JP4303740B2 - インクジェット記録シートの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、高い光沢を保持し、染料インクと顔料インクの両方に優れた画像再現性を持ち、かつ、コストパフォーマンスに優れたインクジェット記録シート及びその製造方法に関する。

近年、コンピューター技術の飛躍的な進歩とその低価格化によってデジタル画像の取り扱いが極めて容易になり、それに伴って高性能なパーソナルプリンタが開発されて広く普及しており、フルカラー印刷を手軽に行うことが可能になった。現在、パーソナルプリンタとして最も普及しているのはインクジェット方式のプリンタであり、インクジェット方式の利点としては、多色化が容易なこと、高速印刷が可能であること、非接触型で低騒音であること、装置が小型で安価なことが挙げられる。

インクジェット方式の画像形成システムは、次のとおりである。すなわち、シアン、マゼンタ、イエロー、ブラックなどの各色の染料又は顔料インクを、サーマル方式、ピエゾ方式などによってノズルから微小な液滴として吐出し、インクジェット記録用媒体上に画像を形成せしめる。

インクジェット記録用媒体に要求される特性としては、インク吸収容量が大きくインク吸収速度が速いこと、発色が鮮やかで均一であること、滲みが少なく解像度が高いことなどが挙げられる。

前記の適性を得るため、インクジェット記録用紙においては、合成非晶質シリカを主成分とした、数μｍから数十μｍ厚までのインク吸収層を基材上に形成させることで、より大きなインク吸収容量と鮮やかな発色性を実現した、いわゆるインクジェット専用紙が主流となっている。

また、デジタルカメラに代表されるデジタル画像技術の飛躍的な進歩に伴い、フォト画像をインクジェットプリンタによって印刷することが一般的となったが、このときには、銀塩写真と同等の高級感と印刷精細感を得るために、表面にナノオーダーの極微細粒子からなる光沢層を設けた、いわゆる光沢タイプのインクジェット記録用媒体も普及している。

また近年、パーソナル用途のインクジェットプリンタで顔料インクを用いる機種が普及している。しかし、顔料インクの吸収特性が染料インクとは異なるため、それらの適性を両立するインクジェット記録用媒体には、よりハイレベルな技術が必要となる。

例えば、インクジェット記録用媒体の記録層に用いる顔料としては、珪酸アルカリを鉱酸で中和又はゲル化して得られる湿式シリカが公知である（例えば、特許文献１又は２参照。）。

また、光沢インクジェット記録用媒体に好適に用いられる顔料として、アルミナの水和物又はアルミナのγ結晶体も従来知られている（例えば、特許文献３又は４参照。）。

また、珪素ハロゲン化物を炎中で酸化して得られるいわゆる乾式シリカ又は気相法シリカと呼ばれるシリカ粉体は、その優れたインク吸収能及び透明性並びに比較的安いコストによって近年光沢インクジェット記録用媒体の顔料として注目を集めている（例えば、特許文献５参照。）。

さらに、湿式シリカを粉砕機によって数百ｎｍまで粉砕し、光沢発現能を高める技術が提案されている（例えば、特許文献６参照。）。

また、特に顔料インクに対する適性を向上させる方法として、光沢面表面の亀裂面積率を規定することが提案されている（例えば、特許文献７参照。）。

特公平５−０７１３９４号公報 特公平２−１７６４号公報 特開昭６０−２４５５８８号公報 特許第３７３３２８３号公報 特公平３−５６５５２号公報 特開２００４−２４３７４０号公報 特開２００６−１５６３２号公報

しかしながら、特許文献１又は２に記載のように、記録層に用いる顔料として珪酸アルカリを鉱酸で中和又はゲル化して得られる湿式シリカを用いることは公知ではあるが、通常、市販されている湿式沈降法シリカ粉体（例えば、株式会社トクヤマ製ファインシール又は東ソー・シリカ株式会社製ニップシル。）又は湿式ゲル法シリカ粉体（例えば、グレースデビソン社製サイロジェット又は水澤化学工業株式会社製ミズカシル。）を単に水中に分散してインクジェット光沢層に用いた場合、１μｍ以上という大きな粒子径ゆえに、十分な表面光沢性が得られなかった。

また、特許文献３又は４に記載のように、顔料としてアルミナの水和物又はアルミナのγ結晶体を使用することは公知であるが、酸化アルミニウムは、原料ソースがアルミニウムであるがゆえに、コストが高いという基本的な弱点を回避することができない。

また、特許文献５で使用する気相法シリカは、非常に嵩高く取り扱うときの粉塵発生が著しく、溶媒への分散に非常に手間がかかり非効率的であることに加え、コスト面においても、まだ湿式製法によるシリカに及ばない。

また、特許文献６の提案では、湿式シリカを各種のミルで粉砕する必要があるが、実際にはこの工程は、非常に時間とエネルギーが必要で、コストアップの大きな要因となる。

さらに特許文献７の提案の中では、実際の技術的課題である、亀裂面積をコントロールする具体的な方法について記述がなく、解決策となりえないものである。

上述の如く、染料インク及び顔料インクの両方に優れた画像再現性を持ち、かつ、コストパフォーマンスに優れた光沢タイプのインクジェット記録シートはまだ存在しない。本発明は、上記課題を解決することを目的とする。

本発明者らは、鋭意検討の結果、支持体上少なくとも１層以上の記録層を設けたインクジェット記録シートにおいて、インクジェット記録層の最上層が微細顔料とバインダーとを主成分とした光沢インク受容層であり、該微細顔料中に、粒子の形成から塗布直前に至るまで一度も乾燥状態を経ていない湿式シリカを含有せしめることで、高い光沢を保持し、染料及び顔料インク共に高い画像再現性を持ち、かつ、コストパフォーマンスに優れたインクジェット記録シートを得ることに成功した。

具体的には、本発明に係るインクジェット記録シートの製造方法によって得られたインクジェット記録シートは、基材上の少なくとも片面に、１層以上のインクジェット記録層を設けたインクジェット記録シートにおいて、前記インクジェット記録層の最上層が微細顔料とバインダーとを主成分とした光沢インク受容層であり、該光沢インク受容層の下に１層以上の下層インク受容層が設けられており、前記光沢インク受容層の乾燥塗工量が２〜４０ｇ／ｍ^２であり、前記光沢インク受容層がキャスト法によって形成されており、前記微細顔料は、その３０〜１００質量％が、平均二次粒子径が３μｍ〜３０μｍで前記下層インク受容層の表面への塗布直前まで一度も乾燥状態を経ておらず、かつ、粉砕工程を経ていない沈降法シリカであり、該沈降法シリカのＢＥＴ比表面積が１８０〜３００ｍ^２／ｇであり、かつ、ＪＩＳ Ｚ ８７４１：１９９７「鏡面光沢度−測定方法」に準じて測定した２０度鏡面光沢度が１０％以上であることを特徴とする。湿式シリカのＢＥＴ比表面積を上記範囲とすることで、インク吸収能に優れ、かつ、所望の表面光沢が得られやすい。また、光沢インク受容層の乾燥塗工量を上記範囲とすることで、十分な表面平滑性と所望の表面光沢性が得られやすく、かつ、塗工層の粉落ち及び／又は塗工層の脱落がし難い。さらに、光沢インク受容層をキャスト法で形成するが、これは、高い圧力で塗工層を鏡面に押し付けるキャスト法が、比較的粒子径が大きく、柔らかい粒子を用いて高光沢を得るという本発明の主旨に良く合致するためである。さらに、沈降法シリカは、直接シリカ粒子が生成して得られ、その上、得られる粒子が柔らかく、粉砕工程が無くとも比較的高い光沢を得ることができる。

