JP2001127133A - クラスタ型真空処理システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 各真空処理室に基板を迅速に搬送することが
でき、搬送台車を円滑かつ迅速に待機状態から使用状態
に移行させることができる高スループットのクラスタ型
真空処理システムを提供する。 【解決手段】 クラスタ型真空処理システムは、中央に
位置する共通搬送室30と、この共通搬送室の周囲に配置
され、共通搬送室に対してゲート弁を介してそれぞれ連
通可能に設けられ、基板を真空雰囲気下でそれぞれ処理
する複数の真空処理室70A〜70Eと、共通搬送室に対して
ゲート弁を介して連通可能に設けられ、基板が搬入され
るロード室10と、共通搬送室に対してゲート弁を介して
連通可能に設けられ、基板が搬出されるアンロード室20
と、真空処理室、共通搬送室、ロード室、アンロード室
の相互間で基板を搬送するための少なくとも３つの搬送
台車6A〜6Fと、を具備する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、複数の処理室に基
板を次々に搬送して処理するクラスタ型真空処理システ
ムに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、プラズマＣＶＤ、スパッタリン
グ、ドライエッチング等の処理を基板に施すための真空
処理システムとして、複数の処理室を直列に並べたイン
ライン型が用いられているが、インライン型システムで
は複数の膜を積層する場合に処理完了までに時間がかか
る製膜等の真空処理室により全体のタクトタイムが左右
され、スループットの向上が望めない。そこで、スルー
プットの向上を図るために、搬送台車を備えた共通の搬
送室を中央に置き、その周囲に複数の処理室を配置した
クラスタ型真空処理システムが種々提案されている。

【０００３】図１２に従来のクラスタ型真空処理システ
ムの概要を示す。クラスタ型真空処理システム１００の
中央には共通搬送室１３０が設けられ、その周囲に複数
の真空処理室１７０Ａ，１７０Ｂ，１７０Ｄ，１７０
Ｅ，１７０Ｆおよび台車待機室１７０Ｃ、ロード室１１
０、アンロード室１２０が配置されている。共通搬送室
１３０と、その周囲の真空処理室１７０Ａ，１７０Ｂ，
１７０Ｄ，１７０Ｅ，１７０Ｆ、台車待機室１７０Ｃ，
ロード室１１０、アンロード室１２０との間にはゲート
弁１４がそれぞれ設けられ、ゲート弁１４を開閉して基
板Ｇが各室に出し入れされるようになっている。共通搬
送室（台車回転室）１３０は専用の搬送台車１０６を備
えており、レール付きターンテーブルにより搬送台車１
０６の向きを３６０°どの方位にも変えることができる
ようになっている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
クラスタ型真空処理システム１００においては、専用の
搬送台車１０６がある１つの真空処理室１７０Ａへ基板
Ｇを搬入して戻ってくるまで、または専用の搬送台車１
０６がある１つの真空処理室１７０Ａから処理済みの基
板Ｇを搬出してくるまでの間は、中央の共通搬送室１３
０が専用の搬送台車１０６に占有されているので、他の
真空処理室１７０Ｂ，１７０Ｄ，１７０Ｅ，１７０Ｆに
対しては基板Ｇを出し入れすることができず、これが待
機状態となってタクトタイムが長引いてしまう。

【０００５】また、台車待機室１７０Ｃに搬送台車１０
６を待機させておく場合は、ゲート弁１４を開閉して台
車１０６を通過させる構造であるため、待機状態から使
用状態に台車１０６を移行させるのに時間が掛かるとい
う問題点がある。

【０００６】本発明は上記課題を解決するためになされ
たものであって、各真空処理室に基板を迅速に搬送する
ことができ、搬送台車を円滑かつ迅速に待機状態から使
用状態に移行させることができる高スループットのクラ
スタ型真空処理システムを提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、製膜等の
真空処理におけるスループットの向上を図るために、ト
レイレス斜め搬送台車方式を活用したクラスタ型真空処
理システムとして先に特願平１０−３６０４９５号およ
び特願平１１−２５９０３４号をそれぞれ提案してい
る。これらは基板を高スループットで処理することがで
きるシステムであるが、本発明者らは搬送台車による基
板搬送のタクトタイムの短縮化を図り、更にスループッ
トの向上を目指して下記のクラスタ型真空処理システム
を提案する。

