JP2001105725A - インクジェット記録シート用非晶質シリカおよびその製造方法 - Google Patents
インクジェット記録シート用非晶質シリカおよびその製造方法Info
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Abstract
れる非晶質シリカを高濃度配合した場合でも、分散液の
粘度が安定して得られ、高濃度配合を可能とする非晶質
シリカを提供する。 【解決手段】 BET比表面積が270m2/g以上3
20m2/g未満で、かつ4%水懸濁液のろ液の電気伝
導度が50μS/cm未満の非晶質シリカを用いる。
Description
シート用に使用される非晶質シリカに関し、詳しくはイ
ンクジェット用紙やフィルムなどの塗工層に填料として
使用される非晶質シリカの分散液が高濃度配合しても安
定した粘度が得られ、塗工液の高濃度化に有用な新規な
非晶質シリカを提供する。
は、騒音が少なく、高速記録が可能で、しかも多色化が
容易である等の利点があり、各種プリンター、ファクシ
ミリ等への応用が行われている。
に紙やフィルム等が挙げられるが、例えば通常の上質紙
やコート紙では性能の点で使用困難であり、紙面に付着
したインク液が速やかに紙内に吸収されること、紙面上
でのインク滴の広がりや滲みが抑制されること、濃度の
ある鮮明な画像が形成されること等の特性が要求され
る。このためインクジェット記録シートは基質シート表
面にインク受容層、すなわち塗工層を設けたものが多
く、これらの特性を基質シートの表面の塗工層に与える
ために、例えば、非晶質シリカのほかにクレー、タル
ク、炭酸カルシウム、カオリン、酸性白土、等種々のイ
ンク受容能を有する無機固体物質が、必要により結着剤
と共に基質シート表面に塗布されている。
最も代表的なもので、各種の物性を有する非晶質シリカ
が多く使用されている。
って得られる乾式シリカ(無水ケイ酸)と湿式製造法に
よって得られる湿式シリカ(含水ケイ酸)に分類でき、
さらに湿式シリカに属するシリカには、製法により沈降
法シリカとゲル法シリカに分類出来る。これらは製造条
件によりシリカの多孔構造、比表面積、表面状態等を様
々にコントロールし、使用目的に合った使われ方をして
いる。
トに使用される記録シートに要求される特性としては、
インクジェット記録シートの表面に形成された塗工層に
付着したインク滴が、速やかに内部に吸収され、且つで
きる限り表面近傍にインクが留まれることが必要である
とともにドットの真円性が保たれ、色彩性が良いなどが
挙げられる。
カとしては、例えば、特公平5−71394号公報で
は、平均粒子径が2.5〜3.5μm、窒素吸着による
細孔測定で60〜130オングストロームの範囲内の細
孔が全細孔の20%以上であり、吸油量が250ml/
100g以上の無定型シリカ(非晶質シリカ)をインク
ジェット記録紙用填料に用いることが提案されている。
BET比表面積が270〜400m 2/g、水銀圧入法
で測定された細孔半径のピーク位置が37.5〜75オ
ングストローム、平均粒子径が3.5μmを超えて、1
0μm以下の範囲である非晶質シリカが提案されてい
る。
記録シートの塗工層に使用される塗工液は、非晶質シリ
カ又は有機溶媒を含む水の分散液を調整し、次いでバイ
ンダーを加えて塗工液となるが、現状の非晶質シリカを
用いて分散液を調整すると、同一配合条件でも分散液の
粘度が高くなったり、或いはロット間のばらつきが大き
いなどの問題が発生し、塗工液を製造する際の作業性を
悪化させる原因となっている。そればかりか、分散液を
製造する際にも非晶質シリカを投入すると、撹拌機のト
ルクが急激に上昇し、分散液の粘度が安定するまでに時
間がかかるなどの現象がしばしば観察された。
速塗工)を行う場合には填料を高濃度に配合できる方が
よいが、分散液の粘度が不安定になると非晶質シリカを
高濃度に配合することが困難になり、結果的に作業性及
び生産性を悪化させてしまう。
例えば填料濃度を低くして、分散液粘度を低くすれば、
