JP6654741B1 - 真空処理装置 - Google Patents

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Abstract

本発明は、鉛直面に対する投影形状が一連の環状となるように形成された搬送経路に沿って複数の基板保持器を搬送する真空処理装置において、基板保持器の搬送時におけるダストの発生を抑制することができる技術を提供する。本発明は、鉛直面に対する投影形状が一連の環状となるように形成された搬送経路を有し単一の真空雰囲気が形成される真空槽２内において、この搬送経路の搬送方向に対して外方側に設けられた第１の駆動部３６に組み付けられた垂れ防止部材３５を有する。垂れ防止部材３５の走行ローラ５４が、基板保持器搬送機構３の下方側に位置する復路側搬送部３３ｃの下方に設けられ第２の搬送方向Ｐ２に延びるガイド部１７に案内支持されて走行し、第１の駆動部３６が基板保持器１１の第１の被駆動部１２と接触して基板保持器１１を搬送経路に沿って第２の搬送方向Ｐ２へ駆動するように構成されている。

Description

本発明は、真空中で基板保持器に保持された基板の両面に通過成膜等の真空処理を行う真空処理装置の技術に関する。
従来、複数の被処理基板をトレイ等の基板保持器に載置して通過しながら成膜等の処理を行う真空処理装置が知られており、近年では、環状の搬送経路を有する真空処理装置も提案されている。
図２２は、従来技術に係る真空処理装置の全体を示す概略構成図である。
図２２に示すように、この真空処理装置１０１は、真空排気装置１０１ａに接続された単一の真空雰囲気が形成される真空槽１０２を有している。
真空槽１０２の内部には、基板（図示せず）を保持する基板保持器１１１を搬送経路に沿って複数連続して搬送する基板保持器搬送機構１０３が設けられている。
ここで、基板保持器搬送機構１０３は、回転軸線を平行にした状態で所定距離をおいて配置された一対の駆動輪１３１、１３２に一連の搬送駆動部材１３３が架け渡された構造体が所定の距離をおいて平行に配置され、これにより鉛直面に対して一連の環状となる搬送経路が形成されている。
基板保持器搬送機構１０３には、基板保持器１１１を導入する基板保持器導入部１３０Ａと、基板保持器１１１を折り返して搬送する搬送折り返し部１３０Ｂと、基板保持器１１１を排出する基板保持器排出部１３０Ｃが設けられている。
真空槽１０２内には、基板保持器搬送機構１０３の上部に第１の処理領域１０４が設けられるとともに基板保持器搬送機構１０３の下部に第２の処理領域１０５が設けられ、搬送駆動部材１３３の上側の往路側搬送部１３３ａが、第１の処理領域１０４を直線的に第１の搬送方向Ｐ１に沿って通過するように構成され、下側の復路側搬送部１３３ｃが、第２の処理領域１０５を直線的に第２の搬送方向Ｐ２に沿って通過するように構成されている。
そして、基板保持器搬送機構１０３の搬送折り返し部１３０Ｂの近傍には、基板保持器１１１を上下関係を維持した状態で第１の搬送方向Ｐ１から第２の搬送方向Ｐ２へ方向転換する方向転換機構１４０が設けられている。
一方、真空槽１０２内の基板保持器搬送機構１０３の駆動輪１３１に隣接する位置には、基板搬入搬出機構１０６が設けられている。
この基板搬入搬出機構１０６は、昇降機構１６０によって鉛直上下方向に駆動される駆動ロッド１６１の先（上）端部に設けられた支持部１６２を有し、この支持部１６２上に設けられた搬送ロボット１６４上に上述した基板保持器１１１を支持して基板保持器１１１を鉛直上下方向に移動させるようになっている。
そして、この搬送ロボット１６４を用い、基板搬入搬出機構１０６から基板保持器搬送機構１０３の基板保持器導入部１３０Ａに対して基板保持器１１１を受け渡し、かつ、基板保持器搬送機構１０３の基板保持器排出部１３０Ｃから排出される基板保持器１１１を基板搬入搬出機構１０６で受け取るように構成されている。
図２３は、従来の基板保持器搬送機構を示す概略構成図である。
図２３に示すように、基板保持器搬送機構１０３の一対の搬送駆動部材１３３には、それぞれ所定の間隔をおいて複数の第１の駆動部１３６が環状の搬送駆動部材１３３の搬送方向に対して外方側（以下、「搬送方向外方側」という。）に突出するように設けられている。
第１の駆動部１３６は、例えばＪフック形状（搬送方向上流側の突部１３６ｂの高さが搬送方向下流側の突部１３６ａの高さより高くなるような溝部が形成された形状）に形成され、基板保持器支持機構１１８によって支持された基板保持器１１１の第１の被駆動部１１２と接触して当該基板保持器１１１を第１又は第２の搬送方向Ｐ１、Ｐ２に駆動するように構成されている。
この搬送駆動部材１３３の復路側搬送部１３３ｃの下方には、復路側搬送部１３３ｃの垂れを防止し且つガイドするための直線状のガイド部１１７が設けられ、第１の駆動部１３６の搬送方向上流側の突部１３６ｂの先端部（下端部）がガイド部１１７と接触しながら移動することによって復路側搬送部１３３ｃの垂れを防止するように構成されている。
しかし、従来技術では、第１の駆動部１３６の搬送方向上流側の突部１３６ｂの先端部がガイド部１１７と接触することによってダストが発生し、真空処理に影響を及ぼすという問題があった。
また、基板保持器搬送機構１０３の基板保持器排出部１３０Ｃから排出される基板保持器１１１を基板搬入搬出機構１０６に受け渡す時間を短縮したいという要望もあった。
特開２００７−０３１８２１号公報
本発明は、このような従来の技術の課題を考慮してなされたもので、その目的とするところは、鉛直面に対する投影形状が一連の環状となるように形成された搬送経路に沿って複数の基板保持器を搬送する真空処理装置において、基板保持器の搬送時におけるダストの発生を抑制することができる技術を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、基板保持器搬送機構の基板保持器排出部から排出される基板保持器を基板搬入搬出機構に受け渡す時間を短縮することができる技術を提供することにある。
上記目的を達成するためになされた本発明は、単一の真空雰囲気が形成される真空槽と、前記真空槽内に設けられ、基板保持器に保持された基板上に所定の真空処理を行う第１及び第２の処理領域と、鉛直面に対する投影形状が一連の環状となるように形成され、前記基板保持器を搬送する搬送経路と、第１及び第２の被駆動部を有する複数の前記基板保持器を前記搬送経路に沿って搬送する基板保持器搬送機構とを備え、前記搬送経路は、導入された前記基板保持器を水平にした状態で前記搬送経路に沿って第１の搬送方向に搬送する第１の搬送部と、前記基板保持器を水平にした状態で前記搬送経路に沿って前記第１の搬送方向と反対方向の第２の搬送方向に搬送して排出する第２の搬送部と、前記基板保持器を前記第１の搬送部から前記第２の搬送部に向って折り返して搬送する搬送折り返し部とを有し、前記第１の搬送部が、前記第１及び第２の処理領域のうち一方を通過し、かつ、前記第２の搬送部が、前記第１及び第２の処理領域のうち他方を通過するように構成され、前記基板保持器搬送機構は、前記基板保持器の第１の被駆動部と接触して当該基板保持器を前記搬送経路に沿って駆動する複数の第１の駆動部を当該搬送経路の搬送方向に対して外方側に有し、前記搬送経路の搬送折り返し部の近傍に、前記基板保持器の第２の被駆動部と接触して当該基板保持器を前記