【０００８】本発明に係るクラスタ型真空処理システム
は、複数の処理室に基板を次々に搬送して処理するクラ
スタ型真空処理システムであって、中央に位置する共通
搬送室と、この共通搬送室の周囲に配置され、共通搬送
室に対してゲート弁を介してそれぞれ連通可能に設けら
れ、基板を真空雰囲気下でそれぞれ処理する複数の真空
処理室と、前記共通搬送室に対してゲート弁を介して連
通可能に設けられ、基板が搬入されるロード室と、前記
共通搬送室に対してゲート弁を介して連通可能に設けら
れ、基板が搬出されるアンロード室と、前記真空処理
室、前記共通搬送室、前記ロード室、前記アンロード室
の相互間で基板を搬送するための少なくとも３つの搬送
台車と、を具備することを特徴とする。

【０００９】この場合に、さらに、上記真空処理室、上
記ロード室、上記アンロード室の各々と上記共通搬送室
との間にそれぞれ設けられた台車移動接続室を有するこ
とが好ましい。このような台車移動接続室を介して真空
処理室、ロード室、アンロード室の各々を共通搬送室に
それぞれ接続すると、共通搬送室の容積が小さくなり、
真空排気ポンプの負担を軽減することができる。

【００１０】上記共通搬送室は、ターンテーブルと、こ
のターンテーブル上に設けられて上記搬送台車が走行す
る可動レールと、この可動レールを前記ターンテーブル
に対して可変に支持する弾性支持機構と、を有すること
が好ましい。このようにすると、搬送台車が共通搬送室
と真空処理室との間を移動する際に、弾性支持機構によ
り支持された可動レールが変位し、真空処理室側の固定
レールとの間に生じる回転ずれθおよび位置ずれδが共
に解消されるので、搬送台車は大きな振動を生じること
なく可動レールと固定レールとの間を円滑に移動するこ
とができる。

【００１１】さらに、上記真空処理室は保守点検用の扉
を有することが好ましい。このような扉の開閉は手動で
あっても電動であってもいずれでもよい。

【００１２】さらに、上記共通搬送室にゲート弁を介す
ることなく直接連通し、上記搬送台車が待機しておく台
車待機室を有することが好ましい。このような台車待機
室を設けることにより、搬送台車は共通搬送室から台車
待機室へ迅速に移動することができ、共通搬送室内で複
数の搬送台車が相互に干渉することが有効に回避される
ようになる。

【００１３】なお、搬送台車は、垂直軸に対して７°〜
１２°傾けて基板を支持することが好ましく、基板を約
１０°傾けて支持することが最も好ましい。基板の傾斜
角θ１が７°を下回ると、搬送中に台車上で基板が不安
定になり反対側へ倒れるおそれがあるので、傾斜角θ１
の下限値は７°とする。一方、基板の傾斜角θ１が１２
°を上回ると、搬送スペースや製膜ユニット内デッドス
ペースが大きくなり処理室内のデッドスペースが増加し
て真空ポンプに過大な負荷がかかるようになるので、傾
斜角θ１の上限値は１２°とする。しかし、デッドスペ
ースの増大や真空ポンプの過負荷が大きな問題とならな
い場合は、傾斜角θ１を１２°以上に、例えば２０°〜
３０°とすることも可能である。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、添付の図面を参照しながら
本発明の種々の好ましい実施の形態について説明する。

【００１５】図１及び図２に示すように、クラスタ型真
空処理システム１は中央に台車回転室としての共通搬送
室３０を備え、その周囲を取り囲むようにロード室１
０、アンロード室２０、５つの製膜室（真空処理室）７
０Ａ〜７０Ｅ、予備室８０が配置されている。これら各
室１０，２０，７０Ａ〜７０Ｅ，８０はゲート弁１４を
介して台車移動接続室４０Ａ〜４０Ｈにそれぞれ連通
し、さらに各台車移動接続室４０Ａ〜４０Ｈは共通搬送
室３０にそれぞれ連通している。

