移動し、
撹拌ユニット１１により被検試料と試薬の混合液が撹拌
される。その後、測光系１３は、測光位置まで移動した
反応管４に対して光を照射して混合液の吸光度変化を測
定することにより、被検試料の成分分析を行う。そし
て、分析の終了した反応管４内の混合液は廃棄され、そ
の後反応管４は洗浄ユニット１２により洗浄されるよう
になっている。

【００２２】ここで、この自動分析装置には、前記各分
注アーム８〜１０に対応して、該各分注アーム８〜１０
の各プローブ１４〜１６を洗浄するための洗浄槽がそれ
ぞれ設けられている。図１には、サンプリングアーム１
０のサンプリングプローブ１６を洗浄するための洗浄槽
２０のみしか図示されていないが、各分注アーム８〜１
０に対応してそれぞれ洗浄槽が設けられているものと理
解されたい。以下、このサンプリングプローブ１６を洗
浄するための洗浄槽２０を例にとって説明を行うが、他
のプローブ１４，１５用に設けられた洗浄槽も同じ構成
である。

【００２３】図２は、このサンプリングプローブ１６用
の洗浄槽２０の断面図である。この図２に示すように洗
浄槽２０は、自動分析装置に埋め込まれるかたちで設け
られた筒状の洗浄槽ブロック２１と、この洗浄槽ブロッ
ク２１を装置側に固定する保持ブロック２１を有してい
る。保持ブロック２１には、洗浄時に当該洗浄槽２０に
挿入されたサンプリングプローブ１６に対して洗浄水を
吐出するための洗浄水パイプ２４が設けられている。ま
た、保持ブロック２１には、洗浄時に当該洗浄槽２０に
挿入されたサンプリングプローブ１６を取り囲むように
設けられた洗浄水誘導パイプ２３が設けられている。

【００２４】これにより、各洗浄水パイプ２４からサン
プリングプローブ１６の先端部分に当たるように連続し
た流水状態で吐出された洗浄水は、サンプリングプロー
ブ１６に付着した被検試料を洗い流し、排水として洗浄
水誘導パイプ２３を介して洗浄槽ブロック２１の底部
（廃液溜め２８）に溜まるようになっている。

【００２５】この廃液溜め２８となっている洗浄槽ブロ
ック２１の底部には、排水用のドレインバルブ２９が設
けられており、洗浄終了後或いは洗浄中にこのドレイン
バルブ２９を開制御することにより、廃液溜め２８に溜
まった廃液が排水されるようになっている。

【００２６】さらに、この洗浄槽２０には、当該洗浄槽
２０の内部に直結する真空パイプ２５が真空バルブ２７
を介して設けられている。この真空パイプ２５は、後に
説明する真空ポンプに接続されており、真空バルブ２７
を開制御して真空ポンプを駆動することにより、洗浄水
誘導パイプ２３及び真空パイプ２５を介して外気が吸引
され、洗浄水誘導パイプ２３内及び洗浄槽２０内に乱気
流が形成されるようになっている。

【００２７】次に、このように構成された当該実施の形
態の自動分析装置における被検試料の成分分析検査の全
体的な制御の流れについて図１及び図３を参照しながら
説明する。図３は、この実施の形態の自動分析装置の制
御の流れを説明するためのブロック図である。

【００２８】分析が開始されると、制御部３５は駆動系
３４を制御して、反応ディスク５、ディスクサンプラ６
及び試薬庫２又は３を回動制御すると共に、プローブ駆
動部３３を介してサンプリングプローブ１６及び分注ア
ーム８又は９を駆動制御して被検試料及び分析に必要な
試薬を反応ディスク５における所定の反応管４に分注す
る。

【００２９】その後、制御部３５は、被検試料と試薬が
分注された反応管４を、反応ディスク５の回動により撹
拌位置まで移動制御し、被検試料と試薬の混合液が撹拌
されるように撹拌ユニット１１を制御する。その後、反
応ディスク５を回動制御して、この混合液を測光位置ま
で移動制御し、測光系１３から該混合液が納められた反
応管４に対して光を照射して吸光度変化を測定すること
により、被検試料の成分分析を行う。なお、分析の終了
後は反応管４内の混合液は廃棄され、その反応管４は洗
浄ユニット１２により洗浄されるようになっている。

【００３０】次に、図１乃至図５を参照しながら、サン
プリングプローブ１６の洗浄制御の流れについて説明す
る。なお、以下、サンプリングプローブ１６の洗浄制御
を例にとって説明するが、これは、各分注アーム８，９
の洗浄制御の場合も同様であるので、以下の説明を参照
されたい。また、図４は、当該自動分析装置の前記反応
ディスク５、ディスクサンプラ６、サンプリングアーム
１０及び洗浄槽２０が設けられている部分を上面側から
見た図、図５は、サンプリングアーム１０の洗浄時にお
ける各部の動作タイミングを示すタイムチャートであ
る。

【００３１】まず、サンプリングプローブ１６は、非駆
動時には、例えば図４に示すように反応ディスク５とデ
ィスクサンプラ６との略中間の位置（ホーム位置）で待
機状態となっているのであるが、分注時となると、前記
制御部３５により、図４中点線の軌道で示すようにディ
スクサンプラ６側に移動制御され、被検試料容器に納め
られている被検試料を吸引した後、反応ディスク５側に
移動制御され反応管４に前記吸引した被検試料を分注す
る。

【００３２】次に、この分注を終えると、制御部３５
は、サンプリングプローブ１６を所定の高さまで上昇制
御すると共に、図４に示す洗浄槽２０の略中間の位置Ａ
まで移動制御する。そして、この移動制御後に、サンプ
リングプローブ１６を洗浄槽２０内に挿入するように下
降制御する。図２は、サンプリングプローブ１６が洗浄
槽２０内に挿入された様子を示している。

【００３３】このようにサンプリングプローブ１６が洗
浄槽２０内に挿入されると、制御部３５は、図３に示す
洗浄ポンプ３２を駆動制御する。これにより、洗浄ポン
プ３２を介してサンプリングプローブ１６内に洗浄水が
供給されると共に、図２に実線の矢印で示すように洗浄
水パイプ２４を介してサンプリングプローブ１６の両側
面側から洗浄水が吐出され、サンプリングプローブ１６
の内外に付着した被検試料の洗浄が行われることとな
る。サンプリングプローブ１６を洗浄した後の廃液は、
洗浄水誘導パイプ２３を介して洗浄槽ブロック２１の底
部に設けられた廃液溜め２８に溜められることとなる。

