JP6799193B1 - 搬送駆動機構 - Google Patents

Abstract

【課題】環状かつ等速運動を行う搬送駆動部材を用いて基板保持器の搬送を行う搬送駆動機構において、基板保持器を搬送駆動部材に搬入する際の効率を向上させることができる技術を提供する。【解決手段】本発明の搬送駆動機構は、環状かつ等速運動を行う搬送駆動部材１６と、搬送駆動部材１６に向って基板保持器１０が通過する搬入搬送経路７と、搬送駆動部材１６に付随し、搬入搬送経路７を通過する駆動部１７とを有する。駆動部１７の搬入搬送経路７における通過速度が、搬送駆動部材１６の等速運動から導かれる非線形速度となるように構成され、搬入搬送経路７において、基板保持器１０を、駆動部１７の非線形速度を目標値とする所定の速度で搬送することにより、駆動部１７の位置に対して基板保持器１０の相対位置を同期させる位置同期手段を備える。【選択図】 図５

Description

本発明は、基板を保持した基板保持器を等速運動する搬送駆動部材に搬入する搬送駆動機構の技術に関する。

従来、複数の被処理基板をトレイ等の基板保持器に載置して通過しながら成膜等の処理を行う真空処理装置が知られており、近年では、環状の搬送経路を有する真空処理装置も提案されている。

図８は、従来技術に係る真空処理装置の全体を示す概略構成図である。

図８に示すように、この真空処理装置１０１は、真空排気装置１０１ａに接続された真空槽１０２を有している。

真空槽１０２の内部には、基板（図示せず）を保持する基板保持器１１１を搬送経路に沿って複数連続して搬送する基板保持器搬送機構１０３が設けられている。

ここで、基板保持器搬送機構１０３は、回転軸線を平行にした状態で所定距離をおいて配置された一対の駆動輪１３１、１３２に一連の搬送駆動部材１３３が架け渡された構造体が所定の距離をおいて平行に配置され、これにより鉛直面に対して環状で、等速運動を行う搬送経路が形成されている。

基板保持器搬送機構１０３には、基板保持器１１１を導入する基板保持器導入部１３０Ａと、基板保持器１１１を折り返して搬送する搬送折り返し部１３０Ｂと、基板保持器１１１を搬出する基板保持器搬出部１３０Ｃが設けられている。

真空槽１０２内には、基板保持器搬送機構１０３の上部に第１の処理領域１０４が設けられるとともに基板保持器搬送機構１０３の下部に第２の処理領域１０５が設けられ、搬送駆動部材１３３の上側の往路側搬送部１３３ａが、第１の処理領域１０４を直線的に第１の搬送方向Ｐ１に沿って通過するように構成され、下側の復路側搬送部１３３ｃが、第２の処理領域１０５を直線的に第２の搬送方向Ｐ２に沿って通過するように構成されている。

そして、基板保持器搬送機構１０３の搬送折り返し部１３０Ｂの近傍には、基板保持器１１１を上下関係を維持した状態で第１の搬送方向Ｐ１から第２の搬送方向Ｐ２へ方向転換する方向転換機構１４０が設けられている。

一方、真空槽１０２内の基板保持器搬送機構１０３の駆動輪１３１に隣接する位置には、基板保持器搬入搬出機構１０６が設けられている。

この基板保持器搬入搬出機構１０６は、昇降機構１６０によって鉛直上下方向に駆動される駆動ロッド１６１の上端部に設けられた支持部１６２を有し、この支持部１６２上に設けられた搬送ロボット１６４上に上述した基板保持器１１１を支持して基板保持器１１１を鉛直上下方向に移動させるようになっている。

そして、この搬送ロボット１６４を用い、基板保持器搬入搬出機構１０６から基板保持器搬送機構１０３の基板保持器導入部１３０Ａに対して基板保持器１１１を搬入し、かつ、基板保持器搬送機構１０３の基板保持器排出部１３０Ｃから搬出される基板保持器１１１を基板保持器搬入搬出機構１０６で搬入できるように構成されている。

真空槽１０２には、真空槽１０２内に基板保持器１１１を搬入し且つ真空槽１０２から基板保持器１１１を搬出するための搬入搬出室１０２Ａが設けられている。

この搬入搬出室１０２Ａは、例えば上述した基板保持器搬入搬出機構１０６の支持部１６２の上方の位置に設けられており、例えば搬入搬出室１０２Ａの上部には、開閉可能な蓋部１０２ａが設けられている。

このような従来技術において基板上への処理を行う場合には、処理前の基板を保持した基板保持器１１１を搬入搬出室１０２Ａを介して真空槽１０２内に搬入するか、処理前の基板を（基板保持器搬入搬出機構１０６の支持部１６２上の搬送ロボット１６４に保持している基板保持器１１１に保持された）処理済みの基板と入れ替え、処理前の基板を保持した基板保持器１１１を真空槽１０２内の上部に配置した基板保持器搬入搬出機構１０６の支持部１６２上の搬送ロボット１６４に保持させる。その後、支持部１６２を下降し、基板保持器搬入搬出機構１０６から基板保持器搬送機構１０３の基板保持器導入部１３０Ａに基板保持器１１１を搬入する。

一方、処理済の基板、またはを保持した基板保持器１１１を、真空槽１０２の外部に搬出する場合には、基板保持器搬入搬出機構１０６の支持部１６２を真空槽１０２内の下部に配置し、搬送ロボット１６４によって基板保持器１１１を基板保持器搬送機構１０３の基板保持器搬出部１３０Ｃから基板保持器搬入搬出機構１０６側に取り出して搬送ロボット１６４に保持させた後、基板保持器搬入搬出機構１０６の支持部１６２を上昇させ、基板搬入搬出室１０２Ａを介して基板保持器１１１あるいは処理済の基板を大気中に取り出す。

しかし、従来技術では、基板保持器１１１の搬出入の際に基板保持器搬入搬出機構１０６の支持部１６２を昇降させて基板保持器１１１を上下方向に搬送し、搬送ロボット１６４によって基板保持器１１１の搬入及び搬出を行うため、基板保持器１１１が保持する基板の数が増加するに伴い、単位時間当たりの処理の効率を向上させることが困難であった。これに加え、基板保持器１１１を搬送駆動部材１３３に搬入する際に発生する接触摩耗を起因とするダストの発生を低減させることも品質向上の面から求められていた。