誤差範囲も小さくなり最も適当な方法と言えるが、この
場合、填料濃度を低くしなければならないために、結果
としてバインダーを加えて塗工液にした際に一度に塗工
できる量が少なくなってしまい生産性を悪化させてしま
う。また、填料濃度が低い場合は塗工層の乾燥のための
熱エネルギーコストがかかってしまうためにあまり好ま
しくない。また、填料である非晶質シリカのBET比表
面積を極端に小さくしたり、平均粒子径を極端に大きく
したり、吸油量を極端に低くすることによっても分散液
の粘度は高濃度でも安定化するが、これらの方法は本発
明の目的から考えて適切な方法とは言えない。
かつ鮮明画像を保ったまま、非晶質シリカを高濃度配合
した場合でも安定した分散液粘度が得られるような非晶
質シリカを提供するために鋭意研究を行った結果、分散
液の粘度は4%懸濁液のろ液の電気伝導度に依存するこ
とを見出した。また、この電気伝導度を50μS/cm
未満に制御することで高濃度配合を行った場合でも分散
液粘度のロット間のばらつきが無く、かつ分散液を製造
する際のトルクの急激な変化も無く安定した非晶質シリ
カを得られることを見出した。更に、インクの吸収性即
ち印字濃度は非晶質シリカ4%水懸濁液のろ液の電気伝
導度の値に関係なくBET比表面積の値に依存すること
を見出し、本発明を完成するに至った。
記録紙用シリカは、塗工液の高濃度配合を行うために4
%水懸濁液の電気伝導度が50μS/cm未満、好まし
くは30μS/cm未満でなければならない。更に高い
印字濃度を得るためにBET比表面積は270m2/g
以上320m2/g未満でなければならず、その両方の
条件を満足しなければならない。
度とは、非晶質シリカ(通常105℃で2時間乾燥した
ときの加熱減量が6%以下)4.0gに蒸留水50ml
を加えて数分間煮沸し、冷却後さらに蒸留水を加えて全
体を100mlとした後、該懸濁液をろ過したろ液の電
気伝導度(25℃)をいう。
未満、或いは320m2/g以上の場合、理由は定かで
はないがインクの吸収性能が低下してしまい高い印字濃
度が得られなくなってしまう。
0m2/g未満の場合でも、4%水懸濁液の電気伝導度
が50μS/cm以上の場合、インクの吸収性能は良
く、高い印字濃度が得られるものの、分散液粘度の急激
な上昇や粘度のばらつきが観察され、塗工液を製造する
際の作業性を悪化させてしまうため本発明には適さな
い。特に定着剤等の各種添加剤を添加して分散液のpH
が高くなった場合や非晶質シリカを高濃度配合した場合
にはこの現象が顕著に観察される。
ではないが、4%水懸濁液のろ液の電気伝導度は非晶質
シリカを製造する際に残留する水溶性のアルカリイオ
ン、酸性イオン、塩類等の不純物の総量を示したもので
あり、これらの水溶液不純物が分散液中に溶出すると、
シリカ粒子との間で何らかの相互作用が発生し、結果と
して分散液粘度が上昇したり不安定になると考えられ
る。
濁液のろ液の電気伝導度が50μS/cm未満になるよ
うな製造処方(水洗)を行えば、製造工程中の乾燥条件
や粉砕条件、あるいはその他の特別な処方を施すことな
く安定した粘度が得られることが分かっている。
質シリカは、一般的なインクジェット記録シート用非晶
質シリカと同様にコールターカウンター法による平均粒
子径が1.0μm以上12.0μm未満、吸油量は20
0ml/100g以上350ml/100g未満、好ま
しくは220ml/100g以上300ml/100g
未満、より好ましくは240ml/100g以上280
ml/100g未満であればよい。
け或いはアンダーコート向けの用紙やマットフィルムや
グロスフィルム、バックライトフィルム等目的に応じて
それぞれ選択でき、一般には、高画質向け用途には平均
粒径の小さいものが用いられ、汎用向けあるいは筆記性
を重視するものには平均粒径の大きいものが用いられ
る。
さい場合は、製造が非常に困難かつ作業性やハンドリン
グ性能が悪くなり、実用上の使用には適していないばか
りか平均粒子径が1.0μmよりも小さな非晶質シリカ
は分散液粘度が不安定になってしまうので本発明には適