【００３４】また、制御部３５は、このような洗浄水の
供給制御を開始すると、これと共に図２及び図３に示す
真空バルブ２７を開制御すると共に、真空ポンプ３１を
駆動制御する。これにより、洗浄槽２０内外の空気が、
真空バルブ２７を介して真空ポンプ３１により吸引さ
れ、洗浄槽２０内に乱気流が発生することとなる。

【００３５】具体的には、図２の点線の矢印は、真空バ
ルブ２７が開制御された際の空気の流れを示しているの
であるが、真空バルブ２７が開制御されることにより、
洗浄槽２０外の空気が洗浄水誘導パイプ２３を介して洗
浄槽２０内に導入され、真空バルブ２７を介して排気さ
れる。この空気の流れにより前記乱気流が発生する。こ
れにより、洗浄水誘導パイプ２３内に挿入されたサンプ
リングプローブ１６を、洗浄水の水流及び空気の乱気流
により洗浄することができ（すなわち、洗浄液を乱流状
態にして洗浄することができ）、サンプリングプローブ
１６に被検試料が強固に付着している場合でも、これを
きれいに、しかも効果的に洗い流すことができる。

【００３６】このように、サンプリングプローブ１６の
洗浄が終了すると、制御部３５は、洗浄ポンプ３２を停
止制御して洗浄水の供給を停止すると共に、真空ポンプ
３１を停止制御し、真空バルブ２７を閉制御することで
洗浄槽２０内の空気の流れを停止させる。そして、図２
及び図４に示すドレインバルブ２９を開制御して前記廃
液溜め２８に溜まった廃液を排水する。また、洗浄槽２
０内に挿入されているサンプリングプローブ１６を上昇
制御すると共に、図４に示すホーム位置まで移動制御し
て、次のサンプリング指示がなされるまで該ホーム位置
で待機状態に制御する。

【００３７】制御部３５は、サンプリングプローブ１６
で被検試料の分注が行われる毎に、このようなサンプリ
ングプローブ１６の洗浄制御を行うようになっている。

【００３８】次に、このような一連の洗浄動作を、図５
のタイムチャートを用いて説明する。図５（ａ）はサン
プリングプローブ１６の下降及び上昇のタイミングを、
図５（ｂ）は洗浄水の供給のタイミングを、図５（ｃ）
は真空バルブ２７の開閉制御のタイミングを、図５
（ｄ）はドレインバルブ２９の開閉制御のタイミングを
それぞれ示している。

【００３９】まず、前述のように制御部３５は、図４に
示す洗浄槽２０略中間の位置Ａにサンプリングプローブ
１６を移動制御するのであるが、この位置Ａにサンプリ
ングプローブ１６が移動制御された時刻を図５（ａ）の
時刻ｔ０とすると、制御部３５は、この時刻ｔ０から時
刻ｔ１の間、図３に示すプローブ駆動部３３に下降パル
スを供給し、サンプリングプローブ１６を洗浄槽２０内
に下降制御する。

【００４０】次に、サンプリングプローブ１６を洗浄槽
２０内に下降制御すると、制御部３５は、図５（ｂ），
（ｃ）に示すように、時刻ｔ１から洗浄ポンプ３２及び
真空ポンプ３１を駆動制御する。これにより、サンプリ
ングプローブ１６の内外に洗浄水が吐出され、また、洗
浄槽２０内に乱気流が発生し、洗浄水の水流及び空気の
乱気流によりサンプリングプローブ１６が洗浄されるこ
ととなる。

【００４１】次に、制御部３５は、図５（ｂ）に示すよ
うに洗浄水の供給開始から所定時間経過した時刻ｔ２に
洗浄ポンプ３２を停止制御して洗浄水の供給を停止す
る。そして、図５（ａ）に示すようにこの洗浄水の供給
を停止から所定時間経過した時刻ｔ３から時刻ｔ５の
間、図３に示すプローブ駆動部３３に上昇パルスを供給
し、サンプリングプローブ１６を洗浄槽２０内から上昇
制御する。

【００４２】ここで、図５（ｂ），（ｃ）を用いて説明
したように洗浄水の供給と、真空ポンプ３１の駆動は同
じ時刻ｔ１に開始されるのであるが、洗浄水の供給が時
刻ｔ２で停止制御されるのに対し、真空ポンプ３１は、
洗浄水の供給が停止制御されてもそのまましばらく継続
して駆動され、図５（ｃ）に斜線で示すようにサンプリ
ングプローブ１６が上昇制御される時刻ｔ３から時刻ｔ
５の間の、時刻ｔ４に停止制御される。すなわち、真空
ポンプ３１は、サンプリングプローブ１６の上昇制御が
開始される時刻ｔ３から所定時間経過した時刻ｔ４に停
止制御される。

【００４３】これにより、洗浄水の供給が停止制御され
る図５（ｂ）の時刻ｔ２から同図（ｃ）に示す時刻ｔ４
までの間は、洗浄水誘導パイプ２３内のサンプリングプ
ローブ１６は、乱気流にのみさらされることとなる。こ
のため、洗浄時にサンプリングプローブ１６に付着した
洗浄水の水滴を乱気流により拭い去り、サンプリングプ
ローブ１６に水滴を残さないようにすることができる。

【００４４】しかも、図５（ｃ）に示す時刻ｔ３から時
刻ｔ４の間は、サンプリングプローブ１６は上昇制御さ
れながら乱気流にさらされることとなるため、サンプリ
ングプローブ１６の各部分が、上昇制御する前とは異な
る乱気流にさらされることとなり、より綿密に水滴を拭
い去ることができる。

【００４５】なお、このように洗浄から洗浄水の拭い去
りの工程が終了すると、制御部３５は、図５（ｄ）の時
刻ｔ４に示すようにドレインバルブ２９を開制御して、
廃液溜め２８に溜められた廃液の排水を行う。

【００４６】以上の説明から明らかなように当該第１の
実施の形態の自動分析装置は、プローブに洗浄水を吐出
すると共に洗浄槽２０内に乱気流を形成し、水流及び気
流の両方でプローブの洗浄を行う。これにより、プロー
ブに強固に付着した被検試料でもきれいに、しかも効果
的に洗い流すことができる。

【００４７】また、洗浄によりプローブに付着した洗浄
水の水滴は、乱気流により拭い去るようになっているた
め、プローブに水滴が残ることはない。このため、プロ
ーブに洗浄水が残存したまま試料検査を行い、この残存
している洗浄水が次に測定しようとする被検試料内に混
入して被検試料が希釈され、正確な測定値を得ることが
出来なくなる不都合を防止することができる。