国際公開第２０１７／１０４８２６号公報

本発明は、このような従来の技術の課題を考慮してなされたもので、その目的とするところは、環状かつ等速運動を行う搬送駆動部材を用いて基板保持器の搬送を行う搬送駆動機構において、基板保持器を搬送駆動部材に受け渡す際にダストの発生を低減させることができるともに単位時間当たりの基板処理の効率を向上させることができる技術を提供することにある。

上記目的を達成するためになされた本発明は、環状かつ等速運動を行う搬送駆動部材と、前記搬送駆動部材に向って基板保持器が通過する搬送経路と、前記搬送駆動部材に付随し、前記搬送経路を通過する駆動部とを有し、前記駆動部の前記搬送経路における通過速度が、前記搬送駆動部材の等速運動から導かれる非線形速度となるように構成され、前記搬送経路において、前記基板保持器を、前記駆動部の非線形速度を目標値とする所定の速度で搬送することにより、前記駆動部の位置に対して前記基板保持器の相対位置を同期させる位置同期手段を備える搬送駆動機構である。
本発明は、前記搬送駆動部材が、鉛直面方向に向けて配置された円形の駆動輪に架け渡されるとともに、前記駆動部が、前記搬送駆動部材の移動方向に対して直交する方向に延び且つ前記基板保持器の被駆動部と接触して当該被駆動部を駆動するための接触面を有し、前記搬送経路が前記駆動輪の上方に配置され、前記駆動部が前記駆動輪の縁部の軌跡に沿って円弧状に上方に移動し、前記駆動部の接触面が水平方向に対して傾斜した状態で前記搬送経路内に進入して前記基板保持器の被駆動部に接近するように構成されている搬送駆動機構である。
本発明は、前記基板保持器の被駆動部が円柱形状に形成され、前記搬送経路に沿って前記基板保持器を搬送する際に前記被駆動部の回転軸線が水平方向に向けられた場合において、前記駆動輪の半径をｒとし、前記駆動輪の角速度をωとし、前記駆動輪の中心と前記基板保持器の被駆動部の回転軸線との鉛直方向についての距離をｈとし、前記駆動部の水平方向に対する傾斜角をθとしたときに、前記基板保持器の搬送速度ｖを、
ｖ＝ｈω／ｓｉｎ²θ
に設定する搬送駆動機構である。
本発明は、前記基板保持器の被駆動部が円柱形状に形成され、前記搬送経路に沿って前記基板保持器を搬送する際に前記被駆動部の回転軸線が水平方向に向けられた場合において、前記駆動輪の半径をｒとし、前記駆動輪の角速度をωとし、前記駆動輪の中心と前記基板保持器の被駆動部の回転軸線との鉛直方向についての距離をｈとし、前記基板保持器の被駆動部の半径をｂとし、前記駆動部の水平方向に対する傾斜角をθとしたときに、前記基板保持器の搬送速度ｖ_bを、
ｖ_b＝ｈω／ｓｉｎ²θ＋（ｃｏｓθ／ｓｉｎ²θ）ｂω
に設定する搬送駆動機構である。
本発明は、前記搬送経路において前記基板保持器の位置決めを行う位置決め機構を備え、当該位置決め機構が、所定のタイミングで前記搬送経路内に配置され、かつ、所定のタイミングで前記搬送経路から退避可能なストッパを有している搬送駆動機構である。

本発明にあっては、搬送駆動部材に向って基板保持器が通過する搬入搬送経路において、基板保持器を、搬送駆動部材の駆動部の非線形速度を目標値とする所定の速度で搬送することにより、当該駆動部の位置に対して基板保持器の相対位置を同期させるようにしたことから、搬入搬送経路における搬送駆動部材の速度と同等の速度で基板保持器を移動させながら基板保持器を搬送駆動部材に搬入することができ、これにより搬送駆動部材の駆動部が通過する搬入搬送経路において駆動部を基板保持器に接触させることなく移動させることができるので、当該駆動部と基板保持器との接触による摩耗に起因するダストの発生を防止することができ、その結果、真空中で成膜等の処理を行う装置において基板へのコンタミネーションを抑制することができる。

これに加え、搬入搬送経路において基板保持器の位置決めを行う位置決め機構を備え、当該位置決め機構が、所定のタイミングで搬送経路内に配置され、かつ、所定のタイミングで搬送経路から退避可能なストッパを有している場合には、例えば搬送ローラによって基板保持器を搬送方向に沿って搬送する際に、搬送駆動部材の駆動部の位置と基板保持器の相対位置に関し、より同期精度の向上及び位置決め時間の短縮を実現させることができ、単位時間当たりの処理効率の向上に寄与する。

これにより搬送ロボットによって基板保持器を搬送駆動部材に搬入する従来技術に比べ、基板保持器を搬送駆動部材に搬入する時間を短縮でき、また鉛直上下方向への移動方向の変化を要しないことが付加されたことにより、単位時間当たりの基板処理効率を大幅に向上させることができる。

そして、このような本発明を真空中で成膜等の処理を行う装置に適用すれば、ダスト発生の問題を生じさせることなく単位時間当たりの基板処理枚数を向上させることができる。

また上述した基板へのコンタミネーションの抑制の技術は、基板保持器への着膜を起因とするメンテナンスや、基板保持器の摩耗によるメンテナンスの頻度を低下させることも可能になり、この面からも真空処理装置の単位時間当たりの処理枚数の向上に寄与することができる。

（ａ）（ｂ）：本発明に係る搬送駆動機構を有する真空処理装置の実施の形態の全体を示す概略構成図 同搬送駆動機構の要部を示す概略構成図 （ａ）（ｂ）：本実施の形態に用いる基板保持器の構成を示すもので、図３（ａ）は平面図、図３（ｂ）は正面図 （ａ）〜（ｃ）：基板保持器を搬送駆動部材に搬入する動作を示す説明図（その１） （ａ）〜（ｃ）：基板保持器を搬送駆動部材に搬入する動作を示す説明図（その２） （ａ）（ｂ）：基板保持器の搬送速度の具体例を説明するための図 基板保持器の搬送速度の具体例を説明するための図 従来技術に係る真空処理装置の全体を示す概略構成図

以下、本発明の実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。

図１（ａ）（ｂ）は、本発明に係る搬送駆動機構を有する真空処理装置の実施の形態の全体を示す概略構成図、図２は、同搬送駆動機構の要部を示す概略構成図である。

図１（ａ）（ｂ）に示すように、本実施の形態の真空処理装置１は、順に隣接するように配列された、基板搬出入室２と、搬送室３と、仕込取出室４と、位置決め室５と、真空槽６とを有している。