本発明に係るインクジェット記録シートの製造方法は、基材上の少なくとも片面に、インクジェット記録層用塗工液を塗布して１層以上のインクジェット記録層を設けたインクジェット記録シートの製造方法において、前記基材の表面に１層以上の下層インク受容層を設け、該下層インク受容層の上に、前記インクジェット記録層の最上層となる光沢インク受容層用のインクジェット記録層用塗工液として、微細顔料とバインダーとを主成分として含有し、前記微細顔料の３０〜１００質量％が平均二次粒子径３μｍ〜３０μｍで前記基材への塗布直前まで一度も乾燥状態を経ておらず、かつ、粉砕工程を経ていない、ＢＥＴ比表面積が１８０〜３００ｍ^２／ｇの沈降法シリカである塗工液を使用して、乾燥塗工量が２〜４０ｇ／ｍ^２となるように、キャスト法によって光沢インク受容層を形成し、ＪＩＳ Ｚ ８７４１：１９９７「鏡面光沢度−測定方法」に準じて測定した２０度鏡面光沢度が１０％以上の表面に仕上げることを特徴とする。比較的粒子径が大きく、柔らかい粒子の使用と、高い圧力で塗工層を鏡面に押し付けるキャスト法の採用との組み合わせによって、高光沢を得ることができる。

本発明によって、高い光沢を保持し、インクジェット印刷において、染料インク及び顔料インク共に高いインク吸収性と画像再現性とを保ちつつ、かつ、コストパフォーマンスに優れるインクジェット記録シートを得ることができた。

以下、本発明について実施形態を示して詳細に説明するが、本発明は、以下の実施の形態に制限されるものではない。本実施形態に係るインクジェット記録シートの製造方法によって得られたインクジェット記録シートは、基材上の少なくとも片面に、１層以上のインクジェット記録層を設けたインクジェット記録シートにおいて、前記インクジェット記録層の最上層が微細顔料とバインダーとを主成分とした光沢インク受容層であり、該光沢インク受容層の下に１層以上の下層インク受容層が設けられており、前記光沢インク受容層の乾燥塗工量が２〜４０ｇ／ｍ^２であり、前記光沢インク受容層がキャスト法によって形成されており、前記微細顔料は、その３０〜１００質量％が、平均二次粒子径が３μｍ〜３０μｍで前記下層インク受容層の表面への塗布直前まで一度も乾燥状態を経ておらず、かつ、粉砕工程を経ていない沈降法シリカであり、該沈降法シリカのＢＥＴ比表面積が１８０〜３００ｍ^２／ｇであり、かつ、ＪＩＳ Ｚ ８７４１：１９９７「鏡面光沢度−測定方法」に準じて測定した２０度鏡面光沢度が１０％以上である。

本発明に係るインクジェット記録シートは、微細顔料中に、粒子の形成から塗布直前に至るまで一度も乾燥状態を経ていない湿式シリカを含有しているので、高い光沢を保持し、染料及び顔料インク共に高い画像再現性を持ち、かつ、コストパフォーマンスに優れている。本発明者らは、これについて次のように推測する。つまり、乾燥状態を経たシリカ粒子は、密で硬い粒子となるため、溶媒への再分散後に粉砕工程を経ない場合、粗粒子の影響で十分な表面平滑を得られず所望の表面光沢性を得られない。これに対して、乾燥状態を経ていないシリカ粒子は、非常にポーラスで柔らかく、圧力によって容易に変形するため、粗粒子があっても十分な表面平滑性を得ることができ、結果として粉砕工程なしで高い光沢面を得ることができる。また、顔料インク適性が優れる理由については定かではないが、おそらくシリカが乾燥状態を経ていないために塗工膜乾燥時の収縮力が弱く、塗工面にひび割れを形成しにくいものと推測される。

本実施形態に係るインクジェット記録シートにおいて使用する基材は、例えば、酸性又は中性の上質紙、中質紙及び板紙、不織布、樹脂被覆紙、ＰＥ（ポリエチレン）、ＰＰ（ポリプロピレン）、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）などの合成樹脂フィルムなどが挙げられ、本発明では限定されないが、塗工基材として平滑性及び塗工液の塗工適性を具備したものを使用することが好ましい。また、キャスト法を用いて光沢インク受容層及び光沢保護層を設ける場合には、透気性のある基材を用いることが必要であり、樹脂被覆紙いわゆるＲＣ（レジンコート）ペーパー又は樹脂フィルムは使用しない。

紙の原料としては、木材パルプが最も好適に用いられるが、その他の天然パルプ、古紙パルプ、合成パルプなどを必要に応じて適宜組み合わせて用いても構わない。天然パルプは、塩素、次亜塩素酸塩、二酸化塩素漂白などの通常の漂白処理又はアルカリ抽出若しくはアルカリ処理及び必要に応じた過酸化水素、オゾン漂白などの酸化漂白処理又はその組み合わせ処理を施した広葉樹パルプ、針葉樹パルプ若しくはその混合パルプが望ましく、更に、ソーダパルプ、機械パルプなども用いることができる。古紙パルプは、その原料、脱墨方法及び漂白方法を問わないが、紙の強度を損なわない程度の配合量としなければならない。合成パルプも、各種のものを用いることができ、特にポリオレフィンからなるパルプ状多分岐繊維は、本発明において好適に用いることができる。

前記のパルプは、ディスク型、コニカル型などの各種の叩解機によって適当なフリーネスとなるように必要に応じて叩解する。フリーネスは、紙の強度を決定する重要な要因であり叩解が進むほどに強度が増すが、透気性、不透明度、嵩などの低下をもたらすため、一般的には４００〜５５０ｍｌＣＳＦ（カナダ標準ろ水度）程度で、本実施形態においてもこの範疇でコントロールすることが好ましいが、これに限定されるものではない。

紙料中には、前記のパルプ以外に、紙力剤、白色顔料、硫酸バンド、歩留まり向上剤、サイズ剤、染料、蛍光染料などの各種抄紙用薬品が適宜用いられる。紙力剤としては、カチオンでんぷん、両性でんぷん、ポリアクリルアマイドなどが用いられる。歩留まり向上剤は、コロイダルシリカ、ポリアクリルアマイド、ポリエチレンイミンなどが用いられる。染料及び蛍光染料は、紙の色相を調整するために添加され、直接染料、塩基性染料、酸性染料などが用いられる。サイズ剤としては、アルキルケテンダイマー（ＡＫＤ）、アルケニル無水琥珀酸（ＡＳＡ）、中性ロジン、強化ロジン、鹸化ロジンなどが抄紙ｐＨなどに応じて適宜選択される。この他、嵩高剤も繊維間結合強度の低下が問題とならない程度に添加することが可能である。

本実施形態において、基材上に設けられるインクジェット記録層は、単層でも多層でも構わず、更に、記録層最上層となる光沢インク受容層も単層又は多層を問わない。キャスト法によって光沢インク受容層を形成する場合には、単層のキャスト塗工層の塗工量があまりにも多すぎると乾燥効率の点から生産効率が低下してしまうことから、及び光沢層の下となる層の平滑性の影響を比較的受けにくいことから、基材上にまずコストパフォーマンスに優れた下層のインクジェット記録層としてのインク受容層（以下「下層インク受容層」という。）を設け、該下層インク受容層の上に湿式シリカを含有した光沢インク受容層を設けることが望ましい。また、キャスト法以外で光沢インク受容層を設ける場合は、該光沢インク受容層の下層の表面平滑度が仕上がり光沢面の平滑性に大きな影響を及ぼすため、下層インク受容層も光沢インク受容層と同等の表面平滑性を発現しうる顔料を用いることが望ましい。

