JP7207939B2 - 搬送装置、および、処理装置 - Google Patents
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Description
本発明は、搬送対象の搬送効率を高めることを可能とした搬送装置、および、処理装置を提供することを目的とする。
上各記構成によれば、搬送対象を第1回転方向に回転させることによって、搬送室を介して第1処理室から第2処理室に搬送対象を搬送することも可能であるし、搬送室を介して第2処理室から第1処理室に搬送対象を搬送することも可能である。さらには、搬送対象を第2回転方向に回転させることによって、搬送室を介して第1処理室から第2処理室に搬送対象を搬送することも可能であるし、搬送室を介して第2処理室から第1処理室に搬送対象を搬送することも可能である。このように、上記構成によれば、搬送対象の回転方向が限定されないことによって、搬送方向の自由度が高まることにより、搬送対象の搬送効率を高めることが可能である。
図1を参照して、真空処理装置の構成を説明する。
真空処理装置10は、搬送室11、複数の処理室、および、搬送装置20を備えている。複数の処理室は、搬送室11に接続されている。
図2から図7を参照して、搬送装置20の構成をより詳しく説明する。以下では、搬送装置20が備える回転部21、スライド部、および、搬送レール22のそれぞれの構成を順に説明する。
図2から図4を参照して、回転部21およびスライド部の構成を説明する。図2は、搬送レール22の端部と対向する方向から見た回転部21およびスライド部の構造を模式的に示している。言い換えれば、図2は、搬送レール22の延在方向に沿って回転部21およびスライド部を視認した場合の回転部21およびスライド部の構造を示している。図3は、回転部21の作用を説明するための図であり、また、図4は、スライド部の作用を説明するための図である。なお、図3では、図示の便宜上、真空処理装置10の構成における一部が省略されている。
図5から図7を参照して、搬送レール22の構成を説明する。図5は、搬送室11を鳥瞰視した場合の、言い換えれば、搬送室11を上面視した場合の搬送レール22の構造を示している。図6は、搬送レール22を側面視した場合の、言い換えれば、図5に示す搬送レール22を紙面の下方から上方に向かう方向から見た場合の搬送レール22の構造を示している。図7は、搬送レール22の端部と対向する方向から見た場合の、言い換えれば、図5に示す搬送レール22を紙面の左から右に向かう方向から見た場合の搬送レール22の構造を示している。
図8から図16を参照して、搬送装置20の作用を説明する。以下では、まず、図8から図13を参照して、搬送対象Tを、真空加熱室15、第1処理室12A、および、第2処理室12Bの順に搬送する場合の搬送装置20の作用を説明する。次いで、図14から図16を参照して、第1の搬送対象Tを、第1処理室12Aから搬送室11に搬送した後に、第2の搬送対象Tを、真空加熱室15から搬送室11に搬送する場合の搬送装置20の作用を説明する。なお、図8から図16では、図示の便宜上、真空処理装置10の構成における一部が省略されている。また、図8から図16では、搬送レール22に動力を与えている駆動部23にドットが付されている。
図8が示すように、真空加熱室15から搬送室11に搬送対象Tを搬送する場合には、真空加熱室15と搬送室11との間に配置されたゲートバルブ16が開く。次いで、真空加熱室15と第4処理室12Dとに対応付けられた駆動部23が、第2搬送レール22Bが備える一方の入力軸49に接続することによって、搬送対象Tを搬送するための動力を第2搬送レール22Bに与える。このとき、真空加熱室15の搬送レール24にも、搬送対象Tを搬送するための動力が与えられる。これにより、搬送対象Tが、真空加熱室15から搬送室11に向けて搬送される。
(1)搬送対象Tの回転方向が限定されないことによって、搬送対象Tの搬送効率を高めることが可能である。
[搬送レール]
・搬送装置20は、搬送レール22を1つのみ備えてもよいし、3つ以上の搬送レール22を備えてもよい。真空処理装置10が複数の搬送レール22を備える場合には、搬送レール22の数が2である場合に限らず、上述した(4)に準じた効果を得ることはできる。
・スライド部25は、エアシリンダー25Aに代えて、圧縮空気以外の動力、例えば油圧によってロッドを駆動するシリンダーを備えてもよい。
・回転軸Aは、鳥瞰視における搬送室11の中央に限らず、中央からずれた位置に設定されてもよい。
・第1の処理室対に対応付けられた駆動部23は、一対の処理室が対向する方向において、回転軸Aよりも第4処理室12D寄りに位置してもよい。第2の処理室対に対応付けられた駆動部23は、一対の処理室が対向する方向において、回転軸Aよりも第3処理室12C寄りに位置してもよい。第3の処理室対に対応付けられた駆動部23は、一対の処理室が対向する方向において、回転軸Aよりも第2処理室12B寄りに位置してもよい。これらのいずれの場合であっても、駆動部23が配置される位置に限らず、上述した(3)に準じた効果を得ることはできる。
・搬送室11は、鳥瞰視において、六角形状以下の形状を有してもよい。搬送室11は、鳥瞰視において、例えば、四角形状を有してもよいし、八角形状を有してもよい。また、搬送室11は、三角形状を有してもよいし、五角形状を有してもよい。これらの場合であっても、搬送レール22の回転方向が1つの方向に限定されない以上は、上述した(1)に準じた効果を得ることはできる。
・真空処理装置10が備える処理室の数は、2つ以上5つ以下であってもよい。言い換えれば、複数の処理室は、回転軸を中心に等配されていなくてもよい。また、複数の処理室には、回転軸を挟んで対向する処理室を有する処理室と、回転軸を挟んで対向する処理室を有しない処理室とが含まれてもよい。また、複数の処理室の全てが、回転軸を挟んで対向する処理室を有しなくてもよい。これらの場合であっても、搬送レール22の回転方向が1つの方向に限定されない以上は、上述した(1)に準じた効果を得ることはできる。
