JP2001106664A - 光学活性イミノアルコール類及びアミノアルコール類の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】入手容易なα−イミノカルボニル化合物類を出
発原料として、アンチ立体配置を有する光学活性β−ア
ミノアルコール類の実用的製造法を提供する。 【解決手段】Ｒａ−ＣＯ−Ｃ（＝ＮＯＲｂ）−Ｒｃ（式
中、Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃは、置換基を有していてもよい
（アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アラ
ルキル基又はアリール基）等を表す。）で表される化合
物に、光学活性遷移金属化合物及び塩基の存在下に水素
を作用させることによりＲａ−Ｃ＊Ｈ（ＯＨ）−Ｃ（＝
ＮＯＲｂ）−Ｒｃ（式中、Ｒａ，Ｒｂ，Ｒｃは前記と同
じ意味を示し、Ｃ＊は不斉炭素原子を表す。）で表され
る光学活性β−イミノアルコールを得る工程と、得られ
たβ−イミノアルコールを還元する工程とを有するＲａ
−Ｃ＊Ｈ（ＯＨ）−Ｃ＊Ｈ（ＮＨ₂）−Ｒｃ（式中、Ｒ
ａ、Ｒｃ及びＣ＊は前記と同じ意味を表す。）で表され
る光学活性β−アミノアルコールの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、α−アミノカルボ
ニル化合物類から、医薬、農薬、触媒等の合成中間体と
して有用な光学活性β−アミノアルコール、特にアンチ
立体配置を有する光学活性β−アミノアルコールを、高
收率、かつ高いエナンチオ、ジアステレオ両選択性で製
造する方法、及びその製造中間体である光学活性β−イ
ミノアルコールの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、光学活性β−アミノアルコール、
特にアンチ立体配置を有する光学活性β−アミノアルコ
ールを製造する方法としては、（１）光学活性α−アミ
ノ酸を原料とする方法、及び（２）オレフィンを原料と
する方法等が、比較的一般性の高いものとして知られて
いる（例えば、Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｒｅｖ．，９６，８
３５（１９９６）等参照）。

【０００３】上記した方法のうち、（１）の光学活性α
−アミノ酸を原料とする方法は、原料となるα−アミノ
酸は工業的な触媒的化学合成法、生物的合成法や分割法
により入手可能であるが、安価に入手できる光学活性α
−アミノ酸に限りがある。

【０００４】また、α−アミノ酸から光学活性β−アミ
ノアルコールを誘導する方法としては、該α−アミノ酸
のアミノ基を保護した後、カルボン酸を還元して得たケ
トンに求核反応させて、アンチ立体配置の光学活性β−
アミノアルコール類とする方法が知られている（例え
ば、Ｔｅｔｒａｈｅｄｏｎ Ｌｅｔｔ．，３１，４９８
５（１９９０）等参照。）。しかし、この方法は、還元
反応と求核反応いずれも金属試薬を当量使用するという
問題があり、また収率・選択性も不十分である。このよ
うにα−アミノ酸から合成する方法は、原料・製造法い
ずれにも難点がある。

【０００５】（２）のオレフィンを原料とする方法とし
ては、シス立体配置のオレフィンを不斉アミノヒドロキ
シル化してアンチ立体配置の光学活性β−アミノアルコ
ール類を合成する方法が知られている（例えば、Ａｎｇ
ｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．Ｅｎｇｌ．，３５，４
５１（１９９６）等参照。）。しかし、この方法は、入
手の困難なシスオレフィンを原料にすること、及び脱離
が困難な保護基を有する生成物しか得られないことか
ら、必ずしも好ましいものといえない。

【０００６】また、（３）として、α−イミノケトンを
原料とする方法が、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５４，２
０２１（１９８９）等に記載されているが、限られた基
質にのみ有効な方法であり、一般性に乏しいものであ
る。

【０００７】その他として、ある種の光学活性アミノア
ルコールとホウ素から誘導したオキサザボロリジンを補
助基に用いて、α−イミノケトンを不斉還元して、アン
チ立体配置の光学活性β−アミノアルコール類を合成す
る方法も知られている（例えば、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏ
ｎ Ｌｅｔｔ．，３９，５１９５（１９９８）等参
照。）。しかしながら、この方法は、補助基に用いたア
ミノアルコールと生成物の分離が困難であることから、
工業的製造法としては問題がある。

【０００８】以上のように、安価な原料から光学活性β
−アミノアルコール類を製造する一般性が高く、高収
率、かつ高選択的な製造方法は未だ確立されておらず、
特にそのアンチ立体配置を有する光学活性β−アミノア
ルコール類の製造方法の開発が望まれていた。

【０００９】

【発明の解決しようとする課題】本発明は、かかる実状
に鑑みてなされたものであり、入手容易なα−イミノカ
ルボニル化合物類を出発原料として、アンチ立体配置を
有する光学活性β−アミノアルコール類の実用的製造法
を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、第１に、一般
式（１）

【００１１】

【化１０】

【００１２】（式中、Ｒａ，Ｒｂ及びＲｃは、それぞれ
独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、置換
基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有してい
てもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよい
アラルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基
を表す。また、ＲａとＲｃ若しくはＲｂとＲｃは結合し
て、５〜８員環を形成してもよい。）で表されるα−イ
ミノカルボニル化合物に、光学活性遷移金属化合物及び
塩基の存在下に、水素を作用させることを特徴とする、
一般式（２）

【００１３】

【化１１】

【００１４】（式中、Ｒａ，Ｒｂ及びＲｃは前記と同じ
意味を示し、Ｃ＊は不斉炭素原子を表す。）で表される
光学活性β−イミノアルコールの製造方法を提供する。

【００１５】又、本発明は、第２に、一般式（１）

【００１６】

【化１２】

【００１７】（式中、Ｒａ，Ｒｂ及びＲｃは、それぞれ
独立して、置換基を有していてもよいアルキル基、置換
基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有してい
てもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよい
アラルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基
を表す。また、ＲａとＲｃ若しくはＲｂとＲｃは結合し
て、５〜８員環を形成してもよい。）で表されるα−イ
ミノカルボニル化合物に、光学活性遷移金属化合物及び
塩基の存在下に、水素を作用させることにより、一般式
（２）