下層インク受容層に用いる顔料としては、例えば、非晶質シリカ、非晶質アルミナ、カオリン、クレー、焼成クレー、タルク、重質炭酸カルシウム、軽質炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、サチンホワイト、二酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸バリウム、珪酸リチウム、珪藻土、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、酸化マグネシウム、マイカ、天然ゼオライト、合成ゼオライト、擬ベーマイト、ハイドロキシアパタイト、層間化合物などの無機顔料があり、或いは、アクリル／メタクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ブタジエン系樹脂、シリコン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂などの単量体又は共重合体からなる球状若しくは不定形の有機顔料がある。また、これらの顔料にカップリング剤又は有機物による表面改質など、或いは、金属イオン交換法、気相蒸着法又は液相析出法による表面処理など、多元的な機能性を付与させるための表面処理を施してもかまわない。また、これらを二種類以上組み合わせて使用してもよい。

光沢インク受容層には、微細顔料とバインダーとが主成分として含有される。微細顔料として、粒子の形成から塗工液の調製、塗布の直前に至るまで乾燥工程を経ていない湿式シリカが必須成分として含有される。該湿式シリカの平均二次粒子径を１μｍ〜３０μｍとし、微細顔料のうち湿式シリカの比率を３０〜１００質量％とすることで本発明の効果を最大限に得ることができる。平均二次粒子径は、１μｍ〜２０μｍであることがより好ましい。湿式シリカの平均二次粒子径１μｍ〜３０μｍという範囲は、特別な粉砕装置を用いた工程及び／又は分級工程を経ていない通常の湿式シリカの粒子径である。平均二次粒子径が１μｍ未満である場合、多孔性が不足しインク吸収性が低下し、３０μｍを超える場合、得られる光沢面の品質が低下する。なお、本実施形態における平均二次粒子径とは、レーザー回折式粒度分布測定機によって測定されるメジアン径のことを指す。微細顔料に占める湿式シリカの含有量は、より好ましくは５０〜１００質量％である。３０質量％未満である場合、顔料インクの印字濃度が低下し、鮮明な画像が得られず、またコスト上の有利性も減少する。その他の微細顔料としては、微細顔料の平均二次粒子径を、好ましくは５〜１０００ｎｍ、より好ましくは１０〜５００ｎｍとし、優れた表面平滑性を得るために極微細顔料を用いることが望ましい。例えば、気相法シリカ、γ、θ、δなどの結晶構造をもつアルミナの極微粒子、コロイダルシリカ、ベーマイト、擬ベーマイトなどのコロイド製法による懸濁物、ゲル化法若しくは沈降法による非晶質シリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、水酸化アルミニウム、二酸化チタンなどの白色顔料、カオリン、タルク、珪藻土などの天然鉱物の粉砕若しくは分級された極微粒子又はこれらの無機微細顔料に表面処理を施したもの、更に、ポリスチレン、メチルメタクリレート、スチレン−ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体、アクリル酸エステル／メタクリル酸エステル共重合体、マイクロカプセル、尿素樹脂、メラミン樹脂などの有機微細顔料がある。前記の極微細顔料を二種以上組み合わせて使用することも可能である。

本実施形態でいう湿式シリカは、沈降法シリカ及びゲル法シリカの二種類に大別され、どちらの製法のシリカであっても用いることは可能であるが、最終的にシリカスラリーを得ることの容易さ、コスト面から沈降法シリカが好適に用いられる。沈降法シリカは、直接シリカ粒子が生成する上、得られる粒子が柔らかく、粉砕工程が無くとも比較的高い光沢を得ることが可能である。

本実施形態において、沈降法シリカの製造方法は、特に限定されるものではないが、その代表的な製造方法としては、珪酸アルカリ水溶液中に、反応系をアルカリ性サイドに保ちつつ鉱酸を添加して、シリカ粒子を中和沈殿せしめる方法が挙げられる。その例を次に示すが、本本実施形態はこれに限定されるものではない。

前記の沈降法シリカ製造方法で用いる珪酸アルカリ水溶液は、工業製品として市販される珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウムなどを使用することができるが、珪酸ナトリウムがコストの面から好ましい。珪酸アルカリ水溶液中に溶解しているシリカとアルカリとのモル比ＳｉＯ_２：Ｍ_２Ｏ（Ｍは、アルカリ金属を表す。）は、２：１〜４：１のものが好ましい。より好ましくは、２．５：１〜３．５：１である。反応に使用するときの濃度は、ＳｉＯ_２濃度で３〜３０質量％程度、より好ましくは３〜２０質量％に水で希釈して用いることが望ましい。

反応に用いる鉱酸は、珪酸アルカリと中和反応を起こすものであれば特に限定されず、硫酸、塩酸、硝酸などを用いることができ、これらの混合物を用いることも可能である。反応に使用するときには、鉱酸の濃度を１０〜６０質量％程度、より好ましくは１０〜３０質量％に希釈して使用することが好ましい。

反応を進めるときの鉱酸の供給方法は、特に限定されず、添加時の反応系の温度、ｐＨ及び反応液中のシリカ濃度をコントロールできればよい。また、反応中は、系内が均一な状態を保つように、各種の攪拌装置を用いて均一に攪拌することが望ましい。反応中の系内の温度は４０〜７０℃、かつ、ｐＨは８〜１１の範囲が好ましい。

生成したシリカ粒子が凝集粒子を形成したのち、系内を９０〜１００℃に昇温して熟成安定時間を一定の間、与える。しかるのち、反応液が弱酸性になるまで鉱酸を添加して中和反応を終了させる。この時点での系内のシリカ濃度は、２〜１０質量％程度となっていることが望ましい。

以上のようにして得られた沈降法シリカを濾過・洗浄したのち、所望の濃度のシリカスラリーとする。このとき、通常の沈降法シリカと異なり、乾燥工程を経て粉体とする工程がないことが、本実施形態の要件である。このことによってシリカ粒子の光沢発現能を高めることが可能となった。

また、湿式シリカの製造方法としては、ゲル法を用いることも可能である。珪酸アルカリ水溶液中に鉱酸を添加して、反応を酸性サイドで進行させることによって酸性シリカゾルを生成し、これをシリカゲルとして固化させたのち洗浄・湿式粉砕工程を経ることでゲル法シリカ粒子を得ることができる。

前記のゲル法シリカ製造方法で用いる珪酸アルカリ水溶液及び鉱酸は、沈降法シリカ製造方法と同様のものを用いることができる。珪酸ナトリウム及び硫酸の組み合わせがコストの点から有利である。

反応を進めるときの鉱酸の供給方法は、特に限定されない。沈降法と異なり、中和反応終了まで鉱酸を添加して、酸性シリカゲルを生成する。反応中は、系内が均一な状態を保つように、各種の攪拌装置を用いて均一に攪拌することが望ましい。反応中の系内の温度は、１０〜８０℃の範囲が好ましい。

生成した酸性シリカゲルは、反応副生成物としての塩が多量に含有されているため、まずゲルを破砕したのち十分に塩の含有率が低下するまで純水又は酸洗浄水で洗浄し、しかるのち湿式粉砕ミル、例えばビーズミルで湿式粉砕して所望の粒度分布をもつシリカスラリーを得る。この間、一般的なゲル法シリカ製造方法のようにシリカゲルの含水率が４０％以下となるような乾燥工程を経ずに、シリカゲルをスラリー化することが本実施形態の要件である。得られるシリカ粒子を軟らかく保つことができるので、所望の光沢度を得ることができる。

湿式シリカは、ＢＥＴ窒素吸着法、すなわちＪＩＳ Ｚ ８８３０：２００１「気体吸着による粉体（固体）の比表面積測定方法」によって測定される比表面積が１８０ｍ^２／ｇ〜３００ｍ^２／ｇの範囲であることが好ましく、より好ましくは２００ｍ^２／ｇ〜３００ｍ^２／ｇである。比表面積が１８０ｍ^２／ｇ未満である場合には、インク吸収能に劣り、比表面積が３００ｍ^２／ｇを超える場合には、所望の表面光沢を得難い。なお、本実施形態で使用する湿式シリカは、乾燥状態を経ずに用いることを特徴とするが、ここでいうＢＥＴ比表面積は、乾燥させた粉体の状態での測定値である。