【００１６】ロード室１０には２台の搬送台車６Ａ，６
Ｂが、アンロード室２０にも２台の搬送台車６Ｃ，６Ｄ
が、共通搬送室３０には２台の搬送台車６Ｅ，６Ｆがそ
れぞれ設けられ、システム全体では合計少なくとも６台
の搬送台車６Ａ〜６Ｆが各所に配置されている。

【００１７】台車移動接続室４０Ａ〜４０Ｈは、ロード
室１０、アンロード室２０、製膜室７０Ａ〜７０Ｅ、予
備室８０より狭くなっている。すなわち、台車移動接続
室４０Ａ〜４０Ｈの内部通路は搬送台車６Ａ〜６Ｆが基
板Ｇを保持した状態で通過できるぎりぎりの広さに形成
されている。これらの台車移動接続室４０Ａ〜４０Ｈを
製膜室７０Ａ〜７０Ｅ、予備室８０、ロード室１０、ア
ンロード室２０の各々と共通搬送室３０との間に設ける
ことにより、共通搬送室３０の容積を限界近くまで小さ
くすることができるので、真空排気装置（図示せず）の
負担が大幅に軽減されるようになる。

【００１８】なお、各製膜室７０Ａ〜７０Ｅ（予備室８
０）の横断面積に対する各台車移動接続室４０Ａ〜４０
Ｈの横断面積の比率は１：０．５〜０．８の範囲とする
ことが好ましく、ロード室１０（アンロード室２０）の
横断面積に対する各台車移動接続室４０Ａ〜４０Ｈの横
断面積の比率は１：０．７〜０．９の範囲とすることが
好ましい。また、中央の共通搬送室３０は、隣り合うゲ
ート弁１４の相互干渉を生じない範囲で、かつ、搬送台
車６Ｅ，６Ｆが回転できる最小のスペースとすることが
望ましい。

【００１９】製膜室７０Ａ〜７０Ｅおよび予備室８０の
最外部には扉７７がそれぞれ取り付けられ、扉７７を開
けて各室の内部をメンテナンスできるようになってい
る。扉７７は手動または電動で開閉できるように各室７
０Ａ〜７０Ｅ，８０に取り付けられ、各室を構成するフ
レーム壁と扉７７との間にシール部材が介装されてい
る。

【００２０】次に、図３を参照しながらロード室１０お
よびローラ式ローダ５Ａについて説明する。なお、アン
ロード室２０はロード室１０と実質的に同じであり、ロ
ーラ式アンローダ５Ｂはローラ式ローダ５Ａと実質的に
同じであるので、両者についての説明は省略する。

【００２１】ローラ式ローダ５Ａはロード１０の前方側
に設けられている。このローラ式ローダ５Ａは、２台の
搬送台車６Ａ，６Ｂが走行するためのレール８Ａ，８Ｂ
を有する搬送部４を中央に備え、この搬送部４の両側に
１対のローラテーブル２Ａ，２Ｂを備えている。各搬送
台車６Ａ，６Ｂは、それぞれ独立に基板Ｇを１枚ずつ保
持し搬送するようになっている。各レール８Ａ，８Ｂの
延長線上にロード室１０内の各レール１８Ａ，１８Ｂが
それぞれ設けられ、各搬送台車６Ａ，６Ｂはレール８
Ａ，８Ｂからレール１８Ａ，１８Ｂに乗り移れるように
なっている。

【００２２】左右一対のローラテーブル２Ａ，２Ｂは搬
送部４を間に挟むように設けられている。各ローラテー
ブル２上には複数の送りローラ３がそれぞれ並べられ、
この上に水平に載置されたガラス基板Ｇがレール８Ａ，
８Ｂと平行に送られるようになっている。

【００２３】ロード室１０の前面には左右一対の搬入出
口１２Ａ，１２Ｂが形成され、右方の搬入出口１２Ａは
シリンダ１４Ａを備えたゲート弁機構により開閉され、
左方の搬入出口１２Ｂはシリンダ１４Ｂを備えたゲート
弁機構により開閉されるようになっている。同様に、ロ
ード室１０の後面にも左右一対の搬入出口（図示せず）
が形成され、シリンダ１４を備えたゲート弁機構により
それぞれ開閉されるようになっている。