【００１８】

【化１３】

【００１９】（式中、Ｒａ，Ｒｂ及びＲｃは前記と同じ
意味を示し、Ｃ＊は不斉炭素原子表す。）で表されるβ
−イミノアルコールを得る工程と、得られたβ−イミノ
アルコールを還元する工程を有することを特徴とする、
一般式（３）

【００２０】

【化１４】

【００２１】（式中、Ｒａ，Ｒｃ及びＣ＊は前記と同じ
意味を表す。）で表される、アンチ立体配置を有する光
学活性β−アミノアルコールの製造方法を提供する。

【００２２】前記第１及び第２の発明において、前記光
学活性遷移金属化合物は、好適には、均一系光学活性水
素化触媒であり、

【００２３】前記光学活性均一系水素化触媒は、より好
適には、

【００２４】

【化１５】

【００２５】（式中、Ｍａは第VIII族金属を表し、Ｘ，
Ｙは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、カ
ルボキシル基、水酸基又はアルコキシ基を表し、ｍ，ｎ
は、それぞれ独立して、０又は１〜４の整数を表し、Ｐ
ｘはホスフィン配位子を表し、Ｎｘはアミン配位子を表
す。）で表される化合物である。

【００２６】また、前記一般式（４）で表される化合物
においては、前記Ｐｘは光学活性ホスフィン配位子であ
り、前記Ｎｘは光学活性アミン配位子であるのがそれぞ
れ好ましく、Ｐｘ又はＮｘの少なくとも一方は光学活性
配位子であるのがより好ましい。

【００２７】前記第１及び第２の発明において、前記塩
基は、一般式（５）

【００２８】

【化１６】

【００２９】（式中、Ｍｂは、アルカリ金属又はアルカ
リ土類金属を表し、Ｚは、水酸基、アルコキシ基又はメ
ルカプト基を表す。）で表される化合物であるのが好ま
しい。

【００３０】前記第２の発明において、前記β−イミノ
アルコールを還元する工程は、好適には、前記一般式
（２）で表されるβ−イミノアルコールに水素を作用さ
せる工程を有し、より好適には、前記一般式（２）で表
されるβ−イミノアルコールに、金属系試薬の存在下に
水素を作用させる工程を有し、前記金属系試薬として
は、不均一系金属触媒又は金属水素化物を用いるのがさ
らに好ましい。

【００３１】また、前記β−イミノアルコールを還元す
る工程は、好適には、前記一般式（２）で表されるβ−
イミノアルコールに、ホウ素化合物を作用させる工程を
有し、前記ホウ素化合物としてはボランを用いるのがよ
り好ましい。

【００３２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を詳細
に説明する。本発明の一般式（１）で表される原料化合
物において、

【００３３】Ｒａ，Ｒｂ及びＲｃは、それぞれ独立し
て、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有
していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよ
いシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラル
キル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表
す。

【００３４】前記置換基を有していてもよい直鎖もしく
は分岐のアルキル基のアルキル基としては、メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチ
ル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオ
ペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、
オクチル、ノニル、デシル、ドデシル基等の炭素数１〜
２０のアルキル基を例示することができる。

【００３５】前記置換基を有していてもよい直鎖もしく
は分岐のアルケニル基のアルケニル基としては、ビニ
ル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−ブテニル、
１−イソプロペニル、２−ブテニル、３−ブテニル、
１，３−ブタジエニル、１−ペンテニル、２−ペンテニ
ル、３−ペンテニル等の炭素数２〜２０のアルケニル基
を例示することができる。

【００３６】前記置換基を有していてもよいシクロアル
キル基のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプ
ロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基を挙げること
ができる。

【００３７】前記置換基を有していてもよいアラルキル
基のアラルキル基としては、例えば、ベンジル、α−メ
チルベンジル、α，α−ジメチルベンジル、α−エチル
ベンジル基等の炭素数７〜２０のアラルキル基を挙げる
ことができる。

【００３８】また、置換基を有していてもよいアリール
基のアリール基としては、フェニル、１−ナフチル、２
−ナフチル基等の芳香族炭化水素基、フラニル、ピラニ
ル、ジオキソラニル等の含酸素複素環基、チエニル等の
含イオウ複素環基、

【００３９】ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、オ
キサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、チアゾ
リル、イソチアゾリル、ピリジル、ピラダジル、ピラジ
ニル、ベンゾイミダゾリル、ベンツピラゾリル、ペンゾ
チアゾリル、キノリル、アントラニル、インドリル、フ
ェナントリニリル等の飽和若しくは不飽和の含窒素複素
環基を例示することができる。

【００４０】前記置換基を有していてもよい直鎖若しく
は分岐のアルキル基、置換基を有していてもよい直鎖若
しくは分岐のアルケニル基、置換基を有していてもよい
シクロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキ
ル基又は置換基を有していてもよいアリール基の置換基
としては、本反応を阻害することのない置換基であれ
ば、その置換位置、置換基の種類、置換基の数等に特に
制限はない。

【００４１】かかる置換基としては、例えば、ヒドロキ
シ基、カルボキシル基、アミノ基、ニトロ基、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブ
チル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等のアルキル
基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキ
シ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ基等のアルコキシ基、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカル
ボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニ
ル、ｔ−ブトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニ
ル基、