インクジェット記録層（下層インク受容層及び光沢インク受容層）には、次のようなバインダーを用いることができる。例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロースなどのセルロース誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピリジン、ポリアクリルアミド、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、でんぷん、変性でんぷん、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸ソーダ、アルギン酸ソーダ、ポリスチレンスルホン酸ソーダ、カゼイン、ゼラチン、テルペンなどの水溶性バインダー、又は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリウレタン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン酢酸ビニル、ポリビニルアセタール、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸エチル、ポリメタクリル酸メチル、ポリアクリロニトリル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリ弗化ビニリデン、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ナイロン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリビスクロロメチルオキサシクロブタン、ポリフェニレンオキサイド、ポリスルフォン、ポリ−ｐ−キシリレン、ポリイミド、ポリベンズイミダゾール、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アルキド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、変性スチレン−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、メチルメタアクリレート−ブタジエン共重合体、アクリル酸エステル−メタアクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル−アクリル共重合体、エチレン−酢酸ビニル−アクリル共重合体などのエマルジョン型バインダーである。これらのバインダーの重合度、ケン化度、Ｔｇ、ＭＦＴなどは、限定されない。また、これらの分子鎖中に架橋性の官能基を付加しても構わない。インクジェット記録層のバインダー含有量は、本実施形態では規定しないが、通常顔料１００質量部に対して５〜８０質量部が適当量である。より好ましくは５〜４０質量部とする。バインダーが５質量部未満のとき、塗膜強度が不足し、８０質量部を超えると、インク吸収性が低下する場合がある。

インクジェット記録層は、インクジェットインクの定着性と発色性を向上させるために、カチオン性高分子を主成分とするインク定着剤を含有することが好ましい。カチオン性高分子としては、例えばポリアミド、ポリアクリルアミド、アミドエピクロロヒドリン樹脂、ポリエチレンイミン、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアルキレンイミン、ポリアルキレンポリアミン、ポリアミドポリアミンエピクロロヒドリン、水溶性アニリン樹脂及びその塩、ポリチオ尿素及びその塩、水溶性カチオン性アミノ樹脂、ポリビニルピリジン及びその塩、ジアリルジメチルアンモニウム化合物、ジメチルアミノエチルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレートなどに代表される１級アミン、２級アミン、３級アミン又は４級アンモニウム塩の高分子を適宜選択して使用する。これらの種類と添加量については、本実施形態では限定されない。

インクジェット記録層の塗工液には、必要に応じて分散剤、消泡剤、ｐＨ調整剤、湿潤剤、保水剤、増粘剤、架橋剤、離型剤、潤滑剤、防腐剤、柔軟剤、ワックス、導電防止剤、帯電防止剤、サイズ剤、耐水化剤、可塑剤、蛍光増白剤、着色顔料、着色染料、還元剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、香料、脱臭剤などの各種助剤を適宜選定して添加することができる。さらに、該助剤を顔料スラリーに含有させてなる及び／又はバインダーに含有させてなる複合物、また該助剤及び／又は該複合物を添加する場所、方法については限定されない。

下層インク受容層は、このようにして調製された塗工液を一般の塗工機、例えば、ブレードコーター、ロールコーター、エアナイフコーター、ロッドコーター、リップコーター、カーテンコーター、スプレーコーター、ダイコーター、チャンブレックスコーターなどによってオフマシン又はオンマシンで、単層若しくは多層で、片面若しくは両面を塗布する。

塗布後の乾燥方式としては、熱風乾燥、赤外乾燥、ドラム乾燥などが挙げられるが、光沢インク受容層を塗布・形成する前の、下層インク受容層を塗布・形成するときには、特に限定されない。

光沢インク受容層を形成する方法としては、光沢インク受容層塗工液を塗布後、鏡面ドラムに圧着乾燥してドラムの鏡面を写し取る、いわゆるキャスト法によることが望ましい。これは、高い圧力で塗工層を鏡面に押し付けるキャスト法が、比較的粒子径が大きく、柔らかい粒子を用いて高光沢を得るという本発明の主旨によく合致するためである。キャスト法としては、塗工層が湿潤状態にあるうちに、塗工液をゲル化する成分を含有する処理液すなわちゲル化液を塗布又は含浸して塗工層をゲル化させた後ドラムに圧着乾燥させるいわゆるゲル化キャスト法、塗工層が湿潤状態にあるうちにドラムに圧着乾燥するウェットキャスト法、塗工液を塗布したのち乾燥ゾーンで乾燥させた後に再湿潤液を塗布してドラムに圧着乾燥させるいわゆるリウェットキャスト法などを用いることができる。この中で、いわゆるゲル化キャスト法が本実施形態において好適に用いられる。

ここでいう塗工層をゲル化させる成分とは、無機架橋剤、例えば蟻酸、酢酸、クエン酸、酒石酸、乳酸、塩酸、硫酸などの各種酸とそのカルシウム、マグネシウム、アルミニウムなどとの金属塩、ホウ砂、ホウ酸などのホウ素化合物、塩化ジルコニル、硝酸ジルコニルなどのジルコニウム化合物、チタン化合物、アルミニウム化合物などが使用できる。また、有機架橋剤、例えばヒドラジド系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アルデヒド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、Ｎ−メチロール系架橋剤、ビニルスルホン系架橋剤、アクリロイル系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、エチレンイミノ系架橋剤も使用できる。インク受容層のバインダーがポリビニルアルコール又はポリビニルアセタールの場合には、ホウ酸又はホウ砂との組み合わせが好適である。また、カゼインなどの蛋白系を用いている場合には、有機酸の金属塩が好適であるが、本実施形態では、特に限定されない。

また、キャスト法として、ゲル化キャスト法でなく、塗工液の塗布後一旦乾燥させた光沢インク受容層を、水又は塗工層を再膨潤させる成分を含有する処理液すなわちリウェット液で再膨潤させて、鏡面ドラムを写し取るリウェットキャスト法を用いてもよい。リウェットキャスト法を用いる理由の一つとして、リウェットキャスト法は、その原理上、生産速度を高くし易く、かつ、高い生産効率が得られることが挙げられる。

また、塗工液の塗布後、ただちに鏡面ドラムに圧着乾燥する、ウェットキャスト法を用いてもよい。このウェットキャスト法の特長として、塗工層表面に非常に高い光沢性を与えることができる。

また、キャスト法の一つとして、鏡面ドラムでなく、表面に鏡面光沢を有するフィルム又は金属シートを用いた方法も、本実施形態におけるキャスト法の範疇に含まれる。

インクジェット記録層の塗工量は、本発明においては２〜４０ｇ／ｍ^２が望ましく、より好ましくは４〜２０ｇ／ｍ^２である。塗工量が２ｇ／ｍ^２未満の場合には、十分なインク吸収性及び表面光沢性が得られず、一方４０ｇ／ｍ^２を超える場合には、塗工層強度が不足して、断裁時及び／又は使用時の折り曲げによる粉落ちの問題、及び／又は、断裁時及び／又は使用時の折り曲げによる塗工層の脱落の問題が生じやすく、また、折れ割れ強度の低下といった悪影響をもたらす場合がある。

インクジェット記録シートに、別の機能を付与する加工を行ってもよい。例えば、風合いを持たせるためにエンボス加工を行っても構わない。また、片面だけに記録層を設ける場合には、記録層の裏面に機能性の加工、例えば帯電防止加工、粘着加工、貼合加工、樹脂被覆加工、滑り性付与などを行っても構わない。

