JP2001097933A - 光学活性2−アミノシクロヘキサノール誘導体の製造法 - Google Patents
光学活性2−アミノシクロヘキサノール誘導体の製造法Info
- Publication number
- JP2001097933A JP2001097933A JP27412699A JP27412699A JP2001097933A JP 2001097933 A JP2001097933 A JP 2001097933A JP 27412699 A JP27412699 A JP 27412699A JP 27412699 A JP27412699 A JP 27412699A JP 2001097933 A JP2001097933 A JP 2001097933A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optically active
- group
- derivative
- aminocyclohexanol
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
を製造する。 【解決手段】光学活性2−アミノシクロヘキサノール誘
導体を光学分割により製造する際、アミノ酸誘導体、酒
石酸アミド誘導体またはリンゴ酸誘導体のいずれかの光
学活性カルボン酸を分割剤として用いる。
Description
ノシクロヘキサノール誘導体を、分割剤を用いて高い光
学純度の光学活性2−アミノシクロヘキサノール誘導体
を製造する方法に関するものである。
ロヘキサノール誘導体を得る手段としては、例えば光学
活性酒石酸や光学活性ジパラトルオイル酒石酸を利用し
た光学分割法が知られている(特開平9−157258
号公報)。
8号公報で用いられている分割剤は、水に溶けるために
回収が困難である、塩基性条件下において化学安定性が
乏しい、高価である等の課題がある。
富んだ分割剤を用いることにより、より高い光学純度で
2−アミノシクロヘキサノールを製造する方法を提供す
ることにある。
よりも化学的安定であると考えられる分割剤を設計し、
これらを用いて2−アミノシクロヘキサノール誘導体の
光学分割する方法を鋭意検討した結果、本発明に到達し
た。即ち、既に存在する天然型の光学活性カルボン酸
や、安価に入手できる光学活性カルボン酸を簡便な化学
修飾することにより、これまでの分割剤にある問題を解
決し、高い光学純度の2−アミノシクロヘキサノール誘
導体を製造する方法を見出し、本発明を完成した。
アリール基およびアラルキル基のいずれかを示し、それ
ぞれ同一でも異なっていても良い。但しR1およびR2
の両者が水素の場合はのぞく。)で表される2−アミノ
シクロヘキサノール誘導体を光学活性アミノ酸誘導体、
光学活性酒石酸アミド誘導体および光学活性リンゴ酸誘
導体のいずれかを分割剤として光学分割することを特徴
とする光学活性2−アミノシクロヘキサノール誘導体の
製造法である。
アミノシクロヘキサノール誘導体は、ヘキセンオキサイ
ドをから対応するアミンの求核付加反応により合成する
のが好ましい。
前記一般式(1)で表されるものが使用出来るが、ここ
で、R1、R2は、水素、炭素数1〜12のアルキル
基、フェニル基、トルイル基などのアリール基、ベンジ
ル基などのアラルキル基が好ましい。さらに好ましく
は、環状アルキル基であり、具体的には、2−(シクロ
プロピルアミノ)シクロヘキサノール、2−(シクロブ
チルアミノ)シクロヘキサノール、2−(ジヘキシルア
ミノ)シクロヘキサノール、2−(ジオクチルアミノ)
シクロヘキサノールなどが挙げられる。
性アミノ酸誘導体、光学活性酒石酸誘導体および光学活
性リンゴ酸誘導体のいずれかであり、公知の方法で合成
することができる。これらの分割剤を用いることで、2
−アミノシクロヘキサノール誘導体を高純度で、効率よ
く製造することが出来る。
アミノ酸誘導体としては光学活性α-アミノ酸誘導体が
好ましく、さらに好ましいのは、光学活性αーアミノ酸
の窒素上に1つまたは2つのアルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基、アラルキルスルホニル基、アルキ
ルカルボニル基、アリールカルボニル基、アラルキルカ
ルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基あるいはアラルキルオキシカルボニル基を
有する誘導体である。
セチルメチオニン、(+)または(−)−N−ホルミル
イソロイシン、(+)または(−)−N−アセチル−p
−メチルフェニルグリシン、(+)または(−)−N−
ベンゾイルフェニルグリシン、(+)または(−)−N
−アセチルロイシン、(+)または(−)−N−tertブ
トキシカルボニルプロリン、(+)または(−)−N−
ベンジルオキシカルボニルフェニルグリシン、(+)ま
たは(−)−N−パラトルエンスルホニルアスパラギン
酸、(+)または(−)−N−パラトルオイルフェニル
グリシン、(+)または(−)−N−パラニトロベンゾ
イルフェニルグリシン、(+)または(−)−N−ベン