第１及び第２の搬送方向にそれぞれ駆動する複数の第２の駆動部と、前記基板保持器の第１及び第２の被駆動部を当該基板保持器を前記第１の搬送方向から前記第２の搬送方向へ方向転換するようにそれぞれ案内して搬送するための第１及び第２の方向転換経路とを有する方向転換機構が設けられ、前記基板保持器搬送機構の第１の駆動部と前記方向転換機構の第２の駆動部とを同期して動作させ、前記基板保持器の第１及び第２の被駆動部を前記方向転換機構の第１及び第２の方向転換経路に沿ってそれぞれ案内して搬送することにより、前記基板保持器を上下関係を維持した状態で前記搬送経路の第１の搬送部から第２の搬送部に受け渡すように構成され、前記基板保持器搬送機構の第１の駆動部に組み付けられて構成され、前記搬送方向に対して外方側の部分に、当該搬送方向に対して直交する方向に延びる回転軸線を中心として回転可能な走行ローラを有し、前記搬送経路の第２の搬送部を構成する搬送駆動部材の垂れを防止する垂れ防止部材が設けられるとともに、前記基板保持器搬送機構の下方側に位置する前記搬送経路の第２の搬送部の下方に、前記第２の搬送方向に延びるガイド部が設けられ、前記垂れ防止部材は、前記走行ローラが前記ガイド部に案内支持された状態で前記搬送経路の第２の搬送部に沿って走行し、かつ、前記基板保持器搬送機構の第１の駆動部が前記基板保持器の第１の被駆動部と接触して当該基板保持器を前記搬送経路に沿って第２の搬送方向へ駆動するように構成されている真空処理装置である。
本発明は、前記搬送駆動部材がコンベヤチェーンである真空処理装置である。
本発明は、前記垂れ防止部材の第１の駆動部に、下方に延び前記基板保持器の第１の被駆動部と接触して当該第１の被駆動部を搬送方向に駆動する駆動面が設けられ、前記ガイド部に、第２の搬送方向に向って斜め上方に延びるように形成された上方傾斜部が設けられている真空処理装置である。
本発明は、前記第１及び第２の処理領域が、真空中で成膜を行う真空処理装置である。
本発明は、前記基板保持器は、前記第１及び第２の搬送方向に対して直交する方向に複数の成膜対象基板を並べて保持するように構成されている真空処理装置である。
本発明にあっては、鉛直面に対する投影形状が一連の環状となるように形成された搬送経路を有し単一の真空雰囲気が形成される真空槽内において、この搬送経路の搬送方向に対して外方側に設けられた第１の駆動部に組み付けられた垂れ防止部材の走行ローラが、基板保持器搬送機構の下方側に位置する第２の搬送部の下方に設けられ第２の搬送方向に延びるガイド部に沿って走行し、かつ、基板保持器搬送機構の第１の駆動部が基板保持器の第１の被駆動部と接触して基板保持器を搬送経路に沿って第２の搬送方向へ駆動するように構成されていることから、搬送経路の第２の搬送部を構成する搬送駆動部材（例えばコンベヤチェーン）の垂れを防止しつつ、従来技術に比べて基板保持器の搬送時におけるダストの発生を抑制することができる。
本発明において、垂れ防止部材の第１の駆動部に、下方に延び前記基板保持器の第１の被駆動部と接触して当該第１の被駆動部を搬送方向に駆動する駆動面が設けられ、ガイド部に、第２の搬送方向に向って斜め上方に延びる上方傾斜部が設けられている場合には、ガイド部に沿って垂れ防止部材を第２の搬送方向に移動する際、ガイド部の上方傾斜部を通過することにより基板保持器の第１の被駆動部に対する垂れ防止部材の走行ローラひいては第１の駆動部の高さ位置が徐々に上方に移動し、これにより搬送経路の第２の搬送部の直線部分において第１の駆動部の駆動面と基板保持器の第１の被駆動部との接触を解除することができる。
その結果、本発明によれば、垂れ防止部材の第１の駆動部と基板保持器の第２の被駆動部とを接触させることなく、基板保持器を第２の搬送部に沿って第２の搬送方向へ移動させることができるので、従来技術（例えばスプロケットによって形成される円弧状の軌跡に沿って垂れ防止部材の第１の駆動部が斜め上方へ移動する場合）と比べて垂れ防止部材の第１の駆動部と基板保持器の第１の被駆動部との接触を外す動作時の移動距離を短くし、また当該動作時間を短縮することができ、これにより基板保持器を基板保持器搬送機構から排出するタイミングを大幅に早めることができる。また、当該排出の際に基板保持器の第２の被駆動部が垂れ防止部材の第１の駆動部の駆動面と干渉することについても同時に回避することができる。
一方、本発明において、基板保持器が当該搬送方向に対して直交する方向に複数の基板を並べて保持するように構成されている場合には、例えば従来技術のような基板の搬送方向に複数の基板を並べて保持する基板保持器を搬送して処理を行う場合と比較して、基板保持器の長さ及びこれに伴う余剰スペースを削減することができるので、真空処理装置のより省スペース化を達成することができる。
本発明に係る真空処理装置の実施の形態の全体を示す概略構成図 （ａ）（ｂ）：本実施の形態における基板保持器搬送機構及び方向転換機構の基本構成を示すもので、図２（ａ）は平面図、図２（ｂ）は正面図 （ａ）（ｂ）：本実施の形態に用いる基板保持器の構成を示すもので、図３（ａ）は平面図、図３（ｂ）は正面図 本実施の形態における方向転換機構の構成を示す正面図 （ａ）〜（ｄ）：本実施の形態の搬送駆動部材に設けられる第１の駆動部の構成を示すもので、図５（ａ）は搬送方向下流側から見た側面図、図５（ｂ）は正面図、図５（ｃ）は搬送方向上流側から見た側面図、図５（ｄ）は斜視図 （ａ）〜（ｄ）：本実施の形態に用いる走行部材を示すもので、図６（ａ）は搬送方向下流側から見た側面図、図６（ｂ）は正面図、図６（ｃ）は搬送方向上流側から見た側面図、図６（ｄ）は斜視図である。 （ａ）〜（ｃ）：本実施の形態に用いる垂れ防止部材の構成を示すもので、図７（ａ）は搬送方向下流側から見た側面図、図７（ｂ）は正面図、図７（ｃ）は斜視図 （ａ）（ｂ）：搬送駆動部材に取り付けられた垂れ防止部材を示すもので、図８（ａ）は正面図、図８（ｂ）は図８（ａ）のＡ−Ａ線断面図 本実施の形態におけるガイド部の取付構造を示す部分断面図 本実施の形態における基板保持器搬送機構の概略構成図 本実施の形態の真空処理装置の動作を示す説明図（その１） 本実施の形態の真空処理装置の動作を示す説明図（その２） 本実施の形態の真空処理装置の動作を示す説明図（その３） （ａ）（ｂ）：本実施の形態の基板保持器搬送機構の動作を示す説明図（その１） （ａ）〜（ｃ）：本実施の形態における基板保持器搬送機構及び方向転換機構の動作を示す説明図（その１） （ａ）〜（ｃ）：本実施の形態における基板保持器搬送機構及び方向転換機構の動作を示す説明図（その２） （ａ）（ｂ）：本実施の形態の基板保持器搬送機構の動作を示す説明図（その２） （ａ）〜（ｄ）：本実施の形態における垂れ防止部材の第１の駆動部と基板保持器の第１の被駆動部との接触を解除する動作を示す説明図 本実施の形態の真空処理装置の動作を示す説明図（その４） 本実施の形態の真空処理装置の動作を示す説明図（その５） 本実施の形態の真空処理装置の動作を示す説明図（その６） 従来技術に係る真空処理装置の全体を示す概略構成図 従来の基板保持器搬送機構を示す概略構成図
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明に係る真空処理装置の実施の形態の全体を示す概略構成図である。