本実施形態に係るインクジェット記録シートでは、インクジェット記録面のＪＩＳ Ｚ８７４１：１９９７「鏡面光沢度−測定方法」で規定される２０度光沢度を１０％以上とする。２０度光沢度が１０％未満の場合、所望の表面質感が得られない。最終製品のインクジェット記録面のＪＩＳ Ｚ ８７４１：１９９７「鏡面光沢度−測定方法」で規定される２０度光沢度を１０％以上とすると、使用者の目に映えて美しい光沢タイプのインクジェット記録シートとなる。そこで、得られたインクジェット記録シートの記録層表面及び裏面の平滑性を制御する目的で、必要に応じてキャレンダー処理を行ってもよい。キャレンダーは、スーパーキャレンダー、マシンキャレンダー、ソフトキャレンダーなどの方式が挙げられるが、これらの方式に特に限定されない。

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は、これら実施例に限定されるものではない。また、例中の「％」は、特に断らない限り「乾燥質量％」を表し、「部」は「乾燥質量部」を表す。

（実施例１）
＜原紙の作製＞
ＥＣＦ（無塩素漂白）処理されたＬＢＫＰ（広葉樹晒しパルプ、ＣＳＦ＝５００ｍｌ）のパルプスラリーに、パルプに対し、カチオンでんぷん（商品名；ネオタック４０Ｔ、日本食品加工社製）１．０％、軽質炭酸カルシウム（商品名；ＴＰ１２１、奥多摩工業社製）５．０％、中性ロジンサイズ剤（商品名；ＡＳ２６１、星光ＰＭＣ社製）０．２５％を添加し調製した紙料を長網式抄紙機で抄造し、坪量１５０ｇ／ｍ^２の原紙を得た。
＜下層インク受容層用塗工液の調製＞
純水に、平均粒子径９μｍの合成非晶質シリカ（商品名：サイロジェットＰ４０９、グレースデビソン社製）１００部とｐＨ調整剤として工業用酢酸０．２部とを添加し、セリエミキサーで３０分攪拌して固形分濃度２０％の顔料スラリーを調製した。この顔料スラリーに、ケン化度９８％、重合度２４００のポリビニルアルコール水溶液（商品名：ＰＶＡ−１２４、クラレ社製）１２．５部及び蛍光増白剤（商品名；カヤホールＰＡＳＱリキッド、日本化薬社製）０．４部を加えて１０分攪拌した後、インク定着剤（商品名；ＳＲ１００１、住友化学社製）１０部及びポリエチレン酢酸ビニルバインダー（商品名；ポリゾールＥＶＡ ＡＤ−１０、昭和高分子社製）４０部を添加したのち３０分攪拌し、更に純水を加えて固形分濃度２０％の下層インク受容層用塗工液を得た。
＜下層インク受容層の形成＞
前記原紙の片面に、下層インク受容層用塗工液を片面乾燥塗工量が１２ｇ／ｍ^２となるようにエアナイフコーターで塗布し、エアドライヤで熱風乾燥した。さらに、ソフトカレンダーを用いて線圧３０ｋｇ／ｃｍ、２５℃、２ニップ１パスの条件で表面処理を行い、下層インク受容層形成基紙を得た。
＜光沢インク受容層用湿式シリカスラリーＡの調製＞
純水に、珪酸ナトリウムを添加して１０％水溶液とし、反応層の温度を４０℃に保ちながら攪拌し、硫酸２０％水溶液を添加して中和率２５％となるまで反応を進めた。凝集体が生成したことを確認したのち、温度を９５℃に昇温して攪拌を続けて安定化させ、しかるのち前記硫酸を再度添加して中和反応を終了した。このシリカスラリーを濾過・洗浄して固形分濃度１８％の光沢インク受容層用湿式シリカスラリーＡを得た。この湿式シリカスラリーＡ中の沈降法シリカ粒子の二次粒子径をレーザー回折式粒度分布測定機（商品名：ＨＯＲＩＢＡ ＬＡ−９２０、堀場製作所製）で測定したところ、メジアン径１０μｍであった。また、オーブン乾燥機で１２０℃１時間乾燥させた後、ＢＥＴ比表面積を測定したところ２００ｍ^２／ｇであった。
＜光沢インク受容層用塗工液１の調製＞
純水に、前記湿式シリカスラリーＡを１００部、耐水化剤としてポリジアリルジメチルアンモニウムクロライド（以下、「ｐ−ＤＡＤＭＡＣ」と略す。商品名：ユニセンスＣＰ−１０２、センカ社製）６部及びポリビニルアルコール用架橋剤として塩化ジルコニル１部を投入してセリエミキサーで１０分混合した後、ケン化度８８％、重合度３５００のポリビニルアルコール水溶液（商品名；ＰＶＡ２３５、クラレ社製）１０部を添加し１０分攪拌した後、ウレタンバインダー（商品名；スーパーフレックス６２０、第一工業製薬社製）１２部と潤滑剤としてポリエチレンエマルジョン（商品名；メイカテックスＨＰ７０Ｃ、明成化学工業社製）３部とを加えて３０分攪拌し、固形分濃度１６％の光沢インク受容層用塗工液１を得た。
＜光沢インク受容層用ゲル化液Ａの調製＞
純水９６９．８８ｋｇに、界面活性剤（商品名；オルフィンＰＤ００２Ｗ、日信化学工業社製）０．１２ｋｇを加え攪拌した後、硼砂１０ｋｇと硼酸２０ｋｇとを添加して１時間攪拌し、光沢インク受容層用ゲル化液Ａを得た。
＜光沢インク受容層の形成＞
前記光沢インク受容層用塗工液１を、前記下層インク受容層形成基紙に片面乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ^２となるようにエアナイフコーターで塗布し、塗工層が湿潤状態にあるうちに、前記光沢インク受容層用ゲル化液Ａを塗布してゲル化させたのち、表面温度１０５℃のキャストドラムに圧着乾燥し、実施例１のインクジェット記録シート1を得た。

（実施例２）
＜光沢インク受容層用湿式シリカスラリーＢの調製＞
純水に、珪酸ナトリウムを添加して１０％水溶液とし、反応層の温度を４０℃に保ちながら攪拌し、硫酸２０％水溶液を添加して中和率５０％となるまで反応を進めた。凝集体が生成したことを確認したのち、温度を９５℃に昇温して攪拌を続けて安定化させ、しかるのち前記硫酸を再度添加して中和反応を終了した。このシリカスラリーを濾過・洗浄して固形分濃度１８％の光沢インク受容層用湿式シリカスラリーＢを得た。この湿式シリカスラリーＢ中の沈降法シリカ粒子の二次粒子径をレーザー回折式粒度分布測定機（商品名：ＨＯＲＩＢＡ ＬＡ−９２０、堀場製作所製）で測定したところ、メジアン径７μｍであった。また、オーブン乾燥機で１２０℃１時間乾燥させた後、ＢＥＴ比表面積を測定したところ、２７０ｍ^２／ｇであった。
＜光沢インク受容層用塗工液２の調製＞
純水に、前記湿式シリカスラリーＢ１００部、ｐ−ＤＡＤＭＡＣ（商品名：ユニセンスＣＰ−１０２、センカ社製）６部及び塩化ジルコニル１部を投入してセリエミキサーで１０分混合した後、ケン化度８８％、重合度３５００のポリビニルアルコール水溶液（商品名；ＰＶＡ２３５、クラレ社製）１０部を添加し１０分攪拌した。その後、ウレタンバインダー（商品名；スーパーフレックス６２０、第一工業製薬社製）１２部とポリエチレンエマルジョン（商品名；メイカテックスＨＰ７０Ｃ、明成化学工業社製）３部とを加えて３０分攪拌し、固形分濃度１６％の光沢インク受容層用塗工液２を得た。
＜光沢インク受容層の形成＞
前記光沢インク受容層用塗工液２を、実施例１と同様の下層インク受容層形成基紙に片面乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ^２となるようにエアナイフコーターで塗布し、塗工層が湿潤状態にあるうちに、前記光沢インク受容層用ゲル化液Ａを塗布してゲル化させたのち、表面温度１０５℃のキャストドラムに圧着乾燥し、実施例２のインクジェット記録シート2を得た。