【００２４】次に、図４及び図５を参照しながら共通搬
送室３０について説明する。

【００２５】共通搬送室３０の床部はターンテーブル３
１で構成されており、ターンテーブル３１によりレール
３８上の搬送台車６Ｅ，６Ｆが水平面内で回転され、搬
送台車６Ｅ，６Ｆの向きが３６０°どの方位にも変えら
れるようになっている。可動レール３８は所定間隔ごと
に並ぶ複数のボルト３２によりターンテーブル３１に締
結されている。なお、図４にはレール３８を１本のみ示
しているが、実際には２本の可動レール３８がターンテ
ーブル３１の上に並んでいる。

【００２６】ところで、搬送台車６Ａ〜６Ｆが台車移動
接続室４０Ａ〜４０Ｈから共通搬送室３０に出入りする
ときは、ターンテーブル３１を回転させて可動レール３
８を固定レール１８Ａ，１８Ｂの延長線上に揃え、搬送
台車６Ａ〜６Ｆを固定レール１８Ａ，１８Ｂから可動レ
ール３８へ、又は可動レール３８から固定レール１８
Ａ，１８Ｂへ乗り移させる必要があるが、両レール３
８，１８Ａ，１８Ｂは完全に延長線上に揃わず、回転ず
れ角θおよび位置ずれ角δを生じるので、搬送台車６Ａ
〜６Ｆが両レール３８，１８Ａ，１８Ｂ間で円滑に乗り
移ることが困難になるとともに、搬送台車上の基板Ｇに
大きな振動が伝わるようになり確実な搬送ができないお
それを生じる。

【００２７】そこで、図５に示すように、レール３８と
ボルト３２との間にスプリング３３を介装し、ターンテ
ーブル３１に対してレール３８が横方向に±１〜３ｍｍ
程度動けるように弾性的に支持し、回転ずれ角θおよび
位置ずれ角δを解消するようにしている。各スプリング
３３はレール３８内の横孔内に挿入され、一端側はボル
ト３２に取り付けられ、他端側はストッパ３４に取り付
けられている。

【００２８】図６に示すように、ローラ式ローダ５Ａの
各レール８Ａ，８Ｂおよびローラ式アンローダ５Ｂの各
レール８Ｃ，８Ｄはレール回動機構９により長手軸まわ
りに回動自在に支持されている。レール回動機構の回転
軸９ａは、一端が各レール８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄの端
部にそれぞれ連結固定され、他端が軸受９ａにより支持
されている。回転軸９ａの適所に回り止め付きの固定リ
ング９ｃが取り付けられている。固定リング９ｃの外周
にはレバー９ｄが連結されており、レバー９ｄを回す
と、これに伴い固定リング９ｃ及び回転軸９ａと共にレ
ール８Ａ，８Ｂ，８Ｃ，８Ｄが回動するようになってい
る。

【００２９】レバー９ｄは図示しない油圧駆動装置によ
り駆動される揺動機構（図示せず）に連結され、そのス
トローク角はおよそ８０°である。レバー９ｄが定位置
にあるときは、図３に示す搬送台車６Ｂのように台車上
の基板Ｇはほぼ直立する。このとき基板Ｇは垂直軸に対
して７°〜１２°傾斜した状態で搬送台車６Ｂにそれぞ
れ保持され、搬送可能な状態となる。一方、レバー９ｄ
が定位置から約８０°回された位置にあるときは、図３
に示す搬送台車６Ａのように台車上の基板Ｇはほぼ水平
になる。このとき基板Ｇはローラテーブル２から搬送台
車６Ａ上に積み込み可能な状態となる。なお、ガラス基
板Ｇの大きさは例えば１ｍ角である。１ｍ角サイズのガ
ラス基板Ｇは、重量が１０ｋｇｆを上回り、かなりな重
量物となる。従って本ローラ式ローダによって簡便に基
板搬送台車に基板をセット／アンセットすることが可能
になる。

【００３０】次に、図７及び図８を参照しながら搬送台
車の基板保持機構について説明する。なお、各搬送台車
６Ａ〜６Ｆの構成は実質的に同じであるので、これらを
代表して第１の搬送台車６Ａについて述べる。