また、図２（ａ）（ｂ）は、本実施の形態における基板保持器搬送機構及び方向転換機構の基本構成を示すもので、図２（ａ）は平面図、図２（ｂ）は正面図である。
さらに、図３（ａ）（ｂ）は、本実施の形態に用いる基板保持器の構成を示すもので、図３（ａ）は平面図、図３（ｂ）は正面図である。
さらに、図４は、本実施の形態における方向転換機構の構成を示す正面図である。
図１に示すように、本実施の形態の真空処理装置１は、真空排気装置１ａに接続された単一の真空雰囲気が形成される真空槽２を有している。
真空槽２の内部には、後述する基板保持器１１を搬送経路に沿って搬送する基板保持器搬送機構３が設けられている。
この基板保持器搬送機構３は、基板１０を保持する複数の基板保持器１１を連続して搬送するように構成されている。
ここで、基板保持器搬送機構３は、例えばスプロケット等からなり駆動機構（図示せず）から回転駆動力が伝達されて動作する同一径の円形の第１及び第２の駆動輪３１、３２を有し、これら第１及び第２の駆動輪３１、３２が、それぞれの回転軸線を平行にした状態で所定距離をおいて配置されている。
そして、第１及び第２の駆動輪３１、３２には例えばコンベヤチェーン等からなる一連の搬送駆動部材３３が架け渡されている。
さらに、これら第１及び第２の駆動輪３１、３２に搬送駆動部材３３が架け渡された構造体が所定の距離をおいて平行に配置され（図２（ａ）参照）、これら一対の搬送駆動部材３３により鉛直面に対して一連の環状となる搬送経路が形成されている。
本実施の形態では、搬送経路を構成する搬送駆動部材３３のうち上側の部分に、第１の駆動輪３１から第２の駆動輪３２に向って移動して基板保持器１１を第１の搬送方向Ｐ１に搬送する往路側搬送部（第１の搬送部）３３ａが形成されるとともに、第２の駆動輪３２の周囲の部分の搬送駆動部材３３によって基板保持器１１の搬送方向を折り返して反対方向に転換する折り返し部３３ｂが形成され、さらに、搬送駆動部材３３のうち下側の部分に、第２の駆動輪３２から第１の駆動輪３１に向って移動して基板保持器１１を第２の搬送方向Ｐ２に搬送する復路側搬送部（第２の搬送部）３３ｃが形成されている。
本実施の形態の基板保持器搬送機構３は、各搬送駆動部材３３の上側に位置する往路側搬送部３３ａと、各搬送駆動部材３３の下側に位置する復路側搬送部３３ｃとがそれぞれ対向し、鉛直方向に関して重なるように構成されている。
また、基板保持器搬送機構３には、基板保持器１１を導入する基板保持器導入部３０Ａと、基板保持器１１を折り返して搬送する搬送折り返し部３０Ｂと、基板保持器１１を排出する基板保持器排出部３０Ｃが設けられている。
ここで、搬送折り返し部３０Ｂの近傍には、後述する方向転換機構４０が設けられている。
真空槽２内には、第１及び第２の処理領域４、５が設けられている。
本実施の形態では、真空槽２内において、基板保持器搬送機構３の上部に、例えばスパッタ源４Ｔを有する第１の処理領域４が設けられ、基板保持器搬送機構３の下部に、例えばスパッタ源５Ｔを有する第２の処理領域５が設けられている。
本実施の形態では、上述した搬送駆動部材３３の往路側搬送部３３ａが、上記第１の処理領域４を直線的に水平方向に通過するように構成され、復路側搬送部３３ｃが、上記第２の処理領域５を直線的に水平方向に通過するように構成されている。
そして、搬送経路を構成するこれら搬送駆動部材３３の往路側搬送部３３ａ及び復路側搬送部３３ｃを基板保持器１１が通過する場合に、基板保持器１１に保持された複数の基板１０（図２（ａ）参照）が水平状態で搬送されるようになっている。
真空槽２内の基板保持器搬送機構３の近傍の位置、例えば第１の駆動輪３１に隣接する位置には、基板保持器搬送機構３との間で基板保持器１１を受け渡し且つ受け取るための基板搬入搬出機構６が設けられている。
本実施の形態の基板搬入搬出機構６は、昇降機構６０によって例えば鉛直上下方向に駆動される駆動ロッド６１の先（上）端部に設けられた支持部６２を有している。
本実施の形態では、基板搬入搬出機構６の支持部６２上に搬送ロボット６４が設けられ、この搬送ロボット６４上に上述した基板保持器１１を支持して基板保持器１１を鉛直上下方向に移動させ、かつ、搬送ロボット６４によって基板保持器搬送機構３との間で基板保持器１１の受け渡しを行うように構成されている。
この場合、後述するように、基板搬入搬出機構６から基板保持器搬送機構３の往路側搬送部３３ａの基板保持器導入部３０Ａに基板保持器１１を受け渡し（この位置を「基板保持器受け渡し位置」という。）、かつ、基板保持器搬送機構３の復路側搬送部３３ｃの基板保持器排出部３０Ｃから基板保持器１１を取り出す（この位置を「基板保持器取り出し位置」という。）ように構成されている。
真空槽２の例えば上部には、真空槽２内に基板１０を搬入し且つ真空槽２から基板１０を搬出するための基板搬入搬出室２Ａが設けられている。
この基板搬入搬出室２Ａは、例えば上述した基板搬入搬出機構６の支持部６２の上方の位置に連通口２Ｂを介して設けられており、例えば基板搬入搬出室２Ａの上部には、開閉可能な蓋部２ａが設けられている。
そして、後述するように、基板搬入搬出室２Ａ内に搬入された処理前の基板１０ａを基板搬入搬出機構６の支持部６２の搬送ロボット６４上の基板保持器１１に受け渡して保持させ、かつ、処理済の基板１０ｂを基板搬入搬出機構６の支持部６２の搬送ロボット６４上の基板保持器１１から例えば真空槽２の外部の大気中に搬出するように構成されている。
なお、本実施の形態の場合、基板搬入搬出機構６の支持部６２の上部の縁部に、基板１０を搬入及び搬出する際に基板搬入搬出室２Ａと真空槽２内の雰囲気を隔離するための例えばＯリング等のシール部材６３が設けられている。
この場合、基板搬入搬出機構６の支持部６２を基板搬入搬出室２Ａ側に向って上昇させ、支持部６２上のシール部材６３を真空槽２の内壁に密着させて連通口２Ｂを塞ぐことにより、真空槽２内の雰囲気に対して基板搬入搬出室２Ａ内の雰囲気を隔離するように構成されている。
図２（ａ）（ｂ）に示すように、本実施の形態の基板保持器搬送機構３の一対の搬送駆動部材３３には、それぞれ所定の間隔をおいて後述する垂れ防止部材３５が搬送駆動部材３３の搬送方向外方側に突出するように複数設けられている。
垂れ防止部材３５は、それぞれ後述する走行部材５０と第１の駆動部３６とを有し、第１の駆動部３６が、以下に説明する基板保持器支持機構１８によって支持された基板保持器１１の後述する第１の被駆動部１２と接触して当該基板保持器１１を第１又は第２の搬送方向Ｐ１、Ｐ２に駆動するように構成されている。
一対の搬送駆動部材３３の内側には、搬送する基板保持器１１を支持する一対の基板保持器支持機構１８が設けられている。
基板保持器支持機構１８は、例えば複数のローラ等の回転可能な部材からなるもので、それぞれ搬送駆動部材３３の近傍に設けられている。
本実施の形態では、搬送駆動部材３３の往路側搬送部３３ａの上方近傍に往路側基板保持器支持機構１８ａが設けられるとともに、搬送駆動部材３３の復路側搬送部３３ｃの下方近傍に復路側基板保持器支持機構１８ｃが設けられ、搬送される基板保持器１１の下面の両縁部を支持するように配置構成されている。
なお、往路側基板保持器支持機構１８ａは、後述する方向転換機構４０の第１の方向転換経路５１の進入口の近傍まで設けられ、復路側基板保持器支持機構１８ｃは、後述する方向転換機構４０の第２の方向転換経路５２の排出口の近傍まで設けられている。