【００４２】ベンゼン環の任意の位置に置換基を有して
いてもよいフェニル基、ナフタレン環の任意の位置に置
換基を有していてもよい、１−ナフチル、２−ナフチル
基等のナフチル基、フラン、ピラン、ジオキソラン、ジ
オキサン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラ
ゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、トリアゾー
ル、チアゾール、イソチアゾール、ピリジン、ピリダジ
ン、ピラジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾピラゾー
ル、ベンゾチアゾール、キノリン等の複素環の基（これ
らの基は、任意の位置に置換基を有していてもよい）、
及び、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子等を挙げる
ことができる。

【００４３】さらに、前記ＲａとＲｃ又はＲｂとＲｃは
結合して、５〜８員環を形成してもよい。かかる場合の
前記一般式（１）で表される化合物としては、例えば、
下記の（ａ）〜（ｄ）に掲げる化合物を挙げることがで
きる。なお、式中、Ｒａ及びＲｂは、前記と同じ意味を
表す。

【００４４】

【化１７】

【００４５】本発明で使用される遷移金属化合物は、均
一系水素化触媒であるのが好ましい。かかる均一系水素
化触媒としては、例えば、Ｒｕ，Ｒｈ，Ｉｒ，Ｐｔ等の
周期律表第VIII族元素の遷移金属の錯体が好ましい。こ
れらの遷移金属化合物は、例えば、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅ
ｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．，３７、１７０３（１９９８）等に
記載の方法で合成、入手することができる。

【００４６】前記遷移金属化合物は、下記一般式（４）
で表される遷移金属錯体であるのがより好ましい。

【００４７】

【化１８】

【００４８】式（４）中、Ｍａは、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、
Ｐｔなどの第VIII族金属を表す。これらの内、錯体の安
定性、入手容易性の点からＲｕ（ＩＩ）又はＲｕ（ＩＩ
Ｉ）の錯体が特に好ましい。

【００４９】Ｘ及びＹは、同一若しくは相異なって、水
素原子、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、カルボ
キシル基、水酸基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
イソプロポキシ、ブトキシ基等のアルコキシ基などのア
ニオンを表す。

【００５０】Ｐｘはホスフィン配位子を表し、例えば、
一般式：ＰＲ¹ Ｒ² Ｒ³ で表されるリンの単座配位子
や、一般式：Ｒ⁴ Ｒ⁵ Ｐ−Ｗ−ＰＲ⁶ Ｒ⁷ で表されるリ
ンの２座配位子等を挙げることができる。

【００５１】前記一般式：Ｒ⁴ Ｒ⁵ Ｐ−Ｗ−ＰＲ⁶ Ｒ⁷
において、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷は、同一又は相異な
って、アルキル基、置換基を有していてもよいフェニル
基又はシクロアルキル基を表し、また、Ｒ⁴ とＲ⁵ ある
いはＲ⁶ とＲ⁷ とがＰと一緒になって、置換基を有して
いてもよいＰを含有する環式基を形成してもよい。

【００５２】又、Ｗは、メチレン、エチレン、プロピレ
ン、ブチレン等の炭素数１−５のアルキレン基、エチリ
デン、プロピリデン等の炭素数１−５のアルキリデン
基、シクロペンチレン、シクロヘキシレン等の炭素数３
−８のシクロアルキレン基、炭素数３−８のシクロアル
キリデン基、ｏ−フェニレン、ｍ−フェニレン、ｐ−フ
ェニレン等のアリール基又は不飽和炭化水素基等を表
す。

【００５３】ＰＲ¹ Ｒ² Ｒ³ が光学活性である場合に
は、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ の少なくとも一つの基が光学活性
基の場合（即ち、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ の少なくとも一つの
基が不斉炭素原子を有する置換基の場合）と、Ｒ¹ 、Ｒ
² 、Ｒ³ の全てが異なる置換基からなる場合（即ち、Ｐ
がが不斉中心となる場合）とがある。

【００５４】前記一般式：ＰＲ¹ Ｒ² Ｒ³ で表される単
座ホスフィン配位子の例としては、例えば、トリメチル
ホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフ
ィン、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホ
スフィン、トリ（ｐ−トリル）ホスフィン、ジフェニル
メチルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、イソ
プロピルメチルホスフィン、シクロヘキシル（Ｏ−アニ
シル）−メチルホスフィン、１−〔２−（ジフェニルホ
スフィノ）フェロセニル〕エチルメチルエーテル、２−
（ジフェニルホスフィノ）−２’−メトキシ−１，１’
−ビナフチル等の３級ホスフィンが好適なものとして挙
げられる。

【００５５】前記一般式：Ｒ⁴ Ｒ⁵Ｐ−Ｗ−ＰＲ⁶Ｒ⁷で
表されるラセミあるいは光学活性の２座ホスフィン配位
子の例としては、ビスジフェニルホスフィノメタン、ビ
スジフェニルホスフィノエタン、ビスジフェニルホスフ
ィノプロパン、ビスジフェニルホスフィノブタン、ビス
ジメチルホスフィノエタン、ビスジメチルホスフィノプ
ロパンなどの２座配位の３級ホスフィン化合物等を好適
なものとして挙げることができる。