【００４８】また、このように被検試料や水滴がプロー
ブに残る不都合を防止することができるため、処理速度
の向上を図るためにサンプリングのサイクル時間が短縮
化され、これに伴いプローブ洗浄時間が短く設定されて
いる場合でも、これに充分対応して正確な試料検査を可
能とすることができる。

【００４９】また、このような水流及び気流による洗浄
動作は、被検試料をサンプリングする毎に行われるよう
になっているため、洗浄を行わずに連続的に複数回のサ
ンプリングを行うことでプローブに被検試料が強固に付
着する不都合を防止することができる。このため、常に
きれいなプローブでのサンプリングを可能とすることが
でき、正確な試料検査を可能とすることができる。

【００５０】次に、図１乃至図６を用いて、本発明の第
２の実施の形態の自動分析装置の説明をする。図１は、
第１の実施の形態と同様、当該第２の実施の形態の自動
分析装置の全体構成を示す斜視図である。この自動分析
装置は、被検試料の各種成分と反応する試薬を納めた複
数の試薬ボトルを収納した試薬ラック１を設置可能な試
薬庫２及び３と、円周上に複数の反応管４を配置した反
応ディスク５と、被検試料が納められた被検試料容器が
セットされるディスクサンプラ６とを有している。試薬
庫２，３、反応ディスク５及びディスクサンプラ６は、
それぞれ駆動装置により回動されるようになっている。
測定に必要な試薬は、試薬庫２或いは試薬庫３の試薬ラ
ック１に収納されている試薬ボトル７から、それぞれ分
注アーム８或いは分注アーム９を用いて反応ディスク５
上の反応管４に分注される。

【００５１】また、ディスクサンプラ６上に配置されて
いる被検試料容器１７に納められた被検試料は、サンプ
リングアーム１０を用いて反応ディスク５上の反応管４
に分注される。被検試料と試薬を分注された反応管４
は、反応ディスク５の回動により撹拌位置まで移動し、
撹拌ユニット１１により被検試料と試薬の混合液が撹拌
される。その後、測光系１３は、測光位置まで移動した
反応管４に対して光を照射して混合液の吸光度変化を測
定することにより、被検試料の成分分析を行う。そし
て、分析の終了した反応管４内の混合液は廃棄され、そ
の後反応管４は洗浄ユニット１２により洗浄されるよう
になっている。

【００５２】ここで、この自動分析装置には、前記各分
注アーム８〜１０に対応して、該各分注アーム８〜１０
の各プローブ１４〜１６を洗浄するための洗浄槽がそれ
ぞれ設けられている。図１には、サンプリングアーム１
０のサンプリングプローブ１６を洗浄するための洗浄槽
２０のみしか図示されていないが、各分注アーム８〜１
０に対応してそれぞれ洗浄槽が設けられているものと理
解されたい。以下、このサンプリングプローブ１６を洗
浄するための洗浄槽２０を例にとって説明を行うが、他
のプローブ１４，１５用に設けられた洗浄槽を同じ構成
である。

【００５３】図２は、このサンプリングプローブ１６用
の洗浄槽２０の断面図である。この図２に示すように洗
浄槽２０は、自動分析装置に埋め込まれるかたちで設け
られた筒状の洗浄槽ブロック２１と、この洗浄槽ブロッ
ク２１を装置側に固定する保持ブロック２１を有してい
る。保持ブロック２１には、洗浄時に当該洗浄槽２０に
挿入されたサンプリングプローブ１６の両側面側から洗
浄水をそれぞれ吐出するための洗浄水パイプ２４が設け
られている。また、保持ブロック２１には、洗浄時に当
該洗浄槽２０に挿入されたサンプリングプローブ１６を
取り囲むように設けられた洗浄水誘導パイプ２３が設け
られている。

【００５４】ここで、図６（ａ）は、この第２の実施の
形態の自動分析装置に設けられている洗浄水誘導パイプ
２３の上面図、図６（ｂ）は、この洗浄水誘導パイプ２
３の斜視図である。この図６（ａ），（ｂ）からわかる
ように、この第２の実施の形態の自動分析装置に設けら
れている洗浄水誘導パイプ２３内には、その形成方向
（サンプリングプローブ１６の挿入方向）に沿って、複
数（例えば４枚）の板状の堰４１（誘導片）が設けられ
ている。各堰４１は、それぞれ平板状を有しており、洗
浄水誘導パイプ２３の内壁に、長手方向の一側面部を貼
り付けるかたちで設けられている。

【００５５】なお、この例においては、堰４１は例えば
４枚設けることとしたが、これは、１枚、或いは３枚、
５枚、６枚等のように任意の枚数でよい。

【００５６】次に、各洗浄水パイプ２４からサンプリン
グプローブ１６に対して吐出された洗浄水は、サンプリ
ングプローブ１６に付着した被検試料を洗い流し、排水
として洗浄水誘導パイプ２３を介して洗浄槽ブロック２
１の底部（廃液溜め２８）に溜まるようになっている。

【００５７】この廃液溜め２８となっている洗浄槽ブロ
ック２１の底部には、排水用のドレインバルブ２９が設
けられており、洗浄終了後或いは洗浄中にこのドレイン
バルブ２９を開制御することにより、廃液溜め２８に溜
まった廃液が排水されるようになっている。

【００５８】さらに、この洗浄槽２０には、当該洗浄槽
２０の内部に直結する真空パイプ２５が真空バルブ２７
を介して設けられている。この真空パイプ２５は、後に
説明する真空ポンプに接続されており、真空バルブ２７
を開制御して真空ポンプを駆動することにより、洗浄水
誘導パイプ２３及び真空パイプ２５を介して外気が吸引
され、洗浄水誘導パイプ２３内及び洗浄槽２０内に乱気
流が形成されるようになっている。

【００５９】次に、このように構成された当該実施の形
態の自動分析装置における被検試料の成分分析検査の全
体的な制御の流れについて図１及び図３を参照しながら
説明する。図３は、この実施の形態の自動分析装置の制
御の流れを説明するためのブロック図である。

【００６０】分析が開始されると、制御部３５は駆動系
３４を制御して、反応ディスク５、ディスクサンプラ６
及び試薬庫２又は３を回動制御すると共に、プローブ駆
動部３３を介してサンプリングプローブ１６及び分注ア
ーム８又は９を駆動制御して被検試料及び分析に必要な
試薬を反応ディスク５における所定の反応管４に分注す
る。