さない。
合は、インクの吸収性を著しく悪化させ、ドットの真円
性が保てなくなり、コート層表面の滲みや裏抜けの原因
になってしまう。
も、インクの吸収性を悪化させ、ドットの真円性が保て
なくなり、コート層表面の滲みや裏抜けの原因になり、
逆に350ml/100g以上の場合、分散液や塗工液
の粘度が高く不安定になるあるいは高すぎる吸油能のた
めに高濃度分散することができず、本発明には適さな
い。
質シリカの窒素吸着法による細孔分布は細孔直径のピー
クが100〜300Åであるのが好ましく、非晶質シリ
カの細孔分布については、例えば特開平9−30809
号公報に記載されているような公知の技術によりコント
ロールすることができる。
粒子径の測定法、BET比表面積は、非晶質シリカの物
性を示す上記パラメーターを測定する適切な方法として
当業界において広く用いられている方法である。
るものであれば他の物性は特に限定されない。
(水分)は通常の6%以下であれば良く、4%水懸濁液
pHは通常の4〜11、好ましくは5〜8が適用出来
る。嵩比重は通常の30〜300g/リットルが適用で
きるが、ハンドリング性能の面から考えて嵩比重は高い
方が良い。一般的に嵩比重は、同一平均粒子径でも微粒
子が少ないほど高くなり、細孔容積が小さくなるほど
(無孔質に近くなるほど)高くなる。
るものではなく、上述の湿式製造法による製造方法が適
用出来る。
法による場合は、例えば、あらかじめ一定量の温水を張
り込んだ反応槽中に、一定のpHと温度を保ちながら珪
酸アルカリ水溶液と鉱酸とを一定時間添加する同時滴下
方法と、一定濃度にあらかじめ調整して反応槽中に張り
込んだ珪酸アルカリ水溶液(または鉱酸)に対して鉱酸
(または珪酸アルカリ水溶液)を一定時間滴下する片側
滴下方式等が利用できる。
シリカは本発明の目的から考えてもその反応スラリー
(シリカスラリー)中に残留するアルカリイオン、酸性
イオン、塩類などを除去するためにろ過、水洗を充分に
行わなければならない。水洗後は乾燥、粉砕し必要に応
じて分級することで最終的に目的とする非晶質シリカを
製造する。
珪酸ソーダ水溶液と鉱酸とをノズルを用いて急速に剪
断、混合することにより、シリカヒドロゾルが形成さ
れ、このシリカヒドロゾルを数時間放置することにより
シリカヒドロゲルを得る方法が利用できる。このシリカ
ヒドロゲルをアルカリイオン、酸性イオン、塩類などを
除去するための中和等を含めた水洗を充分に行い、その
後BET比表面積や細孔を調節するための水熱処理等を
行ったのち、乾燥、粉砕し、必要に応じて分級すること
で最終的に目的とする非晶質シリカを製造する。
が、水洗水として利用する水は電気伝導度が10〜10
0μS/cmのものを用い、十分に水洗するのが好まし
い。
越えた水洗水を用いると、非晶質シリカの4%水懸濁液
のろ液の電気伝導度を50μS/cm未満にするための
水洗時間がより長くなるために非晶質シリカの製造工程
上好ましくない。例を挙げると水洗水の電気伝導度が2
倍になれば非晶質シリカの4%水懸濁液の電気伝導度を
50μS/cm未満にするための時間は4倍以上にな
る。また、10μS/cm未満の水とは、純水あるいは
純水に近い高純度水を言い、創水コストが嵩み、またか
かる水を用いても水洗時間も極端に短くできない。これ
らのことから、上記範囲の電気伝導度の水、より好まし
くは電気伝導度が20〜80μS/cmの範囲内で一定
の電気伝導度を有する水洗水を用いて一定時間の水洗を
施すことがよい。
次の水洗で殆どの水溶性塩を除去した後、再度水に懸濁
し、脱陽イオンを目的として該懸濁液のpHが4.0以
下程度になるまで酸を加えたのち脱酸を目的としてアル
カリを加えてpHを7.0以上にした後、水を用いて第
2次の水洗を行い、pHが7以上になるまで水洗を行う
方法を採用すればなお良い。
合、本発明者らの経験則によれば、本発明が示すところ
による物性を有する非晶質シリカであればいずれの方法
の非晶質シリカも同様の傾向にあるが、製造工程を考え