ゼンスルフォニルグルタミン酸、(+)または(−)−
N−ベンゼンスルホニルアスパラギン酸などが挙げられ
る。
学活性酒石酸アミド誘導体が一般式(2)
4のアルキル基、炭素数1から4のアルコキシル基、水
酸基およびハロゲンのいずれかであり、同一でも異なっ
ていても良い。nは0〜2を示す)で表される光学活性
酒石酸アミド誘導体が好ましく、具体的には(+)また
は(−)酒石酸モノ−O−クロロアニリド、(+)また
は(−)酒石酸モノ−p−クロロアニリド、(+)また
は(−)酒石酸モノ−O−メトキシアニリド、(+)ま
たは(−)酒石酸モノ−m−メトキシアニリド、(+)
または(−)酒石酸−モノp−メトキシアニリド、
(+)または(−)酒石酸モノ−O−ニトロアニリド、
(+)または(−)酒石酸−モノm−ニトロアニリド、
(+)または(−)酒石酸モノ−2、4−ジクロロアニ
リド等があげられる。
または(−)リンゴ酸モノ−p−ニトロアニリド等が好
ましい。
割する際に用いる溶媒は、メタノール、エタノール、2
−プロパノール等のアルコール類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、
クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテ
ル、ジメチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン等のエーテル類、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサ
ン、1−ヘキセン、シクロヘキセン等の炭化水素類、ア
セトン、メチルエチルケトン等のケトン類、ジメチルス
ルホキシド、ジメチルホルムアミド等の極性溶媒類、水
あるいはこれらの2種類以上の混合溶媒が好ましく、さ
らに好ましくは、メタノール、イソプロパノール、水等
である。
割剤、上記の溶媒とを別々あるいは同時に反応容器に入
れる。
さらに好ましくは10℃から80℃で反応させる。反応
で生成したジアステレオマー塩は、好ましくは−20℃
から80℃、さらに好ましくは0℃から50℃の範囲で
晶出させ、結晶を濾別する。これら1連の操作を1回か
ら10回、望ましくは1回から3回行うことにより光学
純度の高いジアステレオマー塩を得ることができる。得
られたジアステレオマー塩を、酸あるいは塩基を用いる
ことにより、分割剤と光学活性2−アミノシクロヘキサ
ノール誘導体とに分離することができる。
ルボン酸より強いものであればいずれでも良く、また同
様に塩基は、2−アミノシクロヘキサノール誘導体より
も塩基性度が強いものであればいずれでも良い。一般的
には、酸として塩酸、硫酸等の鉱酸を用いるのが好まし
く、塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等
の無機塩基を用いるのが好ましい。
サノール誘導体は公知の方法で精製を行い、化学的に純
粋な光学活性2−アミノシクロヘキサノール誘導体を得
ることができる。
度はHPLCによる光学純度分析法で求めた。
合成)攪拌機、還流冷却管、温度計、滴下漏斗を備えた
2L4口ナスフラスコに、ヘキセンオキサイド(試薬の
メーカー、グレードを記載下さい。(例)東京化成
(株)1級)8.2g、メタノール155.2gを加え
加熱還流させた。30分間かけてシクロプロピルアミン
68.5gを滴下し、さらに27時間加熱還流させた。
得られた反応混合液を減圧濃縮し、真空乾燥することに
より、151.1gの2−(シクロプロピルアミノ)シ
クロヘキサノールを得た。収率97%、化学純度96%
であった。
成)還流冷却管、温度計を取りつけた1Lの筒型セパラ
ブルフラスコに酒石酸60gと無水酢酸163gを加
え、よく攪拌しながら96%硫酸0.5mlを加えた。
すぐに発熱し始め、内温が50℃以上になり透明な溶液
となった。そのまま攪拌を続け、内温が自然に室温に下
がると白色結晶が析出してきた。この結晶を炉別し、ト
ルエンで2回リスラリー洗浄を行って、ジアセチル酒石
酸無水物76gを得た。収率86%。
セパラブルフラスコに仕込み、クロロホルム200ml
を加えて攪拌し、そこへp−メトキシアニリン48gを
クロロホルム200mlに溶解した溶液をゆっくり滴下
した。約1時間攪拌した後、水酸化ナトリウム44gを
水800mlで溶解した水酸化ナトリウム水溶液をゆっ
くり滴下して更に1時間攪拌した。この反応液を分液
し、クロロホルム層を水200mlで洗浄し、先の水層
と合わせた。この水層に96%硫酸59gを加えて酸析
し、L−酒石酸p−メトキシアニリド71.7gを得
た。収率80%。
えた4口200mlフラスコに、L−酒石酸−o−メト
キシアニリド25.6g、水41.3g、2−(シクロ
プロピルアミノ)シクロヘキサノール15.5gを加
え、70度まで加熱し2時間攪拌しながら。塩が完全に
溶解した後に、徐々に冷却し、20℃で18hr攪拌し
た。2.6gの水で洗浄し、遠心分離を行って、Wet
ケーキを終夜加熱真空乾燥し、11.0gのDryケー
キを得た。(これを再結晶することにより>98%e.