本実施の形態に用いる基板保持器１１は、基板１０の両面上に真空処理を行うためのもので、開口部を有するトレイ状のものからなる。
図２（ａ）及び図３（ａ）に示すように、本実施の形態の基板保持器１１は、例えば長尺矩形の平板状に形成され、その長手方向即ち第１及び第２の搬送方向Ｐ１、Ｐ２に対して直交する方向（以下「搬送方向に対して直交する方向」という。）に例えば矩形状の複数の基板１０を一列に並べてそれぞれ保持する複数の保持部１４が設けられている。
ここで、各保持部１４には、各基板１０と同等の大きさ及び形状で各基板１０の両面が全面的に露出する例えば矩形状の開口部が設けられ、図示しない保持部材によって各基板１０を保持するように構成されている。
本発明では、特に限定されることはないが、設置面積を小さくし且つ処理能力を向上させる観点からは、基板保持器１１について、本実施の形態のように、搬送方向に対して直交する方向に複数の基板１０を一列に並べてそれぞれ保持するように構成することが好ましい。
ただし、処理効率を向上させる観点からは、搬送方向に対して直交する方向に複数の基板１０を複数列に並べることも可能である。
一方、基板保持器１１の長手方向の両端部で第２の搬送方向Ｐ２側の端部に第１の被駆動部１２がそれぞれ設けられ、また、第１の搬送方向Ｐ１側の端部に第２の被駆動部１３がそれぞれ設けられている。
これら第１及び第２の被駆動部１２、１３は、それぞれ基板保持器１１の長手方向即ち第１及び第２の搬送方向Ｐ１、Ｐ２に対して直交する方向に延びる回転軸線を中心として断面円形状に形成されている軸部材からなる（図３（ａ）（ｂ）参照）。
本実施の形態では、第２の被駆動部１３の長さが第１の被駆動部１２の長さより長くなるようにその寸法が定められている。
具体的には、図２（ａ）に示すように、基板保持器１１を基板保持器搬送機構３に配置した場合に基板保持器１１の両側部の第１の被駆動部１２が基板保持器搬送機構３の第１の駆動部３６と接触し、かつ、基板保持器１１を後述する方向転換機構４０に配置した場合に第２の被駆動部１３が後述する第２の駆動部４６と接触するように第１及び第２の被駆動部１２、１３の寸法が定められている。
一対の搬送駆動部材３３の第１の搬送方向Ｐ１側には、同一構成の一対の方向転換機構４０が設けられている。
本実施の形態の場合、一対の方向転換機構４０は、それぞれ第１及び第２の搬送方向Ｐ１、Ｐ２に関して一対の搬送駆動部材３３の外側の位置に配置されている。
また、これら一対の方向転換機構４０は、それぞれ第２の搬送方向Ｐ２側の部分が各搬送駆動部材３３の第１の搬送方向Ｐ１側の部分と若干重なるように設けられている。
図４に示すように、本実施の形態の方向転換機構４０は、第１のガイド部材４１、第２のガイド部材４２、第３のガイド部材４３を有し、これら第１〜第３のガイド部材４１〜４３は、第１の搬送方向Ｐ１の上流側からこの順で配置されている。
本実施の形態では、第１〜第３のガイド部材４１〜４３は、一対の搬送駆動部材３３の外側近傍の位置にそれぞれ配置され、さらに、第１〜第３のガイド部材４１〜４３の外側近傍の位置に、後述する搬送駆動部材４５がそれぞれ配置されている。
なお、図２（ｂ）では、方向転換機構４０の一部を省略するとともに、部材の重なり関係を無視して搬送方向についての部材間の位置関係が明確になるように示されている。
図２（ａ）及び図４に示すように、第１〜第３のガイド部材４１〜４３は、例えば板状の部材からなり、それぞれ鉛直方向に向けて設けられている。
ここで、第１のガイド部材４１の第１の搬送方向Ｐ１側の部分は、第１の搬送方向Ｐ１側に向って凸となる曲面形状に形成され、また、第２のガイド部材４２の第２の搬送方向Ｐ２側の部分は、第１の搬送方向Ｐ１側に向って凹となる曲面形状に形成されている。
第１及び第２のガイド部材４１、４２は、第１のガイド部材４１の第１の搬送方向Ｐ１側の部分と第２のガイド部材４２の第２の搬送方向Ｐ２側の部分は同等の曲面形状に形成され、これらの部分が基板保持器１１の第１の被駆動部１２の直径より若干大きな隙間を設けて対向するように近接配置されている。そして、この隙間によって基板保持器１１の第１の被駆動部１２を案内する第１の方向転換経路５１が設けられている。
また、第２のガイド部材４２の第１の搬送方向Ｐ１側の部分は、第１の搬送方向Ｐ１側に向って凸となる曲面形状に形成され、また、第３のガイド部材４３の第２の搬送方向Ｐ２側の部分は、第１の搬送方向Ｐ１側に向って凹となる曲面形状に形成されている。
第２及び第３のガイド部材４２、４３は、第２のガイド部材４２の第１の搬送方向Ｐ１側の部分と第３のガイド部材４３の第２の搬送方向Ｐ２側の部分が同等の曲面形状に形成され、これらの部分が基板保持器１１の第２の被駆動部１３の直径より若干大きな隙間を設けて対向するように近接配置されている。そして、この隙間によって基板保持器１１の第２の被駆動部１３を案内する第２の方向転換経路５２が設けられている。
そして、このような構成により、第１の方向転換経路５１と第２の方向転換経路５２とが同等の曲面形状に形成されている。
さらに、本実施の形態では、第１及び第２の方向転換経路５１、５２の各部分の水平方向についての距離が、基板保持器１１の第１及び第２の被駆動部１２、１３の間の距離と同等となるようにその寸法が定められている。
また、本実施の形態では、第１の方向転換経路５１の上側の口が基板保持器１１の第１の被駆動部１２の進入口となっており、その高さ位置が、往路側基板保持器支持機構１８ａに支持された基板保持器１１の第２の被駆動部１３の高さ位置より低い位置となるように構成されている（図２（ｂ）参照）。
さらに、第１の方向転換経路５１の下側の口が基板保持器１１の第１の被駆動部１２の排出口となっており、その高さ位置が、復路側基板保持器支持機構１８ｃに支持された基板保持器１１の第２の被駆動部１３の高さ位置より高い位置となるように構成されている（図２（ｂ）参照）。
また、第２の方向転換経路５２については、その上側の口が基板保持器１１の第２の被駆動部１３の進入口となっており、その高さ位置が、往路側基板保持器支持機構１８ａに支持された基板保持器１１の第２の被駆動部１３の高さ位置と同等の位置となるように構成されている（図２（ｂ）参照）。
一方、第２の方向転換経路５２の下側の口が基板保持器１１の第２の被駆動部１３の排出口となっており、その高さ位置が、復路側基板保持器支持機構１８ｃに支持された基板保持器１１の第２の被駆動部１３の高さ位置と同等の位置となるように構成されている（図２（ｂ）参照）。
本実施の形態の方向転換機構４０は、例えば一対のスプロケットと、これら一対のスプロケットに架け渡されたコンベヤチェーンからなる搬送駆動部材４５を有し、この搬送駆動部材４５は鉛直面に対して一連の環状となるように構成されている。
この搬送駆動部材４５は、その折り返し部分の曲率半径が、基板保持器搬送機構３の搬送駆動部材３３の折り返し部３３ｂの曲率半径と同等となるように構成されている。
また、搬送駆動部材４５の上側の部分が第１の搬送方向Ｐ１に移動し、下側の部分が第２の搬送方向Ｐ２に移動するように駆動されるようになっている。
搬送駆動部材４５には、所定の間隔をおいて複数の第２の駆動部４６が搬送駆動部材４５の外方側に突出するように設けられている。
第２の駆動部４６は、搬送駆動部材４５の外方側の部分に凹部が形成され、この凹部の縁部が基板保持器１１の第２の被駆動部１３と接触して当該基板保持器１１を第２の方向転換経路５２に沿って支持駆動するように構成されている。