ればゲル法シリカの方がアルカリイオン、酸性イオン、
塩類などの除去が容易で4%水懸濁液のろ液の電気伝導
度を50μS/cm未満にコントロールし易い。
上に塗工する方法も特に限定されることはない。
定着剤、耐水性付与剤等の添加剤等を加えてpHが中性
〜アルカリ性の分散液としたのち、バインダー水溶液を
加えて塗工液として使用される。
ル(PVA)、澱粉、ポリアクリルアミド(PAM)、
水溶性セルロース類等の水溶性樹脂が一般に使用され
る。
などの有機溶媒が単独にあるいは併用して使用される。
3〜20%、非晶質シリカ濃度は3〜30%の範囲内で
必要に応じて調整され、使用される。
質量として1〜50g/m2の割合で一層あるいは二層
以上塗工され、乾燥後、カレンダリングを行ってインク
ジェット記録シートとなる。
および比較例を挙げて説明するが、勿論これらに限定さ
れるものではない。なお各物性値等の測定は次に示す方
法により実施し、実施例及び比較例で得られた非晶質シ
リカの物性値は下記表1に示した。
gの非晶質シリカ(105℃、2時間後の加熱減量が6
%以下)を添加し、よく混合した後5分間煮沸処理す
る。その後蒸留水を用いて全容量を100mlに調整し
た後ろ別する。このろ液について、電気伝導度計(堀場
製作所製:型式DS−15)を用いて測定した(測定温
度25℃)。
td.製)を用いて測定した。粒子の最大粒径が30μm
以内(平均粒径でおよそ1〜7μm)のものは50μm
のアパーチャーチューブを用い、粒子の最大粒径が42
μm以内(平均粒径でおよそ4〜13μm)のものは7
0μmのアパーチャーチューブを用いた(アパチャーチ
ューブの大きさにより最適測定範囲、及び測定限界があ
るため)。
を行い、分散は付属のIsoton−II液を使用した。
点法により測定した。
に準じて測定を行った。
に非晶質シリカ36gを投入し、ディスパーで1300
rpm、5分間撹拌して分散液とした。この分散液の3
分の2量(134g)をポリビニルアルコール((株)
クラレ社製PVA117)の14%水溶液70gを入れ
た容器中に投入し、調整水として蒸留水を20g加え、
ディスパーで700rpm、10分間の撹拌を行い塗工
液とした。
紙にNo.30バーコーターを用いて塗工(塗工量;約
8g/m2)し、風乾した。風乾後、線圧20kg/c
mでカレンダリングを行ない塗工紙を得た。
入れB型粘度計((株)東京計器社製)でNo.3ロー
ター、60rpm、の条件で60秒後の粘度測定(A)
を行った後さらに120秒後(測定開始から3分後)の
粘度測定(B)を行った。
き塗工液の粘度が安定しているとみなして○、そうでな
い場合は粘度が安定していないとみなして×とした。
した。印字パターンはブラック、イエロー、シアン、マ
ゼンダの各単色のベタ塗り(4cm×4cm)と、階調
をつけたブラック、イエロー、シアン、マゼンダの各単
色ドット、及びこれら4色を混色したドットについて印
字した。
の評価を行った。
カラ(株)社製VMS−70A)による肉眼観察と写真
撮影を行い次のような評価基準で評価を行った。
れ出したり滲んでいない。
とがある。
りの印字濃度測定をグレタグマクベス反射濃度計RD−
918を用いて行った。
珪酸ソーダ水溶液と40%の硫酸水溶液を過剰硫酸が
0.6Nになるように混合させシリカヒドロゾルを得
た。
シリカヒドロゲルを得たのち、90℃、pH9.5の条
件で16時間の水熱処理後、過剰のアルカリを除去する
ためにpH4.0になるまで硫酸を加え、さらに60℃
で1時間放置した。これを副生塩を除去するのに充分な
水洗を行ったのちに水とシリカ比が10:1の条件にお
いて60℃、2時間放置したのち充分にその付着水を除
去した。この作業を2回繰り返し純粋なシリカヒドロゲ
ルを得た。なお使用した水洗水は電気伝導度が50μS
/cmの水を用いた。
ジェットミルにより平均粒子径6.0μmになるように
粉砕および最終乾燥を行ってゲル法シリカを得た。
カヒドロゲルを得たのち、75℃、pH9.5の条件で
16時間の水熱処理を行った。水熱処理後は実施例1と