【００６１】その後、制御部３５は、被検試料と試薬が
分注された反応管４を、反応ディスク５の回動により撹
拌位置まで移動制御し、被検試料と試薬の混合液が撹拌
されるように撹拌ユニット１１を制御する。その後、反
応ディスク５を回動制御して、この混合液を測光位置ま
で移動制御し、測光系１３から該混合液が納められた反
応管４に対して光を照射して吸光度変化を測定すること
により、被検試料の成分分析を行う。なお、分析の終了
後は反応管４内の混合液は廃棄され、その反応管４は洗
浄ユニット１２により洗浄されるようになっている。

【００６２】次に、図１乃至図６を参照しながら、サン
プリングプローブ１６の洗浄制御の流れについて説明す
る。なお、以下、サンプリングプローブ１６の洗浄制御
を例にとって説明するが、これは、各分注アーム８，９
の洗浄制御の場合も同様であるので、以下の説明を参照
されたい。また、図４は、当該自動分析装置の前記反応
ディスク５、ディスクサンプラ６、サンプリングアーム
１０及び洗浄槽２０が設けられている部分を上面側から
見た図、図５は、サンプリングアーム１０の洗浄時にお
ける各部の動作タイミングを示すタイムチャートであ
る。

【００６３】まず、サンプリングプローブ１６は、非駆
動時には、例えば図４に示すように反応ディスク５とデ
ィスクサンプラ６との略中間の位置（ホーム位置）で待
機状態となっているのであるが、分注時となると、前記
制御部３５により、図４中点線の軌道で示すようにディ
スクサンプラ６側に移動制御され、被検試料容器に納め
られている被検試料を吸引した後、反応ディスク５側に
移動制御され反応管４に前記吸引した被検試料を分注す
る。

【００６４】次に、この分注を終えると、制御部３５
は、サンプリングプローブ１６を所定の高さまで上昇制
御すると共に、図４に示す洗浄槽２０の略中間の位置Ａ
まで移動制御する。そして、この移動制御後に、サンプ
リングプローブ１６を洗浄槽２０内に挿入するように下
降制御する。図２は、サンプリングプローブ１６が洗浄
槽２０内に挿入された様子を示している。

【００６５】このようにサンプリングプローブ１６が洗
浄槽２０内に挿入されると、制御部３５は、図３に示す
洗浄ポンプ３２を駆動制御する。これにより、洗浄ポン
プ３２を介してサンプリングプローブ１６内に洗浄水が
供給されると共に、図２に実線の矢印で示すように洗浄
水パイプ２４を介してサンプリングプローブ１６の両側
面側から洗浄水が吐出され、サンプリングプローブ１６
の内外に付着した被検試料の洗浄が行われることとな
る。サンプリングプローブ１６を洗浄した後の廃液は、
洗浄水誘導パイプ２３を介して洗浄槽ブロック２１の底
部に設けられた廃液溜め２８に溜められることとなる。

【００６６】また、制御部３５は、このような洗浄水の
供給制御を開始すると、これと共に図２及び図３に示す
真空バルブ２７を開制御すると共に、真空ポンプ３１を
駆動制御する。これにより、洗浄槽２０内外の空気が、
真空バルブ２７を介して真空ポンプ３１により吸引さ
れ、洗浄槽２０内に乱気流が発生することとなる。

【００６７】具体的には、図２の点線の矢印は、真空バ
ルブ２７が開制御された際の空気の流れを示しているの
であるが、真空バルブ２７が開制御されることにより、
洗浄槽２０外の空気が洗浄水誘導パイプ２３を介して洗
浄槽２０内に導入され、真空バルブ２７を介して排気さ
れる。この空気の流れにより前記乱気流が発生する。こ
れにより、洗浄水誘導パイプ２３内に挿入されたサンプ
リングプローブ１６を、洗浄水の水流及び空気の乱気流
により洗浄することができ、サンプリングプローブ１６
に被検試料が強固に付着している場合でも、これをきれ
いに、しかも効果的に洗い流すことができる。

【００６８】ここで、図６（ａ），（ｂ）を用いて説明
したように、この第２の実施の形態の場合、洗浄水誘導
パイプ２３には複数の板状の堰４１（誘導片）が設けら
れている。このため、洗浄時に洗浄水及び空気が洗浄水
誘導パイプ２３を通過すると、この洗浄水誘導パイプ２
３内で乱流状態となる。このため、サンプリングプロー
ブ１６に付着している被検試料をより強力に洗い流すこ
とができる。

【００６９】このように、サンプリングプローブ１６の
洗浄が終了すると、制御部３５は、洗浄ポンプ３２を停
止制御して洗浄水の供給を停止すると共に、真空ポンプ
３１を停止制御し、真空バルブ２７を閉制御することで
洗浄槽２０内の空気の流れを停止させる。そして、図２
及び図４に示すドレインバルブ２９を開制御して前記廃
液溜め２８に溜まった廃液を排水する。また、洗浄槽２
０内に挿入されているサンプリングプローブ１６を上昇
制御すると共に、図４に示すホーム位置まで移動制御し
て、次のサンプリング指示がなされるまで該ホーム位置
で待機状態に制御する。

【００７０】制御部３５は、サンプリングプローブ１６
で被検試料の分注が行われる毎に、このようなサンプリ
ングプローブ１６の洗浄制御を行うようになっている。

【００７１】次に、このような一連の洗浄動作を、図５
のタイムチャートを用いて説明する。図５（ａ）はサン
プリングプローブ１６の下降及び上昇のタイミングを、
図５（ｂ）は洗浄水の供給のタイミングを、図５（ｃ）
は真空バルブ２７の開閉制御のタイミングを、図５
（ｄ）はドレインバルブ２９の開閉制御のタイミングを
それぞれ示している。

【００７２】まず、前述のように制御部３５は、図４に
示す洗浄槽２０略中間の位置Ａにサンプリングプローブ
１６を移動制御するのであるが、この位置Ａにサンプリ
ングプローブ１６が移動制御された時刻を図５（ａ）の
時刻ｔ０とすると、制御部３５は、この時刻ｔ０から時
刻ｔ１の間、図３に示すプローブ駆動部３３に下降パル
スを供給し、サンプリングプローブ１６を洗浄槽２０内
に下降制御する。