【００５６】入手可能な２座ホスフィン配位子として、
例えば、ＢＩＮＡＰ：２，２’−ビス−（ジフェニルホ
スフィノ）−１，１’−ビナフチル、ＢＩＮＡＰのナフ
チル環にアルキル基やアリール基置換基をもつＢＩＮＡ
Ｐ誘導体、例えば、Ｈ８ＢＩＮＡＰ、ＢＩＮＡＰ等のリ
ン原子に結合するベンゼン環にアルキル基等の置換基を
１〜５個有するＢＩＮＡＰ誘導体、例えば、ＴｏｌＢＩ
ＮＡＰ：２，２’−ビス（ジ−３−トリルホスフィノ）
−１，１’−ビナフチル、又は２，２’−ビス（ジ−４
−トリルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、Ｘｙｌ
ｙｌ−ＢＩＮＡＰ：２，２’−ビス−（ジ−３，５−キ
シリルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、さらにＢ
ＩＣＨＥＰ：２，２’−ビス−（ジシクロヘキシルホス
フィノ）−６，６’−ジメチル−１，１’−ビフェニ
ル、ＢＰＰＦＡ：１−[ １’，２−ビス−（ジフェニル
ホスフィノ）フェロセニル] エチルジアミン、ＣＨＩＲ
ＡＰＨＯＳ：２，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）
ブタン、ＣＹＣＰＨＯＳ：１−シクロヘキシル−１，２
−ビス−（ジフェニルホスフィノ）エタン、ＤＥＧＰＨ
ＯＳ：１−置換−３，４−ビス−（ジフェニルホスフィ
ノ）ピロリジン、ＤＩＯＰ：２，３−Ｏ−イソプロピリ
デン−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ビス−（ジフェ
ニルホスフィノ）ブタン、ＤＩＰＡＭＰ：１，２−ビス
［（Ｏ−メトキシフェニル）フェニルホスフィノ］エタ
ン、ＤｕＰＨＯＳ：（置換−１，２−ビス（ホスホラ
ノ）ベンゼン）、ＮＯＲＰＨＯＳ：５，６−ビス−（ジ
フェニルホスフィノ）−２−ノルボルネン、ＰＮＮＰ：
Ｎ，Ｎ’−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−Ｎ，Ｎ’
−ビス［１−フェニルエチル］エチレンジアミン、ＰＲ
ＯＰＨＯＳ：１，２−ビス−（ジフェニルホスフィノ）
プロパン、ＳＫＥＷＰＨＯＳ：２，４−ビス−（ジフェ
ニルホスフィノ）ペンタン等を挙げることができる。ま
た、フッ素置換基をもつＢＩＮＡＰ誘導体等を用いるこ
ともできる。

【００５７】もちろん、この発明に用いることのできる
ホスフィン配位子は、安定して金属錯体を形成し得るも
のであれば、これらに何ら限定されるものではない。

【００５８】アミン配位子であるＮｘとしては、一般
式：ＮＲ⁸ Ｒ⁹ Ｒ¹⁰で表される窒素の単座配位子や、一
般式：Ｒ¹¹Ｒ¹²Ｎ−Ｖ−ＮＲ¹³Ｒ¹⁴で表されるジアミン
配位子等を挙げることができる。

【００５９】前記一般式：ＮＲ⁸ Ｒ⁹ Ｒ¹⁰において、Ｒ
⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰は、同一又は相異なって、水素，アルキル
基，アリール基，不飽和炭化水素基を表し、Ｒ⁸ 、Ｒ
⁹ 、Ｒ ¹⁰の内、任意の二つが一緒になって置換基を有し
ていてもよい脂環式基を形成してもよい。また、Ｒ⁸ 、
Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰の少なくともひとつが光学活性基であっても
よい。Ｖは、２価の炭素数１〜５の炭化水素基、２価の
シクロ炭化水素基，２価のアリール基又は２価の不飽和
炭化水素基等を表す。

【００６０】前記一般式：Ｒ¹¹Ｒ¹²Ｎ−Ｖ−ＮＲ¹³Ｒ¹⁴
において、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴は、同一又は相異な
って、水素、アルキル基、アリール基又は不飽和炭化水
素基を表し、Ｒ¹¹とＲ¹²あるいはＲ¹³とＲ¹⁴が一緒にな
って置換基を有していてもよい脂環式基を形成してもよ
い。

【００６１】前記一般式：ＮＲ⁸ Ｒ⁹ Ｒ¹⁰で表されるモ
ノアミン配位子としては、メチルアミン、エチルアミ
ン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、
ヘキシルアミン、シクロペンチルアミン、シクロヘキシ
ルアミン、ベンジルアミン、ジメチルアミン、ジエチル
アミン、ジプロピルアミン、ジヘキシルアミン、ジシク
ロペンチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジベンジ
ルアミン、ジフェニルアミン、フェニルエチルアミン、
プロリン、ピペリジンなどのモノアミン化合物を例示す
ることができる。

【００６２】さらに、光学活性モノアミン配位子として
は、光学活性フェニルエチルアミン、ナフチルエチルア
ミン、シクロヘキシルアミン、シクロヘプチルエチレン
ジアミン等の光学活性モノアミン化合物を例示すること
ができる。

【００６３】Ｖは、メチレン、エチレン、プロピレン、
ブチレン等の炭素数１〜５のアルキレン基、エチリデ
ン、プロピリデン等の炭素数１〜５のアルキリデン基、
シクロペンチレン、シクロヘキシレン等の炭素数３〜８
のシクロアルキレン基、炭素数３〜８のシクロアルキリ
デン基、ｏ−フェニレン、ｍ−フェニレン、ｐ−フェニ
レン等のアリール基又は不飽和炭化水素基等を表す。

【００６４】前記一般式：Ｒ¹¹Ｒ¹²Ｎ−Ｖ−ＮＲ¹³Ｒ¹⁴
で表されるジアミン配位子としては、メチレンジアミ
ン、エチレンジアミン、１，２−ジアミノプロパン、プ
ロピレンジアミン、１，３−ジアミノプロパン、１，４
−ジアミノブタン、２，３−ジアミノブタン、１，２−
シクロペンタンジアミン、１，２−シクロヘキサンジア
ミン、Ｎ−メチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチ
ルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチルエチレ
ンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレ
ンジアミン、ｏ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレン
ジアミンなどを例示することができる。