同様の方法で水洗を行い純粋なシリカヒドロゲルを得た
のち乾燥し、ジェットミルにより平均粒子径6.0μm
になるように粉砕及び最終乾燥してゲル法シリカを得
た。
カヒドロゲルを得たのち、90℃、pH9.5の条件で
16時間の水熱処理後、過剰のアルカリを除去するため
にpH4.0になるまで硫酸を加え、さらに80℃で2
時間放置した。これを副生塩を除去するのに充分な水洗
を行ったのちに純水を用いて純水とシリカ比が10:1
の条件において60℃、2時間放置したのち充分にその
付着水を除去した。この作業を1回のみ行い純粋なシリ
カヒドロゲルを得たのち乾燥し、ジェットミルにより平
均粒子径6.0μmになるように粉砕及び最終乾燥して
ゲ法シリカを得た。
55の珪酸ソーダ水溶液0.7リットルと温水145リ
ットルを仕込み、これを58℃に加温し充分に撹拌を行
った。次いで珪酸ソーダ水溶液73リットルと濃度49
%の硫酸5.6リットルとを撹拌を行いながら200分
間にわたり同時に添加して中和反応を行った。その後、
さらに硫酸を添加して含水珪酸スラリーのpHを3.5
にして全反応を終了した。
ィルタープレスでろ過、水洗を行いシリカケークを得
た。このシリカケークを再度水に懸濁し、該懸濁液のp
Hが4.0以下になるまで硫酸を加えた後、炭酸アンモ
ニウム水溶液を加えてpHを7.0以上にした後、ヌッ
チェを用いてろ過、水洗を行った。水洗後は静置乾燥を
行い乾燥後は平均粒子径が6.0μmになるようにバン
タムミル(ホソカワミクロン(株)社製)で粉砕し、ス
ペディック風力分級機((株)セイシン企業社製)で分
級を行い沈降法シリカを得た。
理後、電気伝導度が130μS/cmの水(水道水)を
用いて実施例1と同一時間の水洗を行った。水洗後は過
熱蒸気を用いたジェットミルにより平均粒子径6.0μ
mになるように粉砕および最終乾燥を行ってゲル法シリ
カを得た。
理後、電気伝導度が130μS/cmの水(水道水)を
用いて実施例2と同一時間の水洗を行った。水洗後は過
熱蒸気を用いたジェットミルにより平均粒子径6.0μ
mになるように粉砕および最終乾燥を行ってゲル法シリ
カを得た。
行い乾燥後は平均粒子径が6.0μmになるように粉
砕、分級を行い沈降法シリカを得た。
P(日本シリカ工業(株)社製)を用いた。
ED−5(GRACEDAVISON社製)を用いた。
非晶質シリカは、インクジェット記録シートの塗工層に
使用される塗工液を製造する際の分散液を高濃度配合し
ても安定した粘度が得られるため、結果として塗工液の
高濃度配合が可能でしかも安定した粘度が得られるとい
う効果がある。
ら、印字濃度が高く、鮮明な画像を形成することが出来
るという効果が得られる。
Claims (3)
- 【請求項1】 BET比表面積が270m2/g以上3
20m2/g未満であり、かつ4%水懸濁液のろ液の電
気伝導度が50μS/cm未満であることを特徴とする
インクジェット記録シート用非晶質シリカ。 - 【請求項2】 コールターカウンター法による平均粒子
径が1.0μm以上12.0μm未満であり、吸油量が
200〜350ml/100gにあることを特徴とする
請求項1記載のインクジェット記録シート用非晶質シリ
カ。 - 【請求項3】 湿式製造法により得たシリカスラリー又
はシリカヒドロゲルを電気伝導度10〜100μS/c
mの水で水洗することにより、BET比表面積が270
m2/g以上320m2/g未満であり、かつ4%水懸濁
液のろ液の電気伝導度が50μS/cm未満であるイン
クジェット記録シート用非晶質シリカを得ることを特徴
とするインクジェット記録シート用非晶質シリカの製造
方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005126281A (ja) * | 2003-10-23 | 2005-05-19 | Tosoh Silica Corp | 非晶質シリカ |