本実施の形態では、基板搬出入室２、搬送室３、仕込取出室４、位置決め室５、真空槽６は、ほぼ直線上に並ぶように配置されている。

基板搬出入室２は、真空処理装置１と外部との間で処理前又は処理済の基板のみ、あるいは当該基板を保持した基板保持器１０を搬出入するもので、真空槽６の外部に設けられている。

基板搬出入室２の内部には、基板保持器１０を水平に支持して搬送（搬入・搬出）するための支持ローラ２０が設けられている。なお、本実施の形態の基板搬出入室２は、上下方向に昇降可能に設けられている。

搬送室３は、基板搬出入室２の側部に接続されている。

搬送室３内には、基板搬出入室２から搬入された基板保持器１０を水平に支持して仕込取出室４に搬出する上側搬送ローラ３０と、仕込取出室４から搬入された基板保持器１０を支持して基板搬出入室２に搬出する下側搬送ローラ３１とが設けられている。

仕込取出室４は、搬送室３の側方に近接して配置されており、仕込取出室４の搬送室３と対向する部分には、搬入側と搬出側の一対のドアバルブ４５が設けられている。

また、仕込取出室４は、搬入側と搬出側の一対のドアバルブ４６を介して位置決め室５の側部に接続されている。そして、本実施の形態の仕込取出室４は図示しない真空排気装置に接続されている。

仕込取出室４内には、搬送室３から搬入された基板保持器１０を水平に支持して位置決め室５に搬出する上側搬送ローラ４０と、位置決め室５から搬入された基板保持器１０を水平に支持して搬送室３に搬出する下側搬送ローラ４１とが設けられている。

位置決め室５は、基板保持器１０を真空槽６内に搬入する際に基板保持器１０の位置決めを行うもので、真空槽６の側部に接続されている。

位置決め室５内には、仕込取出室４から搬入された基板保持器１０を水平に支持して真空槽６に搬出する上側搬送ローラ５０と、真空槽６から搬入された基板保持器１０を水平に支持して仕込取出室４に搬出する下側搬送ローラ５１とが設けられている。

なお、位置決め室５の上側搬送ローラ５０、仕込取出室４の上側搬送ローラ４０、搬送室３の上側搬送ローラ３０は、同一の高さ位置において基板保持器１０を支持するように構成され、また基板搬出入室２の支持ローラ２０は、基板搬出入室２の昇降により搬送室３の上側搬送ローラ３０と同一の高さ位置において基板保持器１０を支持するように構成されている。

そして、これら支持ローラ２０、上側搬送ローラ３０、４０、５０の上方に、基板保持器１０を真空槽６内に搬入するための後述する搬入搬送経路７（図４（ａ）〜（ｃ）及び図５（ａ）〜（ｃ）参照）が形成されている。

また、図示はしないが、下側搬送ローラ３１、４１、５１の上方に、基板保持器１０を真空槽６から搬出するための（搬入搬送経路７と同等の）搬出搬送経路が形成されている。

支持ローラ２０、上側搬送ローラ３０、４０は、図示しないローラ駆動機構によって所定方向に所定速度で回転駆動されるように構成されている。

これら支持ローラ２０、上側搬送ローラ３０、４０、下側搬送ローラ３１、４１、ドアバルブ４５、４６、基板搬出入室２の昇降、仕込取出室４の減圧や大気圧への復圧等、各構成の動作については、真空処理装置１の制御部（図示せず）により制御され、後述するローラ制御部５３と連携して基板保持器１０の搬入及び搬出を行うことによって、処理前の基板を真空槽６へ搬入し、処理済の基板を搬出できるように構成されている。

この場合、真空処理装置１の制御部をローラ制御部５３の上位制御系として構成し、またはローラ制御部５３を真空処理装置１の制御部のサブシステムとして構成することができる。

位置決め室５の上側搬送ローラ５０は、例えば図２に示すように、ローラ駆動機構５２によって回転駆動されるもので、このローラ駆動機構５２は、ローラ制御部５３に接続されている。

ローラ制御部５３は、基板保持器１０が後述する位置同期が実現可能となるような所定速度で搬送されるように、上側搬送ローラ５０の回転速度を制御するものである。

本実施の形態では、これら上側搬送ローラ５０、ローラ駆動機構５２及びローラ制御部５３によって本発明の位置同期手段が構成されている。

一方、位置決め室５の上側搬送ローラ５０の例えば上方には、上側搬送ローラ５０によって搬送される基板保持器１０を所定の位置に位置決めするための位置決め機構５４が設けられている。

この位置決め機構５４は移動可能なストッパ５５を有し、このストッパ５５が所定のタイミングで搬入搬送経路７内に配置され、搬送中の基板保持器１０の所定の部分（例えば基板保持器１０の後述する第２の被駆動部１２）と接触することにより基板保持器１０を所定の位置に停止させ、その後、所定のタイミングで搬入搬送経路７からストッパ５５を退避させて基板保持器１０との接触を解除するように構成されている。

図１（ａ）（ｂ）に示すように、真空槽６内には、基板保持器１０を搬送する基板保持器搬送機構１５が設けられている。

本実施の形態の基板保持器搬送機構１５は、例えばスプロケット等からなる、図示しない駆動機構から回転駆動力が伝達されて動作する円形の第１及び第２の駆動輪６１、６２を有し、これら第１及び第２の駆動輪６１、６２は、それぞれ鉛直面方向に向けて、また所定距離をおいて、配置されている。

第１及び第２の駆動輪６１、６２には例えばコンベヤチェーン等からなる一連の搬送駆動部材１６が架け渡され、これにより搬送駆動部材１６は環状に形成されるとともに、等速で直線移動及び回転移動するように構成されている。

なお厳密には、等速で直線移動する箇所は第１及び第２の駆動輪６１、６２のピッチ円であり、これらを結ぶピッチ線である。図４（ａ）〜（ｃ）、図５（ａ）〜（ｃ）、図６（ａ）（ｂ）及び図７に描かれている搬送駆動部材１６については、このピッチ円及びピッチ線に相当する部分が示されている。

本実施の形態では、第１及び第２の駆動輪６１、６２に搬送駆動部材１６が架け渡された二つの構造体が所定の距離をおいて平行に配置され、これら一対の構造体を有する基板保持器搬送機構１５によって基板保持器１０を搬送するように構成されている。