【００３１】搬送台車６Ａは、台車本体６１と、２本の
アーム６２と、一対の支持カム６３と、間欠回転駆動機
構６５と、一対の保持部材６６と、一対のストッパ６８
とを備えている。台車本体６１は図示しない進退駆動機
構によりレール８Ａに噛み込み連結されており、保持し
た基板Ｇが水平姿勢となる約８０°回動した場合であっ
ても台車本体６１はレール８Ａから外れないようになっ
ている。

【００３２】２本のアーム６２は台車本体６１の長手直
交軸に対して約１０°傾斜するように台車本体６１の上
に直立して設けられている。アーム６２の相互間隔は基
板Ｇの長辺より少し大きく、これら２本のアーム６２の
間に基板Ｇがもたせ掛けられるようになっている。アー
ム６２は基板Ｇの重量に耐えられるように台車本体６１
に強固に締結されている。アーム６２と台車本体６１は
例えばステンレス鋼のような高強度で強靭な金属材料で
つくられている。

【００３３】各アーム６２の上部には保持部材６６およ
び揺動軸６７が取り付けられ、各アーム６２の下部には
支持カム６３および間欠回転駆動機構６５が取り付けら
れている。上部保持部材６６は揺動軸６７まわりに揺動
可能に支持され、基板Ｇ支持カム６３は基板Ｇの下部を
支持し、回転軸６４により間欠回転駆動機構６５に連結
されている。支持カム６３は上面に凹所６３ａを有する
厚みのある板カムである。

【００３４】間欠回転駆動機構６５は、例えばゼネバス
トップのような機構からなり、支持カム６３を軸６４ま
わりに所望角度だけ間欠的に回転させうるようになって
いる。支持カム６３は、基板Ｇを保持搬送するときは図
８の（ａ）に示すように凹所６３ａで基板Ｇの下端に接
触しているが、基板Ｇを真空処理室内のヒータカバー７
３に受け渡すときは図８の（ｂ）に示すように凹所６３
ａから基板Ｇの下端が外れるように軸６４まわりに回転
される。基板Ｇは受け渡し前後で落差ｈを生じるので、
ヒータカバー７３は支持突起７３ａが基板Ｇの下端より
少し下方に位置するように台車６Ａに接近するようにな
っている。

【００３５】なお、ストッパ６８は基板Ｇの側端部に当
接するようにアーム６２の適所に取り付けられ、これに
より搬送中の基板Ｇが進行方向（Ｙ軸方向）に位置ずれ
するのを防止するようになっている。

【００３６】予備室８０は、製膜室として使用されるの
は勿論のことであるが、搬送台車６Ａ〜６Ｆを一時待機
（退避）させておく待機室として用いてもよいし、製膜
処理前の基板Ｇを予備的に加熱する予備加熱室または冷
却する冷却室として用いてもよい。

【００３７】次に、図９及び図１０を参照しながら製膜
室について説明する。なお、各製膜室７０Ａ〜７０Ｅの
構成は実質的に同じであるので、これらを代表して第１
の製膜室７０Ａについて述べる。

【００３８】図９に示すように、真空処理室としての製
膜室７０Ａの中央には製膜ユニット７１が設置されてい
る。製膜ユニット７１はプラズマＣＶＤ製膜に必要な機
器要素７１ａ〜７１ｄを２組ずつ備えるものであり、こ
のユニット７１の両面にカバー７３を介してヒータユニ
ット７２が対面配置されている。各ヒータユニット７２
は図示しない製膜室開閉扉上にそれぞれ搭載される。ヒ
ータカバー７３はＸ軸方向に延び出すレールに沿って製
膜ユニット７１に向けて搬送され、押し付けられるよう
になっている。

【００３９】ヒータユニット７２は片面発熱型の面状ヒ
ータエレメントを備え、図示しない上部または背面支持
機構により吊り下げられている。ヒータカバー７３はヒ
ータエレメントの発熱面を保護するためのものであり、
例えば４つのボールスクリュウ機構によりヒータユニッ
ト７２に対して可動に支持されている。ボールスクリュ
ウ機構は、ナット７４、ステッピングモータ７５、スク
リュウ７６を具備し、ヒータ７２（固定）から製膜ユニ
ット７１（固定）までの間でヒータカバー７３を移動さ
せるための機構である。ナット７４はヒータカバー７３
の四隅近傍にそれぞれ取り付けられ、モータ７５で回転
駆動されるスクリュウ７６に螺合されている。本実施形
態ではボールスクリュウ機構によるヒータカバー７３の
移動量は最大７０ｍｍである。このような可動ヒータカ
バー７３と製膜ユニット７１との間に基板Ｇが搬送台車
６Ａ〜６Ｆによって搬入されるようになっている。