JP2005220010A (ja) * | 2004-01-07 | 2005-08-18 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | シリカ分散液及びそれを用いたインクジェット記録材料 |
JP2008500206A (ja) * | 2004-05-26 | 2008-01-10 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー. | 染料系又は顔料系インクジェットインク用のインクジェット記録媒体 |
CN107245904A (zh) * | 2017-06-06 | 2017-10-13 | 福建远翔新材料股份有限公司 | 一种高性能彩喷纸用二氧化硅吸墨剂的生产方法 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0345511A (ja) * | 1989-07-03 | 1991-02-27 | Rhone Poulenc Chim | 調節された多孔度を持つシリカ及びその製造方法 |
JPH061878A (ja) * | 1992-06-22 | 1994-01-11 | Nippon Shirika Kogyo Kk | シリコーンゴム充填剤用含水珪酸 |
JPH0648719A (ja) * | 1992-05-15 | 1994-02-22 | Bayer Ag | シリカゾルの製造及び濃縮法 |
JPH06171922A (ja) * | 1992-12-08 | 1994-06-21 | Nippon Shirika Kogyo Kk | シリコーンゴム補強充填剤用の含水珪酸 |
JPH0769617A (ja) * | 1993-06-29 | 1995-03-14 | Nitto Chem Ind Co Ltd | 高純度球状シリカおよびその製造方法 |
JPH07187645A (ja) * | 1993-12-24 | 1995-07-25 | Nippon Silica Ind Co Ltd | シリカヒドロゲルの洗浄方法 |
JPH0891820A (ja) * | 1994-09-26 | 1996-04-09 | Nippon Chem Ind Co Ltd | 水和珪酸とその製造方法 |
JPH08169710A (ja) * | 1994-12-20 | 1996-07-02 | Nippon Silica Ind Co Ltd | 高い比表面積とコントロールされた低い構造性を有するシリカゲルおよびその製造方法 |
JPH0948611A (ja) * | 1995-08-01 | 1997-02-18 | Nippon Silica Ind Co Ltd | 研磨性を有する微粉末沈澱ケイ酸の製造方法 |
JPH0995042A (ja) * | 1995-09-29 | 1997-04-08 | Tokuyama Corp | インクジェット記録用紙用填料 |
JPH1058822A (ja) * | 1996-08-27 | 1998-03-03 | Tokuyama Corp | インクジェット記録用紙用填料 |
JPH10324517A (ja) * | 1997-05-22 | 1998-12-08 | Mizusawa Ind Chem Ltd | 破砕法によるシリカゲル粒子、その製法及びその用途 |
JPH10329412A (ja) * | 1997-06-02 | 1998-12-15 | Tokuyama Corp | インクジェット記録用紙用填料及びその製造方法 |
-
1999
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Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0345511A (ja) * | 1989-07-03 | 1991-02-27 | Rhone Poulenc Chim | 調節された多孔度を持つシリカ及びその製造方法 |
JPH0648719A (ja) * | 1992-05-15 | 1994-02-22 | Bayer Ag | シリカゾルの製造及び濃縮法 |