e.の光学純度2−(シクロプロピルアミノ)シクロヘ
キサノールを得た。)これを、温度計、攪拌機、還流冷
却管を備えた4口100mlフラスコに入れ、水20g
を加え攪拌しながら1時間加熱した。塩が完全に溶解し
た後に、徐々に冷却し、20℃で16hr攪拌した。1
g水でリンスし、遠心分離を行って、Wetケーキを得
て、これを終夜加熱真空乾燥し、5.3gのDryケー
キを得た。さらにこれを、温度計、攪拌機、還流冷却管
を備えた4口50mlフラスコに入れ、水12.7gを
加え攪拌しながら1時間加熱した。塩が完全に溶解した
後に、徐々に冷却し、20℃で15hr攪拌した。1g
水でリンスし、遠心分離を行って、Wetケーキを得
て、これを終夜加熱真空乾燥し、3.7gのDryケー
キを得た。収率9%、R/S=92であった。
クロヘキサノール誘導体を分割するのに良好だった分割
剤(○)、不適だった分割剤(×)を表1に示す。
合成)(+)−フェニルグリシン59.0g(0.39
モル)と水519.1gを1Lの三口フラスコに仕込
み、液温を45℃に昇温して攪拌し、48%水酸化ナト
リウム水溶液を加えて、pH10に調製した。一方、ベ
ンゾイルクロライド54.8g(0.39モル)をトル
エン83.5gに溶解してベンゾイルクロライドのトル
エン溶液を調製し、攪拌しながらL−フェニルグリシン
水溶液中に滴下した。この間、温度は44〜47℃、p
Hは48%水酸化ナトリウム水溶液で10.0にコント
ロールした。約2時間で滴下した後、さらに水酸化ナト
リウム水溶液が入らなくなるまで約2時間反応を続け
た。水酸化ナトリウムが仕込み(+)−フェニルグリシ
ンのほぼ2等量入り、pHが変化しなくなったのを確認
した後、バスを取り除き、室温中で放冷しながら、50
%硫酸41gを約2時間で滴下し、室温でさらに1時間
攪拌し続けた。ビーズ状に析出してきたL−ベンゾイル
フェニルグリシンを遠心脱水し、トルエンでリンスした
のち、乾燥させ、(+)−ベンゾイルフェニルグリシン
97.3gを得た。収率97%。
(+)−ベンゾイルフェニルグリシンの合成のベンゾイ
ルクロライドをパラメチルベンゾイルクロライドに変更
した以外は上記と同様の方法で合成した。
ク酸モノ−(s)フェネチルアミドはオーガニック シ
ンセシス コレクテイブ ボリューム IV(Orga
nic Synthesys collective
Volume IV)p242〜243を参照して合成
した。
光純薬工業(株)特級を用いた。
ミノシクロヘキサノール誘導体を従来の方法より安定に
製造することが出来る。
Claims (5)
- 【請求項1】一般式(1) 【化1】 (式中R1、R2は、水素、アルキル基、アリール基お
よびアラルキル基のいずれかを示し、それぞれ同一でも
異なっていても良い。但しR1およびR2の両者が水素
の場合はのぞく。)で表される2−アミノシクロヘキサ
ノール誘導体を光学活性アミノ酸誘導体、光学活性酒石
酸アミド誘導体および光学活性リンゴ酸誘導体のいずれ
かを分割剤として光学分割することを特徴とする光学活
性2−アミノシクロヘキサノール誘導体の製造法。 - 【請求項2】光学活性アミノ酸誘導体が、光学活性α−
アミノ酸誘導体であることを特徴とする請求項1記載の
光学活性2−アミノシクロヘキサノール誘導体の製造
法。 - 【請求項3】光学活性α−アミノ酸誘導体が窒素上にア
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アラルキ
ルスルホニル基、アルキルカルボニル基、アリールカル
ボニル基、アラルキルカルボニル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基およびアラルキル
オキシカルボニル基のいずれか1つまたは2つを有する
ことを特徴とする請求項2記載の光学活性2−アミノシ
クロヘキサノール誘導体の製造法。 - 【請求項4】光学活性酒石酸アミド誘導体が一般式
(2) 【化2】 (式中、R6、R7は水素、炭素数1から4のアルキル
基、炭素数1から4のアルコキシル基、水酸基およびハ
ロゲンのいずれかであり、同一でも異なっていても良
い。nは0〜2を示す)で表される光学活性酒石酸アミ
ド誘導体であることを特徴とする請求項1記載の光学活
性2−アミノシクロヘキサノール誘導体の製造法。 - 【請求項5】一般式(1)で示される2−アミノシクロ
ヘキサノール誘導体のR1が炭素数3から6の環状アル
キル基であり、R2が水素であることを特徴とする請求
項1から4のいずれか1項記載の光学活性2−アミノシ
クロヘキサノール誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27412699A JP4406482B2 (ja) | 1999-09-28 | 1999-09-28 | 光学活性2−アミノシクロヘキサノール誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27412699A JP4406482B2 (ja) | 1999-09-28 | 1999-09-28 | 光学活性2−アミノシクロヘキサノール誘導体の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001097933A true JP2001097933A (ja) | 2001-04-10 |