また、本実施の形態の第２の駆動部４６は、後述するように、第２の方向転換経路５２の進入口及び排出口の位置に到達した場合にその凹部側の端部が第２の方向転換経路５２から退避するように搬送駆動部材４５の経路及び第２の駆動部４６の寸法が設定されている（図２（ｂ）参照）。
本実施の形態では、後述するように、第２の駆動部４６が搬送駆動部材３３に設けた垂れ防止部材３５の第１の駆動部３６と同期して動作するように搬送駆動部材３３と方向転換機構４０の搬送駆動部材４５の動作を制御する。
そして、本実施の形態では、垂れ防止部材３５の第１の駆動部３６によって基板保持器１１を第１の搬送方向Ｐ１に駆動して第１及び第２の被駆動部１２、１３を第１及び第２の方向転換経路５１、５２内に進入させた場合に、基板保持器１１が上下関係を保持しつつ第１及び第２の駆動部３６、４６によって第１及び第２の被駆動部１２、１３が支持されて移動し、円滑に第１及び第２の方向転換経路５１、５２から排出されるように、第１及び第２の駆動部３６、４６、並びに、第１及び第２の方向転換経路５１、５２の形状及び寸法がそれぞれ設定されている。
一方、第１のガイド部材４１と第２のガイド部材４２の下方で第１の方向転換経路５１の排出口の近傍には、基板保持器１１を方向転換機構４０から基板保持器支持機構１８の復路側基板保持器支持機構１８ｃへ円滑に受け渡すための受け渡し部材４７が設けられている。
この受け渡し部材４７は、例えば水平方向に延びる細長の部材からなり、その第２の搬送方向Ｐ２側の端部で復路側基板保持器支持機構１８ｃの下方の位置に設けられた、第１及び第２の搬送方向Ｐ１、Ｐ２に延びる回転軸４８を中心として上下方向に回転移動するように構成されている。そして、受け渡し部材４７は、第１の搬送方向Ｐ１側の部分が図示しない弾性部材によって上方に付勢されている。
受け渡し部材４７の上部には、第１の方向転換経路５１の排出口の第２の搬送方向Ｐ２側の近傍の部分に、第１の方向転換経路５１と連続し、かつ、基板保持器支持機構１８の復路側基板保持器支持機構１８ｃと連続するように曲面形状に形成された受け渡し部４７ａが設けられている（図２（ｂ）参照）。
また、受け渡し部材４７の上部には、第１の搬送方向Ｐ１側の部分に、第１の搬送方向Ｐ１に向って下側に傾斜する傾斜面４７ｂが設けられている。この傾斜面４７ｂは、第２の方向転換経路５２の排出口と対向する高さ位置に設けられている。
図５（ａ）〜（ｄ）は、本実施の形態に用いる第１の駆動部の構成を示すもので、図５（ａ）は搬送方向下流側から見た側面図、図５（ｂ）は正面図、図５（ｃ）は搬送方向上流側から見た側面図、図５（ｄ）は斜視図である。
図５（ａ）〜（ｄ）に示すように、本実施の形態の第１の駆動部３６は、例えばＪフック形状（搬送方向下流側の第１の突部３６ａの高さが搬送方向上流側の第２の突部３６ｂの高さより低くなるような溝部３６ｃが形成された形状）に形成されている。
この溝部３６ｃは、搬送方向に対して直交する方向（幅方向）に延びるように形成されている。そして、この溝部３６ｃの搬送方向に対して内方側には、搬送方向に対して直交する方向に延びて第１の駆動部３６を貫通するねじ孔３６ｆが設けられている。
一方、本実施の形態では、第１の突部３６ａの上部にストッパ部３６ｄが設けられている。
このストッパ部３６ｄは、第１及び第２の突部３６ａ、３６ｂに対して直交する方向に延びるように形成され、その搬送方向外方側の部分が平面状に形成されている。
本実施の形態では、第１の駆動部３６の第２の突部３６ｂの搬送方向外方側の端部がストッパ部３６ｄの搬送方向外方側の端部（表面）より搬送方向外方側に位置するように、第１の駆動部３６の各部分の形状及び寸法が設定されている。
また、第１の駆動部３６の第２の突部３６ｂの第１の突部３６ａ側には、基板保持器１１の第１の被駆動部１２と接触してこれを駆動する駆動面３６ｅが設けられている。
この駆動面３６ｅは、搬送方向に対して直交する方向に延びるように平面状に形成されている。
図６（ａ）〜（ｄ）は、本実施の形態に用いる走行部材を示すもので、図６（ａ）は搬送方向下流側から見た側面図、図６（ｂ）は正面図、図６（ｃ）は搬送方向上流側から見た側面図、図６（ｄ）は斜視図である。
本実施の形態の走行部材５０は、例えばステンレス等の金属からなるもので、上述した第１の駆動部３６の幅より幅広に形成された本体フレーム５０ａを有している。
この本体フレーム５０ａは、その搬送方向下流側の部分に、第１の駆動部３６を保持する保持フレーム部５０ｂが設けられている。
保持フレーム部５０ｂは、それぞれ搬送方向に延びる一対の板状の部分を有し、これら一対の板状の部分は、第１の駆動部３６の幅と同等の間隔をおいて設けられている。
本体フレーム５０ａの保持フレーム部５０ｂには、第１の駆動部３６を固定するためのボルトからなる固定ねじ５３が、搬送方向に対して直交する方向に向けて保持フレーム部５０ｂのねじ孔５２ａを貫通して取り付けられるようになっている。
一方、本体フレーム５０ａの搬送方向上流側には、以下に説明する走行ローラ５４を保持するためのローラ保持フレーム部５５が設けられている。
このローラ保持フレーム部５５は、それぞれ搬送方向に延び且つ搬送方向外方側に突出するように形成された一対の板状のフレームを有し、これらローラ保持フレーム部５５の一対のフレームは、第１の駆動部３６の幅と同等の間隔をおいて設けられている。
本体フレーム５０ａのローラ保持フレーム部５５には、ボルトからなる固定ねじ５６が搬送方向に対して直交する方向に向けてローラ保持フレーム部５５を貫通して取り付けられ、この固定ねじ５６に、円柱状の走行ローラ５４が搬送方向に対して直交する方向に延びる回転軸線Ｏを中心として回転するように構成されている（図６（ａ）（ｂ）参照）。
この走行ローラ５４としては、例えばローラベアリング等を用いることができる。
図７（ａ）〜（ｃ）は、本実施の形態に用いる垂れ防止部材の構成を示すもので、図７（ａ）は搬送方向下流側から見た側面図、図７（ｂ）は正面図、図７（ｃ）は斜視図である。
図７（ａ）〜（ｃ）に示すように、本実施の形態の垂れ防止部材３５は、図５（ａ）〜（ｄ）に示す第１の駆動部３６と、図６（ａ）〜（ｄ）に示す走行部材５０を組み付けたものである。
この場合、走行部材５０の本体フレーム５０ａの一対の保持フレーム部５０ｂの間に第１の駆動部３６を第１の突部３６ａを搬送方向下流側に向けて配置し、固定ねじ５３を走行部材５０のねじ孔５２ａ及び第１の駆動部３６のねじ孔３６ｆ（図５（ａ）（ｃ）参照）を貫通させ、この固定ねじ５３とナット５７によって第１の駆動部３６を本体フレーム５０ａの保持フレーム部５０ｂに固定する。
本実施の形態では、走行部材５０の走行ローラ５４の搬送方向外方側の端部が第１の駆動部３６の第２の突部３６ｂの搬送方向外方側の端部より搬送方向外方側に位置するように、走行部材５０並びに第１の駆動部３６の各部分の形状及び寸法が設定されている。
なお、後述するように、走行部材５０の保持フレーム部５０ｂと第１の駆動部３６の両側面との間には、垂れ防止部材３５を搬送駆動部材３３に取り付けるための例えば板状の取付部材５８が挿入固定されるように構成されている。
図８（ａ）（ｂ）は、搬送駆動部材に取り付けられた垂れ防止部材を示すもので、図８（ａ）は正面図、図８（ｂ）は図８（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