【００７３】次に、サンプリングプローブ１６を洗浄槽
２０内に下降制御すると、制御部３５は、図５（ｂ），
（ｃ）に示すように、時刻ｔ１から洗浄ポンプ３２及び
真空ポンプ３１を駆動制御する。これにより、サンプリ
ングプローブ１６の内外に洗浄水が吐出され、また、洗
浄槽２０内に乱気流が発生し、洗浄水の水流及び空気の
乱気流によりサンプリングプローブ１６が洗浄されるこ
ととなる。

【００７４】次に、制御部３５は、図５（ｂ）に示すよ
うに洗浄水の供給開始から所定時間経過した時刻ｔ２に
洗浄ポンプ３２を停止制御して洗浄水の供給を停止す
る。そして、図５（ａ）に示すようにこの洗浄水の供給
を停止から所定時間経過した時刻ｔ３から時刻ｔ５の
間、図３に示すプローブ駆動部３３に上昇パルスを供給
し、サンプリングプローブ１６を洗浄槽２０内から上昇
制御する。

【００７５】ここで、図５（ｂ），（ｃ）を用いて説明
したように洗浄水の供給と、真空ポンプ３１の駆動は同
じ時刻ｔ１に開始されるのであるが、洗浄水の供給が時
刻ｔ２で停止制御されるのに対し、真空ポンプ３１は、
洗浄水の供給が停止制御されてもそのまましばらく継続
して駆動され、図５（ｃ）に斜線で示すようにサンプリ
ングプローブ１６が上昇制御される時刻ｔ３から時刻ｔ
５の間の、時刻ｔ４に停止制御される。すなわち、真空
ポンプ３１は、サンプリングプローブ１６の上昇制御が
開始される時刻ｔ３から所定時間経過した時刻ｔ４に停
止制御される。

【００７６】これにより、洗浄水の供給が停止制御され
る図５（ｂ）の時刻ｔ２から同図（ｃ）に示す時刻ｔ４
までの間は、洗浄水誘導パイプ２３内のサンプリングプ
ローブ１６は、乱気流にのみさらされることとなる。ま
た、洗浄水誘導パイプ２３内には堰４１が設けられてい
るため、この乱気流はより強い乱気流となる。このた
め、洗浄時にサンプリングプローブ１６に付着した洗浄
水の水滴を乱気流により、より強力に拭い去り、サンプ
リングプローブ１６に水滴を残さないようにすることが
できる。

【００７７】しかも、図５（ｃ）に示す時刻ｔ３から時
刻ｔ４の間は、サンプリングプローブ１６は上昇制御さ
れながら乱気流にさらされることとなるため、サンプリ
ングプローブ１６の各部分が、上昇制御する前とは異な
る乱気流にさらされることとなり、より綿密に水滴を拭
い去ることができる。

【００７８】なお、このように洗浄から洗浄水の拭い去
りの工程が終了すると、制御部３５は、図５（ｄ）の時
刻ｔ４に示すようにドレインバルブ２９を開制御して、
廃液溜め２８に溜められた廃液の排水を行う。

【００７９】以上の説明から明らかなように当該第２の
実施の形態の自動分析装置は、洗浄水誘導パイプ２３内
に複数の板状の堰４１（誘導片）を設けることにより、
洗浄水誘導パイプ２３内に、より強い乱流状態を形成し
てプローブの洗浄を行う。これにより、プローブに強固
に付着した被検試料でもきれいに、しかも効果的に洗い
流すことができる。

【００８０】また、洗浄によりプローブに付着した洗浄
水の水滴は、洗浄水誘導パイプ２３内に複数の堰４１を
設けることで形成された、より強い乱気流で拭い去るよ
うになっているため、プローブに水滴が残ることはな
い。このため、プローブに洗浄水が残存したまま試料検
査を行い、この残存している洗浄水が次に測定しようと
する被検試料内に混入して被検試料が希釈され、正確な
測定値を得ることが出来なくなる不都合を防止すること
ができる。

【００８１】また、このように被検試料や水滴がプロー
ブに残る不都合を防止することができるため、処理速度
の向上を図るためにサンプリングのサイクル時間が短縮
化され、これに伴いプローブ洗浄時間が短く設定されて
いる場合でも、これに充分対応して正確な試料検査を可
能とすることができる。

【００８２】また、このような水流及び気流による洗浄
動作は、被検試料をサンプリングする毎に行われるよう
になっているため、洗浄を行わずに連続的に複数回のサ
ンプリングを行うことでプローブに被検試料が強固に付
着する不都合を防止することができる。このため、常に
きれいなプローブでのサンプリングを可能とすることが
でき、正確な試料検査を可能とすることができる。

【００８３】次に、図１乃至図７を用いて、本発明の第
３の実施の形態の自動分析装置の説明をする。図１は、
第１の実施の形態と同様、当該第３の実施の形態の自動
分析装置の全体構成を示す斜視図である。この自動分析
装置は、被検試料の各種成分と反応する試薬を納めた複
数の試薬ボトルを収納した試薬ラック１を設置可能な試
薬庫２及び３と、円周上に複数の反応管４を配置した反
応ディスク５と、被検試料が納められた被検試料容器が
セットされるディスクサンプラ６とを有している。試薬
庫２，３、反応ディスク５及びディスクサンプラ６は、
それぞれ駆動装置により回動されるようになっている。
測定に必要な試薬は、試薬庫２或いは試薬庫３の試薬ラ
ック１に収納されている試薬ボトル７から、それぞれ分
注アーム８或いは分注アーム９を用いて反応ディスク５
上の反応管４に分注される。

【００８４】また、ディスクサンプラ６上に配置されて
いる被検試料容器１７に納められた被検試料は、サンプ
リングアーム１０を用いて反応ディスク５上の反応管４
に分注される。被検試料と試薬を分注された反応管４
は、反応ディスク５の回動により撹拌位置まで移動し、
撹拌ユニット１１により被検試料と試薬の混合液が撹拌
される。その後、測光系１３は、測光位置まで移動した
反応管４に対して光を照射して混合液の吸光度変化を測
定することにより、被検試料の成分分析を行う。そし
て、分析の終了した反応管４内の混合液は廃棄され、そ
の後反応管４は洗浄ユニット１２により洗浄されるよう
になっている。

【００８５】ここで、この自動分析装置には、前記各分
注アーム８〜１０に対応して、該各分注アーム８〜１０
の各プローブ１４〜１６を洗浄するための洗浄槽がそれ
ぞれ設けられている。図１には、サンプリングアーム１
０のサンプリングプローブ１６を洗浄するための洗浄槽
２０のみしか図示されていないが、各分注アーム８〜１
０に対応してそれぞれ洗浄槽が設けられているものと理
解されたい。以下、このサンプリングプローブ１６を洗
浄するための洗浄槽２０を例にとって説明を行うが、他
のプローブ１４，１５用に設けられた洗浄槽を同じ構成
である。