JP4406482B2 JP4406482B2 (ja) | 2010-01-27 |
Family
ID=17537393
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27412699A Expired - Fee Related JP4406482B2 (ja) | 1999-09-28 | 1999-09-28 | 光学活性2−アミノシクロヘキサノール誘導体の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4406482B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003053929A1 (fr) * | 2001-12-21 | 2003-07-03 | Toray Fine Chemicals Co., Ltd. | Procede de production de derives de cis-piperidine optiquement actifs |
WO2005021502A1 (ja) * | 2003-08-29 | 2005-03-10 | Takeda Pharmaceutical Company Limited | 光学活性トレオ−β−アルキルトリプトファン誘導体の製造法およびその中間体 |
WO2007055180A1 (ja) * | 2005-11-09 | 2007-05-18 | Toray Fine Chemicals Co., Ltd. | 光学活性トランス-2-アミノシクロヘキサノールおよびその誘導体の製造方法 |
WO2011024691A1 (ja) * | 2009-08-25 | 2011-03-03 | 住友化学株式会社 | 光学活性な1-アミノ-2-エテニルシクロプロパンカルボン酸エチルの製造方法 |
JP2011079782A (ja) * | 2009-10-08 | 2011-04-21 | Tokai Univ | 光学活性1−アミノ−2−プロパノール及びその中間体、並びに、それらの製造方法 |
-
1999
- 1999-09-28 JP JP27412699A patent/JP4406482B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003053929A1 (fr) * | 2001-12-21 | 2003-07-03 | Toray Fine Chemicals Co., Ltd. | Procede de production de derives de cis-piperidine optiquement actifs |
WO2005021502A1 (ja) * | 2003-08-29 | 2005-03-10 | Takeda Pharmaceutical Company Limited | 光学活性トレオ−β−アルキルトリプトファン誘導体の製造法およびその中間体 |
WO2007055180A1 (ja) * | 2005-11-09 | 2007-05-18 | Toray Fine Chemicals Co., Ltd. | 光学活性トランス-2-アミノシクロヘキサノールおよびその誘導体の製造方法 |
JPWO2007055180A1 (ja) * | 2005-11-09 | 2009-04-30 | 東レ・ファインケミカル株式会社 | 光学活性トランス−2−アミノシクロヘキサノールおよびその誘導体の製造方法 |
WO2011024691A1 (ja) * | 2009-08-25 | 2011-03-03 | 住友化学株式会社 | 光学活性な1-アミノ-2-エテニルシクロプロパンカルボン酸エチルの製造方法 |
JP2011046613A (ja) * | 2009-08-25 | 2011-03-10 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 光学活性な1−アミノ−2−エテニルシクロプロパン−1−カルボン酸エチルまたはその酸付加塩の製造方法、およびその製造方法に用いられる中間体 |
JP2011079782A (ja) * | 2009-10-08 | 2011-04-21 | Tokai Univ | 光学活性1−アミノ−2−プロパノール及びその中間体、並びに、それらの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4406482B2 (ja) | 2010-01-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100634039B1 (ko) | 신규한 페닐피페라진 | |
TWI233924B (en) | Process for trans-4-amino-1-cyclohexane carboxylic acid derivatives | |