図９は、本実施の形態におけるガイド部の取付構造を示す部分断面図である。
図１０は、本実施の形態における基板保持器搬送機構の概略構成図である。
図８（ａ）（ｂ）に示すように、本実施の形態に用いる搬送駆動部材３３は、一般的なコンベヤチェーンからなるもので、外側リンク部３３ｄと、内側リンク部３３ｅと、図示しないピン及びブシュによって外側リンク部３３ｄと内側リンク部３３ｅの連結部分に回転可能に装着されたローラ３３ｆとを有している。
そして、上述した垂れ防止部材３５の一対の取付部材５８の搬送方向に対して内方側の部分に例えば搬送方向外方側に延びる板状の連結部材５９がそれぞれ固定されるとともに、これら一対の連結部材５９の搬送方向に対して内方側の部分が、搬送駆動部材３３の外側リンク部３３ｄの一対のプレートの搬送方向外方側の部分にそれぞれ固定され、これにより垂れ防止部材３５が走行ローラ５４が搬送方向外方側に配置された状態で搬送駆動部材３３に取り付けられている。
図８（ａ）（ｂ）に示すように、本実施の形態では、垂れ防止部材３５は、搬送駆動部材３３の下部即ち復路側搬送部３３ｃに位置しているときは、走行ローラ５４は復路側搬送部３３ｃに対して下方に位置し、走行ローラ５４の下端部が垂れ防止部材３５の最も低い位置に配置される。
本実施の形態では、垂れ防止部材３５の走行ローラ５４を、搬送駆動部材３３の復路側搬送部３３ｃの下方に設けられたガイド部１７によって案内支持するように構成されている。
このガイド部１７は、図１０に示すように、搬送方向に延びるように形成され、図９に示すように、その両側部に鉛直方向に延びる脱落防止用のガイド壁部が設けられている。
本実施の形態では、基板保持器支持機構１８の例えばローラからなる復路側基板保持器支持機構１８ｃを保持するための搬送方向に延びるように立設された保持部材１８ｄに対して搬送方向に延びるように水平方向に向けて固定された板状の基台１８ｅが設けられ、この基台１８ｅ上に、例えばＬ字形状の取付部材１７Ａが固定されるとともに、この取付部材１７Ａに固定された支持部材１７Ｂの水平面上にガイド部１７が固定されている。
そして、図９及び図１０に示すように、このガイド部１７は、その支持面が基板保持器支持機構１８の復路側基板保持器支持機構１８ｃの支持部より下方に位置するように設けられている。
一方、本実施の形態のガイド部１７は、図１０に示すように、第２の搬送方向Ｐ２に向って、水平方向に延びる走行部１７ａと、走行部１７ａに連結され斜め上方に向って傾斜する上方傾斜部１７ｂと、この上方傾斜部１７ｂに連結され水平方向に延びる接触解除部１７ｃとが設けられている。
これら上方傾斜部１７ｂと接触解除部１７ｃについては詳細は後述するが、基板保持器１１の第１の被駆動部１２と、垂れ防止部材３５の第１の駆動部３６の接触を解除するためのものである。
以下、本実施の形態の真空処理装置１の動作を図１１〜図２１を参照して説明する。
本実施の形態では、まず、図１１に示すように、基板搬入搬出機構６の支持部６２上のシール部材６３を真空槽２の内壁に密着させて真空槽２内の雰囲気に対して基板搬入搬出室２Ａ内の雰囲気を隔離した状態で、大気圧までベントした後、基板搬入搬出室２Ａの蓋部２ａを開ける。
その後、図示しない搬送ロボットを用いて処理前の基板１０ａを基板搬入搬出機構６の支持部６２の搬送ロボット６４上の基板保持器１１に装着して保持させる。
そして、図１２に示すように、基板搬入搬出室２Ａの蓋部２ａを閉じて所定の圧力となるまで真空排気した後、基板搬入搬出機構６の支持部６２を上述した基板保持器受け渡し位置まで下降させ、基板保持器１１の高さが搬送駆動部材３３の往路側搬送部３３ａと同等の高さ位置となるようにする。
さらに、図１３に示すように、基板搬入搬出機構６の支持部６２に設けた搬送ロボット６４によって基板保持器１１を基板保持器搬送機構３の基板保持器導入部３０Ａに配置する。
この場合、基板保持器１１の第１の被駆動部１２を垂れ防止部材３５の第１の駆動部３６の溝部３６ｃ（図５参照）内に配置されるように位置決めして往路側基板保持器支持機構１８ａ上に載置するが、この動作の際、垂れ防止部材３５の移動が遅れてタイミングのずれが生じ、第１の被駆動部１２を第１の駆動部３６の溝部３６ｃ内に配置することができない場合がある。
しかし、本実施の形態では、上述したように垂れ防止部材３５の第１の駆動部３６にストッパ部３６ｄが設けられていることから、垂れ防止部材３５の移動が遅れた場合には、図１４（ａ）に示すように、第１の駆動部３６のストッパ部３６ｄの第１の搬送方向Ｐ１側の先端部が上方に向いてその上面の搬送方向上流側（後方側）の部分が低くなるように傾斜するため、基板保持器１１の第１の被駆動部１２が第１の駆動部３６のストッパ部３６ｄの上面に当接して基板保持器１１はその位置で停止し、搬送駆動部材３３を僅かに動作させることにより、第１の被駆動部１２を第１の駆動部３６の溝部３６ｃ内に円滑に配置することができる。
その後、この状態で、図１４（ｂ）に示すように、基板保持器搬送機構３の搬送駆動部材３３の往路側搬送部３３ａを第１の搬送方向Ｐ１に移動させる。
これにより、搬送駆動部材３３の往路側搬送部３３ａ上の第１の駆動部３６によって基板保持器１１の第１の被駆動部１２が第１の搬送方向Ｐ１に駆動され、基板保持器１１が搬送駆動部材３３の往路側搬送部３３ａ上を搬送折り返し部３０Ｂに向って搬送される。
この場合、図１１に示す第１の処理領域４の位置を通過する際に、基板保持器１１に保持された処理前の基板１０ａの第１の処理領域４側の第一面に対して所定の真空処理（例えばスパッタリングによる成膜）を行う。
図１５（ａ）〜（ｃ）並びに図１６（ａ）〜（ｃ）は、本実施の形態における基板保持器搬送機構及び方向転換機構の動作を示す説明図である。
本実施の形態では、搬送駆動部材３３に取り付けられた垂れ防止部材３５の第１の駆動部３６を第１の搬送方向Ｐ１に移動させることにより、図１５（ａ）に示すように、基板保持器搬送機構３の搬送折り返し部３０Ｂに到達した基板保持器１１を更に第１の搬送方向Ｐ１に移動させ、基板保持器１１の第２の被駆動部１３を方向転換機構４０の第２の方向転換経路５２の進入口の位置に配置する。
この場合、方向転換機構４０の第２の駆動部４６が基板保持器１１の第２の被駆動部１３の下方に位置するように搬送駆動部材４５の動作を制御する。
そして、搬送駆動部材３３を駆動して垂れ防止部材３５の第１の駆動部３６を第１の搬送方向Ｐ１に移動させるとともに、方向転換機構４０の搬送駆動部材４５を駆動して第２の駆動部４６を第１の搬送方向Ｐ１に移動させる。この場合、垂れ防止部材３５の第１の駆動部３６と第２の駆動部４６の動作が同期するように制御する。
これにより、図１５（ｂ）に示すように、基板保持器１１の第１及び第２の被駆動部１２、１３が垂れ防止部材３５の第１の駆動部３６と第２の駆動部４６によってそれぞれ支持駆動され、第１及び第２の方向転換経路５１、５２内を下方に向ってそれぞれ移動する。
なお、この過程においては、基板保持器１１の第１の被駆動部１２は第１の方向転換経路５１内において同時に接触することはないが第１のガイド部材４１の縁部と第２のガイド部材４２の縁部とに接触し、また第２の被駆動部１３は第２の方向転換経路５２内において同時に接触することはないが第２のガイド部材４２の縁部と第３のガイド部材４３の縁部とに接触する。この場合、基板保持器１１は上下関係を維持している。