【００４０】製膜ユニット７１は、図１０に示すよう
に、ポジショナー７１ａと、ガス供給機能付きラダー電
極７１ｂと、製膜ユニットカバー７１ｃと、製膜ユニッ
ト温度制御ヒータ７１ｄと、排気通路７１ｅとを備えて
いる。電極７１ｂには図示しない高周波電源およびガス
供給源がそれぞれ接続されている。高周波電源は所定周
波数の高周波を電極７１ｂに印可し、電極７１ａと基板
Ｇとの間にプラズマを生じさせるようになっている。ガ
ス供給源（図示せず）には反応性ガスとして例えばシラ
ンを主成分とするプロセスガスが収容されている。製膜
ユニットカバー７１ｃは電極７１ｂの背後を覆うように
配置されている。

【００４１】製膜ユニット温度制御ヒータ７１ｂは製膜
ユニット７１の中央に設けられている。ヒータ７１ｄの
電源は図示しないコントローラに接続され、製膜ユニッ
ト７１をＣＶＤ製膜に適した温度にするように制御され
る。排気通路７１ｅは製膜ユニット７１の中央上部に連
通し、製膜ユニット７１の内部を排気するようになって
いる。

【００４２】次に、上記実施形態のクラスタ型真空処理
システム１を用いて基板Ｇを搬送し、処理する場合につ
いて概要を説明する。

【００４３】製膜予定面を上向きにしてガラス基板Ｇが
ローダ部としてのローラテーブル２上を搬送されてくる
と、図示しないセンサが基板Ｇを検知し、この検知信号
に基づき送りローラ３が停止され、基板Ｇが所定の受け
渡し位置で停止する。この受け渡し位置には、シリンダ
１４Ａが駆動してゲート１６Ａを移動させて搬入出口１
２Ａを開けた状態で、搬送台車６Ａが待機しており、基
板Ｇは２本のアーム６１の真上に位置することになる。

【００４４】次いで、支持カム６３および保持部材６６
により基板Ｇをアーム６１に保持する。基板Ｇの保持動
作が完了すると、レール回動機構９により搬送台車６Ａ
とともに基板Ｇを直立させる。そして、ロード室１０に
向けて搬送台車６Ａを走行させる。搬送台車６Ａが接近
したことをセンサ（図示せず）で検知すると、搬送台車
６Ａはレール８Ａからレール１８Ａの上に乗り移り、こ
の台車の乗り移りが完了したことをセンサ（図示せず）
で検知すると、シリンダ１４Ａが駆動してゲート１６Ａ
を移動させ、搬入出口１２Ａを閉じる。

【００４５】ロード室１０の後面側のゲート弁を開け、
さらに搬送台車６Ａを台車移動接続室４０Ｆに移動させ
る。ターンテーブル３１を所望角度だけ回転させ、可動
レール３８を固定レール１８Ａの延長線上にほぼ揃えた
ところで、搬送台車６Ａを前進させて可動レール３８の
上に乗り移させる。さらに、ターンテーブル３１を所望
角度だけ回転させ、可動レール３８を台車移動接続室４
０Ａの固定レール１８Ａの延長線上に揃える。

【００４６】搬送台車６Ａを前進させて固定レール１８
Ａの上に乗り移させ、台車移動接続室４０Ａのなかを更
に前進させる。ゲート弁１４を開け、搬送台車６Ａを第
１の製膜室７０Ａ内に進入させ、台車６Ａを所定位置に
停止させ、ゲート弁１４を閉じる。

【００４７】次いで、ボールスクリュウ機構によりヒー
タカバー７３を台車６Ａ上の基板Ｇに前進近接させると
ともに、支持カム６３および保持部材６６のそれぞれを
揺動回転させ、台車のアーム６１から基板Ｇを解放し、
ヒータカバー７３の支持突起７３ａの上に基板Ｇを移載
する。