（実施例３）
＜気相法シリカスラリーＡの調製＞
純水に、気相法シリカ（商品名；レオロシールＱＳ−３０、トクヤマ社製）１００部とｐ−ＤＡＤＭＡＣ（商品名；ユニセンスＣＰ−１０２、センカ社製）６部とを投入してカウレス分散機で混合した後、高圧噴射衝突式粉砕機（商品名；アルティマイザー、スギノマシン社製）にて湿式粉砕処理し、固形分濃度２０％の気相法シリカスラリーＡを得た。粉砕後のシリカの二次粒子径をレーザー回折式粒度分布測定器（商品名：ＨＯＲＩＢＡ ＬＡ−９２０、堀場製作所製）で測定したところ、メジアン径１１０ｎｍであった。
＜光沢インク受容層用塗工液３の調製＞
純水に、前記湿式シリカスラリーＡ５０部、前記気相法シリカスラリーＡ５０部、ｐ−ＤＡＤＭＡＣ（商品名：ユニセンスＣＰ−１０２、センカ社製）３部及び塩化ジルコニル１部を投入してセリエミキサーで１０分混合した後、ケン化度８８％、重合度３５００のポリビニルアルコール水溶液（商品名；ＰＶＡ２３５、クラレ社製）１０部を添加し１０分攪拌した。その後、ウレタンバインダー（商品名；スーパーフレックス６２０、第一工業製薬社製）１２部とポリエチレンエマルジョン（商品名；メイカテックスＨＰ７０Ｃ、明成化学工業社製）３部とを加えて３０分攪拌し、固形分濃度１６％の光沢インク受容層用塗工液３を得た。
＜光沢インク受容層の形成＞
前記光沢インク受容層用塗工液３を、実施例１と同様の下層インク受容層形成基紙に片面乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ^２となるようにエアナイフコーターで塗布し、塗工層が湿潤状態にあるうちに、前記光沢インク受容層用ゲル化液Ａを塗布してゲル化させたのち、表面温度１０５℃のキャストドラムに圧着乾燥し、実施例３のインクジェット記録シート３を得た。

（実施例４）
＜光沢インク受容層用塗工液４の調製＞
純水に、前記湿式シリカスラリーＡ３０部、前記気相法シリカスラリーＡ７０部、ｐ−ＤＡＤＭＡＣ（商品名：ユニセンスＣＰ−１０２、センカ社製）１．８部及び塩化ジルコニル１部を投入してセリエミキサーで１０分混合した後、ケン化度８８％、重合度３５００のポリビニルアルコール水溶液（商品名；ＰＶＡ２３５、クラレ社製）１０部を添加し１０分攪拌した。その後、ウレタンバインダー（商品名；スーパーフレックス６２０、第一工業製薬社製）１２部とポリエチレンエマルジョン（商品名；メイカテックスＨＰ７０Ｃ、明成化学工業社製）３部とを加えて３０分攪拌し、固形分濃度１６％の光沢インク受容層用塗工液４を得た。
＜光沢インク受容層の形成＞
前記光沢インク受容層用塗工液４を、実施例１と同様の下層インク受容層形成基紙に片面乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ^２となるようにエアナイフコーターで塗布し、塗工層が湿潤状態にあるうちに、前記光沢インク受容層用ゲル化液Ａを塗布してゲル化させたのち、表面温度１０５℃のキャストドラムに圧着乾燥し、実施例４のインクジェット記録シート４を得た。

（参考例１）
＜光沢インク受容層用湿式シリカスラリーＣの調製＞
純水に、珪酸ナトリウムを添加して１０％水溶液とし、反応層の温度を３０℃に保ちながら攪拌し、硫酸２０％水溶液を添加してｐＨ１．５の酸性シリカゾルを生成させた。これを１時間放置して固化させシリカゲルとしたのち、小片に破砕して洗浄した。これをビーズミルで湿式粉砕し、固形分濃度１８％の光沢インク受容層用湿式シリカスラリーＣを得た。このゲル法シリカスラリーＣ中のゲル法シリカ粒子の二次粒子径をレーザー回折式粒度分布測定機（商品名：ＨＯＲＩＢＡ ＬＡ−９２０、堀場製作所製）で測定したところ、メジアン径３μｍであった。また、オーブン乾燥機で１２０℃１時間乾燥させた後、ＢＥＴ比表面積を測定したところ２９０ｍ^２／ｇであった。
＜光沢インク受容層用塗工液５の調製＞
純水に、前記湿式シリカスラリーＣ１００部、ｐ−ＤＡＤＭＡＣ（商品名：ユニセンスＣＰ−１０２、センカ社製）６部及び塩化ジルコニル１部を投入してセリエミキサーで１０分混合した後、ケン化度８８％、重合度３５００のポリビニルアルコール水溶液（商品名；ＰＶＡ２３５、クラレ社製）１０部を添加し１０分攪拌した。その後、ウレタンバインダー（商品名；スーパーフレックス６２０、第一工業製薬社製）１２部とポリエチレンエマルジョン（商品名；メイカテックスＨＰ７０Ｃ、明成化学工業社製）３部とを加えて３０分攪拌し、固形分濃度１６％の光沢インク受容層用塗工液５を得た。
＜光沢インク受容層の形成＞
前記光沢インク受容層用塗工液５を、実施例１と同様の下層インク受容層形成基紙に片面乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ^２となるようにエアナイフコーターで塗布し、塗工層が湿潤状態にあるうちに、前記光沢インク受容層用ゲル化液Ａを塗布してゲル化させたのち、表面温度１０５℃のキャストドラムに圧着乾燥し、参考例１のインクジェット記録シート５を得た。

（実施例５）
＜光沢インク受容層用湿式シリカスラリーＤの調製＞
純水に、珪酸ナトリウムを添加して１０％水溶液とし、反応層の温度を４０℃に保ちながら攪拌し、硫酸２０％水溶液を添加して中和率２０％となるまで反応を進めた。凝集体が生成したことを確認したのち、温度を９５℃に昇温して攪拌を続けて安定化させ、しかるのち前記硫酸を再度添加して中和反応を終了した。このシリカスラリーを濾過・洗浄して固形分濃度１８％の光沢インク受容層用湿式シリカスラリーＤを得た。この湿式シリカスラリーＤ中の沈降法シリカ粒子の二次粒子径をレーザー回折式粒度分布測定機（商品名：ＨＯＲＩＢＡ ＬＡ−９２０、堀場製作所製）で測定したところ、メジアン径１１μｍであった。また、オーブン乾燥機で１２０℃１時間乾燥させた後、ＢＥＴ比表面積を測定したところ１６０ｍ^２／ｇであった。
＜光沢インク受容層用塗工液６の調製＞
純水に、前記湿式シリカスラリーＤ１００部、ｐ−ＤＡＤＭＡＣ（商品名：ユニセンスＣＰ−１０２、センカ社製）６部及び塩化ジルコニル１部を投入してセリエミキサーで１０分混合した後、ケン化度８８％、重合度３５００のポリビニルアルコール水溶液（商品名；ＰＶＡ２３５、クラレ社製）１０部を添加し１０分攪拌した。その後、ウレタンバインダー（商品名；スーパーフレックス６２０、第一工業製薬社製）１２部とポリエチレンエマルジョン（商品名；メイカテックスＨＰ７０Ｃ、明成化学工業社製）３部とを加えて３０分攪拌し、固形分濃度１６％の光沢インク受容層用塗工液６を得た。
＜光沢インク受容層の形成＞
前記光沢インク受容層用塗工液６を、実施例１と同様の下層インク受容層形成基紙に片面乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ^２となるようにエアナイフコーターで塗布し、塗工層が湿潤状態にあるうちに、前記光沢インク受容層用ゲル化液Ａを塗布してゲル化させたのち、表面温度１０５℃のキャストドラムに圧着乾燥し、実施例５のインクジェット記録シート６を得た。