JPH061878A (ja) * | 1992-06-22 | 1994-01-11 | Nippon Shirika Kogyo Kk | シリコーンゴム充填剤用含水珪酸 |
JPH06171922A (ja) * | 1992-12-08 | 1994-06-21 | Nippon Shirika Kogyo Kk | シリコーンゴム補強充填剤用の含水珪酸 |
JPH0769617A (ja) * | 1993-06-29 | 1995-03-14 | Nitto Chem Ind Co Ltd | 高純度球状シリカおよびその製造方法 |
JPH07187645A (ja) * | 1993-12-24 | 1995-07-25 | Nippon Silica Ind Co Ltd | シリカヒドロゲルの洗浄方法 |
JPH0891820A (ja) * | 1994-09-26 | 1996-04-09 | Nippon Chem Ind Co Ltd | 水和珪酸とその製造方法 |
JPH08169710A (ja) * | 1994-12-20 | 1996-07-02 | Nippon Silica Ind Co Ltd | 高い比表面積とコントロールされた低い構造性を有するシリカゲルおよびその製造方法 |
JPH0948611A (ja) * | 1995-08-01 | 1997-02-18 | Nippon Silica Ind Co Ltd | 研磨性を有する微粉末沈澱ケイ酸の製造方法 |
JPH0995042A (ja) * | 1995-09-29 | 1997-04-08 | Tokuyama Corp | インクジェット記録用紙用填料 |
JPH1058822A (ja) * | 1996-08-27 | 1998-03-03 | Tokuyama Corp | インクジェット記録用紙用填料 |
JPH10324517A (ja) * | 1997-05-22 | 1998-12-08 | Mizusawa Ind Chem Ltd | 破砕法によるシリカゲル粒子、その製法及びその用途 |
JPH10329412A (ja) * | 1997-06-02 | 1998-12-15 | Tokuyama Corp | インクジェット記録用紙用填料及びその製造方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005126281A (ja) * | 2003-10-23 | 2005-05-19 | Tosoh Silica Corp | 非晶質シリカ |
JP4590179B2 (ja) * | 2003-10-23 | 2010-12-01 | 東ソー・シリカ株式会社 | 非晶質シリカ |
JP2005220010A (ja) * | 2004-01-07 | 2005-08-18 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | シリカ分散液及びそれを用いたインクジェット記録材料 |
JP4648708B2 (ja) * | 2004-01-07 | 2011-03-09 | 三菱製紙株式会社 | シリカ分散液 |
JP2008500206A (ja) * | 2004-05-26 | 2008-01-10 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー. | 染料系又は顔料系インクジェットインク用のインクジェット記録媒体 |
CN107245904A (zh) * | 2017-06-06 | 2017-10-13 | 福建远翔新材料股份有限公司 | 一种高性能彩喷纸用二氧化硅吸墨剂的生产方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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