・処理装置は、大気雰囲気において各種の処理を行う処理室のみを備えた装置でもよい。
Claims (5)
- 処理装置に適用されて、搬送対象を搬送する搬送装置であって、
前記処理装置は、搬送室と、前記搬送室に接続された複数の処理室を備え、
前記搬送装置は、
前記搬送室内に配置され、回転軸を中心として第1回転方向と前記第1回転方向とは反対の回転方向である第2回転方向とに搬送レールを回転させる回転部と、
前記搬送室内に配置され、前記回転部によって回転させられている間は、前記搬送対象を保持することが可能であり、かつ、前記搬送レールの延在方向に前記処理室が位置して停止している間は、前記搬送レールの延在方向に沿った前記搬送対象のスライドを許容して、前記搬送室と前記搬送レールの延在方向に位置する処理室との間において前記搬送対象を搬送する前記搬送レールと、
前記搬送室に対する位置が固定された駆動部であって、前記搬送レールの一部が前記駆動部上で停止している間は、前記搬送レールと前記駆動部とが接続されて、前記搬送レールを駆動するための動力を前記搬送レールに与え、かつ、前記搬送レールが回転している間は、前記搬送レールに接続されない前記駆動部と、を備え、
前記搬送レールは、第1搬送レールであり、
前記第1搬送レールに沿って延びる第2搬送レールをさらに備え、
前記第1搬送レールと前記第2搬送レールとは、前記搬送レールの延在方向と直交する方向に沿って並び、
前記回転部は、前記第1搬送レールと前記第2搬送レールとの対を一体に回転させ、
前記第1搬送レールと前記第2搬送レールとのいずれか一方を、前記搬送対象を搬送する搬送レールに選択する選択部をさらに備え、
前記回転部は、前記対の中心が前記回転軸に対して偏心した状態で前記対を回転させる状態を含む
搬送装置。 - 前記搬送レールは、前記駆動部に接続して前記駆動部からの動力が入力される入力部を、前記回転軸を挟んで両方の端部に1ずつ備える
請求項1に記載の搬送装置。 - 前記搬送室は、鳥瞰視において、2×n(nは2以上の整数)角形状を有し、
前記搬送装置は、前記搬送室において前記回転軸を中心に等配されたn個の前記駆動部を備え、
前記処理装置は、2×n個の処理室を備え、
各処理室は、前記回転軸を中心に等配され、前記回転軸を挟んで対向する一対の処理室に対し1つずつ前記駆動部が対応付けられ、
各駆動部は、当該駆動部に対応付けられた各処理室と前記搬送室との間において前記搬送対象を搬送するための前記動力を前記搬送レールに与える
請求項2に記載の搬送装置。 - 前記複数の処理室は、第1の処理室と第2の処理室とを含み、
前記第1搬送レールと前記第2搬送レールとのうち、前記搬送対象を搬送する搬送レールに選択されたレールが被選択レールであり、
前記選択部は、前記第1搬送レールおよび前記第2搬送レールのいずれかの延在方向に前記第1の処理室が位置可能であるように前記搬送レールの延在方向と直交する方向に前記対をスライドさせることによって、前記被選択レールを選択し、かつ、前記対の中心を前記回転軸に対して偏心させ、
前記回転部は、前記中心が前記回転軸に対して偏心した状態で前記対を回転させ、これによって、前記対の回転前において、前記被選択レールの延在方向に前記第1の処理室が位置し、かつ、前記対の回転後において、前記被選択レールの延在方向に前記第2の処理室が位置することが可能に構成される
請求項1から3のいずれか一項に記載の搬送装置。 - 搬送室と、
前記搬送室に接続された複数の処理室と、
請求項1から4のいずれか一項に記載の搬送装置と、を備える
処理装置。
Priority Applications (1)
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JP2018196780A JP7207939B2 (ja) | 2018-10-18 | 2018-10-18 | 搬送装置、および、処理装置 |
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JP2020065005A JP2020065005A (ja) | 2020-04-23 |
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001127133A (ja) | 1999-10-26 | 2001-05-11 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | クラスタ型真空処理システム |
JP2017513221A (ja) | 2014-04-02 | 2017-05-25 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 基板処理のためのシステム、基板処理のためのシステム用の真空回転モジュール、及び基板処理システムを操作する方法 |
WO2018135792A1 (en) | 2017-01-23 | 2018-07-26 | Applied Materials, Inc. | Transfer module, substrate processing system having transfer chamber, and substrate processing method using substrate transfer system |
JP2018154866A (ja) | 2017-03-16 | 2018-10-04 | 日新電機株式会社 | 基板処理装置 |
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2018
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