（実施例６）
＜光沢インク受容層の形成＞
前記光沢インク受容層用塗工液１を、実施例１と同様の下層インク受容層形成基紙に片面乾燥塗工量が２ｇ／ｍ^２となるようにエアナイフコーターで塗布し、塗工層が湿潤状態にあるうちに、前記光沢インク受容層用ゲル化液Ａを塗布してゲル化させたのち、表面温度１０５℃のキャストドラムに圧着乾燥し、実施例６のインクジェット記録シート１ａを得た。

（実施例７）
＜光沢インク受容層の形成＞
前記光沢インク受容層用塗工液１を、実施例１と同様の下層インク受容層形成基紙に片面乾燥塗工量が４０ｇ／ｍ^２となるようにエアナイフコーターで塗布し、湿潤状態にあるうちに、前記光沢インク受容層用ゲル化液Ａを塗布してゲル化させたのち、表面温度１０５℃のキャストドラムに圧着乾燥し、実施例７のインクジェット記録シート１ｂを得た。

（実施例８）
＜光沢インク受容層の形成＞
前記光沢インク受容層用塗工液１を、実施例１と同様の下層インク受容層形成基紙に片面乾燥塗工量が５０ｇ／ｍ^２となるようにエアナイフコーターで塗布し、塗工層が湿潤状態にあるうちに、前記光沢インク受容層用ゲル化液Ａを塗布してゲル化させたのち、表面温度１０５℃のキャストドラムに圧着乾燥し、実施例８のインクジェット記録シート１ｃを得た。

（実施例９）
＜光沢インク受容層の形成＞
前記光沢インク受容層用塗工液１を、実施例１と同様の下層インク受容層形成基紙に片面乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ^２となるようにエアナイフコーターで塗布し、塗工層を熱風ドライヤで一旦乾燥させた後、６０℃に加温した純水を塗布して再膨潤させたのち、表面温度１２０℃のキャストドラムに圧着乾燥し、実施例９のインクジェット記録シート１ｄを得た。

（比較例１）
＜光沢インク受容層用湿式シリカスラリーＥの調製＞
純水に、珪酸ナトリウムを添加して１０％水溶液とし、反応層の温度を４０℃に保ちながら攪拌し、硫酸２０％水溶液を添加して中和率７０％となるまで反応を進めた。凝集体が生成したことを確認したのち、温度を９５℃に昇温して攪拌を続けて安定化させ、しかるのち前記硫酸を再度添加して中和反応を終了した。このシリカスラリーを濾過・洗浄して固形分濃度１８％の光沢インク受容層用湿式シリカスラリーＥを得た。この湿式シリカスラリーＥ中の沈降法シリカ粒子の二次粒子径をレーザー回折式粒度分布測定機（商品名：ＨＯＲＩＢＡ ＬＡ−９２０、堀場製作所製）で測定したところ、メジアン径７μｍであった。また、オーブン乾燥機で１２０℃１時間乾燥させた後、ＢＥＴ比表面積を測定したところ３３０ｍ^２／ｇであった。
＜光沢インク受容層用塗工液７の調製＞
純水に、前記湿式シリカスラリーＥ１００部、ｐ−ＤＡＤＭＡＣ（商品名：ユニセンスＣＰ−１０２、センカ社製）６部及び塩化ジルコニル１部を投入してセリエミキサーで１０分混合した後、ケン化度８８％、重合度３５００のポリビニルアルコール水溶液（商品名；ＰＶＡ２３５、クラレ社製）１２部を添加し１０分攪拌した。その後、ウレタンバインダー（商品名；スーパーフレックス６２０、第一工業製薬社製）１０部とポリエチレンエマルジョン（商品名；メイカテックスＨＰ７０Ｃ、明成化学工業社製）３部とを加えて３０分攪拌し、固形分濃度１６％の光沢インク受容層用塗工液７を得た。
＜光沢インク受容層の形成＞
前記光沢インク受容層用塗工液７を、実施例１と同様の下層インク受容層形成基紙に片面乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ^２となるようにエアナイフコーターで塗布し、塗工層が湿潤状態にあるうちに、前記光沢インク受容層用ゲル化液Ａを塗布してゲル化させたのち、表面温度１０５℃のキャストドラムに圧着乾燥し、比較例１のインクジェット記録シート７を得た。

（比較例２）
＜光沢インク受容層用湿式シリカスラリーＦの調製＞
純水に、市販の沈降法シリカ（商品名：ファインシールＸ７０、株式会社トクヤマ製）１００部とｐ−ＤＡＤＭＡＣ（商品名：ユニセンスＣＰ−１０２、センカ社製）６部を投入し、セリエミキサーで３０分分散して固形分濃度２０％の光沢インク受容層用湿式シリカスラリーＦを得た。このシリカスラリーＦ中の沈降法シリカ粒子の二次粒子径をレーザー回折式粒度分布測定機（商品名：ＨＯＲＩＢＡ ＬＡ−９２０、堀場製作所製）で測定したところ、メジアン径３μｍであった。また、オーブン乾燥機で１２０℃１時間乾燥させた後、ＢＥＴ比表面積を測定したところ２３０ｍ^２／ｇであった。
＜光沢インク受容層用塗工液８の調製＞
純水に、前記湿式シリカスラリーＦ１００部及び塩化ジルコニル１部を投入してセリエミキサーで１０分混合した後、ケン化度８８％、重合度３５００のポリビニルアルコール水溶液（商品名；ＰＶＡ２３５、クラレ社製）１０部を添加し１０分攪拌した。その後、ウレタンバインダー（商品名；スーパーフレックス６２０、第一工業製薬社製）１２部とポリエチレンエマルジョン（商品名；メイカテックスＨＰ７０Ｃ、明成化学工業社製）３部とを加えて３０分攪拌し、固形分濃度１６％の光沢インク受容層用塗工液８を得た。
＜光沢インク受容層の形成＞
前記光沢インク受容層用塗工液８を、実施例１と同様の下層インク受容層形成基紙に片面乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ^２となるようにエアナイフコーターで塗布し、塗工層が湿潤状態にあるうちに、前記光沢インク受容層用ゲル化液Ａを塗布してゲル化させたのち、表面温度１０５℃のキャストドラムに圧着乾燥し、比較例２のインクジェット記録シート８を得た。