搬送駆動部材１６には、基板保持器１０の第１の被駆動部１１と接触して当該基板保持器１０を搬送駆動部材１６の移動方向に搬送するための複数の駆動部１７が付随して設けられている。

駆動部１７は、一定の間隔をおいて搬送駆動部材１６に設けられ、搬送駆動部材１６の外方に向かって突出し、搬送駆動部材１６の移動方向に対して直交する方向に延びる接触面１８を有している（例えば図５（ａ）参照）。

駆動部１７は、例えばＪフック形状（搬送方向上流側の突部の高さが搬送方向下流側の突部の高さより高くなるような形状）に形成され、基板保持器搬送機構１５の第１の駆動輪６１に沿って円弧状に上方に移動して接触面１８が後述する搬入搬送経路７内に進入するようにその形状及び寸法が設定されている（図５（ａ）参照）。

なお、本明細書では、駆動部１７は、簡略化して棒状又はＬ字形状に描かれている。

そして、搬送駆動部材１６のうち上側の部分に、第１の駆動輪６１から第２の駆動輪６２に向って基板保持器１０を搬送する往路側搬送部１６ａが形成されるとともに、第２の駆動輪６２の周囲の部分の搬送駆動部材１６によって基板保持器１０の搬送方向を折り返して反対方向に転換する折り返し部１６ｃが形成され、さらに、搬送駆動部材１６のうち下側の部分に、第２の駆動輪６２から第１の駆動輪６１に向って基板保持器１０を搬送する復路側搬送部１６ｂが形成されている。

本実施の形態の基板保持器搬送機構１５は、各搬送駆動部材１６の上側に位置する往路側搬送部１６ａと、各搬送駆動部材１６の下側に位置する復路側搬送部１６ｂとがそれぞれ対向し、鉛直方向に関して重なるように構成されている。

本実施の形態では、基板保持器１０を位置決め室５から基板保持器搬送機構１５に向って水平方向に搬送する方向を「搬送方向」とする。また、搬入搬送経路７から往路側搬送部１６ａへ向かう方向を「搬入搬送方向」、復路側搬送部１６ｂから下側搬送ローラ３１、４１、５１の上方の搬送経路へ向かう方向を「搬出搬送方向」とも説明する。

図１（ｂ）に示すように、真空槽６内には、第１及び第２の処理領域６ａ、６ｂが設けられている。

本実施の形態では、真空槽６内において、基板保持器搬送機構１５の上部に、例えばスパッタリングを行う第１の処理領域６ａが設けられ、基板保持器搬送機構１５の下部に、例えばスパッタリングを行う第２の処理領域６ｂが設けられている。

ここで、上述した搬送駆動部材１６の往路側搬送部１６ａが、上記第１の処理領域６ａを直線的に水平方向に通過するように構成され、復路側搬送部１６ｂが、上記第２の処理領域６ｂを直線的に水平方向に通過するように構成されている。

そして、これら搬送駆動部材１６の往路側搬送部１６ａ及び復路側搬送部１６ｂを基板保持器１０が通過する場合に、基板保持器１０に保持された複数の基板が水平状態で搬送されるようになっている。

図２に示すように、一対の搬送駆動部材１６の往路側搬送部１６ａの近傍には、搬送する基板保持器１０を支持する複数の基板保持器支持ローラ６５がそれぞれ設けられている。

基板保持器支持ローラ６５は、位置決め室５の上側搬送ローラ５０と同一の高さ位置において基板保持器１０を支持するように構成されている。また図示しての説明は行わないが、搬送駆動部材１６もピッチ線が維持できるように同様の支持がなされるように構成されている。

図３（ａ）（ｂ）は、本実施の形態に用いる基板保持器の構成を示すもので、図３（ａ）は平面図、図３（ｂ）は正面図である。

本実施の形態に用いる基板保持器１０は、例えば基板１３を保持してその両面上に真空処理を行うためのもので、開口部を有するトレイ状のものからなる。

図３（ａ）に示すように、本実施の形態の基板保持器１０は、例えば長尺矩形の平板状に形成され、搬送方向、並びに、搬送方向に対して直交する方向（本実施の形態では基板保持器１０の長手方向）に例えば矩形状の複数の基板１３を複数列に並べてそれぞれ保持するように構成されている。

一方、基板保持器１０の搬送方向に対して直交する方向の両端部には、搬送方向前方側の端部に第１の被駆動部１１がそれぞれ設けられ、また、搬送方向後方側の端部に第２の被駆動部１２がそれぞれ設けられている。

これら第１及び第２の被駆動部１１、１２は、それぞれ基板保持器１０の長手方向即ち搬送方向に対して直交する方向に延びる円柱形状に形成されている。

そして、第１及び第２の被駆動部１１、１２は、搬入搬送経路７に沿って基板保持器１０を搬送する際にその軸線が水平方向に向けられる。

本実施の形態では、搬送駆動部材１６の往路側搬送部１６ａにおいて、駆動部１７の接触面１８が基板保持器支持ローラ６５によって支持された基板保持器１０の第１の被駆動部１１と接触して当該基板保持器１０を搬送方向に搬送するように構成されている。

以下、本明細書では、第１の被駆動部１１を適宜被駆動部１１という。

図１（ｂ）に示すように、基板保持器搬送機構１５の第２の駆動輪６２の近傍には、方向転換機構６３が設けられている。

ここで、方向転換機構６３は、例えば一連の環状に形成された反転部６４を有し、この反転部６４に設けられた複数の支持部（図示せず）と、上記搬送駆動部材１６の折り返し部１６ｃに設けられた複数の支持部（図示せず）とによって各基板保持器１０を支持し、各基板保持器１０を上下関係を維持した状態で往路側搬送部１６ａから復路側搬送部１６ｂに向って折り返して搬送するように構成されている。

なお、図示はしないが、搬送駆動部材１６の復路側搬送部１６ｂの近傍には基板保持器１０を支持する基板保持器支持ローラが設けられ、また搬送駆動部材１６もピッチ線が維持できるように支持がなされ、駆動部１７が基板保持器支持ローラによって支持された基板保持器１０の被駆動部１１と接触して当該基板保持器１０を上記搬送方向と反対方向に搬送するように構成されている。

次に、本実施の形態の真空処理装置１の動作を説明する。

なお、以下の説明では、理解を容易にするため、真空槽６において通過成膜が行われている状況下で、一つの基板保持器１０に注目し、これを真空槽６内の搬送駆動部材１６に搬入する場合を例にとって説明する。

また、本明細書では、水平方向に搬送される基板保持器１０の第１及び第２の被駆動部１１、１２の軸線を通る領域であり、後述する駆動部１７の接触面１８が鉛直方向に向けて起立した状態（図６（ａ）（ｂ）に示すθ＝９０°の状態）を境界として、前記境界から第２の駆動輪６２側を往路側搬送部１６ａとし、ドアバルブ４６側を搬入搬出経路７とする。復路側搬送部１６ｂ及び搬出搬送側経路もまた同様の領域とする。

本実施の形態では、まず、基板搬出入室２内に一つの基板保持器１０が存在しているとして、これを支持ローラ２０によって支持した後、基板搬出入室２を上昇して支持ローラ２０の高さ位置を搬送室３の上側搬送ローラ３０の高さ位置と同じになるようにする。処理前／処理済の基板については、前述した作業中のいずれかの機会で交換される。当然、基板は基板保持器１０と共に交換されてもよい。

そして、基板搬出入室２の支持ローラ２０を回転させ、処理前の基板を保持した基板保持器１０を搬送室３内に搬入し、これを上側搬送ローラ３０によって支持し、さらに上側搬送ローラ３０を回転させて基板保持器１０を一方のドアバルブ４５を介して仕込取出室４内に搬入し、上側搬送ローラ４０によって支持する。

この際、仕込取出室４内の下側搬送ローラ４１によって支持されている、処理済の基板を保持した基板保持器１０を、同時に仕込取出室４内から搬送室３の下側３１へ搬出することが好ましい。これは、搬入／搬出側双方のドアバルブ４５を同時に開閉することが後述する仕込取出室４内の隔壁に対して交番応力を与えず、かつ、単位時間当たりの基板処理効率の可能になるからである。

ここで、一方のドアバルブ４５を閉じて仕込取出室４内の真空排気を行い、位置決め室５（または真空槽６）と同等の圧力となった後、他方のドアバルブ４６を開いて仕込取出室４と位置決め室５とを連通させる。

なお、連通するタイミングは、先行する基板保持器１０の図５（ｃ）に示す搬送方向上流側の端部が、搬送駆動部材１６の等速運動（通過成膜を連続的に実施している状況）により、第１の駆動輪６１付近を通過する時点で行うことが好ましい。

このタイミングであれば先行する基板保持器１０に対し、搬入搬送経路７において仕込取出室４から位置決め室５に搬入される基板保持器１０が追突する危険性がなく搬入ができ、かつ、同時期に搬出搬送経路において、位置決め室５内の下側搬送ローラ５１上に搬出された処理済の基板を保持した基板保持器１０を、位置決め室５から仕込取出室４へと搬出することが可能になる。つまり、基板保持器１０の搬入及び搬出を同時期行うことが可能になり、搬入／搬出側双方のドアバルブ４６を同時に開閉することができ、これにより仕込取出室４内の隔壁に対して交番応力を与えず、かつ、単位時間当たりの基板処理効率の向上が可能になる。

なお、ドアバルブ４６は、図４（ｂ）に示す状態の近傍のタイミングで閉とし（これによりドアバルブ４６が基板保持器１０を挟み込むことを回避した上で位置決め室５の搬送方向についての寸法を最小とすることができる）、仕込取出室４を真空から大気圧へと昇圧することで、ドアバルブ４５を空けることができ、これにより処理済の基板を保持した基板保持器１０を搬送室３に搬出することが可能になる。

さらに、仕込取出室４の上側搬送ローラ４０を回転させて基板保持器１０を位置決め室５内に搬入し、上側搬送ローラ５０を所定の速度で回転させながら上側搬送ローラ５０によって基板保持器１０を支持する。

この場合、本実施の形態では、位置決め機構５４のストッパ５５を搬入搬送経路７から退避させておき、基板保持器１０の第１の被駆動部１１が位置決め機構５４の位置を通過した後、ストッパ５５を搬入搬送経路７内に配置する（図４（ａ）参照）。

そして、ローラ駆動機構５２（図２参照）を動作させて位置決め室５の上側搬送ローラ５０を所定の速度で回転させ、基板保持器１０を搬送方向に搬送する。

さらに、基板保持器１０の先端部が第１の駆動輪６１付近に存在する基板保持器支持ローラ６５によって支持（これにより基板保持器１０の第１の被駆動部１１の鉛直方向の位置を安定化することができる）される近傍の位置において、基板保持器１０の第２の被駆動部１２が位置決め機構５４のストッパ５５に接触する。この接触直前のタイミングで位置決め室５の上側搬送ローラ５０への駆動力を供給遮断（フリーラン）することにより、基板保持器１０は、その合計質量からなる運動エネルギーが、接触している上側搬送ローラ５０の粘性抵抗（例えばローラ駆動機構である回転導入機構部が保持する回転抵抗）等に吸収されていくことで、指数関数的に減速された状態となり、最終的に位置決め機構５４のストッパ５５に接触させるようになっている。これによりダストが発生することなく基板保持器１０の移動が停止する（図４（ｂ）参照）。

先に説明した、仕込取出室４と位置決め室５とを連通させるタイミングにおいて先行する基板保持器１０に対する追突を生じさせないことに加え、図４（ａ）（ｂ）に示すように、搬入時に搬送駆動部材１６の駆動部１７と基板保持器１０の第１の被駆動部１１が干渉することなく、かつ、駆動部１７が基板保持器１０の下方に近接する位置にあるタイミングで、第２の被駆動部１２と位置決め機構５４のストッパ５５との接触事象を発生させる。このようにすることで駆動部１７の外方突出寸法小さくすることが可能になり、これらを近接させるほど、装置の小型化に寄与できる。

その後、搬送駆動部材１６の駆動を継続すると、第１の駆動輪６１の縁部の軌跡に沿って駆動部１７が円弧状に上方に移動して更に基板保持器１０の被駆動部１１に接近する（図４（ｃ）参照）。

そして、基板保持器１０の被駆動部１１に駆動部１７の接触面１８が接触する以前の所定のタイミングで位置決め機構５４のストッパ５５を搬入搬送経路７から退避させる。なお、従来技術では、被駆動部１１に駆動部１７の接触面１８を接触させ、駆動力を被駆動部１１に伝えることにより、搬送駆動部材１６と各基板保持器１０との同期を行っていた。

更に搬送駆動部材１６の駆動を継続すると、駆動部１７が第１の駆動輪６１の縁部の軌跡に沿って円弧状に上方に移動して接触面１８の上側端部が搬入搬送経路７に進入する（図５（ａ）参照）。