そして、第１及び第２の被駆動部１２、１３が第１及び第２の方向転換経路５１、５２の中腹部分をそれぞれ通過した付近から、第１及び第２の被駆動部１２、１３の搬送方向が、基板保持器１１の上下関係を維持した状態で第１の搬送方向Ｐ１と反対方向の第２の搬送方向Ｐ２にそれぞれ転換される。
なお、この過程においては、基板保持器１１の第１の被駆動部１２は第１の方向転換経路５１内において同時に接触することはないが第１のガイド部材４１の縁部と第２のガイド部材４２の縁部とに接触し、また第２の被駆動部１３は第２の方向転換経路５２内において同時に接触することはないが第２のガイド部材４２の縁部と第３のガイド部材４３の縁部とに接触する。
さらに、基板保持器搬送機構３の搬送駆動部材３３と方向転換機構４０の搬送駆動部材４５の駆動を継続すると、図１５（ｃ）に示すように、基板保持器１１の第１の被駆動部１２が第１の方向転換経路５１の排出口並びに受け渡し部材４７の受け渡し部４７ａを経由して受け渡し部材４７の上方の位置に配置されるとともに、基板保持器１１の第２の被駆動部１３が第２の方向転換経路５２の排出口の位置に配置され、その後、図１６（ａ）に示すように、基板保持器１１は、基板保持器支持機構１８の復路側基板保持器支持機構１８ｃに受け渡される。
また、垂れ防止部材３５は、上述したガイド部１７の走行部１７ａに支持される。
ここで、垂れ防止の側面から考えた場合、ガイド部１７の走行部１７ａは搬送駆動部材３３の垂れが問題となる箇所にのみ設けてもよく、その場合垂れ防止部材３５は、上述した復路側基板保持器支持機構１８ｃへの受け渡しと同時にガイド部１７の走行部１７ａに支持されない場合も存在する。
なお、図１５（ｃ）に示す時点で方向転換機構４０の第２の駆動部４６と基板保持器１１の第２の被駆動部１３は接触しておらず、基板保持器１１は、垂れ防止部材３５の第１の駆動部３６と第１の被駆動部１２との接触による駆動によって第２の搬送方向Ｐ２へ移動する。
そして、更なる基板保持器搬送機構３の搬送駆動部材３３の駆動により、図１６（ｂ）に示すように、基板保持器１１の第２の被駆動部１３が受け渡し部材４７の傾斜面４７ｂに接触して受け渡し部材４７が下方に回転移動し、図１６（ｃ）に示すように、基板保持器１１の第２の被駆動部１３が受け渡し部材４７の上方を通過して基板保持器１１が第２の搬送方向Ｐ２へ移動する。
なお、受け渡し部材４７は、この過程の後に図示しない弾性部材の付勢力によって元の位置に戻る。
その後、図１７（ａ）に示すように、搬送駆動部材３３の復路側搬送部３３ｃを第２の搬送方向Ｐ２に移動させ、垂れ防止部材３５の第１の駆動部３６によって第１の被駆動部１２を同方向に駆動することにより、基板保持器１１を基板保持器排出部３０Ｃに向って搬送する。
この場合、図１１に示す第２の処理領域５の位置を通過する際に、基板保持器１１に保持された処理前の基板１０ａの第２の処理領域５側の第二面に対して所定の真空処理（例えばスパッタリングによる成膜）を行う。
そして、搬送駆動部材３３の復路側搬送部３３ｃを第２の搬送方向Ｐ２に移動させ、第１の駆動部３６によって第１の駆動部３６を同方向に駆動すると、基板保持器１１が基板保持器排出部３０Ｃに到達する直前に、図１７（ｂ）に示すように、垂れ防止部材３５の第１の駆動部３６と、第１の被駆動部１２との接触が外れ、これにより基板保持器１１は推進力を失う。
図１８（ａ）〜（ｄ）は、本実施の形態における垂れ防止部材の第１の駆動部と基板保持器の第１の被駆動部との接触を解除する動作を示す説明図である。
搬送駆動部材３３の復路側搬送部３３ｃを第２の搬送方向Ｐ２に移動させると、図１８（ａ）に示すように、垂れ防止部材３５の第１の駆動部３６の第２の突部３６ｂの第２の搬送方向Ｐ２側の駆動面３６ｅが基板保持器１１の第１の被駆動部１２に接触した状態で基板保持器１１が第２の搬送方向Ｐ２に移動する。
図１８（ａ）に示す位置では、垂れ防止部材３５の走行ローラ５４はガイド部１７の走行部１７ａに接触し、垂れ防止部材３５は走行部１７ａに沿って水平方向に移動する。
この状態から搬送駆動部材３３の復路側搬送部３３ｃを第２の搬送方向Ｐ２に移動させると、基板保持器１１が復路側基板保持器支持機構１８ｃ上を第２の搬送方向Ｐ２に移動する一方で、図１８（ｂ）に示すように、垂れ防止部材３５の走行ローラ５４がガイド部１７の上方傾斜部１７ｂに乗り上げて第２の搬送方向Ｐ２の斜め上方へ移動することにより、垂れ防止部材３５の第１の駆動部３６も第２の搬送方向Ｐ２の斜め上方へ移動する。
引き続き搬送駆動部材３３の復路側搬送部３３ｃを第２の搬送方向Ｐ２に移動させると、基板保持器１１の第１の被駆動部１２に対する垂れ防止部材３５の第１の駆動部３６の高さ位置が徐々に上方に移動し、図１８（ｃ）に示すように、垂れ防止部材３５の走行ローラ５４がガイド部１７の接触解除部１７ｃに乗り上げた時点で、垂れ防止部材３５の第１の駆動部３６の第２の突部３６ｂの下端部が基板保持器１１の第１の被駆動部１２の上部より上方に位置し、これにより第１の駆動部３６の第２の突部３６ｂの駆動面３６ｅと基板保持器１１の第１の被駆動部１２との接触が完全に解除される。
その結果、図１８（ｄ）に示すように、垂れ防止部材３５の第１の駆動部３６の第２の突部３６ｂと基板保持器１１の第２の被駆動部１３とを接触させることなく、基板保持器１１を復路側搬送部３３ｃに沿って第２の搬送方向Ｐ２へ水平移動させることができるようになる。
このような本実施の形態によれば、従来技術（例えばスプロケットによって形成される円弧状の軌跡に沿って垂れ防止部材３５の第１の駆動部３６が斜め上方へ移動する場合）と比べて垂れ防止部材３５の第１の駆動部３６と基板保持器１１の第１の被駆動部１２との接触を外す動作時の移動距離を短くし、また当該動作時間を短縮することができ、これにより基板保持器１１を基板保持器搬送機構３から排出して基板搬入搬出機構６に受け渡すタイミングを大幅に早めることができる。また、当該排出の際に基板保持器１１の第２の被駆動軸１３が垂れ防止部材３５の第１の駆動部３６の第２の突部３６ｂ（駆動面３６ｅ）の先端部と干渉することについても同時に回避することができる。
以上の動作を行った後、図１９に示す基板搬入搬出機構６の搬送ロボット６４によって基板保持器１１を第２の搬送方向Ｐ２に移動させて第１の駆動部３６に対して離間させる。
さらに、基板搬入搬出機構６の搬送ロボット６４を用いて基板保持器１１の取り出し動作を行い、図１９に示すように、基板保持器１１を搬送ロボット６４と共に支持部６２上に配置する。
その後、図２０に示すように、基板搬入搬出機構６の支持部６２を上昇させ、支持部６２上のシール部材６３を真空槽２の内壁に密着させて真空槽２内の雰囲気に対して基板搬入搬出室２Ａ内の雰囲気を隔離した状態で、大気圧までベントを行う。
そして、図２１に示すように、基板搬入搬出室２Ａの蓋部２ａを開け、図示しない搬送ロボットを用い、処理済の基板１０ｂを基板保持器１１から大気中に取り出す。
その後、図１１に示す状態に戻り、上述した動作を繰り返すことにより、複数の基板１０に対してそれぞれ両面に上述した真空処理を行う。
以上述べた本実施の形態にあっては、鉛直面に対する投影形状が一連の環状となるように形成された搬送経路を有し単一の真空雰囲気が形成される真空槽２内において、この搬送経路の搬送方向に対して外方側に設けられた第１の駆動部３６に組み付けられた垂れ防止部材３５の走行ローラ５４が、基板保持器搬送機構３の下方側に位置する搬送駆動部材３３の復路側搬送部３３ｃの下方に設けられ第２の搬送方向Ｐ２に延びるガイド部１７に沿って走行し、第１の駆動部３６が基板保持器１１の第１の被駆動部１２と接触して基板保持器１１を搬送経路に沿って第２の搬送方向Ｐ２へ駆動するように構成されていることから、搬送経路の第２の搬送部を構成する搬送駆動部材３３の復路側搬送部３３ｃ（例えばコンベヤチェーン）の垂れを防止しつつ、従来技術に比べて基板保持器１１の搬送時におけるダストの発生を抑制することができる。
また、本実施の形態においては、基板保持器１１が当該搬送方向に対して直交する方向に複数の基板１０を並べて保持するように構成されていることから、従来技術のような基板の搬送方向に複数の基板を並べて保持する基板保持器を搬送して処理を行う場合と比較して、基板保持器の長さ及びこれに伴う余剰スペースを削減することができるので、真空処理装置のより省スペース化を達成することができる。
なお、本発明は上述した実施の形態に限られず、種々の変更を行うことができる。
例えば上記実施の形態においては、基板保持器搬送機構３及び方向転換機構４０について、一対のスプロケットと、これら一対のスプロケットに架け渡されたコンベヤチェーンから構成するようにしたが、例えばベルトやレールを用いた環状形状の搬送駆動機構を用いることもできる。
さらに、基板保持器支持機構１８については、ローラではなくベルトやレールを用いて構成することもできる。
また、第１及び第２の駆動部３６、４６の形状については、上記実施の形態に限られず、基板保持器１１の第１及び第２の被駆動部１２、１３と確実に接触して支持駆動することができる限り、種々の形状のものを採用することができる。
さらに、上記実施の形態では、真空中における処理として、スパッタリングを行う装置を例にとって説明したが、本発明はこれに限られず、例えば、プラズマ処理、イオン注入処理、蒸着処理、化学気相成長処理、集束イオンビーム処理、エッチング処理等の種々の処理を行う真空処理装置に適用することができる。
この場合、第１及び第２の処理領域４、５には、異なる処理を行う処理源を設けることもできる。
さらに、本発明は、上記実施の形態のように、処理前の基板１０ａを真空槽２内に搬入し、処理済の基板１０ｂを真空槽２から搬出する場合のみならず、処理前の基板１０ａを基板保持器１１と共に真空槽２内に搬入し、処理済の基板１０ｂを基板保持器１１と共に真空槽２から搬出する場合にも適用することができる。
１…真空処理装置
２…真空槽
３…基板保持器搬送機構
４…第１の処理領域
４Ｔ…スパッタ源
５…第２の処理領域
５Ｔ…スパッタ源
６…基板搬入搬出機構
１０…基板
１１…基板保持器
１２…第１の被駆動部
１３…第２の被駆動部
１７…ガイド部
１７ａ…走行部
１７ｂ…上方傾斜部
１７ｃ…接触解除部
３０Ａ…基板保持器導入部
３０Ｂ…搬送折り返し部
３０Ｃ…基板保持器排出部
３１…第１の駆動輪
３２…第２の駆動輪
３３…搬送駆動部材（搬送経路）
３３ａ…往路側搬送部（第１の搬送部）
３３ｂ…折り返し部
３３ｃ…復路側搬送部（第２の搬送部）
３５…垂れ防止部材
３６…第１の駆動部
３６ａ…第１の突部
３６ｂ…第２の突部
３６ｅ…駆動面
４０…方向転換機構
４１…第１のガイド部材
４２…第２のガイド部材
４３…第３のガイド部材
４５…搬送駆動部材
４６…第２の駆動部
５１…第１の方向転換経路
５２…第２の方向転換経路

Claims (5)

  1. 単一の真空雰囲気が形成される真空槽と、
    前記真空槽内に設けられ、基板保持器に保持された基板上に所定の真空処理を行う第１及び第２の処理領域と、
    鉛直面に対する投影形状が一連の環状となるように形成され、前記基板保持器を搬送する搬送経路と、
    第１及び第２の被駆動部を有する複数の前記基板保持器を前記搬送経路に沿って搬送する基板保持器搬送機構とを備え、
    前記搬送経路は、導入された前記基板保持器を水平にした状態で前記搬送経路に沿って第１の搬送方向に搬送する第１の搬送部と、前記基板保持器を水平にした状態で前記搬送経路に沿って前記第１の搬送方向と反対方向の第２の搬送方向に搬送して排出する第２の搬送部と、前記基板保持器を前記第１の搬送部から前記第２の搬送部に向って折り返して搬送する搬送折り返し部とを有し、前記第１の搬送部が、前記第１及び第２の処理領域のうち一方を通過し、かつ、前記第２の搬送部が、前記第１及び第２の処理領域のうち他方を通過するように構成され、
    前記基板保持器搬送機構は、前記基板保持器の第１の被駆動部と接触して当該基板保持器を前記搬送経路に沿って駆動する複数の第１の駆動部を当該搬送経路の搬送方向に対して外方側に有し、
    前記搬送経路の搬送折り返し部の近傍に、前記基板保持器の第２の被駆動部と接触して当該基板保持器を前記第１及び第２の搬送方向にそれぞれ駆動する複数の第２の駆動部と、前記基板保持器の第１及び第２の被駆動部を当該基板保持器を前記第１の搬送方向から前記第２の搬送方向へ方向転換するようにそれぞれ案内して搬送するための第１及び第２の方向転換経路とを有する方向転換機構が設けられ、
    前記基板保持器搬送機構の第１の駆動部と前記方向転換機構の第２の駆動部とを同期して動作させ、前記基板保持器の第１及び第２の被駆動部を前記方向転換機構の第１及び第２の方向転換経路に沿ってそれぞれ案内して搬送することにより、前記基板保持器を上下関係を維持した状態で前記搬送経路の第１の搬送部から第２の搬送部に受け渡すように構成され、
    前記基板保持器搬送機構の第１の駆動部に組み付けられて構成され、前記搬送方向に対して外方側の部分に、当該搬送方向に対して直交する方向に延びる回転軸線を中心として回転可能な走行ローラを有し、前記搬送経路の第２の搬送部を構成する搬送駆動部材の垂れを防止する垂れ防止部材が設けられるとともに、
    前記基板保持器搬送機構の下方側に位置する前記搬送経路の第２の搬送部の下方に、前記第２の搬送方向に延びるガイド部が設けられ、
    前記垂れ防止部材は、前記走行ローラが前記ガイド部に案内支持された状態で前記搬送経路の第２の搬送部に沿って走行し、かつ、前記基板保持器搬送機構の第１の駆動部が前記基板保持器の第１の被駆動部と接触して当該基板保持器を前記搬送経路に沿って第２の搬送方向へ駆動するように構成されている真空処理装置。
  2. 前記搬送駆動部材がコンベヤチェーンである請求項１記載の真空処理装置。
  3. 前記垂れ防止部材の第１の駆動部に、下方に延び前記基板保持器の第１の被駆動部と接触して当該第１の被駆動部を搬送方向に駆動する駆動面が設けられ、
    前記ガイド部に、第２の搬送方向に向って斜め上方に延びるように形成された上方傾斜部が設けられている請求項１又は２のいずれか１項記載の真空処理装置。
  4. 前記第１及び第２の処理領域が、真空中で成膜を行うものである請求項１又は２のいずれか１項記載の真空処理装置。
  5. 前記基板保持器は、前記第１及び第２の搬送方向に対して直交する方向に複数の成膜対象基板を並べて保持するように構成されている請求項１乃至４のいずれか１項記載の真空処理装置。
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