【００４８】基板Ｇの受け渡し動作が完了すると、搬送
台車６Ａを真空処理室より外の台車移動接続室４０Ａへ
搬出し、ヒータカバー７３を製膜ユニット７１に向けて
前進させ、基板Ｇの周縁部を全周にわたりポジショナー
７１ａに押し付ける。

【００４９】製膜ユニット７１の内部を排気しながらプ
ロセスガスを供給するとともに、電極７１ｂに高周波を
印可して電極７１ｂと基板Ｇとの間に高周波プラズマを
生成する。これにより基板Ｇの表面に所望の膜が製膜さ
れる。

【００５０】製膜処理が完了すると、シリンダ１４Ｃに
よりゲート１６Ｃを移動させ搬入出口１２Ｃを開け、搬
送台車６Ｃを真空処理室内に搬入し、上記と逆の動作を
することにより基板Ｇをヒータカバー７３から搬送台車
６Ｃに受け渡す。搬送台車６Ｃはアンロード室２０を退
出し、上記と逆の動作をすることによって基板Ｇをロー
ラテーブル２２に移載する。そして、基板Ｇはアンロー
ダ部としてのローラテーブル２２により次工程へ搬出さ
れる。

【００５１】上記実施形態によれば、台車移動接続室を
設けることにより共通搬送室の容積が小さくなるので、
共通搬送室内の真空排気時間が短縮される。

【００５２】次に、図１１を参照しながら本発明の他の
実施形態について説明する。なお、本実施形態が上記実
施形態と重複する部分についての説明は省略する。

【００５３】本実施形態のクラスタ型真空処理システム
は、多角形状の共通搬送室１３０を中央に備え、この共
通搬送室１３０を取り囲むようにして多角形の各辺にロ
ード室１１０、５つの製膜室１７０Ａ，１７０Ｂ，１７
０Ｄ，１７０Ｅ，１７０Ｆ、アンロード室１２０および
台車待機室１９０が設けられている。このうち台車待機
室１９０はゲート弁１４を介することなく共通搬送室１
３０に直接連通している。各搬送台車６Ｅ，６Ｆは、他
の搬送台車６Ａ，６Ｂ，６Ｃ，６Ｄが共通搬送室１３０
に入っているときは台車待機室１９０にて待機するよう
になっている。

【００５４】このようにゲート弁を持たない台車待機室
１９０を用いることにより搬送台車を共通搬送室１３０
から素早く退避させることができるので、基板Ｇの搬送
時間が短縮化され、スループットが向上する。

【００５５】なお、上記実施形態では１ｍ角サイズの基
板を支持し搬送する場合について説明したが、本発明は
これのみに限られることなく更に大型の基板、例えば
１．２ｍ角〜１．５ｍ角サイズの大型基板を保持し搬送
することも可能である。

【００５６】また、上記実施形態では製膜予定面を上向
きにして基板をローダ／アンローダ部に搬入搬出する場
合について説明したが、本発明はこれのみに限られるこ
となく、製膜ユニット７１とヒータカバー７３との傾斜
方向を垂直軸に対して逆に約１０°傾斜させることで、
製膜予定面を下向きにして基板をローダ／アンローダ部
に搬入搬出することも可能である。

【００５７】

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、台
車移動接続室を設けることにより共通搬送室の容積が小
さくなるので、共通搬送室内の真空排気時間が大幅に短
縮される。

【００５８】また、ゲート弁を持たない台車待機室を設
けているので、搬送台車を共通搬送室から台車待機室に
素早く退避させることができ、基板の搬送時間が短縮化
され、スループットが向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態に係るクラスタ型真空処理シ
ステムを示す全体斜視図。

【図２】本発明の実施形態に係るクラスタ型真空処理シ
ステムを示す平面図。

【図３】搬送台車、ローダ部およびロード室を示す斜視
図。

【図４】共通搬送室内のレールと搬送路のレールとの整
合を説明するための平面模式図。

【図５】共通搬送室内のレールを示す部分拡大断面図。

【図６】搬送台車用レールの回動機構を示す斜視図。

【図７】基板を保持した搬送台車を示す斜視図。

【図８】（ａ）は搬送時の基板の支持状態を説明するた
めに搬送台車の一部を拡大して示す部分拡大図、（ｂ）
は移載時の基板の支持状態を説明するために搬送台車お
よびヒータカバーの一部を拡大して示す部分拡大図。