そして、駆動部１７の接触面１８が基板保持器１０の被駆動部１１に接触する直前のタイミングで位置決め室５の上側搬送ローラ５０の駆動を再開する。

駆動が再開された上側搬送ローラ５０は、ローラ制御部５３及びローラ駆動機構５２により、駆動部１７の接触面１８が基板保持器１０の被駆動部１１に接触しないように制御され、駆動部１７の接触面１８が鉛直方向に向けて起立した状態（図６（ａ）（ｂ）に示すθ＝９０°の状態）近傍に配置される以降のタイミングで駆動部１７の接触面１８が基板保持器１０の被駆動部１１に接触するように、駆動部１７の位置と基板保持器１０の被駆動部１１との相対位置に関して同期制御を行う。

このように制御することで被駆動部１１の駆動部１７の接触面１８上における滑り接触をなくすことにより、または最低でも滑り接触時の接触面１８に対する面圧を減じる効果を産むことにより、ダストの発生を減じることが可能になる。

本発明において、基板保持器１０の搬送速度をこのように制御するのは、次の理由によるものである。

すなわち、上述したように、搬送駆動部材１６の駆動部１７は、第１の駆動輪６１の縁部の軌跡に沿って円弧状に上方に移動する際に、接触面１８が水平方向に対して搬送方向下流側に傾斜した状態で搬入搬送経路７に進入する（図５（ａ）参照）。

そして、基板保持器１０の被駆動部１１が水平方向に移動する一方で、駆動部１７の接触面１８は、水平方向に対する傾斜角度が大きくなりながら上方に移動する（図５（ｂ）（ｃ）参照）。

したがって、このように傾斜角度が変化する駆動部１７の接触面１８を基板保持器１０の被駆動部１１に当接させ、基板保持器１０に対して駆動力を接触伝達させた場合には、基板保持器１０の被駆動部１１は、搬送駆動部材１６の駆動部１７の接触面１８上を滑りながら駆動部１７によって駆動されることになり、ダストの発生の原因となる。

また駆動部１７の接触面１８と基板保持器１０の被駆動部１１の当接においては、当接箇所から被駆動部１１に対して第１の駆動輪６１の接線方向の駆動力が加えられると同時に、反力として被駆動部１１から駆動部１７に対して基板保持器１０の質量及び上側搬送ローラ５０の抵抗等の合力が作用する。この駆動力と反力は搬入搬送経路７においては一致しないため（往路側搬送部１６ａ等では一致する）モーメント荷重が発生してしまい、駆動部１７を所定位置から傾斜させるなどの現象を誘発し、ダストの発生の原因となっている。また、当接の際接触面１８における面圧の印加方向も、接触面１８に対して直角となり得ないことから、よりダスト発生の原因となっている。

そこで、本発明においては、搬入搬送経路７において、基板保持器１０を、搬送駆動部材１６の駆動部１７の非線形に変化する速度を目標値として所定の速度で搬送することにより、駆動部１７の位置に対して基板保持器１０の相対位置を同期させるようにする。

このように制御することにより、搬入搬送経路７における駆動部１７の接触面１８と基板保持器１０の被駆動部１１の当接を生じさせることがないか、あるいは当接箇所における面圧を減じることが可能となり、結果として成膜の問題が発生しない。

図６（ａ）（ｂ）及び図７は、基板保持器の搬送速度の具体例を説明するための図である。

ここでは、第１の駆動輪６１の半径をｒとし、第１の駆動輪６１の角速度をωとし、第１の駆動輪６１の中心Ｏと基板保持器１０の被駆動部１１の回転軸線との鉛直方向についての距離をｈとし、搬送駆動部材１６の駆動部１７の接触面１８の水平方向に対する傾斜角をθとする。

搬送駆動部材１６に設けられた駆動部１７は、上述したように、第１の駆動輪６１の縁部の軌跡に沿って円弧状に移動し、駆動部１７の接触面１８は、水平方向に対して傾斜した状態から鉛直方向に向けて起立するようにその姿勢が変化する。

ここで、駆動部１７の接触面１８が搬入搬送経路７内に進入し、駆動部１７の接触面１８が基板保持器１０の被駆動部１１に接触可能な状態（あるいは面圧がゼロではないが、ダストが発生し得ない微小な面圧が生じた状態）になった後、駆動部１７の接触面１８の水平方向に対する傾斜角がθである状態から、駆動部１７の接触面１８が鉛直方向に向けて起立した状態（θ＝９０°）になるまでの、駆動部１７が非線形速度で移動する領域について考える（図６（ａ）（ｂ）参照）。

この場合、基板保持器１０の被駆動部１１の移動距離をｘとすると、
ｘ＝−ｈ／ｔａｎθで表されるから、
駆動部１７の接触面１８の搬入搬送経路７における速度（成分）は、
ｄｘ／ｄｔ＝ｈω／ｓｉｎ²θ
となり、非線形に変化する。

このことからすると、駆動部１７の接触面１８が基板保持器１０の被駆動部１１に接触する直前に、基板保持器１０の搬送速度ｖを、
ｖ＝ｈω／ｓｉｎ²θ
となるように設定すれば、駆動部１７の接触面１８を基板保持器１０の被駆動部１１に接触（または当初の面圧を増加）させることなく、また基板保持器１０の被駆動部１１と駆動部１７の接触面１８との間の距離を変化させることなく基板保持器１０を搬送することが可能になる。

そして、駆動部１７の接触面１８が直立した後は、駆動部１７は水平方向に等速で直線運動をするから、例えば駆動部１７の接触面１８が直立する直前に上側搬送ローラ５０の回転を停止し、上側搬送ローラ５０及び基板保持器支持ローラ６５上において基板保持器１０を慣性力で走行させて減速し、駆動部１７の接触面１８を基板保持器１０の被駆動部１１に接触させる（図５（ｃ）参照）。

これにより基板保持器１０の搬送駆動部材１６（往路側搬送部１６ａ）への搬入が終了する。

なお、本例においては、基板保持器１０の搬送速度ｖを、ｖ＝ｈω／ｓｉｎ²θに対して若干増減するように設定を変更することができる。

要するに、搬入搬送経路７において、駆動部１７の接触面１８が基板保持器１０の被駆動部１１に接触しないように基板保持器１０を搬送すればよい。

つまり、ダスト発生を極小とする観点から搬送速度ｖを増減することを考えた場合、駆動部１７の接触面１８が鉛直方向に向けて起立した状態（θ＝９０°）の近傍においては基板保持器１０の被駆動部１１の滑り成分も極小となることが利用できる。すなわち、基板保持器１０の搬送駆動力はθ＝９０°となる以前の近傍において駆動部１７が支配的となるように、搬送速度ｖをθに対して若干増減するように設定することが考えられる。