KR100859106B1 (ko) | 피페라진 유도체의 메실레이트의 제조방법 | |
JP6027529B2 (ja) | 新規方法 | |
CA2980071A1 (en) | Method for preparation of (4s)-4-[4-cyano-2-(methylsulfonyl)phenyl]-3,6-dimethyl-2-oxo-1-[3-(trifluoromethyl)phenyl]-1,2,3,4-tetrahydro pyrimidine-5-carbonitrile | |
JP2001097933A (ja) | 光学活性2−アミノシクロヘキサノール誘導体の製造法 | |
KR101726116B1 (ko) | 치환된 피롤리딘-2-카복스아미드의 비대칭 합성 | |
TW201343642A (zh) | 製備利伐沙班(rivaroxaban)之方法 | |
JP2003522122A (ja) | 置換ピペリジン−4−オンの製造 | |
CA2303026A1 (en) | Method for the synthesis of quinoline derivatives | |
JP4356060B2 (ja) | 光学活性1−保護インドリン−2−カルボン酸誘導体の製造方法および光学活性インドリン−2−カルボン酸誘導体の製造方法 | |
JP4208463B2 (ja) | キノロンカルボン酸誘導体の製造に関する中間体 | |
EP1214321B1 (en) | Process for production of naphthyridine-3-carboxylic acid derivatives | |
JPS6332073B2 (ja) | ||
JP4806876B2 (ja) | N−ヒドロキシ環状イミドの製造方法 | |
HU225459B1 (en) | Process for preparing substituted imidazopyridine compound | |
KR20020032405A (ko) | β-히드록시알킬아미드, 이들의 제조 방법 및 이들의 용도 | |
JP2010513531A (ja) | 1−アミノ、3−置換フェニルシクロペンタンカルボン酸エステルの個々の立体異性体の製造および単離方法 | |
US7884243B2 (en) | Process for the synthesis of eneamide derivatives | |
JPWO2002098859A1 (ja) | キノリンカルボアルデヒドの製造法 | |
EA011409B1 (ru) | Способ получения морфологически чистой модификации "н" натеглинида | |
JPWO2004065368A1 (ja) | トランドラプリル合成中間体の製造方法 | |
JP2002540101A (ja) | プロピオン酸3−アミノ−3−アリールの合成 | |
JP2015518014A (ja) | アミノ酸のデーン塩を使用することによるジアミドゲル化剤の合成 | |
JP2002128745A (ja) | 光学活性1,2−ビス(2,4,6−トリメチルフェニル)−1,2−エタンジアミンの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Effective date: 20060720 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20060720 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 |
|
A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20060825 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090616 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Effective date: 20090817 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20090820 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20090914 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091013 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Effective date: 20091109 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121113 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |