JP2001108832A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2001108832A5
JP2001108832A5 JP1999288430A JP28843099A JP2001108832A5 JP 2001108832 A5 JP2001108832 A5 JP 2001108832A5 JP 1999288430 A JP1999288430 A JP 1999288430A JP 28843099 A JP28843099 A JP 28843099A JP 2001108832 A5 JP2001108832 A5 JP 2001108832A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
thin film
birefringent element
substrate
obliquely deposited
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1999288430A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP4009044B2 (ja
JP2001108832A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP28843099A priority Critical patent/JP4009044B2/ja
Priority claimed from JP28843099A external-priority patent/JP4009044B2/ja
Publication of JP2001108832A publication Critical patent/JP2001108832A/ja
Publication of JP2001108832A5 publication Critical patent/JP2001108832A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4009044B2 publication Critical patent/JP4009044B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

JP28843099A 1999-10-08 1999-10-08 薄膜複屈折素子及びその製造方法及び製造装置 Expired - Fee Related JP4009044B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28843099A JP4009044B2 (ja) 1999-10-08 1999-10-08 薄膜複屈折素子及びその製造方法及び製造装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28843099A JP4009044B2 (ja) 1999-10-08 1999-10-08 薄膜複屈折素子及びその製造方法及び製造装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2001108832A JP2001108832A (ja) 2001-04-20
JP2001108832A5 true JP2001108832A5 (enrdf_load_stackoverflow) 2006-11-24
JP4009044B2 JP4009044B2 (ja) 2007-11-14

Family

ID=17730123

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28843099A Expired - Fee Related JP4009044B2 (ja) 1999-10-08 1999-10-08 薄膜複屈折素子及びその製造方法及び製造装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4009044B2 (enrdf_load_stackoverflow)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005010594A1 (ja) * 2003-07-25 2005-02-03 Fujitsu Limited 光フィルタ、撮像装置および光フィルタの製造方法
JP2007025572A (ja) * 2005-07-21 2007-02-01 Fujifilm Holdings Corp 偏光ビームスプリッタ及び反射型液晶プロジェクタ
CN100413995C (zh) * 2005-10-27 2008-08-27 中山大学 一种光学镀膜偏振光谱监控系统
US8094270B2 (en) * 2005-12-06 2012-01-10 Jds Uniphase Corporation Thin-film optical retarders
JP2009075459A (ja) 2007-09-21 2009-04-09 Fujifilm Corp 二軸性複屈折体の製造方法、二軸性複屈折体及び液晶プロジェクタ
JP2009161843A (ja) * 2008-01-10 2009-07-23 Fujinon Corp ワーク支持部材、光学素子、位相差素子及び偏光ビームスプリッタ
JP2012008363A (ja) * 2010-06-25 2012-01-12 Sony Chemical & Information Device Corp 波長板の製造方法
JP5318079B2 (ja) * 2010-12-08 2013-10-16 富士フイルム株式会社 二軸性複屈折体の製造方法
JP6105849B2 (ja) * 2011-05-16 2017-03-29 デクセリアルズ株式会社 位相差素子
JP2014149316A (ja) * 2011-06-02 2014-08-21 Asahi Glass Co Ltd 位相差板の製造方法および位相差板
JP7491117B2 (ja) * 2020-07-23 2024-05-28 セイコーエプソン株式会社 液晶装置および電子機器
CN113488603B (zh) * 2021-07-07 2023-08-25 业成科技(成都)有限公司 光学显示装置的制作方法
CN113337802A (zh) * 2021-07-14 2021-09-03 苏州佑伦真空设备科技有限公司 一种无死角的视窗
JP2023098288A (ja) * 2021-12-28 2023-07-10 富士フイルム株式会社 位相差補償素子、液晶表示素子及び液晶プロジェクタ

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001108832A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JPH04212404A (ja) 非晶質磁性膜の製造方法
US5501911A (en) Copper crystal film coated organic substrate
JP2001108832A (ja) 薄膜複屈折素子及びその製造方法及び製造装置
JP2004526989A (ja) 液晶装置とその製造方法
JPH11222670A (ja) 膜厚モニター及びこれを用いた成膜装置
WO2004042110A1 (ja) 基板上への成膜方法
JP2010095745A (ja) 成膜方法及び成膜装置
JP4555638B2 (ja) 薄膜蒸着装置
JPS6115964A (ja) 真空蒸着装置
JP3439993B2 (ja) マグネトロンスパッタ装置
JP2009007651A (ja) 減光フィルタの成膜方法、減光フィルタの製造装置及びこれを用いた減光フィルタ並びに撮像光量絞り装置
KR102579090B1 (ko) 편광필터 제조용 이온빔 스퍼터링 장치
JP4396885B2 (ja) マグネトロンスパッタ装置
JP2001115259A (ja) マグネトロンスパッタ装置
JP2890686B2 (ja) レーザ・スパッタリング装置
JPH0151814B2 (enrdf_load_stackoverflow)
KR100358760B1 (ko) 인시츄 물리기상 증착기
JP3227768B2 (ja) 銅薄膜の結晶配向制御方法
JPH02294472A (ja) 真空蒸着装置
JP2756309B2 (ja) レーザーpvd装置
JPH01247570A (ja) ビームスパッタ法による多成分物質膜の形成方法
JPS63227769A (ja) 薄膜生成方法及びその装置
KR20050109766A (ko) 곡면화된 타겟을 갖는 박막 증착 장치
JPH03274257A (ja) 酸化物薄膜の製造装置及ビ製造方法