【００８６】図２は、このサンプリングプローブ１６用
の洗浄槽２０の断面図である。この図２に示すように洗
浄槽２０は、自動分析装置に埋め込まれるかたちで設け
られた筒状の洗浄槽ブロック２１と、この洗浄槽ブロッ
ク２１を装置側に固定する保持ブロック２１を有してい
る。保持ブロック２１には、洗浄時に当該洗浄槽２０に
挿入されたサンプリングプローブ１６の両側面側から洗
浄水をそれぞれ吐出するための洗浄水パイプ２４が設け
られている。また、保持ブロック２１には、洗浄時に当
該洗浄槽２０に挿入されたサンプリングプローブ１６を
取り囲むように設けられた洗浄水誘導パイプ２３が設け
られている。

【００８７】ここで、図７（ａ）は、この第３の実施の
形態の自動分析装置に設けられている洗浄水誘導パイプ
２３の上面図、図７（ｂ）は、この洗浄水誘導パイプ２
３の斜視図である。この図７（ａ），（ｂ）からわかる
ように、この第３の実施の形態の自動分析装置に設けら
れている洗浄水誘導パイプ２３内には、その形成方向
（サンプリングプローブ１６の挿入方向）に沿って、複
数（例えば４枚）の堰５１が設けられている。各堰５１
は、洗浄水誘導パイプ２３の長手方向に対して螺旋を描
くような形状になっており、堰５１の幅方向に対しては
湾曲した形状を有している。そして、各堰５１は、洗浄
水誘導パイプ２３の内壁に、長手方向の一側面部を貼り
付けるかたちで設けられている。

【００８８】なお、この例においては、堰５１は例えば
４枚設けることとしたが、これは、１枚、或いは３枚、
５枚、６枚等のように任意の枚数でよい。

【００８９】次に、各洗浄水パイプ２４からサンプリン
グプローブ１６に対して吐出された洗浄水は、サンプリ
ングプローブ１６に付着した被検試料を洗い流し、排水
として洗浄水誘導パイプ２３を介して洗浄槽ブロック２
１の底部（廃液溜め２８）に溜まるようになっている。

【００９０】この廃液溜め２８となっている洗浄槽ブロ
ック２１の底部には、排水用のドレインバルブ２９が設
けられており、洗浄終了後或いは洗浄中にこのドレイン
バルブ２９を開制御することにより、廃液溜め２８に溜
まった廃液が排水されるようになっている。

【００９１】さらに、この洗浄槽２０には、当該洗浄槽
２０の内部に直結する真空パイプ２５が真空バルブ２７
を介して設けられている。この真空パイプ２５は、後に
説明する真空ポンプに接続されており、真空バルブ２７
を開制御して真空ポンプを駆動することにより、洗浄水
誘導パイプ２３及び真空パイプ２５を介して外気が吸引
され、洗浄水誘導パイプ２３内及び洗浄槽２０内に乱気
流が形成されるようになっている。

【００９２】次に、このように構成された当該実施の形
態の自動分析装置における被検試料の成分分析検査の全
体的な制御の流れについて図１及び図３を参照しながら
説明する。図３は、この実施の形態の自動分析装置の制
御の流れを説明するためのブロック図である。

【００９３】分析が開始されると、制御部３５は駆動系
３４を制御して、反応ディスク５、ディスクサンプラ６
及び試薬庫２又は３を回動制御すると共に、プローブ駆
動部３３を介してサンプリングプローブ１６及び分注ア
ーム８又は９を駆動制御して被検試料及び分析に必要な
試薬を反応ディスク５における所定の反応管４に分注す
る。

【００９４】その後、制御部３５は、被検試料と試薬が
分注された反応管４を、反応ディスク５の回動により撹
拌位置まで移動制御し、被検試料と試薬の混合液が撹拌
されるように撹拌ユニット１１を制御する。その後、反
応ディスク５を回動制御して、この混合液を測光位置ま
で移動制御し、測光系１３から該混合液が納められた反
応管４に対して光を照射して吸光度変化を測定すること
により、被検試料の成分分析を行う。なお、分析の終了
後は反応管４内の混合液は廃棄され、その反応管４は洗
浄ユニット１２により洗浄されるようになっている。

【００９５】次に、図１乃至図７を参照しながら、サン
プリングプローブ１６の洗浄制御の流れについて説明す
る。なお、以下、サンプリングプローブ１６の洗浄制御
を例にとって説明するが、これは、各分注アーム８，９
の洗浄制御の場合も同様であるので、以下の説明を参照
されたい。また、図４は、当該自動分析装置の前記反応
ディスク５、ディスクサンプラ６、サンプリングアーム
１０及び洗浄槽２０が設けられている部分を上面側から
見た図、図５は、サンプリングアーム１０の洗浄時にお
ける各部の動作タイミングを示すタイムチャートであ
る。

【００９６】まず、サンプリングプローブ１６は、非駆
動時には、例えば図４に示すように反応ディスク５とデ
ィスクサンプラ６との略中間の位置（ホーム位置）で待
機状態となっているのであるが、分注時となると、前記
制御部３５により、図４中点線の軌道で示すようにディ
スクサンプラ６側に移動制御され、被検試料容器に納め
られている被検試料を吸引した後、反応ディスク５側に
移動制御され反応管４に前記吸引した被検試料を分注す
る。

【００９７】次に、この分注を終えると、制御部３５
は、サンプリングプローブ１６を所定の高さまで上昇制
御すると共に、図４に示す洗浄槽２０の略中間の位置Ａ
まで移動制御する。そして、この移動制御後に、サンプ
リングプローブ１６を洗浄槽２０内に挿入するように下
降制御する。図２は、サンプリングプローブ１６が洗浄
槽２０内に挿入された様子を示している。

【００９８】このようにサンプリングプローブ１６が洗
浄槽２０内に挿入されると、制御部３５は、図３に示す
洗浄ポンプ３２を駆動制御する。これにより、洗浄ポン
プ３２を介してサンプリングプローブ１６内に洗浄水が
供給されると共に、図２に実線の矢印で示すように洗浄
水パイプ２４を介してサンプリングプローブ１６の両側
面側から洗浄水が吐出され、サンプリングプローブ１６
の内外に付着した被検試料の洗浄が行われることとな
る。サンプリングプローブ１６を洗浄した後の廃液は、
洗浄水誘導パイプ２３を介して洗浄槽ブロック２１の底
部に設けられた廃液溜め２８に溜められることとなる。