（比較例３）
＜光沢インク受容層用湿式シリカスラリーＧの調製＞
純水に、市販のゲル法シリカ（商品名：ニップジェルＡＹ２００、東ソー・シリカ社製）１００部とｐ−ＤＡＤＭＡＣ（商品名：ユニセンスＣＰ−１０２、センカ社製）６部とを投入し、セリエミキサーで３０分分散して固形分濃度２０％の光沢インク受容層用湿式シリカスラリーＧを得た。このシリカスラリーＧ中のゲル法シリカ粒子の二次粒子径をレーザー回折式粒度分布測定機（商品名：ＨＯＲＩＢＡ ＬＡ−９２０、堀場製作所製）で測定したところ、メジアン径４μｍであった。また、オーブン乾燥機で１２０℃１時間乾燥させた後、ＢＥＴ比表面積を測定したところ２８０ｍ^２／ｇであった。
＜光沢インク受容層用塗工液９の調製＞
純水に、前記湿式シリカスラリーＧ１００部及び塩化ジルコニル１部を投入してセリエミキサーで１０分混合した後、ケン化度８８％、重合度３５００のポリビニルアルコール水溶液（商品名；ＰＶＡ２３５、クラレ社製）１０部を添加し１０分攪拌した。その後、ウレタンバインダー（商品名；スーパーフレックス６２０、第一工業製薬社製）１２部とポリエチレンエマルジョン（商品名；メイカテックスＨＰ７０Ｃ、明成化学工業社製）３部とを加えて３０分攪拌し、固形分濃度１６％の光沢インク受容層用塗工液９を得た。
＜光沢インク受容層の形成＞
前記光沢インク受容層用塗工液９を、実施例１と同様の下層インク受容層形成基紙に片面乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ^２となるようにエアナイフコーターで塗布し、塗工層が湿潤状態にあるうちに、前記光沢インク受容層用ゲル化液Ａを塗布してゲル化させたのち、表面温度１０５℃のキャストドラムに圧着乾燥し、比較例３のインクジェット記録シート９を得た。

（比較例４）
＜光沢インク受容層用塗工液１０の調製＞
純水に、前記湿式シリカスラリーＡ２０部、前記気相法シリカスラリーＡ８０部、ｐ−ＤＡＤＭＡＣ（商品名：ユニセンスＣＰ−１０２、センカ社製）１．２部及び塩化ジルコニル１部を投入してセリエミキサーで１０分混合した後、ケン化度８８％、重合度３５００のポリビニルアルコール水溶液（商品名；ＰＶＡ２３５、クラレ社製）１０部を添加し１０分攪拌した。その後、ウレタンバインダー（商品名；スーパーフレックス６２０、第一工業製薬社製）１２部とポリエチレンエマルジョン（商品名；メイカテックスＨＰ７０Ｃ、明成化学工業社製）３部とを加えて３０分攪拌し、固形分濃度１６％の光沢インク受容層用塗工液１０を得た。
＜光沢インク受容層の形成＞
前記光沢インク受容層用塗工液１０を、実施例１と同様の下層インク受容層形成基紙に片面乾燥塗工量が１０ｇ／ｍ^２となるようにエアナイフコーターで塗布し、塗工層が湿潤状態にあるうちに、前記光沢インク受容層用ゲル化液Ａを塗布してゲル化させたのち、表面温度１０５℃のキャストドラムに圧着乾燥し、比較例４のインクジェット記録シート１０を得た。

（比較例５）
＜光沢インク受容層の形成＞
前記光沢インク受容層用塗工液１を、実施例１と同様の下層インク受容層形成基紙に片面乾燥塗工量が１ｇ／ｍ^２となるようにエアナイフコーターで塗布し、塗工層が湿潤状態にあるうちに、前記光沢インク受容層用ゲル化液Ａを塗布してゲル化させたのち、表面温度１０５℃のキャストドラムに圧着乾燥し、比較例５のインクジェット記録シート１ｅを得た。

以上の実施例及び比較例において得られたインクジェット記録シートについて、表１に表面光沢面質及びインクジェット印刷適性の評価結果を示す。

（評価方法）
得られたインクジェット記録シートは、２３℃−５０％ＲＨ（相対湿度）の恒温恒湿室で２４時間調湿後、同環境下でそれぞれ下記の方法によって、評価を行った。

＜記録層表面の光沢面質＞
得られたインクジェット記録シートの記録層表面の２０度鏡面光沢度を、ＪＩＳ Ｚ ８７４１：１９９７「鏡面光沢度−測定方法」に準拠して測定し、光沢面の均一性を視感評価し、総合的に光沢面質を評価した。

＜インクジェット印刷適性＞
「鮮明性」：市販の染料インクフルカラーインクジェットプリンタ（商品名；ＰＭ−Ｇ８２０、セイコーエプソン社製）及び顔料インクフルカラーインクジェットプリンタ（商品名；ＰＸ−Ｇ９００、セイコーエプソン社製）を用いて得られたシートの記録層の光沢面に写真画像をそれぞれ印刷し、画像細部の潰れや境界部の滲み、発色の鮮やかさ及びインク吸収速度を目視観察してインクジェット印刷適性（鮮明性）を評価した。
「印字濃度」：染料及び顔料インク黒のベタ印刷部の印字濃度を、反射濃度計（商品名；ＤＭ−４００、大日本スクリーン社製）を用いてそれぞれ測定した。染料インク、顔料インクともに印字濃度について次のように評価した。
２．００以上…良好（実用レベル。）、
１．９０以上２．００未満…やや劣る（実用下限レベル。）、
１．９０未満…劣る（実用に適さない。）。

＜粉落ち試験＞
得られたシートを１０ｃｍ×１０ｃｍに断裁し、記録層の光沢面を内側に二つ折にした試料を硬く平滑な試験台上に置き、上から質量５ｋｇの金属ロールの自重を用いて往復１回しごき、該試料を開いて折れ部から脱落した塗工層を集めた。これを１０回繰り返して、集めた脱落した塗工層の全質量を測定した。粉落ち量について次のように評価した。
５ｍｇ以下…優れている、
５ｍｇ超１０ｍｇ以下…良好（実用レベル。）、
１０ｍｇ超１３．０ｍｇ以下…やや劣る（実用下限レベル。）。
１３ｍｇ超…劣る（実用に適さない。）。

以上の物性のうち、目視評価によるものは、下記要領によって記述することにした。
◎…優れている、
○…良い（実用レベル）、
△…やや劣る（実用下限レベル）、
×…劣る（実用に適さない。）。

（評価結果）

実施例１〜９のインクジェット記録用シートは、いずれも、２０度鏡面光沢度が１０％以上であって、光沢面の均一性が良好であった。しかも、染料インク、顔料インク共にインクジェット印刷適性（鮮明性）と印字濃度が実用レベル若しくは実用下限レベルを満足していた。また、粉落ち量について実用レベル若しくは実用下限レベルを満足していた。

一方、比較例１及び５は２０度鏡面光沢度が１０％未満であり、比較例２及び３は、乾燥状態を経た市販の沈降法シリカを使用したため、２０度鏡面光沢度が１０％未満であった。また、比較例４は、乾燥状態を経た市販の沈降法シリカを８０質量％、乾燥状態を経ていない湿式シリカを２０質量％としたため、２０度鏡面光沢度が１０％以上であったが、顔料インクでの鮮明性と印字濃度が劣った。

Claims (1)

1. 基材上の少なくとも片面に、インクジェット記録層用塗工液を塗布して１層以上のインクジェット記録層を設けたインクジェット記録シートの製造方法において、
   前記基材の表面に１層以上の下層インク受容層を設け、該下層インク受容層の上に、前記インクジェット記録層の最上層となる光沢インク受容層用のインクジェット記録層用塗工液として、微細顔料とバインダーとを主成分として含有し、前記微細顔料の３０〜１００質量％が平均二次粒子径３μｍ〜３０μｍで前記基材への塗布直前まで一度も乾燥状態を経ておらず、かつ、粉砕工程を経ていない、ＢＥＴ比表面積が１８０〜３００ｍ^２／ｇの沈降法シリカである塗工液を使用して、乾燥塗工量が２〜４０ｇ／ｍ^２となるように、キャスト法によって光沢インク受容層を形成し、ＪＩＳ Ｚ ８７４１：１９９７「鏡面光沢度−測定方法」に準じて測定した２０度鏡面光沢度が１０％以上の表面に仕上げることを特徴とするインクジェット記録シートの製造方法。