このように設定することで、駆動部１７の接触面１８と基板保持器１０の被駆動部１１の間に生じる面圧に、衝撃的な変化が発生しないため、結果としてダスト発生が抑えられる。なお、基板保持器１０と上側搬送ローラ５０駆動力の伝達は、基板保持器１０の自重を垂直抗力とする摩擦伝動を利用しているため、仮に一連の制御において多少の位置誤差が生じるとしても、この摩擦伝動部分で吸収される。

ところで、以上の説明は基板保持器１０の被駆動部１１が太さが０であるとした言わば理想状態から算出したものであるが、実際には、基板保持器１０の被駆動部１１は太さが０ではないから、これを考慮する必要がある。

まず、図７に示すように、駆動部１７の接触面１８が搬入搬送経路７に進入して直立するまでに移動する距離は、次のように考えることができる。

ここでは、基板保持器１０の被駆動部１１の太さの半径をｂとする。

まず、第１の駆動輪６１の中心と基板保持器１０の被駆動部１１の回転軸線を通る直線が水平方向に対する角度がθである場合において、搬送駆動部材１６の駆動部１７の接触面１８が搬入搬送経路７に進入して基板保持器１０の被駆動部１１と接触する場合を考えると、搬送駆動部材１６の駆動部１７と基板保持器１０の被駆動部１１との接触部分と、被駆動部１１の回転軸線との距離は、
π／２−θ
となるから、基板保持器１０の被駆動部１１と駆動部１７の接触面１８との接触部分が、基板保持器１０の被駆動部１１が直立するまでの移動距離ｘ_bは、
ｘ_b＝−ｂ／ｃｏｓ(π／２−θ)＝−ｂ／ｓｉｎθ
となる。

そして、搬送駆動部材１６の駆動部１７と基板保持器１０の被駆動部１１との接触部分の、駆動部１７の接触面１８の搬送方向即ち搬入搬送経路７についての速度（成分）は、
ｖ_b＝ｄ(ｘ＋ｘ_b)／ｄｔ
＝ｈω／ｓｉｎ²θ＋（ｃｏｓθ／ｓｉｎ²θ）ｂω
となる。

したがって、駆動部１７の接触面１８が基板保持器１０の被駆動部１１に接触する直前に、基板保持器１０の搬送速度ｖ_bを、
ｖ_b＝ｈω／ｓｉｎ²θ＋（ｃｏｓθ／ｓｉｎ²θ）ｂω
となるように設定すれば、駆動部１７の接触面１８を基板保持器１０の被駆動部１１に接触させることなく、また基板保持器１０の被駆動部１１と駆動部１７の接触面１８との間の距離を変化させることなく基板保持器１０を搬送することが可能になる。

このような本例によれば、実際の搬送駆動機構において、より実機に対応した設計を行うことができ、これによってダストの発生を一層抑えることができる。

なお、本例においても、基板保持器１０の搬送速度ｖ_bを、
ｖ_b＝ｈω／ｓｉｎ²θ＋（ｃｏｓθ／ｓｉｎ²θ）ｂω
に対して若干増減するように設定を変更することができる。

要するに、搬入搬送経路７において、駆動部１７の接触面１８が基板保持器１０の被駆動部１１に接触しないないように基板保持器１０を搬送すればよい。

以上の工程によって基板保持器１０を基板保持器搬送機構の搬送駆動部材１６に搬入した後、搬送駆動部材１６の往路側搬送部１６ａ上の駆動部１７によって基板保持器１０の被駆動部１１が搬送方向に駆動され、基板保持器１０が搬送駆動部材１６の往路側搬送部１６ａ上を折り返し部１６ｃに向って搬送される。

この動作の際、基板保持器１０に保持された処理前の基板の上面に対し、図１（ｂ）に示す第１の処理領域６ａを通過する際に所定の処理を行う。

処理工程の後、搬送駆動部材１６の駆動部１７を搬送方向に移動させることにより、折り返し部１６ｃに到達した基板保持器１０を方向転換機構６３によって上下関係を維持した状態で復路側搬送部１６ｂに向って折り返して搬送する。

そして、搬送駆動部材１６の復路側搬送部１６ｂの近傍に設けられた図示しない基板保持器支持ローラによって基板保持器１０を支持し、駆動部１７の駆動によって基板保持器１０を上記搬送方向と反対方向に搬送する。

その後、図１に示す第２の処理領域６ｂを通過する際に、基板保持器１０に保持された基板の下面に対して所定の処理を行う。

そして、基板保持器１０が第１の駆動輪６１の位置に到達した後、位置決め室５内の下側搬送ローラ５１によって基板保持器１０を支持して搬送方向と反対方向に搬送し、順次仕込取出室４の下側搬送ローラ４１、搬送室３の下側搬送ローラ３１によって基板保持器１０を支持搬送して基板搬出入室２内に搬入する。

基板搬出入室２は予め下降させておき、支持ローラ２０によって基板保持器１０を支持搬送して基板搬出入室２の外部に搬出する。

以上述べた本実施の形態にあっては、搬送駆動部材１６に向って基板保持器１０が通過する搬入搬送経路７において、基板保持器１０を、搬送駆動部材１６の駆動部１７の非線形速度を目標値とする所定の速度で搬送することにより、当該駆動部１７の位置に対して基板保持器１０の相対位置を同期させるようにしたことから、搬入搬送経路７において搬送駆動部材１６の搬送速度と同等の速度で基板保持器１０を移動させながら基板保持器１０を搬送駆動部材１６に搬入することができ、これにより搬送ロボットによって基板保持器１０を搬送駆動部材１６に搬入する従来技術に比べ、基板保持器１０を搬送駆動部材１６に搬入する時間を大幅に短縮することができる。

その結果、本実施の形態によれば、複数の基板保持器１０を搬送駆動部材１６に搬入する際の効率を大幅に向上させることができる。

そして、本実施の形態の真空処理装置によれば、搬送駆動部材１６に基板保持器１０を搬入／搬出する方向と同一方向で仕込取出室４へ基板保持器１０を搬入及び搬出ができるため、タクトタイムを短縮して単位時間当たりの処理枚数を向上させることができる。