【００６５】また、本発明においては光学活性ジアミン
も用いることができる。かかる光学活性ジアミンジアミ
ンとしては、例えば、１，２−ジフェニルエチレンジア
ミン、１，２−シクロヘキサンジアミン、１，２−シク
ロヘプタンジアミン、２，３−ジメチルブタンジアミ
ン、１，２−ジメシチルエチレンジアミン、１−メチル
−２，２−ジフェニルエチレンジアミン、１−イソブチ
ル−２，２−ジフェニルエチレンジアミン、１−イソプ
ロピル−２，２−ジフェニルエチレンジアミン、１−メ
チル−２，２−ジ（ｐ−メトキシフェニル）エチレンジ
アミン、１−イソブチル−２，２−ジ（ｐ−メトキシフ
ェニル）エチレンジアミン、１−イソプロピル−２，２
−ジ（ｐ−メトキシフェニル）エチレンジアミン、１−
ベンジル−２，２−ジ（ｐ−メトキシフェニル）エチレ
ンジアミン、１−メチル−２，２−ジナフチルエチレン
ジアミン、１−イソブチル−２，２−ジナフチルエチレ
ンジアミン、１−イソプロピル−２，２−ジナフチルエ
チレンジアミン等の光学活性ジアミン化合物を例示する
ことができる。

【００６６】勿論、光学活性ジアミン化合物は例示した
光学活性ジアミン誘導体に限るものではなく、更に光学
活性なプロパンジアミン、ブタンジアミン、フェニレン
ジアミン、シクロヘキサンジアミン誘導体等も用いるこ
とができる。

【００６７】また、この発明に用いることのできるアミ
ン配位子は、安定して金属錯体を形成し得るものであれ
ば、これらに何ら限定されるものではない。また、リン
配位子とアミン配位子の少なくとも一方が光学活性であ
ればよく、これらを適宜組み合わせて用いることができ
る。

【００６８】前記本発明において、上記均一系水素化触
媒の使用量は、反応基質の種類、反応容器や経済性等に
よって異なるが、反応基質であるカルボニル化合物に対
して、モル比１／１００〜１／１，０００，０００の範
囲内、より好ましくは、１／２００〜１／１００，００
０の範囲である。

【００６９】また、本発明に用いられる塩基としては、
下記一般式（５）で表される化合物を用いることが好ま
しい。

【００７０】

【化１９】

【００７１】式（５）中、Ｍｂは、アルカリ金属又はア
ルカリ土類金属を表し、Ｚは、水酸基、アルコキシ基、
メルカプト基又はナフチル基を表す。

【００７２】かかる塩基としては、例えば、ＫＯＨ、Ｋ
ＯＣＨ₃、ＫＯＣＨ（ＣＨ₃)₃、ＫＯＣ（ＣＨ₃）₃、ＫＣ
₁₀Ｈ₈ 、ＮａＯＨ、ＮａＯＣＨ₃ 、ＬｉＯＨ、ＬｉＯＣ
Ｈ₃、ＬｉＯＣＨ（ＣＨ₃)₂、Ｍｇ（ＯＣ₂Ｈ₅）₂、Ｎａ
ＳＨ等を例示することができる。また、本発明において
は、４級アンモニウム塩も塩基として同様に用いること
ができる。

【００７３】上記の塩基の使用量は、第VIII族遷移金属
錯体および反応基質の種類によって異なるが、通常、触
媒１当量に対して２当量程度、基質１当量に対して０か
ら１．１当量程度が好ましい。

【００７４】一般式（１）：Ｒａ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（＝
ＮＯＲｂ）−Ｒｃで表されるα−イミノカルボニル化合
物から、一般式（２）：Ｒａ−Ｃ＊Ｈ（ＯＨ）−Ｃ（＝
ＮＯＲｂ）−Ｒｃで表されるβ−イミノアルコールを得
る反応は、通常、基質である前記一般式（１）で表され
るα−イミノカルボニル化合物（１）を不活性溶媒に溶
解し、所定量の遷移金属錯体及び塩基の存在下に、水素
作用させることにより行われる。

【００７５】この反応に用いることのできる溶媒として
は、不活性で反応原料（基質）及び触媒系を可溶化する
ものであれば、特に制限はない。かかる溶媒としては、
例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭
化水素、ペンタン、ヘキサン、オクタンなどの脂肪族炭
化水素、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素など
の含ハロゲン炭化水素、エーテル、ＴＨＦ（テトラヒド
ロフラン）等のエーテル類、メタノール、エタノール、
２−プロパノール、ブタノール、ベンジルアルコールな
どのアルコール類、アセトニトリル、ＤＭＦ（Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド）、Ｎーメチルピロリドン、ピリ
ジン、ＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）等のヘテロ原
子を含む有機溶媒を挙げることができる。

【００７６】上記したものの内、本発明においては、生
成物がアルコールであることからアルコール系溶媒が特
に好適である。これら溶媒は単独でも用いることができ
るがこれらの混合溶媒としても使うことができる。

【００７７】溶媒の使用量は、反応基質の溶解度及び経
済性等により決定される。例えば、２−プロパノールを
用いる場合は、基質濃度は１％以下の低濃度から基質だ
けの無溶媒に近い状態で行うことができ、好ましくは２
０〜５０重量％で用いることができる。

【００７８】反応は、水素ガス又は水素を供与する化合
物の存在下に行われる。水素ガスを用いる場合には、系
内の水素圧力を１〜２００気圧、好ましくは３〜１００
気圧の圧力下で行うのが望ましい。また、水素を供与す
る化合物としては、ヒドリド錯体や水素貯蔵合金等があ
る。

【００７９】反応温度は、反応速度等を考慮して、−３
０〜１００℃、好ましくは、１５℃から１００℃であ
る。２５℃〜４０℃の室温付近でも実施することができ
る。反応は、反応基質濃度、温度、圧力等の反応条件に
よって異なるが、通常、数分から１０時間で完結する。

【００８０】前記一般式（２）で表されるβ−イミノア
ルコールを還元することにより、一般式（３）：Ｒａ−
Ｃ＊Ｈ（ＯＨ）−Ｃ＊Ｈ（ＮＨ₂）−Ｒｃで表されるβ
−アミノアルコールを得る反応においては、不均一系金
属触媒、金属水素化物又はホウ素化合物を用いることが
好ましい。