【００９９】また、制御部３５は、このような洗浄水の
供給制御を開始すると、これと共に図２及び図３に示す
真空バルブ２７を開制御すると共に、真空ポンプ３１を
駆動制御する。これにより、洗浄槽２０内外の空気が、
真空バルブ２７を介して真空ポンプ３１により吸引さ
れ、洗浄槽２０内に乱気流が発生することとなる。

【０１００】具体的には、図２の点線の矢印は、真空バ
ルブ２７が開制御された際の空気の流れを示しているの
であるが、真空バルブ２７が開制御されることにより、
洗浄槽２０外の空気が洗浄水誘導パイプ２３を介して洗
浄槽２０内に導入され、真空バルブ２７を介して排気さ
れる。この空気の流れにより前記乱気流が発生する。こ
れにより、洗浄水誘導パイプ２３内に挿入されたサンプ
リングプローブ１６を、洗浄水の水流及び空気の乱気流
により洗浄することができ、サンプリングプローブ１６
に被検試料が強固に付着している場合でも、これをきれ
いに、しかも効果的に洗い流すことができる。

【０１０１】ここで、図７（ａ），（ｂ）を用いて説明
したように、この第３の実施の形態の場合、洗浄水誘導
パイプ２３には複数の堰５１が設けられている。このた
め、洗浄時に洗浄水及び空気が洗浄水誘導パイプ２３を
通過すると、この洗浄水誘導パイプ２３内が渦巻き状の
強い乱流状態となる。このため、サンプリングプローブ
１６に付着している被検試料を、この渦巻き状の水流及
び気流により強力に洗い流すことができる。

【０１０２】このように、サンプリングプローブ１６の
洗浄が終了すると、制御部３５は、洗浄ポンプ３２を停
止制御して洗浄水の供給を停止すると共に、真空ポンプ
３１を停止制御し、真空バルブ２７を閉制御することで
洗浄槽２０内の空気の流れを停止させる。そして、図２
及び図４に示すドレインバルブ２９を開制御して前記廃
液溜め２８に溜まった廃液を排水する。また、洗浄槽２
０内に挿入されているサンプリングプローブ１６を上昇
制御すると共に、図４に示すホーム位置まで移動制御し
て、次のサンプリング指示がなされるまで該ホーム位置
で待機状態に制御する。

【０１０３】制御部３５は、サンプリングプローブ１６
で被検試料の分注が行われる毎に、このようなサンプリ
ングプローブ１６の洗浄制御を行うようになっている。

【０１０４】次に、このような一連の洗浄動作を、図５
のタイムチャートを用いて説明する。図５（ａ）はサン
プリングプローブ１６の下降及び上昇のタイミングを、
図５（ｂ）は洗浄水の供給のタイミングを、図５（ｃ）
は真空バルブ２７の開閉制御のタイミングを、図５
（ｄ）はドレインバルブ２９の開閉制御のタイミングを
それぞれ示している。

【０１０５】まず、前述のように制御部３５は、図４に
示す洗浄槽２０略中間の位置Ａにサンプリングプローブ
１６を移動制御するのであるが、この位置Ａにサンプリ
ングプローブ１６が移動制御された時刻を図５（ａ）の
時刻ｔ０とすると、制御部３５は、この時刻ｔ０から時
刻ｔ１の間、図３に示すプローブ駆動部３３に下降パル
スを供給し、サンプリングプローブ１６を洗浄槽２０内
に下降制御する。

【０１０６】次に、サンプリングプローブ１６を洗浄槽
２０内に下降制御すると、制御部３５は、図５（ｂ），
（ｃ）に示すように、時刻ｔ１から洗浄ポンプ３２及び
真空ポンプ３１を駆動制御する。これにより、サンプリ
ングプローブ１６の内外に洗浄水が吐出され、また、洗
浄槽２０内に乱気流が発生し、洗浄水の水流及び空気の
乱気流によりサンプリングプローブ１６が洗浄されるこ
ととなる。

【０１０７】次に、制御部３５は、図５（ｂ）に示すよ
うに洗浄水の供給開始から所定時間経過した時刻ｔ２に
洗浄ポンプ３２を停止制御して洗浄水の供給を停止す
る。そして、図５（ａ）に示すようにこの洗浄水の供給
を停止から所定時間経過した時刻ｔ３から時刻ｔ５の
間、図３に示すプローブ駆動部３３に上昇パルスを供給
し、サンプリングプローブ１６を洗浄槽２０内から上昇
制御する。

【０１０８】ここで、図５（ｂ），（ｃ）を用いて説明
したように洗浄水の供給と、真空ポンプ３１の駆動は同
じ時刻ｔ１に開始されるのであるが、洗浄水の供給が時
刻ｔ２で停止制御されるのに対し、真空ポンプ３１は、
洗浄水の供給が停止制御されてもそのまましばらく継続
して駆動され、図５（ｃ）に斜線で示すようにサンプリ
ングプローブ１６が上昇制御される時刻ｔ３から時刻ｔ
５の間の、時刻ｔ４に停止制御される。すなわち、真空
ポンプ３１は、サンプリングプローブ１６の上昇制御が
開始される時刻ｔ３から所定時間経過した時刻ｔ４に停
止制御される。

【０１０９】これにより、洗浄水の供給が停止制御され
る図５（ｂ）の時刻ｔ２から同図（ｃ）に示す時刻ｔ４
までの間は、洗浄水誘導パイプ２３内のサンプリングプ
ローブ１６は、乱気流にのみさらされることとなる。ま
た、洗浄水誘導パイプ２３内には堰５１が設けられてい
るため、この乱気流は竜巻状のより強い乱気流となる。
このため、洗浄時にサンプリングプローブ１６に付着し
た洗浄水の水滴を乱気流により、より強力に拭い去り、
サンプリングプローブ１６に水滴を残さないようにする
ことができる。

【０１１０】しかも、図５（ｃ）に示す時刻ｔ３から時
刻ｔ４の間は、サンプリングプローブ１６は上昇制御さ
れながら乱気流にさらされることとなるため、サンプリ
ングプローブ１６の各部分が、上昇制御する前とは異な
る乱気流にさらされることとなり、より綿密に水滴を拭
い去ることができる。