そして、本実施の形態の真空処理装置１によれば、（位置決め室５と仕込取出室４間及び仕込取出室４と搬送室３間において）基板保持器１０の搬入及び搬出が同時にできるため、タクトタイムを短縮して単位時間当たりの処理枚数を向上させることができる。

一方、図示しないが仕込取出室４内において搬入及び搬出の雰囲気を仕切ることが可能な隔壁を設け、メンテナンス時のみ、一対のドアバルブ４５，４６を個別に制御するように構成すれば、搬入側あるいは搬出側のみ大気あるいは真空とする工程を実施することも可能になる。

なお、この様な個別制御はメンテナンス時のみに必要である工程であるので、隔壁の強度については個別制御することを基本としない設計が可能である。つまり、隔壁について交番応力の印加を前提とした設計としないことが可能になり、その結果として、装置が簡素化し、メンテナンス機能が向上することによる、全体の生産効率を向上させることができ、装置の単位時間当たりの処理枚数を向上させることができる。

また、本実施の形態によれば、搬送駆動部材１６の駆動部１７が通過する搬入搬送経路７において駆動部１７を基板保持器１０に接触させることなく移動させることができるので、当該駆動部１７と基板保持器１０との接触による摩耗に起因するダストの発生を防止することができ、これにより基板１３へのコンタミネーションを抑制することができ、また基板保持器１０の第１の被駆動部１１の摩耗によるメンテナンスの頻度を低下させることができる。

さらに、本実施の形態は、搬入搬送経路７において基板保持器１０の位置決めを行う位置決め機構５４を備え、当該位置決め機構５４が、所定のタイミングで搬入搬送経路７内に配置され、かつ、所定のタイミングで搬入搬送経路７から退避可能なストッパ５５を有していることから、位置決め室５の上側搬送ローラ５０によって基板保持器１０を搬送方向に沿って搬送する際に、搬送駆動部材１６の駆動部１７の位置に対して基板保持器１０の相対位置を精度良く同期させることができる。

なお、本発明は上述した実施の形態に限られず、種々の変更を行うことができる。

例えば上記実施の形態においては、真空処理を行う装置に適用した場合を例にとって説明したが、本発明はこれに限られず、大気中で所定の動作を行う装置に適用することもできる。

また、上記実施の形態においては、鉛直面方向に向けて配置された第１及び第２の駆動輪６１、６２に搬送駆動部材１６を架け渡して環状になるようにしたが、本発明はこれに限られず、搬送駆動部材が環状に形成され、搬入搬送経路内において非線形速度で搬送される限り、種々の構成を採用することができる。

１…真空処理装置
２…基板搬出入室
３…搬送室
４…仕込取出室
５…位置決め室
６…真空槽
６ａ…第１の処理領域
６ｂ…第２の処理領域
７…搬入搬送経路
１０…基板保持器
１１…第１の被駆動部（被駆動部）
１２…第２の被駆動部
１３…基板
１５…基板保持器搬送機構
１６…搬送駆動部材
１７…駆動部
１８…接触面
３０、４０、５０…上側搬送ローラ
３１、４１、５１…下側搬送ローラ
５２…ローラ駆動機構
５３…ローラ制御部
５４…位置決め機構
５５…ストッパ
６１…第１の駆動輪
６２…第２の駆動輪
６３…方向転換機構
６５…基板保持器支持ローラ

Claims (5)

1. 環状かつ等速運動を行う搬送駆動部材と、
   前記搬送駆動部材に向って基板保持器が通過する搬送経路と、
   前記搬送駆動部材に付随し、前記搬送経路を通過する駆動部とを有し、
   前記駆動部の前記搬送経路における通過速度が、前記搬送駆動部材の等速運動から導かれる非線形速度となるように構成され、
   前記搬送経路において、前記基板保持器を、前記駆動部の非線形速度を目標値とする所定の速度で搬送することにより、前記駆動部の位置に対して前記基板保持器の相対位置を同期させる位置同期手段を備える搬送駆動機構。
2. 前記搬送駆動部材が、鉛直面方向に向けて配置された円形の駆動輪に架け渡されるとともに、
   前記駆動部が、前記搬送駆動部材の移動方向に対して直交する方向に延び且つ前記基板保持器の被駆動部と接触して当該被駆動部を駆動するための接触面を有し、
   前記搬送経路が前記駆動輪の上方に配置され、
   前記駆動部が前記駆動輪の縁部の軌跡に沿って円弧状に上方に移動し、前記駆動部の接触面が水平方向に対して傾斜した状態で前記搬送経路内に進入して前記基板保持器の被駆動部に接近するように構成されている請求項１記載の搬送駆動機構。
3. 前記基板保持器の被駆動部が円柱形状に形成され、前記搬送経路に沿って前記基板保持器を搬送する際に前記被駆動部の回転軸線が水平方向に向けられた場合において、
   前記駆動輪の半径をｒとし、前記駆動輪の角速度をωとし、前記駆動輪の中心と前記基板保持器の被駆動部の回転軸線との鉛直方向についての距離をｈとし、前記駆動部の水平方向に対する傾斜角をθとしたときに、前記基板保持器の搬送速度ｖを、
   ｖ＝ｈω／ｓｉｎ²θ
   に設定する請求項２記載の搬送駆動機構。
4. 前記基板保持器の被駆動部が円柱形状に形成され、前記搬送経路に沿って前記基板保持器を搬送する際に前記被駆動部の回転軸線が水平方向に向けられた場合において、
   前記駆動輪の半径をｒとし、前記駆動輪の角速度をωとし、前記駆動輪の中心と前記基板保持器の被駆動部の回転軸線との鉛直方向についての距離をｈとし、前記基板保持器の被駆動部の半径をｂとし、前記駆動部の水平方向に対する傾斜角をθとしたときに、前記基板保持器の搬送速度ｖ_bを、
   ｖ_b＝ｈω／ｓｉｎ²θ＋（ｃｏｓθ／ｓｉｎ²θ）ｂω
   に設定する請求項２記載の搬送駆動機構。
5. 前記搬送経路において前記基板保持器の位置決めを行う位置決め機構を備え、当該位置決め機構が、所定のタイミングで前記搬送経路内に配置され、かつ、所定のタイミングで前記搬送経路から退避可能なストッパを有している請求項１乃至４のいずれか１項記載の搬送駆動機構。

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