【００８１】かかる不均一系金属触媒としては、例えば
炭素担持のパラジウム、水酸化パラジウム、ニッケル、
白金等を用いることができる。これらの不均一系金属触
媒を、一般式（２）で表されるβ−イミノアルコールに
対して０．０１〜１（ｗ／ｗ）、好ましくは０．０５〜
０．３(ｗ／ｗ)用い、水素を常圧〜１００気圧、好まし
くは常圧〜１０気圧かけて、還元反応を行うことができ
る。

【００８２】金属水素化物としては、例えば、ＬｉＡｌ
Ｈ₄やＤＩＢＡＬ（ジイソブチルアルミニウムハイドラ
イド）等のアルミニウム水素化物、ＬｉＢＨ₄やＮａＢ
Ｈ₄等のアルカリ金属ホウ素水素化合物、水素化カルシ
ウム、ニッケル水素化物などの金属水素化物などを用い
ることができる。

【００８３】又、ホウ素化合物としては、例えば、９−
ＢＢＮ（９−ボラビシクロ[3.3.1]ノナン）やボラン
（ＢＨ₃又はＢＨ₃・（ＣＨ₃）₂Ｓ錯体等）等のホウ素水
素化物を用いることができる。

【００８４】なお、α−イミノカルボニル化合物（１）
から、β−アミノアルコール（３）を得る場合において
は、反応中間体であるβ−イミノアルコール（２）を一
旦単離した後、このものをさらに還元することによりβ
−アミノアルコール（３）を得ることもできるし、その
ままワンポットで（即ち、β−イミノアルコール（２）
を単離することなく）連続的に反応させることにより、
β−アミノアルコール（３）を得ることもできる。ま
た、前記一般式（２）で表される光学活性β−イミノア
ルコールを工業的に大量製造する場合においては、反応
形式はバッチ式であっても連続式であってもよい。

【００８５】本発明の製造方法によって製造されるβ−
イミノアルコール（２）及び原料化合物（１）の具体例
を第１表に示す。

【００８６】

【表１】

【００８７】

【表２】

【００８８】

【表３】

【００８９】

【表４】

【００９０】

【表５】

【００９１】

【表６】

【００９２】

【表７】

【００９３】

【表８】

【００９４】

【表９】

【００９５】

【表１０】

【００９６】また、本発明の製造方法によって製造され
るβ−アミノアルコール（３）及び原料化合物（１）の
具体例を第２表に示す。

【００９７】

【表１１】

【００９８】

【表１２】

【００９９】

【表１３】

【０１００】

【表１４】

【０１０１】

【表１５】

【０１０２】

【表１６】

【０１０３】

【表１７】

【０１０４】

【表１８】

【０１０５】

【表１９】

【０１０６】

【表２０】

【０１０７】

【実施例】次に、実施例により、本発明を更に詳細に説
明する。なお、以下の実施例において、「ＢＩＮＡＰ」
は、２，２’−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，
１’−ビナフチルを表し、「ＴｏｌＢＩＮＡＰ」は、
２，２’−ビス（ジ−４−トリルホスフィノ）−１，
１’−ビナフチルを表し、また、「ＤＰＥＮ」は、１，
２−ジフェニルエチレンジアミンを表す。

【０１０８】実施例１ （１Ｓ）−１−フェニル−２−
（ベンジルオキシイミノ）プロパノールの製造

【０１０９】

【化２０】

【０１１０】（式中、＊は不斉炭素原子であることを表
す。） ２−プロパノール８ｍｌ、[（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ]Ｒｕ
（ＩＩ）Ｃｌ₂ [ （Ｓ，Ｓ）ＤＰＥＮ]１４．７ｍｇ
（０．０１４６ｍｍｏｌ）、^tＢｕＯＫの２−プロパノ
ール溶液（０．２５Ｎ）０．７４ｍｌ、及び２−（ベン
ジルオキシイミノ）プロピオフェノン７４０ｍｇ（２．
９０ｍｍｏｌ）を、アルゴン雰囲気下に１００ｍｌのオ
ートクレーブ中に入れ、水素を１２気圧まで圧入した。
２５℃にて１８時間攪拌した後、反応混合物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸
エチル＝３：１）により分離精製することにより、（１
Ｓ）−１−フェニル−２−（ベンジルオキシイミノ）プ
ロパノール６８０ｍｇ（２．６６ｍｍｏｌ；収率９１
％）を得た。

【０１１１】実施例２ (１Ｓ，２Ｒ)−１−フェニル
−２−（ベンゾイルアミノ）−１−プロパノール
｛（＋）−ノルエフェドリン−Ｎ−ベンゾイル体｝の製
造

【０１１２】

【化２１】

【０１１３】（式中、＊は不斉炭素原子であることを表
す。） 光学活性の１−フェニル−２−（ベンジルオキシイミ
ノ）プロパノール６８０ｍｇ（２．６６ｍｍｏｌ）のＴ
ＨＦ溶液７ｍｌに、ボラン・ジメチルスルフィド錯体の
ＴＨＦ溶液（１０規定）０．５３ｍｌ（５．３ｍｍｏ
ｌ）を０℃で加え、その後１８時間室温で攪拌した。反
応液に３Ｎ塩酸を加えて反応を停止させ、苛性ソーダで
反応溶液を塩基性としてからクロロホルムで抽出・分液
した。分取したクロロホルム溶液に、トリエチルアミン
（０．９３ｍｌ；６．６ｍｍｏｌ）のクロロホルム溶液
８ｍｌと安息香酸クロリド（３７３ｍｇ；２．６５ｍｍ
ｏｌ）を０℃で加えて４時間反応させた。この溶液を水
にあけて分液し、有機層を分取し、水層をクロロホルム
でさらに抽出した。有機層を合わせて無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物
の¹Ｈ−ＮＭＲを測定したところ、anti異性体：syn異性
体＝７１：２９(anti異性体δ＝５．０、syn異性体δ＝
４．７）であった。この粗生成物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（溶離液：ヘキサン：酢酸エチル＝
２：１）にて精製して、anti−１−フェニル−２−（ベ
ンゾイルアミノ）−１−プロパノール４５０ｍｇ（１．
５５ｍｍｏｌ；収率５８％）を得た。このものをＣｈｉ
ｒａｃｅｌ ＯＪカラム(溶離液：ヘキサン：エタノー
ル＝１０：１)にて分析したところ８７％ｅｅであっ
た。

【０１１４】実施例３ （１Ｓ）−１−（４−メトキシ
フェニル）−２−（ベンジルオキシイミノ）プロパノー
ルの製造

【０１１５】

【化２２】

【０１１６】（式中、＊は不斉炭素原子であることを表
す。） ２−プロパノール８ｍｌ，[ （Ｓ）−ＴｏｌＢＩＮＡＰ
]Ｒｕ（ＩＩ）Ｃｌ₂[（Ｓ，Ｓ）ＤＰＥＮ]、１５．９
ｍｇ（０．０１５０ｍｍｏｌ）、^tＢｕＯＫの２−プロ
パノール溶液１．５ｍｌ（０．５Ｎ）、及び２−（ベン
ジルオキシイミノ）−ｐ−メトキシプロピオフェノン８
５０ｍｇ（３．００ｍｍｏｌ）をアルゴン雰囲気下に１
００ｍｌのオートクレーブ中に入れ、水素を１２気圧ま
で圧入した。２５℃にて１８時間攪拌した後、反応混合
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘ
キサン：酢酸エチル＝４：１）により精製して、（１
Ｓ）−１−（４−メトキシフェニル）−２−（ベンジル
オキシイミノ）プロパノール８２９ｍｇ（２．９１ｍｍ
ｏｌ；収率９７％）を得た。

【０１１７】実施例４ （１Ｓ，２Ｒ）−１−（４−メ
トキシフェニル）−２−（ベンゾイルアミノ）−１−プ
ロパノールの製造

【０１１８】

【化２３】

【０１１９】（式中、＊は不斉炭素原子であることを表
す。） 実施例１で得られた（１Ｓ）−１−（４−メトキシフェ
ニル）−２−（ベンジルオキシイミノ）プロパノール８
２９ｍｇ（２．９１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液１２ｍｌ
に、ボラン・ジメチルスルフィド錯体ＴＨＦ溶液（１０
Ｎ）を０．２９ｍｌ（２．９ｍｍｏｌ）を０℃で加え、
その後５０℃で１８時間攪拌した。３Ｎ塩酸を加えて反
応を停止させ、苛性ソーダ水溶液で反応溶液を塩基性と
してからクロロホルムで抽出した。このクロロホルム溶
液を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し
て標記化合物とその異性体の混合物４６２ｍｇ（２．１
２ｍｍｏｌ；収率７３％、ａｎｔｉ異性体：ｓｙｎ異性
体＝８４：１６）を得た。なお、異性体の混合比は、¹
Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより、ａｎｔｉ異性体の場合に
は、δ＝４．４７ｐｐｍ、ｓｙｎ異性体の場合には、δ
＝４．１７ｐｐｍにそれぞれ特徴的なピークが観測され
ることから、両者のピーク強度を定量することにより決
定した。

【０１２０】次いで、この混合物とトリエチルアミン
０．８９ｍｌ（６．４ｍｍｏｌ）のクロロホルム溶液６
ｍｌに、０℃で安息香酸クロリド３５８ｍｇ（２．５４
ｍｍｏｌ）を加え、４時間反応させた。反応液を水にあ
けて有機層を分取し、さらに水層をクロロホルム抽出し
た。有機層とクロロホルム層を合わせて無水硫酸マグネ
シウムで乾燥し、濃縮して得られた残留物を、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶離液；ヘキサン：酢酸
エチル＝２：１）により、ａｎｔｉ−１−（４−メトキ
シフェニル）−２−（ベンゾイルアミノ）−１−プロパ
ノール５１２ｍｇ（１．５９ｍｍｏｌ；収率７５％）を
得た。このものをＣｈｉｒａｌｃｅｌ ＯＪカラム（溶
離液；ヘキサン：エタノール＝１０：１）にて分析した
ところ、このものの光学純度は９１％ｅｅであった。

【０１２１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
医薬農薬の合成中間体として有用な前記一般式（２）で
表される光学活性β−イミノアルコール及び前記一般式
（３）で表される光学活性β−アミノアルコールを、高
選択的かつ高収率に製造することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｃ 251/50 Ｃ０７Ｃ 251/50 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｆターム(参考） 4G069 AA03 AA06 BA08B BA27A BA27B BA47A BB08A BC65A BC69A BD01A BD07A BD08A BD11A BE08A BE14A BE26A BE33A CB02 4H006 AA02 AC11 AC41 BA02 BA03 BA06 BA23 BA24 BA26 BA61 BE20 BW11 BW18 4H039 CA60 CB20

Claims (18)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒａ，Ｒｂ及びＲｃは、それぞれ独立して、置
   換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有してい
   てもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいシク
   ロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基
   又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。ま
   た、ＲａとＲｃ若しくはＲｂとＲｃは結合して、５〜８
   員環を形成してもよい。）で表されるα−イミノカルボ
   ニル化合物に、光学活性遷移金属化合物及び塩基の存在
   下に、水素を作用させることを特徴とする、 一般式（２） 【化２】 （式中、Ｒａ，Ｒｂ及びＲｃは前記と同じ意味を示し、
   Ｃ＊は不斉炭素原子を表す。）で表される光学活性β−
   イミノアルコールの製造方法。
2. 【請求項２】一般式（１） 【化３】 （式中、Ｒａ，Ｒｂ及びＲｃは、それぞれ独立して、置
   換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有してい
   てもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいシク
   ロアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基
   又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。ま
   た、ＲａとＲｃ若しくはＲｂとＲｃは結合して、５〜８
   員環を形成してもよい。）で表されるα−イミノカルボ
   ニル化合物に、光学活性遷移金属化合物及び塩基の存在
   下に、水素を作用させることにより、一般式（２） 【化４】 （式中、Ｒａ，Ｒｂ及びＲｃは前記と同じ意味を示し、
   Ｃ＊は不斉炭素原子を表す。）で表されるβ−イミノア
   ルコールを得る工程と、 得られたβ−イミノアルコールを還元する工程を有する
   ことを特徴とする、 一般式（３） 【化５】 （式中、Ｒａ，Ｒｃ及びＣ＊は前記と同じ意味を表
   す。）で表される、アンチ立体配置を有する光学活性β
   −アミノアルコールの製造方法。
3. 【請求項３】前記光学活性遷移金属化合物は、均一系光
   学活性水素化触媒である、 請求項１記載の光学活性β−イミノアルコールの製造方
   法。
4. 【請求項４】前記光学活性遷移金属化合物は、均一系光
   学活性水素化触媒である、 請求項２記載のアンチ立体配置を有する光学活性β−ア
   ミノアルコールの製造方法。
5. 【請求項５】前記光学活性均一系水素化触媒は、一般式
   （４） 【化６】 （式中、Ｍａは第VIII族金属を表し、Ｘ，Ｙは、それぞ
   れ独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル
   基、水酸基又はアルコキシ基を表し、ｍ，ｎは、それぞ
   れ独立して、０又は１〜４の整数を表し、Ｐｘはホスフ
   ィン配位子を表し、Ｎｘはアミン配位子を表す。また、
   Ｐｘ及びＮｘの少なくとも一方は光学活性配位子であ
   る。）で表される化合物である請求項３記載の光学活性
   β−イミノアルコール類の製造法。
6. 【請求項６】前記光学活性均一系水素化触媒は、一般式
   （４） 【化７】 （式中、Ｍａは第VIII族金属を表し、Ｘ，Ｙは、それぞ
   れ独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル
   基、水酸基又はアルコキシ基を表し、ｍ，ｎは、それぞ
   れ独立して、０又は１〜４の整数を表し、Ｐｘはホスフ
   ィン配位子を表し、Ｎｘはアミン配位子を表す。また、
   Ｐｘ及びＮｘの少なくとも一方は光学活性配位子であ
   る。）で表される化合物である請求項４記載のアンチ立
   体配置を有する光学活性β−アミノアルコールの製造方
   法。
7. 【請求項７】前記Ｐｘは、光学活性ホスフィン配位子で
   ある、 請求項１，３又は５に記載の光学活性β−イミノアルコ
   ール類の製造法。
8. 【請求項８】前記Ｐｘは、光学活性ホスフィン配位子で
   ある、 請求項２、４又は６に記載のアンチ立体配置を有する光
   学活性β−アミノアルコールの製造方法。
9. 【請求項９】前記Ｎｘは、光学活性アミン配位子であ
   る、 請求項１、３又は５に記載の光学活性β−イミノアルコ
   ールの製造方法。
10. 【請求項１０】前記Ｎｘは、光学活性アミン配位子であ
    る、 請求項２、４又は６に記載のアンチ立体配置を有する光
    学活性β−アミノアルコールの製造方法。
11. 【請求項１１】前記塩基は、一般式（５） 【化８】 （式中、Ｍｂは、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を
    表し、Ｚは、水酸基、アルコキシ基又はメルカプト基を
    表す。）で表される化合物である、 請求項１、３、５、７又は９のいずれかに記載の光学活
    性β−イミノアルコールの製造方法。
12. 【請求項１２】前記塩基は、一般式（５） 【化９】 （式中、Ｍｂは、アルカリ金属又はアルカリ土類金属を
    表し、Ｚは、水酸基、アルコキシ基又はメルカプト基を
    表す。）で表される化合物である、 請求項２、４、６、８又は１０のいずれかに記載のアン
    チ立体配置を有する光学活性β−アミノアルコールの製
    造方法。
13. 【請求項１３】前記β−イミノアルコールを還元する工
    程は、前記一般式（２）で表されるβ−イミノアルコー
    ルに水素を作用させる工程を有する、 請求項２、４、６、８、１０又は１２のいずれかに記載
    のアンチ立体配置を有する光学活性β−アミノアルコー
    ルの製造方法。
14. 【請求項１４】前記β−イミノアルコールを還元する工
    程は、前記一般式（２）で表されるβ−イミノアルコー
    ルに、金属系試薬の存在下に水素を作用させる工程を有
    する、 請求項１３に記載のアンチ立体配置を有する光学活性β
    −アミノアルコールの製造方法。
15. 【請求項１５】前記金属系試薬は不均一系金属触媒であ
    る、 請求項１４記載のアンチ立体配置を有する光学活性β−
    アミノアルコールの製造方法。
16. 【請求項１６】前記金属系試薬は、金属水素化物であ
    る、 請求項１４記載のアンチ立体配置を有する光学活性β−
    アミノアルコールの製造方法。
17. 【請求項１７】前記β−イミノアルコールを還元する工
    程は、前記一般式（２）で表されるβ−イミノアルコー
    ルに、ホウ素化合物を作用させる工程を有する、 請求項２、４、６、８、１０又は１２のいずれかに記載
    のアンチ立体配置を有する光学活性β−アミノアルコー
    ルの製造方法。
18. 【請求項１８】前記ホウ素化合物はボランである、 請求項１８記載のアンチ立体配置を有する光学活性β−
    アミノアルコールの製造方法。