【０１１１】なお、このように洗浄から洗浄水の拭い去
りの工程が終了すると、制御部３５は、図５（ｄ）の時
刻ｔ４に示すようにドレインバルブ２９を開制御して、
廃液溜め２８に溜められた廃液の排水を行う。

【０１１２】以上の説明から明らかなように当該第３の
実施の形態の自動分析装置は、洗浄水誘導パイプ２３内
に螺旋状の複数の堰５１を設けることにより、洗浄水誘
導パイプ２３内に、渦巻き状の乱流状態を形成してプロ
ーブの洗浄を行う。これにより、プローブに強固に付着
した被検試料でもきれいに、しかも効果的に洗い流すこ
とができる。

【０１１３】また、洗浄によりプローブに付着した洗浄
水の水滴は、洗浄水誘導パイプ２３内に螺旋状の複数の
堰５１を設けることで形成された、竜巻状のより強い乱
気流で拭い去るようになっているため、プローブに水滴
が残ることはない。このため、プローブに洗浄水が残存
したまま試料検査を行い、この残存している洗浄水が次
に測定しようとする被検試料内に混入して被検試料が希
釈され、正確な測定値を得ることが出来なくなる不都合
を防止することができる。

【０１１４】また、このように被検試料や水滴がプロー
ブに残る不都合を防止することができるため、処理速度
の向上を図るためにサンプリングのサイクル時間が短縮
化され、これに伴いプローブ洗浄時間が短く設定されて
いる場合でも、これに充分対応して正確な試料検査を可
能とすることができる。

【０１１５】また、このような水流及び気流による洗浄
動作は、被検試料をサンプリングする毎に行われるよう
になっているため、洗浄を行わずに連続的に複数回のサ
ンプリングを行うことでプローブに被検試料が強固に付
着する不都合を防止することができる。このため、常に
きれいなプローブでのサンプリングを可能とすることが
でき、正確な試料検査を可能とすることができる。

【０１１６】上述の各実施の形態は、本発明の一例であ
り、本発明は該各実施の形態に限定されることはない。
例えば、洗浄水誘導パイプ２３に設ける堰４１、５１
は、それぞれ平板状或いは螺旋状としたが、これは、洗
浄水誘導パイプ２３内を乱流状態にできる形状であれば
どのような形状でもよい。

【０１１７】さらに、上述の各実施の形態では、サンプ
リングプローブの場合を示したが、試薬分注用のプロー
ブに対しても同様に適用でき、サンプリングプローブに
適用することで得られた効果と同様な効果を得ることが
できる。また、この他であっても、本発明に係る技術的
思想を逸脱しない範囲であれば、設計等に応じて種々の
変更が可能であることは勿論である。

【０１１８】

【発明の効果】以上の説明したように、本発明によれ
ば、プローブの汚れを効果的に除去すると共に、プロー
ブに残存する洗浄水を極力少なくして被検試料等が希釈
化される不都合を防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１〜第３の実施の形態の自動分析装
置の外観を示す図である。

【図２】本発明の第１〜第３の実施の形態の自動分析装
置に設けられている洗浄槽の断面図である。

【図３】本発明の第１〜第３の実施の形態の自動分析装
置の制御の流れを説明するためのブロック図である。

【図４】本発明の第１〜第３の実施の形態の自動分析装
置の制御の流れを説明するための要部のブロック図であ
る。

【図５】本発明の第１〜第３の実施の形態の自動分析装
置の洗浄制御を説明するためのタイムチャートである。

【図６】本発明の第２の実施の形態の自動分析装置に設
けられている洗浄水誘導パイプを説明するための図であ
る。

【図７】本発明の第３の実施の形態の自動分析装置に設
けられている洗浄水誘導パイプを説明するための図であ
る。

【図８】従来の自動分析装置に設けられている洗浄槽の
断面図である。

【符号の説明】

１…試薬ラック、２…試薬庫、３…試薬庫、４…反応
管、５…反応ディスク、６…ディスクサンプラ、７…試
薬ボトル、８…分注アーム、９…分注アーム、１０…デ
ィスクサンプラ用分注アーム、１１…撹拌ユニット、１
２…洗浄ユニット、１３…測光系、１４…第１の分注ア
ームのプローブ、１５…分注アームのプローブ、２０…
洗浄槽、２１…洗浄槽ブロック、２２…保持ブロック、
２３…洗浄水誘導パイプ、２４…洗浄水パイプ、２５…
真空パイプ、２７…真空バルブ、２８…廃液溜め、２９
…ドレインバルブ、３１…真空ポンプ、３２…洗浄ポン
プ、３３…プローブ駆動部、３４…駆動系、４１…堰、
５１…堰

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】試薬或いは被検試料を吸引吐出するため
のプローブと、前記プローブの移動制御を行う移動制御手段と、前記プローブを洗浄するための洗浄槽と、前記移動制御手段により前記洗浄槽に挿入されたプロー
ブに対して洗浄水が当たるように該洗浄水を供給する供
給手段と、前記洗浄槽内に前記プローブに沿って空気の流れを形成
する形成手段とを有することを特徴とする自動分析装
置。
【請求項２】前記洗浄槽に挿入されたプローブの先端
付近を取り囲むように前記洗浄槽に設けられ、前記洗浄
水を前記プローブの先端方向に導く誘導手段を有するこ
とを特徴とする請求項１記載の自動分析装置。
【請求項３】前記誘導手段は、前記プローブに面した
部分に誘導片を有することを特徴とする請求項２記載の
自動分析装置。
【請求項４】前記誘導片は、前記プローブの先端方向
に対して螺旋の形状を成していることを特徴とする請求
項３記載の自動分析装置。
【請求項５】前記供給手段及び前記形成手段の動作タ
イミングを制御する動作制御手段を有し、前記動作制御手段は、前記供給手段と前記形成手段とを
同時に動作させるように制御することを特徴とする請求
項１乃至請求項３のうち、いずれか一項記載の自動分析
装置。
【請求項６】前記動作制御手段は、前記供給手段と前
記形成手段とを所定時間同時に動作させた後、前記供給
手段の動作を停止させることを特徴とする請求項５記載
の自動分析装置。
【請求項７】前記移動制御手段により、前記洗浄槽に
挿入された前記プローブを上昇させると同時に前記動作
制御手段により前記形成手段のみを動作させることを特
徴とする請求項５記載の自動分析装置。
【請求項８】前記供給手段の動作の停止後、前記移動
制御手段は前記洗浄槽に挿入された前記プローブを上昇
させることを特徴とする請求項６記載の自動分析装置。