【図９】製膜室の内部を透視して示す分解斜視図。

【図１０】製膜室内の製膜ユニットおよびヒータユニッ
トの一部を切り欠いて内部を示す分解斜視図。

【図１１】本発明の他の実施形態に係るクラスタ型真空
処理システムを示す平面図。

【図１２】従来の装置を示す平面図。

【符号の説明】

６Ａ〜６Ｆ…搬送台車、８Ａ〜８Ｄ，１８Ａ，１８Ｂ，
３８…レール、９…レール回動機構、１０…ロード室、
２０…アンロード室、３０…共通搬送室（台車回転
室）、７０Ａ〜７０Ｅ…製膜室（真空処理室）、７１…
製膜ユニット、７１ａ…ポジショナー（周囲外枠）、７
１ｂ…ガス供給機能付ラダー電極、７１ｃ…製膜ユニッ
トカバー、７１ｄ…製膜ユニット温度制御ヒータ、７１
ｅ…排気通路、７２…ヒータユニット、７３…ヒータカ
バー、８０…予備室、Ｇ…基板。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ２３Ｆ 4/00 Ｃ２３Ｆ 4/00 Ａ ５Ｆ０３１ Ｃ３０Ｂ 25/02 Ｃ３０Ｂ 25/02 Ｐ Ｈ０１Ｌ 21/3065 Ｈ０１Ｌ 21/302 Ｂ (72)発明者 藤山 泰三 長崎県長崎市飽の浦町１番１号 三菱重工 業株式会社長崎造船所内 (72)発明者 山内 康弘 長崎県長崎市飽の浦町１番１号 三菱重工 業株式会社長崎造船所内 Ｆターム(参考） 4G077 AA03 DA01 DB01 EF01 EG13 4K029 KA01 KA09 4K030 GA12 HA01 4K057 DB06 DB20 DD01 DD02 DE20 DM02 DM13 DM18 DM35 DM36 DM39 DN01 5F004 BA04 BB16 BB21 BC05 BC06 BD04 BD05 CA05 DA00 DB13 5F031 CA05 FA02 FA11 FA12 FA14 FA18 FA22 GA53 GA58 HA37 HA38 LA09 MA04 MA06 MA09 MA28 MA29 MA32 NA09 PA03

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の処理室に基板を次々に搬送して処
   理するクラスタ型真空処理システムであって、 中央に位置する共通搬送室と、 この共通搬送室の周囲に配置され、共通搬送室に対して
   ゲート弁を介してそれぞれ連通可能に設けられ、基板を
   真空雰囲気下でそれぞれ処理する複数の真空処理室と、 前記共通搬送室に対してゲート弁を介して連通可能に設
   けられ、基板が搬入されるロード室と、 前記共通搬送室に対してゲート弁を介して連通可能に設
   けられ、基板が搬出されるアンロード室と、 前記真空処理室、前記共通搬送室、前記ロード室、前記
   アンロード室の相互間で基板を搬送するための少なくと
   も３つの搬送台車と、を具備することを特徴とするクラ
   スタ型真空処理システム。
2. 【請求項２】 さらに、上記真空処理室、上記ロード
   室、上記アンロード室の各々と上記共通搬送室との間に
   それぞれ設けられた台車移動接続室を有することを特徴
   とする請求項１記載のクラスタ型真空処理システム。
3. 【請求項３】 上記共通搬送室は、ターンテーブルと、
   このターンテーブル上に設けられて上記搬送台車が走行
   する可動レールと、この可動レールを前記ターンテーブ
   ルに対して可変に支持する弾性支持機構と、を有するこ
   とを特徴とする請求項１記載のクラスタ型真空処理シス
   テム。
4. 【請求項４】 さらに、上記真空処理室は保守点検用の
   開閉扉を有することを特徴とする請求項１記載のクラス
   タ型真空処理システム。
5. 【請求項５】 さらに、上記共通搬送室にゲート弁を介
   することなく直接連通し、上記搬送台車が待機しておく
   台車待機室を有することを特徴とする請求項１記載のク
   ラスタ型真空処理システム。